JPH08314614A - 座標入力装置 - Google Patents
座標入力装置Info
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- JPH08314614A JPH08314614A JP12359895A JP12359895A JPH08314614A JP H08314614 A JPH08314614 A JP H08314614A JP 12359895 A JP12359895 A JP 12359895A JP 12359895 A JP12359895 A JP 12359895A JP H08314614 A JPH08314614 A JP H08314614A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 押圧された位置を検出する感圧型の座標入力
装置の改良に関し、新たな設備投資を必要とせず、製造
時間の短縮が可能な座標入力装置の提供。 【構成】 ２つの導電膜１２，１３を絶縁スペーサ１５
を介して対向配置させて構成し、２つの導電膜１２，１
３に交互に電圧を印加して、電圧を印加されていない方
の導電膜により、押圧された位置の電位を読み取り、押
圧された位置の座標を得る座標入力装置。２つの導電膜
１２，１３を可撓性の基板１１に一体に形成し、基板１
１を２つの導電膜１２，１３の境界で折り曲げて、２つ
の導電膜１２，１３を対向配置させて構成している。
装置の改良に関し、新たな設備投資を必要とせず、製造
時間の短縮が可能な座標入力装置の提供。 【構成】 ２つの導電膜１２，１３を絶縁スペーサ１５
を介して対向配置させて構成し、２つの導電膜１２，１
３に交互に電圧を印加して、電圧を印加されていない方
の導電膜により、押圧された位置の電位を読み取り、押
圧された位置の座標を得る座標入力装置。２つの導電膜
１２，１３を可撓性の基板１１に一体に形成し、基板１
１を２つの導電膜１２，１３の境界で折り曲げて、２つ
の導電膜１２，１３を対向配置させて構成している。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、押圧された位置を検出
する感圧型の座標入力装置の改良に関するものである。
する感圧型の座標入力装置の改良に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図６、図７は、従来の感圧型の座標入力
装置を説明するための説明図であり、図６、図７の
（ａ）は基板５１，５２の上面図、図６、図７の（ｂ）
は、図６、図７（ａ）のＶＩ−ＶＩ，ＶII−ＶIIにおけ
るそれぞれの断面構造図である。この座標入力装置で
は、方形の基板５１の片面全面に所定の均一な抵抗率の
導電膜５３を形成し、導電膜５３の対向する長辺に沿っ
て、導電膜５３に電圧を印加するための電極５６，５６
を形成する。次いで、導電膜５３上の導電膜５３の四周
縁に、電極５６，５６を覆う幅の絶縁層５８を形成す
る。
装置を説明するための説明図であり、図６、図７の
（ａ）は基板５１，５２の上面図、図６、図７の（ｂ）
は、図６、図７（ａ）のＶＩ−ＶＩ，ＶII−ＶIIにおけ
るそれぞれの断面構造図である。この座標入力装置で
は、方形の基板５１の片面全面に所定の均一な抵抗率の
導電膜５３を形成し、導電膜５３の対向する長辺に沿っ
て、導電膜５３に電圧を印加するための電極５６，５６
を形成する。次いで、導電膜５３上の導電膜５３の四周
縁に、電極５６，５６を覆う幅の絶縁層５８を形成す
る。
【０００３】一方、基板５２の片面全面に所定の均一な
抵抗率の導電膜５４を形成し、導電膜５４の対向する短
辺に、導電膜５４に電圧を印加するための電極５７，５
７を形成する。次いで、導電膜５４上の導電膜５４の四
周縁に、電極５７，５７を覆うように絶縁層５９を形成
し、導電膜５４上に、導電膜５３，５４間の絶縁を保つ
ための複数の短い円柱状又はドーム状等の絶縁スペーサ
５５を、縦横それぞれに入力荷重を考慮したうえで所望
の位置に配置形成する。その後、導電膜５３と導電膜５
４とが対向するように、絶縁スペーサ５５を介し、基板
５１と基板５２とを重ね合わせて、座標入力装置に構成
している。
抵抗率の導電膜５４を形成し、導電膜５４の対向する短
辺に、導電膜５４に電圧を印加するための電極５７，５
７を形成する。次いで、導電膜５４上の導電膜５４の四
周縁に、電極５７，５７を覆うように絶縁層５９を形成
し、導電膜５４上に、導電膜５３，５４間の絶縁を保つ
ための複数の短い円柱状又はドーム状等の絶縁スペーサ
５５を、縦横それぞれに入力荷重を考慮したうえで所望
の位置に配置形成する。その後、導電膜５３と導電膜５
４とが対向するように、絶縁スペーサ５５を介し、基板
５１と基板５２とを重ね合わせて、座標入力装置に構成
している。
【０００４】このような構成の座標入力装置の位置検出
方法を以下に説明する。この座標入力装置は、導電膜５
３の対向する２辺の電極５６，５６間（この方向を例え
ばｙ座標とする）と導電膜５４の対向する２辺の電極５
７，５７間（この方向をｘ座標とする）とに、制御部
（図示せず）が交互に定電圧を印加しており、定電圧が
印加されている基板の接触位置における電位を、非電圧
印加側基板の導電膜をプローブとして検出している。
方法を以下に説明する。この座標入力装置は、導電膜５
３の対向する２辺の電極５６，５６間（この方向を例え
ばｙ座標とする）と導電膜５４の対向する２辺の電極５
７，５７間（この方向をｘ座標とする）とに、制御部
（図示せず）が交互に定電圧を印加しており、定電圧が
印加されている基板の接触位置における電位を、非電圧
印加側基板の導電膜をプローブとして検出している。
【０００５】この状態で、基板５１，５２の何れかがペ
ンにより押圧されると、押圧された位置付近の押圧側基
板が変形して、２枚の導電膜５３，５４が接触する。こ
のとき、２枚の導電膜５３，５４の接触箇所の電位を、
定電圧を印加されていない方の基板の導電膜をプローブ
として検出し、検出した電位に応じて電極間の座標を特
定する。次に、２枚の導電膜５３，５４が接触した箇所
の電位を、定電圧を印加されていない方の基板の導電膜
をプローブとして（このときは上述の定電圧印加電極と
異なる方の電極に定電圧を印加している）検出し、検出
した電位に応じた、電極間の座標を特定する。これによ
り、縦横２次元のｘｙ座標を得ることができる。
ンにより押圧されると、押圧された位置付近の押圧側基
板が変形して、２枚の導電膜５３，５４が接触する。こ
のとき、２枚の導電膜５３，５４の接触箇所の電位を、
定電圧を印加されていない方の基板の導電膜をプローブ
として検出し、検出した電位に応じて電極間の座標を特
定する。次に、２枚の導電膜５３，５４が接触した箇所
の電位を、定電圧を印加されていない方の基板の導電膜
をプローブとして（このときは上述の定電圧印加電極と
異なる方の電極に定電圧を印加している）検出し、検出
した電位に応じた、電極間の座標を特定する。これによ
り、縦横２次元のｘｙ座標を得ることができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
従来の座標入力装置の製造方法は、上述のように、２枚
の基板５１，５２及びその上の導電膜、絶縁層等の形成
物を、１枚宛別工程によって作製した後、貼り合わせる
方法を取っている。ところが、このような製造方法で
は、２枚の基板及びその上の導電膜、絶縁層等の形成物
を、１枚宛別工程で作製するので、製造時間の短縮を図
ろうとすれば、２枚の各基板専用の作製設備を設けるの
が効果的であるが、新たな設備投資が必要である。本発
明は、上述のような事情に鑑みてなされたものであり、
新たな設備投資を必要とせず、製造時間の短縮が可能な
座標入力装置を提供することを目的とする。
従来の座標入力装置の製造方法は、上述のように、２枚
の基板５１，５２及びその上の導電膜、絶縁層等の形成
物を、１枚宛別工程によって作製した後、貼り合わせる
方法を取っている。ところが、このような製造方法で
は、２枚の基板及びその上の導電膜、絶縁層等の形成物
を、１枚宛別工程で作製するので、製造時間の短縮を図
ろうとすれば、２枚の各基板専用の作製設備を設けるの
が効果的であるが、新たな設備投資が必要である。本発
明は、上述のような事情に鑑みてなされたものであり、
新たな設備投資を必要とせず、製造時間の短縮が可能な
座標入力装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の第１発明に係る
座標入力装置は、２つの導電膜を絶縁スペーサを介して
対向配置させて構成し、２つの導電膜に交互に電圧を印
加して、電圧を印加されていない方の導電膜により、押
圧された位置の電位を読み取り、押圧された位置の座標
を得る座標入力装置において、前記２つの導電膜を可撓
性の基板に一体に形成し、該基板が前記２つの導電膜の
境界で折り曲げられて、当該２つの導電膜を対向配置さ
せてなることを特徴とする。
座標入力装置は、２つの導電膜を絶縁スペーサを介して
対向配置させて構成し、２つの導電膜に交互に電圧を印
加して、電圧を印加されていない方の導電膜により、押
圧された位置の電位を読み取り、押圧された位置の座標
を得る座標入力装置において、前記２つの導電膜を可撓
性の基板に一体に形成し、該基板が前記２つの導電膜の
境界で折り曲げられて、当該２つの導電膜を対向配置さ
せてなることを特徴とする。
【０００８】第２発明に係る座標入力装置は、前記基板
は、前記導電膜に電圧を印加する引回し電極のための引
出部を備え、該引出部から前記導電膜迄、前記引回し電
極を引回し形成したことを特徴とする。
は、前記導電膜に電圧を印加する引回し電極のための引
出部を備え、該引出部から前記導電膜迄、前記引回し電
極を引回し形成したことを特徴とする。
【０００９】第３発明に係る座標入力装置は、前記導電
膜に電圧を印加する引回し電極のための引出部を備え、
該引出部から前記導電膜迄、前記引回し電極が引回され
形成された第２の基板が、前記可撓性の基板を折り曲げ
た間に取り付けられたことを特徴とする。
膜に電圧を印加する引回し電極のための引出部を備え、
該引出部から前記導電膜迄、前記引回し電極が引回され
形成された第２の基板が、前記可撓性の基板を折り曲げ
た間に取り付けられたことを特徴とする。
【００１０】
【作用】本発明の第１発明に係る座標入力装置では、２
つの導電膜は、可撓性を有する第１の基板の片面に形成
され、第１の基板を折り曲げて、絶縁スペーサを介する
ように２つの導電膜を対向配置するように構成する。そ
して、従来と同様に、２組の対向する電極間に交互に定
電圧を印加し、押圧された位置の導電膜の電位を、他方
の導電膜を通じて交互に検出することにより、押圧され
た位置を検出する。従って、２枚の各基板専用の作製設
備が不要であり、新たな設備投資を必要とせずに製造時
間の短縮ができる。
つの導電膜は、可撓性を有する第１の基板の片面に形成
され、第１の基板を折り曲げて、絶縁スペーサを介する
ように２つの導電膜を対向配置するように構成する。そ
して、従来と同様に、２組の対向する電極間に交互に定
電圧を印加し、押圧された位置の導電膜の電位を、他方
の導電膜を通じて交互に検出することにより、押圧され
た位置を検出する。従って、２枚の各基板専用の作製設
備が不要であり、新たな設備投資を必要とせずに製造時
間の短縮ができる。
【００１１】第２発明に係る座標入力装置では、基板
は、導電膜に電圧を印加するための引出部を備え、引出
部から導電膜迄、導電膜に電圧を印加する引回し電極を
引回し形成しているので、後工程で引出部及び引回し電
極を付け加える必要がなく、製造時間の短縮ができる。
は、導電膜に電圧を印加するための引出部を備え、引出
部から導電膜迄、導電膜に電圧を印加する引回し電極を
引回し形成しているので、後工程で引出部及び引回し電
極を付け加える必要がなく、製造時間の短縮ができる。
【００１２】第３発明に係る座標入力装置では、第２の
基板は、導電膜に電圧を印加するための引出部を備え、
引出部から導電膜迄、導電膜に電圧を印加する引回し電
極が引回され形成されている。そして、可撓性の基板が
折り曲げられた間に第２の基板が挟まるように、また、
絶縁スペーサを介するように２つの導電膜を対向配置す
るように構成するので、製造時間の短縮ができる。
基板は、導電膜に電圧を印加するための引出部を備え、
引出部から導電膜迄、導電膜に電圧を印加する引回し電
極が引回され形成されている。そして、可撓性の基板が
折り曲げられた間に第２の基板が挟まるように、また、
絶縁スペーサを介するように２つの導電膜を対向配置す
るように構成するので、製造時間の短縮ができる。
【００１３】
【実施例】以下に、本発明をその実施例を示す図面を参
照しながら説明する。図１は、第１発明に係る座標入力
装置を説明するための説明図であり、座標入力装置の展
開斜視図である。図２は、図１のＩ−Ｉにおける断面構
造図である。座標入力装置の２倍の面積を有する方形の
１枚の可撓性基板１１の片面に、適当な幅を有する折り
返し部１４を中央にして左右に、所定の均一な抵抗率の
導電膜１２，１３を成膜する。尚、この折り返し部１４
は、可撓性基板１１の全面に導電膜を成膜した後、中央
部をエッチングすることにより形成しても良い。
照しながら説明する。図１は、第１発明に係る座標入力
装置を説明するための説明図であり、座標入力装置の展
開斜視図である。図２は、図１のＩ−Ｉにおける断面構
造図である。座標入力装置の２倍の面積を有する方形の
１枚の可撓性基板１１の片面に、適当な幅を有する折り
返し部１４を中央にして左右に、所定の均一な抵抗率の
導電膜１２，１３を成膜する。尚、この折り返し部１４
は、可撓性基板１１の全面に導電膜を成膜した後、中央
部をエッチングすることにより形成しても良い。
【００１４】次いで、導電膜１３上に導電膜１２，１３
間の絶縁性を保つための複数の短い円柱状又はドーム状
等の絶縁スペーサ１５を、縦横それぞれに入力荷重を考
慮したうえで所望の位置に配置形成する。次いで、導電
膜１２の短辺及び導電膜１３の長辺に、導電膜１２及び
導電膜１３に電圧を印加するための電極１６，１６及び
電極１７，１７をそれぞれ形成する。次に、折り返し部
１４上と導電膜１２，１３上の四周縁とに、電極１６，
１６及び電極１７，１７の厚さを超える厚さに、絶縁層
１８を形成する。このとき、導電膜１２，１３上の四周
縁の絶縁層１８は、電極１６，１６及び電極１７，１７
を覆う幅に形成する。
間の絶縁性を保つための複数の短い円柱状又はドーム状
等の絶縁スペーサ１５を、縦横それぞれに入力荷重を考
慮したうえで所望の位置に配置形成する。次いで、導電
膜１２の短辺及び導電膜１３の長辺に、導電膜１２及び
導電膜１３に電圧を印加するための電極１６，１６及び
電極１７，１７をそれぞれ形成する。次に、折り返し部
１４上と導電膜１２，１３上の四周縁とに、電極１６，
１６及び電極１７，１７の厚さを超える厚さに、絶縁層
１８を形成する。このとき、導電膜１２，１３上の四周
縁の絶縁層１８は、電極１６，１６及び電極１７，１７
を覆う幅に形成する。
【００１５】ここで、絶縁層１８の形成と前後して、電
極１６，１６及び電極１７，１７に電圧を印加するため
の引回し電極３８（図３参照）を形成する。絶縁層１８
を形成した後、折り返し部１４を中心に、導電膜１２，
１３が絶縁スペーサ１５を挟んで対向するように折り返
し、折り返した両面の絶縁層１８同士を接着して座標入
力装置を構成する。
極１６，１６及び電極１７，１７に電圧を印加するため
の引回し電極３８（図３参照）を形成する。絶縁層１８
を形成した後、折り返し部１４を中心に、導電膜１２，
１３が絶縁スペーサ１５を挟んで対向するように折り返
し、折り返した両面の絶縁層１８同士を接着して座標入
力装置を構成する。
【００１６】図３は、電極１６，１６及び電極１７，１
７に電圧を印加するための引回し電極を形成する態様を
示した展開斜視図である。引回し電極を形成するには、
電極１６，１６及び電極１７，１７をそれぞれ形成した
後、折り返し部１４上と導電膜１２，１３上の四周縁と
に、電極１６，１６及び電極１７，１７の厚さを超えな
い厚さに、下部絶縁層３５ａを形成する。このとき、導
電膜１２，１３上の四周縁の下部絶縁層３５ａは、電極
１６，１６及び電極１７，１７を囲める幅に形成する。
次いで、導電膜１３の短辺の下部絶縁層３５ａ上に、４
つの差し込み式の端子部３６を設け、４つの電極１６，
１７それぞれと端子部３６とを接続する４つの引回し電
極３８を下部絶縁層３５ａ上に形成する。
７に電圧を印加するための引回し電極を形成する態様を
示した展開斜視図である。引回し電極を形成するには、
電極１６，１６及び電極１７，１７をそれぞれ形成した
後、折り返し部１４上と導電膜１２，１３上の四周縁と
に、電極１６，１６及び電極１７，１７の厚さを超えな
い厚さに、下部絶縁層３５ａを形成する。このとき、導
電膜１２，１３上の四周縁の下部絶縁層３５ａは、電極
１６，１６及び電極１７，１７を囲める幅に形成する。
次いで、導電膜１３の短辺の下部絶縁層３５ａ上に、４
つの差し込み式の端子部３６を設け、４つの電極１６，
１７それぞれと端子部３６とを接続する４つの引回し電
極３８を下部絶縁層３５ａ上に形成する。
【００１７】次に、下部絶縁層３５ａ上に、電極１６，
１６及び電極１７，１７を覆うように、上部絶縁層３５
ｂを形成する。但し、電極１６，１６と引回し電極３
８，３８との電気的導通を確保しておく。次いで、可撓
性基板１１とは別基板上に４つの引回し電極３８が形成
された方形状の引出部３７を、引出部３７及び可撓性基
板１１双方の４つの引回し電極３８が電気的導通を確保
するように、４つの端子部３６に差し込み、可撓性基板
１１に取りつける。その後、上述のように、折り返し部
１４を中心に折り返して座標入力装置を構成する。
１６及び電極１７，１７を覆うように、上部絶縁層３５
ｂを形成する。但し、電極１６，１６と引回し電極３
８，３８との電気的導通を確保しておく。次いで、可撓
性基板１１とは別基板上に４つの引回し電極３８が形成
された方形状の引出部３７を、引出部３７及び可撓性基
板１１双方の４つの引回し電極３８が電気的導通を確保
するように、４つの端子部３６に差し込み、可撓性基板
１１に取りつける。その後、上述のように、折り返し部
１４を中心に折り返して座標入力装置を構成する。
【００１８】このような構成の座標入力装置の位置検出
方法を以下に説明する。この座標入力装置は、導電膜１
２の対向する短辺の電極１６，１６間（この方向を例え
ばｙ座標とする）と導電膜１３の対向する長辺の電極１
７，１７間（この方向をｘ座標とする）とに、制御部
（図示せず）が交互に定電圧を印加しており、定電圧が
印加されている基板の接触位置における電位を、非電圧
印加側基板の導電膜をプローブとして検出している。
方法を以下に説明する。この座標入力装置は、導電膜１
２の対向する短辺の電極１６，１６間（この方向を例え
ばｙ座標とする）と導電膜１３の対向する長辺の電極１
７，１７間（この方向をｘ座標とする）とに、制御部
（図示せず）が交互に定電圧を印加しており、定電圧が
印加されている基板の接触位置における電位を、非電圧
印加側基板の導電膜をプローブとして検出している。
【００１９】この状態で、基板１２，１３の何れかがペ
ンにより押圧されると、押圧された位置付近の押圧側基
板が変形して、２枚の導電膜１２，１３が接触する。こ
のとき、２枚の導電膜１２，１３の接触箇所の電位を、
定電圧を印加されていない方の基板の導電膜をプローブ
として検出し、検出した電位に応じた、電極間の座標を
特定する。次に、２枚の導電膜１２，１３が接触した箇
所の電位を、定電圧を印加されていない方の基板の導電
膜をプローブとして（このときは上述の定電圧印加電極
と異なる方の電極に定電圧を印加している）検出し、検
出した電位に応じた、電極間の座標を特定する。これに
より、縦横２次元のｘｙ座標を得ることができる。
ンにより押圧されると、押圧された位置付近の押圧側基
板が変形して、２枚の導電膜１２，１３が接触する。こ
のとき、２枚の導電膜１２，１３の接触箇所の電位を、
定電圧を印加されていない方の基板の導電膜をプローブ
として検出し、検出した電位に応じた、電極間の座標を
特定する。次に、２枚の導電膜１２，１３が接触した箇
所の電位を、定電圧を印加されていない方の基板の導電
膜をプローブとして（このときは上述の定電圧印加電極
と異なる方の電極に定電圧を印加している）検出し、検
出した電位に応じた、電極間の座標を特定する。これに
より、縦横２次元のｘｙ座標を得ることができる。
【００２０】図４は、第２発明に係る座標入力装置の構
成例を示した展開斜視図である。この座標入力装置は、
方形状に突出した引出部２０を有し、座標入力装置の２
倍の面積を有する方形の１枚の可撓性基板２１の片面
に、適当な幅を有する折り返し部２４を中央にして左右
に、所定の均一な抵抗率の導電膜２２，２３を成膜す
る。尚、この折り返し部２４は、可撓性基板２１の全面
に導電膜を成膜した後、中央部をエッチングすることに
より形成しても良い。
成例を示した展開斜視図である。この座標入力装置は、
方形状に突出した引出部２０を有し、座標入力装置の２
倍の面積を有する方形の１枚の可撓性基板２１の片面
に、適当な幅を有する折り返し部２４を中央にして左右
に、所定の均一な抵抗率の導電膜２２，２３を成膜す
る。尚、この折り返し部２４は、可撓性基板２１の全面
に導電膜を成膜した後、中央部をエッチングすることに
より形成しても良い。
【００２１】次いで、導電膜２３上に導電膜２２，２３
間の絶縁性を保つための複数の短い円柱状又はドーム状
等の絶縁スペーサ２５を、縦横それぞれに入力荷重を考
慮したうえで所望の位置に配置形成する。次いで、導電
膜２２の短辺及び導電膜２３の長辺に沿って、導電膜２
２及び導電膜２３に電圧を印加するための電極２６，２
６及び電極２７，２７をそれぞれ形成する。次に、導電
膜２２，２３上の四周縁、折り返し部２４上及び引出部
２０上に、電極２６，２６及び電極２７，２７の厚さを
超えない厚さに下部絶縁層２８ａを形成する。このと
き、導電膜２２，２３上の四周縁の下部絶縁層２８ａ
は、電極２６，２６及び電極２７，２７を囲める幅に形
成する。次いで、下部絶縁層２８ａ上に４つの電極２
６，２７それぞれから引出部２０上迄、４つの引回し電
極２９を引回し形成する。
間の絶縁性を保つための複数の短い円柱状又はドーム状
等の絶縁スペーサ２５を、縦横それぞれに入力荷重を考
慮したうえで所望の位置に配置形成する。次いで、導電
膜２２の短辺及び導電膜２３の長辺に沿って、導電膜２
２及び導電膜２３に電圧を印加するための電極２６，２
６及び電極２７，２７をそれぞれ形成する。次に、導電
膜２２，２３上の四周縁、折り返し部２４上及び引出部
２０上に、電極２６，２６及び電極２７，２７の厚さを
超えない厚さに下部絶縁層２８ａを形成する。このと
き、導電膜２２，２３上の四周縁の下部絶縁層２８ａ
は、電極２６，２６及び電極２７，２７を囲める幅に形
成する。次いで、下部絶縁層２８ａ上に４つの電極２
６，２７それぞれから引出部２０上迄、４つの引回し電
極２９を引回し形成する。
【００２２】次に、下部絶縁層２８ａ上に、電極２６，
２６及び電極２７，２７を覆うように、上部絶縁層２８
ａを形成する。但し、電極２６，２６と引回し電極２
９，２９との電気的導通を確保しておく。上部絶縁層２
８ａを形成した後、上部絶縁層２８ａ上の必要箇所に導
電接着剤を塗布し、折り返し部２４を中心に、導電膜２
２，２３が絶縁スペーサ２５を挟んで対向するように折
り返し、折り返した両面の上部絶縁層２８同士を接着し
て座標入力装置を構成する。このような構成の座標入力
装置の位置検出方法は、上述で説明した第１発明に係る
座標入力装置圧の場合と同様であるので、説明を省略す
る。
２６及び電極２７，２７を覆うように、上部絶縁層２８
ａを形成する。但し、電極２６，２６と引回し電極２
９，２９との電気的導通を確保しておく。上部絶縁層２
８ａを形成した後、上部絶縁層２８ａ上の必要箇所に導
電接着剤を塗布し、折り返し部２４を中心に、導電膜２
２，２３が絶縁スペーサ２５を挟んで対向するように折
り返し、折り返した両面の上部絶縁層２８同士を接着し
て座標入力装置を構成する。このような構成の座標入力
装置の位置検出方法は、上述で説明した第１発明に係る
座標入力装置圧の場合と同様であるので、説明を省略す
る。
【００２３】図５は、第３発明に係る座標入力装置の構
成例を示した展開斜視図である。この座標入力装置は、
座標入力装置の２倍の面積を有する方形の１枚の可撓性
基板４１上に、適当な幅を有する折り返し部４４を中央
にして左右に、所定の均一な抵抗率の導電膜４２，４３
を成膜する。尚、この折り返し部４４は、可撓性基板４
１の全面に導電膜を成膜した後、中央部をエッチングす
ることにより形成しても良い。
成例を示した展開斜視図である。この座標入力装置は、
座標入力装置の２倍の面積を有する方形の１枚の可撓性
基板４１上に、適当な幅を有する折り返し部４４を中央
にして左右に、所定の均一な抵抗率の導電膜４２，４３
を成膜する。尚、この折り返し部４４は、可撓性基板４
１の全面に導電膜を成膜した後、中央部をエッチングす
ることにより形成しても良い。
【００２４】次いで、導電膜４３上に導電膜４２，４３
間の絶縁性を保つための複数の短い円柱状又はドーム状
等の絶縁スペーサ４０を、縦横それぞれに入力荷重を考
慮したうえで所望の位置に配置形成する。次いで、導電
膜４２の短辺及び導電膜４３の長辺に沿って、導電膜４
２及び導電膜４３に電圧を印加するための電極４６，４
６及び電極４７，４７をそれぞれ形成する。次に、導電
膜４２，４３上の四周縁及び折り返し部４４上に、電極
４６，４６及び電極４７，４７を覆うように、絶縁層４
５を形成する。このとき、絶縁層４５の厚さは、後述す
る引回し電極４８の引回し方法により選択すれば良い。
間の絶縁性を保つための複数の短い円柱状又はドーム状
等の絶縁スペーサ４０を、縦横それぞれに入力荷重を考
慮したうえで所望の位置に配置形成する。次いで、導電
膜４２の短辺及び導電膜４３の長辺に沿って、導電膜４
２及び導電膜４３に電圧を印加するための電極４６，４
６及び電極４７，４７をそれぞれ形成する。次に、導電
膜４２，４３上の四周縁及び折り返し部４４上に、電極
４６，４６及び電極４７，４７を覆うように、絶縁層４
５を形成する。このとき、絶縁層４５の厚さは、後述す
る引回し電極４８の引回し方法により選択すれば良い。
【００２５】一方、導電膜４２，４３の周縁部と同形状
の部分と、方形状に突出した引出部４９とを有する、可
撓性基板４１とは別の可撓性基板５０上に、４つの電極
４６，４７それぞれから引出部４９迄引回せるように、
４つの引回し電極４８を引回し形成する。次いで、可撓
性基板４１と可撓性基板５０とを、４つの電極４６，４
７それぞれと４つの引回し電極４８それぞれとの電気的
導通を確保するように取り付けた後、折り返し部４４を
中心に、導電膜４２，４３が絶縁スペーサ４０を挟んで
対向するように折り返し、折り返した両面の導電膜４
２，４３を除いた部分を接着して座標入力装置を構成す
る。
の部分と、方形状に突出した引出部４９とを有する、可
撓性基板４１とは別の可撓性基板５０上に、４つの電極
４６，４７それぞれから引出部４９迄引回せるように、
４つの引回し電極４８を引回し形成する。次いで、可撓
性基板４１と可撓性基板５０とを、４つの電極４６，４
７それぞれと４つの引回し電極４８それぞれとの電気的
導通を確保するように取り付けた後、折り返し部４４を
中心に、導電膜４２，４３が絶縁スペーサ４０を挟んで
対向するように折り返し、折り返した両面の導電膜４
２，４３を除いた部分を接着して座標入力装置を構成す
る。
【００２６】このような構成の座標入力装置の位置検出
方法は、上述で説明した第１発明に係る座標入力装置圧
の場合と同様であるので、説明を省略する。尚、上述の
各実施例においては、引出部及び引回し電極は、基板の
同一導電膜面又は同一基板に設けられているが、これら
に限らず、例えば、各導電膜面又は別の２つの基板に引
回し電極を２本宛設けて各引出部の位置をずらせても良
い（位置が同じでも良い）。また、引回し電極を２本宛
に限らず、１本と３本とに分けて設けても良い。
方法は、上述で説明した第１発明に係る座標入力装置圧
の場合と同様であるので、説明を省略する。尚、上述の
各実施例においては、引出部及び引回し電極は、基板の
同一導電膜面又は同一基板に設けられているが、これら
に限らず、例えば、各導電膜面又は別の２つの基板に引
回し電極を２本宛設けて各引出部の位置をずらせても良
い（位置が同じでも良い）。また、引回し電極を２本宛
に限らず、１本と３本とに分けて設けても良い。
【００２７】
【発明の効果】本発明の第１〜３発明に係る座標入力装
置によれば、２つの導電膜は、可撓性を有する第１の基
板の片面に形成され、第１の基板を折り曲げて、絶縁ス
ペーサを介するように２つの導電膜を対向配置するよう
に構成するので、新たな設備投資を必要とせずに製造時
間の短縮が可能な座標入力装置を提供することができ
る。
置によれば、２つの導電膜は、可撓性を有する第１の基
板の片面に形成され、第１の基板を折り曲げて、絶縁ス
ペーサを介するように２つの導電膜を対向配置するよう
に構成するので、新たな設備投資を必要とせずに製造時
間の短縮が可能な座標入力装置を提供することができ
る。
【図１】第１発明に係る座標入力装置を説明するための
説明図である。
説明図である。
【図２】第１発明、第２発明に係る座標入力装置を説明
するための説明図である。
するための説明図である。
【図３】第２発明に係る座標入力装置の引回し電極を形
成する態様例を示した展開斜視図である。
成する態様例を示した展開斜視図である。
【図４】第２発明に係る座標入力装置の構成例を示した
展開斜視図である。
展開斜視図である。
【図５】第３発明に係る座標入力装置の構成例を示した
展開斜視図である。
展開斜視図である。
【図６】従来の座標入力装置の１例を説明するための説
明図である。
明図である。
【図７】従来の座標入力装置の１例を説明するための説
明図である。
明図である。
１１，２１，４１ 可撓性基板 １２，１３，２２，２３，４２，４３ 導電膜 １４，２４，４４ 折り返し部 １５，２５，４０ 絶縁スペーサ １６，１７，２６，２７，４６，４７ 電極 １８，４５ 絶縁層 ２０，３７，４９ 引出部 ２８ａ，３５ａ 下部絶縁層 ２８ｂ，３５ｂ 上部絶縁層 ２９，３８，４８ 引回し電極 ３６ 端子部
Claims (3)
- 【請求項１】 ２つの導電膜を絶縁スペーサを介して対
向配置させて構成し、２つの導電膜に交互に電圧を印加
して、電圧を印加されていない方の導電膜により、押圧
された位置の電位を読み取り、押圧された位置の座標を
得る座標入力装置において、 前記２つの導電膜を可撓性の基板に一体に形成し、該基
板が前記２つの導電膜の境界で折り曲げられて、当該２
つの導電膜を対向配置させてなることを特徴とする座標
入力装置。 - 【請求項２】 前記基板は、前記導電膜に電圧を印加す
る引回し電極のための引出部を備え、該引出部から前記
導電膜迄、前記引回し電極を引回し形成した請求項１記
載の座標入力装置。 - 【請求項３】 前記導電膜に電圧を印加する引回し電極
のための引出部を備え、該引出部から前記導電膜迄、前
記引回し電極が引回され形成された第２の基板が、前記
可撓性の基板を折り曲げた間に取り付けられた請求項１
記載の座標入力装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12359895A JPH08314614A (ja) | 1995-05-23 | 1995-05-23 | 座標入力装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12359895A JPH08314614A (ja) | 1995-05-23 | 1995-05-23 | 座標入力装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08314614A true JPH08314614A (ja) | 1996-11-29 |
Family
ID=14864585
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12359895A Pending JPH08314614A (ja) | 1995-05-23 | 1995-05-23 | 座標入力装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08314614A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008090871A (ja) * | 2007-12-28 | 2008-04-17 | Fujitsu Component Ltd | タッチパネル |
| WO2009122473A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | シャープ株式会社 | 表示装置及びそれを備えた電子機器並びにタッチパネル |
-
1995
- 1995-05-23 JP JP12359895A patent/JPH08314614A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008090871A (ja) * | 2007-12-28 | 2008-04-17 | Fujitsu Component Ltd | タッチパネル |
| WO2009122473A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | シャープ株式会社 | 表示装置及びそれを備えた電子機器並びにタッチパネル |
| JP5178817B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2013-04-10 | シャープ株式会社 | 表示装置及びそれを備えた電子機器並びにタッチパネル |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030701 |