JPH08319985A - ドライ真空ポンプ - Google Patents
ドライ真空ポンプInfo
- Publication number
- JPH08319985A JPH08319985A JP13005195A JP13005195A JPH08319985A JP H08319985 A JPH08319985 A JP H08319985A JP 13005195 A JP13005195 A JP 13005195A JP 13005195 A JP13005195 A JP 13005195A JP H08319985 A JPH08319985 A JP H08319985A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stator
- gas
- pump
- rotor
- final stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】吸込口１と吐出口２を有するケーシング３内に
は軸受６によって支承されたモータ７により駆動される
ロータ４と、ロータ４を囲むように取付けられたステー
タ５とからなるポンプ機構部８があり、外部より軸封部
９にシールガスを供給する。ポンプ機構部８の最終段ス
テータ５には環状溝１３と複数の放射溝が設けられる。 【効果】ポンプ機構部の最終段に環状溝と複数の放射溝
を設けたので、最終段ロータとステータ間のポンプ作用
が緩和され、反応生成物を含むガスの流入を妨げ、ステ
ータへの反応生成物の付着を防止する。
は軸受６によって支承されたモータ７により駆動される
ロータ４と、ロータ４を囲むように取付けられたステー
タ５とからなるポンプ機構部８があり、外部より軸封部
９にシールガスを供給する。ポンプ機構部８の最終段ス
テータ５には環状溝１３と複数の放射溝が設けられる。 【効果】ポンプ機構部の最終段に環状溝と複数の放射溝
を設けたので、最終段ロータとステータ間のポンプ作用
が緩和され、反応生成物を含むガスの流入を妨げ、ステ
ータへの反応生成物の付着を防止する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はドライ真空ポンプに関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】ドライ真空ポンプは吸気口から流入する
腐食性ガスや反応生成物を含むガスが通過するポンプ機
構部に油がないので、油の劣化がなく、メンテナンスが
容易であるというメリットをもつ。しかし、ポンプ機構
部の最終段及び吐出口は、排気されるガスが急激に冷却
されるため、ガス中の反応生成物が固体となり、壁面に
付着堆積されやすい。これを防ぐ方法として、窒素ガス
などの不活性ガスで希釈したりする。
腐食性ガスや反応生成物を含むガスが通過するポンプ機
構部に油がないので、油の劣化がなく、メンテナンスが
容易であるというメリットをもつ。しかし、ポンプ機構
部の最終段及び吐出口は、排気されるガスが急激に冷却
されるため、ガス中の反応生成物が固体となり、壁面に
付着堆積されやすい。これを防ぐ方法として、窒素ガス
などの不活性ガスで希釈したりする。
【０００３】特願昭60−292727号明細書には、ポンプ外
部から不活性ガスを供給する軸封部の構造が開示されて
いる。
部から不活性ガスを供給する軸封部の構造が開示されて
いる。
【０００４】ポンプ機構部と軸受との間に軸封部があ
り、ポンプ外部からシールガスを供給する構造になって
おり、シールガスはポンプ機構部と軸受との両方へ分か
れて流れるようになっており、ポンプ機構部を通過する
ガスと軸受潤滑油が接することがない。ポンプ機構部へ
流入したシールガスはポンプの吸込口から流入するガス
と混り合って吐出口から排気されるため、反応生成物を
含むガスは、シールガスによって希釈されることにな
る。反応生成物の中には、圧力が上昇し、温度が低下す
ると固体化されやすくなるものが多く、特に半導体製造
装置の一種であるドライエッチング装置から排気される
ガスには、そのような物質が含まれていることがある。
このような物質であっても、不活性ガスで希釈される
と、固体化する温度が低くなり、固体化しにくくなる。
り、ポンプ外部からシールガスを供給する構造になって
おり、シールガスはポンプ機構部と軸受との両方へ分か
れて流れるようになっており、ポンプ機構部を通過する
ガスと軸受潤滑油が接することがない。ポンプ機構部へ
流入したシールガスはポンプの吸込口から流入するガス
と混り合って吐出口から排気されるため、反応生成物を
含むガスは、シールガスによって希釈されることにな
る。反応生成物の中には、圧力が上昇し、温度が低下す
ると固体化されやすくなるものが多く、特に半導体製造
装置の一種であるドライエッチング装置から排気される
ガスには、そのような物質が含まれていることがある。
このような物質であっても、不活性ガスで希釈される
と、固体化する温度が低くなり、固体化しにくくなる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来技術は、軸封部に
供給するシールガスにより、ポンプ吸込口から流入する
ガスを希釈し、吐出口部への反応生成物の付着を防止す
ることができる。しかし、ポンプ機構部最終段のロータ
とステータの隙間は極小でロータの回転により、ポンプ
作用が生じ、ロータ内側が負圧となり、ポンプ吸込口か
ら流入した反応生成物を含むガスがこの部分に入り込み
やすくなる。また、ロータは円周流ポンプであるため、
ポンプ最終段の入口と出口では円周上の圧力が異なり、
入口の方が圧力が低い分布となり、この部分に上流から
の反応生成物を含むガスが入り込みやすい。
供給するシールガスにより、ポンプ吸込口から流入する
ガスを希釈し、吐出口部への反応生成物の付着を防止す
ることができる。しかし、ポンプ機構部最終段のロータ
とステータの隙間は極小でロータの回転により、ポンプ
作用が生じ、ロータ内側が負圧となり、ポンプ吸込口か
ら流入した反応生成物を含むガスがこの部分に入り込み
やすくなる。また、ロータは円周流ポンプであるため、
ポンプ最終段の入口と出口では円周上の圧力が異なり、
入口の方が圧力が低い分布となり、この部分に上流から
の反応生成物を含むガスが入り込みやすい。
【０００６】本発明の目的は、ポンプ最終段後面の圧力
を均一にし、ポンプ作用を緩和し、反応生成物を含むガ
スが入り込むのを防止することにある。
を均一にし、ポンプ作用を緩和し、反応生成物を含むガ
スが入り込むのを防止することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は最終段ロータ後面と対向するステータに環
状溝を設け、圧力を均一にするとともに、シールガスが
供給されやすいように複数の放射溝を設ける。
め、本発明は最終段ロータ後面と対向するステータに環
状溝を設け、圧力を均一にするとともに、シールガスが
供給されやすいように複数の放射溝を設ける。
【０００８】
【作用】吸込口からポンプ内へ流入するガス中に、昇華
性の反応生成物が含まれる場合、ポンプ内を通過するに
つれて、圧力が上昇し、反応生成物が固体化して壁面に
付着しやすくなる。
性の反応生成物が含まれる場合、ポンプ内を通過するに
つれて、圧力が上昇し、反応生成物が固体化して壁面に
付着しやすくなる。
【０００９】本発明は最終段ロータ後面と対向するステ
ータに圧力が均一になるよう環状溝を設けることによ
り、ポンプ吸込口より流入した反応生成物を含むガス
が、最終段ロータ後面に入り込むのを防止でき、反応生
成物がステータ壁面に付着堆積するのを防止できる。
ータに圧力が均一になるよう環状溝を設けることによ
り、ポンプ吸込口より流入した反応生成物を含むガス
が、最終段ロータ後面に入り込むのを防止でき、反応生
成物がステータ壁面に付着堆積するのを防止できる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１により説明す
る。
る。
【００１１】図１において、吸込口１と吐出口２とを有
するケーシング３内には、軸受６によって支承されたモ
ータ７により駆動されるロータ４と、ロータ４を囲むよ
うにして取付けられたステータ５とからなるポンプ機構
部８がある。吸込口１から流入したガスは、ポンプ機構
部８を通って、吐出口２より大気へ排気される。ポンプ
機構部８と軸受６との間には軸封部９があり、軸封部９
には外部からシールガス供給口１０を通って、シールガ
スが供給される。シールガスは、吸込口１から流入する
ガスと反応することがないように、窒素などの不活性ガ
スを用いる。シールガス供給口１０から流入したシール
ガスは二方向に流れ、一部はポンプ機構部８の最終段ロ
ータ４とステータ５の隙間へ流入し、吸込口１から流入
したガスと一緒に吐出口２から排気される。他方は軸受
６を通り、下ケース１１に設けられたモータ室排気口１
２より排気される。この二方向に分れて流れるシールガ
スにより、潤滑油がポンプ機構部６に流入するのを防ぐ
と共に、吸込口１から流入した気体が下ケース１１に流
入するのを防止している。
するケーシング３内には、軸受６によって支承されたモ
ータ７により駆動されるロータ４と、ロータ４を囲むよ
うにして取付けられたステータ５とからなるポンプ機構
部８がある。吸込口１から流入したガスは、ポンプ機構
部８を通って、吐出口２より大気へ排気される。ポンプ
機構部８と軸受６との間には軸封部９があり、軸封部９
には外部からシールガス供給口１０を通って、シールガ
スが供給される。シールガスは、吸込口１から流入する
ガスと反応することがないように、窒素などの不活性ガ
スを用いる。シールガス供給口１０から流入したシール
ガスは二方向に流れ、一部はポンプ機構部８の最終段ロ
ータ４とステータ５の隙間へ流入し、吸込口１から流入
したガスと一緒に吐出口２から排気される。他方は軸受
６を通り、下ケース１１に設けられたモータ室排気口１
２より排気される。この二方向に分れて流れるシールガ
スにより、潤滑油がポンプ機構部６に流入するのを防ぐ
と共に、吸込口１から流入した気体が下ケース１１に流
入するのを防止している。
【００１２】次に本発明の実施例の動作を説明する。
【００１３】吸込口１より流入したガスは、ロータ４と
ステータ５から成るポンプ機構部６の流路内で、順次、
圧縮され、吐出口２を通って大気へ排気される。そして
排気過程において、ロータ４が回転している部分では、
ガスは高温になるが、吐出口２付近ではケーシング３に
熱が逃げるため、ガス温度は低下する。このため、例え
ば、半導体デバイスのアルミエッチング装置に真空ポン
プが直結されている場合には、エッチング後の反応生成
物として、塩化アルミが生成し、ポンプ機構部８の最終
段壁面に付着する。これはポンプ機構部８で圧縮された
ガスが、最終段ロータ４とステータ５のポンプ作用によ
り、負圧になった部分に反応生成物を含むガスが吸入さ
れるためである。そこで、最終段ロータ４の後面と対向
するステータ５に円周上に環状溝１３を設け、そらにそ
の環状溝１３と連通する複数の放射溝１４を設ける。図
２，図３はそれを示す断面図で、最終段ロータ４とステ
ータ５間の隙間が小さいため、ロータ４の回転によりポ
ンプ作用が生じるが、環状溝１３を設けることにより、
その作用が弱まり環状溝１３の圧力が均一となる。ま
た、複数に設けた放射溝１４は環状溝１３の内側部分で
生じるポンプ作用をさらに緩和し、最終段ロータ４後面
とそれに対向するステータ５の部分の負圧を緩和する。
それにより、反応生成物を含むガスが最終段ロータ４と
ステータ５の間に流入しなくなり、反応生成物の付着防
止ができる。
ステータ５から成るポンプ機構部６の流路内で、順次、
圧縮され、吐出口２を通って大気へ排気される。そして
排気過程において、ロータ４が回転している部分では、
ガスは高温になるが、吐出口２付近ではケーシング３に
熱が逃げるため、ガス温度は低下する。このため、例え
ば、半導体デバイスのアルミエッチング装置に真空ポン
プが直結されている場合には、エッチング後の反応生成
物として、塩化アルミが生成し、ポンプ機構部８の最終
段壁面に付着する。これはポンプ機構部８で圧縮された
ガスが、最終段ロータ４とステータ５のポンプ作用によ
り、負圧になった部分に反応生成物を含むガスが吸入さ
れるためである。そこで、最終段ロータ４の後面と対向
するステータ５に円周上に環状溝１３を設け、そらにそ
の環状溝１３と連通する複数の放射溝１４を設ける。図
２，図３はそれを示す断面図で、最終段ロータ４とステ
ータ５間の隙間が小さいため、ロータ４の回転によりポ
ンプ作用が生じるが、環状溝１３を設けることにより、
その作用が弱まり環状溝１３の圧力が均一となる。ま
た、複数に設けた放射溝１４は環状溝１３の内側部分で
生じるポンプ作用をさらに緩和し、最終段ロータ４後面
とそれに対向するステータ５の部分の負圧を緩和する。
それにより、反応生成物を含むガスが最終段ロータ４と
ステータ５の間に流入しなくなり、反応生成物の付着防
止ができる。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、ポンプの最終段に環状
溝と複数の放射溝を設けたので、ポンプ性能に影響はな
く、ポンプ機構部への反応生成物の付着堆積を防止でき
る。
溝と複数の放射溝を設けたので、ポンプ性能に影響はな
く、ポンプ機構部への反応生成物の付着堆積を防止でき
る。
【図１】本発明の一実施例を示す断面図。
【図２】最終段ステータの断面図。
【図３】図２のＡ視図の断面図。
１…吸込口、２…吐出口、３…ケーシング、４…ロー
タ、５…ステータ、６…ポンプ機構部、１３…環状溝、
１４…放射溝。
タ、５…ステータ、６…ポンプ機構部、１３…環状溝、
１４…放射溝。
Claims (1)
- 【請求項１】吸込口と吐出口を有するケーシング内にロ
ータおよびステータを収納したポンプ機構部と、前記ポ
ンプ機構部の下方に設けられ、ポンプ外部からシールガ
スを供給される軸封部とを有し、前記吸込口から吸込ま
れたガスが前記吐出口から大気へ排気される真空ポンプ
において、前記ポンプ機構部の最終段ステータに環状溝
と複数の放射溝を設けたことを特徴とするドライ真空ポ
ンプ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13005195A JPH08319985A (ja) | 1995-05-29 | 1995-05-29 | ドライ真空ポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13005195A JPH08319985A (ja) | 1995-05-29 | 1995-05-29 | ドライ真空ポンプ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08319985A true JPH08319985A (ja) | 1996-12-03 |
Family
ID=15024892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13005195A Pending JPH08319985A (ja) | 1995-05-29 | 1995-05-29 | ドライ真空ポンプ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08319985A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113906219A (zh) * | 2019-05-24 | 2022-01-07 | 爱德华兹有限公司 | 真空组件和带有轴向通道的真空泵 |
-
1995
- 1995-05-29 JP JP13005195A patent/JPH08319985A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113906219A (zh) * | 2019-05-24 | 2022-01-07 | 爱德华兹有限公司 | 真空组件和带有轴向通道的真空泵 |
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