JPH08320570A - 電子線描画装置 - Google Patents
電子線描画装置Info
- Publication number
- JPH08320570A JPH08320570A JP12620195A JP12620195A JPH08320570A JP H08320570 A JPH08320570 A JP H08320570A JP 12620195 A JP12620195 A JP 12620195A JP 12620195 A JP12620195 A JP 12620195A JP H08320570 A JPH08320570 A JP H08320570A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- sample
- sample chamber
- objective lens
- lens group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】電子線カラム１の対物レンズ２を試料室５の固
定に梁構造を用いて上下端で固定する。 【効果】軽量で効果的な耐震構造を提供し描画精度を向
上する。
定に梁構造を用いて上下端で固定する。 【効果】軽量で効果的な耐震構造を提供し描画精度を向
上する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体やマスク原版上に
微細パターンを露光する電子線描画装置に係り、特に、
その電子線照射位置決め精度を向上するための電子線カ
ラムの保持装置に関する。
微細パターンを露光する電子線描画装置に係り、特に、
その電子線照射位置決め精度を向上するための電子線カ
ラムの保持装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来技術は公知例：（Jpn., J., Appl.,
Ｖol.３２（１９９３）pp６０４４−６０４８ 太田
他）に示す通り、電子線カラム下部を試料室の蓋に固定
しその固定部の強度を最適化している。電子線描画装置
は、電子顕微鏡から発展した歴史があり、電子線カラム
の固定法も電子顕微鏡の技術から発展したものである。
公知例に示す従来技術も電子線カラムを固定部で１点支
持しその剛性改善、すなわち、試料室蓋の剛性改善を目
的としている。本質的に剛性改善のために重量が増加
し、特性の改善の他、保守性等に問題があった。特に高
速描画技術として重要なステージ連続移動描画では電子
線カラムの振動が精度上の問題となる。
Ｖol.３２（１９９３）pp６０４４−６０４８ 太田
他）に示す通り、電子線カラム下部を試料室の蓋に固定
しその固定部の強度を最適化している。電子線描画装置
は、電子顕微鏡から発展した歴史があり、電子線カラム
の固定法も電子顕微鏡の技術から発展したものである。
公知例に示す従来技術も電子線カラムを固定部で１点支
持しその剛性改善、すなわち、試料室蓋の剛性改善を目
的としている。本質的に剛性改善のために重量が増加
し、特性の改善の他、保守性等に問題があった。特に高
速描画技術として重要なステージ連続移動描画では電子
線カラムの振動が精度上の問題となる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】外部振動や、装置内の
振動、特に試料ステージ移動により電子線カラムの横揺
れを防止し高精度の電子線照射位置決めを可能とする電
子線カラムの保持法を提供する。
振動、特に試料ステージ移動により電子線カラムの横揺
れを防止し高精度の電子線照射位置決めを可能とする電
子線カラムの保持法を提供する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】電子線カラムの対物レン
ズ上端を試料室に対して梁で固定する。対物レンズ下端
を試料室に固定することにより、２点支持し横揺れを防
止する。
ズ上端を試料室に対して梁で固定する。対物レンズ下端
を試料室に固定することにより、２点支持し横揺れを防
止する。
【０００５】
【作用】試料室上面である電子線カラムの取付け部に概
略４５度の梁を設け、対物レンズ上端に梁を固定する。
対物レンズ下端を試料室に固定することにより、２点支
持とする。ステージ連続移動描画の場合は連続移動方向
が通常固定であり、補強はその方向に一致させ横揺れを
防止する。
略４５度の梁を設け、対物レンズ上端に梁を固定する。
対物レンズ下端を試料室に固定することにより、２点支
持とする。ステージ連続移動描画の場合は連続移動方向
が通常固定であり、補強はその方向に一致させ横揺れを
防止する。
【０００６】
【実施例】本発明の実施例を図１と図２を用いて説明す
る。図１は本発明の概略図を、図２は本発明を適用した
可変成形型電子線描画装置の説明図を示す。電子線描画
装置は図２に示す通り、一般に電子源１または成形絞り
像を縮小レンズで縮小し、対物レンズ２で試料１４に投
影し、描画データに従い微細パターンを生成する。可変
成形型電子線描画装置では第一成形絞り７を成形レンズ
で第二成形絞り１０に結像し、その透過位置を成形偏向
器８で制御しビーム断面形状を可変とした装置である。
る。図１は本発明の概略図を、図２は本発明を適用した
可変成形型電子線描画装置の説明図を示す。電子線描画
装置は図２に示す通り、一般に電子源１または成形絞り
像を縮小レンズで縮小し、対物レンズ２で試料１４に投
影し、描画データに従い微細パターンを生成する。可変
成形型電子線描画装置では第一成形絞り７を成形レンズ
で第二成形絞り１０に結像し、その透過位置を成形偏向
器８で制御しビーム断面形状を可変とした装置である。
【０００７】縮小された電子ビームは対物レンズ２のビ
ーム偏向器１３で照射位置が決定される。試料ステージ
１６は試料１４をビーム偏向範囲に移動させる。電子線
描画装置はステージ移動を描画位置に逐次移動させる、
いわゆる、ステップアンドリピート描画方式とステージ
を連続に移動させビーム偏向器１３で追従する連続移動
描画が可能である。ステップアンドリピート描画では描
画前に整定時間を設けることにより機械的振動の影響を
低減できるが描画時間が増大する。連続移動描画では描
画密度の変化が少ない場合はステップアンドリピート方
式ほど、急速な加減速は発生しない利点がある。しか
し、機械的に常に動的な状態、すなわち、加振状態にあ
るといえる。そのため特に連続移動方向の電子線カラム
の横揺れが問題となる。図１は本発明の適用例である。
先の公知例での解析では一次の振動モードは電子線カラ
ムが試料室の固定点を支点とした１００Ｈｚ程度の振り
子振動であり、支点の近くの補強が有効であると結論し
ている。実施例では対物レンズ上下端に梁を渡しカラム
を支持している。一般に対物レンズ上部には、数十分の
一にビームを縮小する縮小レンズが配置されるため縮小
レンズ以上の振動も同比で縮小されると考えられる。そ
のため、対物レンズのみの補強により経済的で効果的な
防振が可能である。本構造により電子線カラムの支持力
は試料室蓋強度には依存せずステージ移動方向に取付け
た梁強度に依存する。特に、連続移動の場合は連続移動
方向の梁を重点に強化すれば試料室蓋を薄く、従って全
体を軽量化できる。本実施例は、試料室に対して電子線
カラムの固定についてであるが、さらに試料室自体の架
台取付けについても適用可能である。
ーム偏向器１３で照射位置が決定される。試料ステージ
１６は試料１４をビーム偏向範囲に移動させる。電子線
描画装置はステージ移動を描画位置に逐次移動させる、
いわゆる、ステップアンドリピート描画方式とステージ
を連続に移動させビーム偏向器１３で追従する連続移動
描画が可能である。ステップアンドリピート描画では描
画前に整定時間を設けることにより機械的振動の影響を
低減できるが描画時間が増大する。連続移動描画では描
画密度の変化が少ない場合はステップアンドリピート方
式ほど、急速な加減速は発生しない利点がある。しか
し、機械的に常に動的な状態、すなわち、加振状態にあ
るといえる。そのため特に連続移動方向の電子線カラム
の横揺れが問題となる。図１は本発明の適用例である。
先の公知例での解析では一次の振動モードは電子線カラ
ムが試料室の固定点を支点とした１００Ｈｚ程度の振り
子振動であり、支点の近くの補強が有効であると結論し
ている。実施例では対物レンズ上下端に梁を渡しカラム
を支持している。一般に対物レンズ上部には、数十分の
一にビームを縮小する縮小レンズが配置されるため縮小
レンズ以上の振動も同比で縮小されると考えられる。そ
のため、対物レンズのみの補強により経済的で効果的な
防振が可能である。本構造により電子線カラムの支持力
は試料室蓋強度には依存せずステージ移動方向に取付け
た梁強度に依存する。特に、連続移動の場合は連続移動
方向の梁を重点に強化すれば試料室蓋を薄く、従って全
体を軽量化できる。本実施例は、試料室に対して電子線
カラムの固定についてであるが、さらに試料室自体の架
台取付けについても適用可能である。
【０００８】
【発明の効果】対物レンズ本体２点を試料室に梁で支持
する構造により、効果的に支持強度を向上できる。さら
に支持方向を電子線カラムをステージ移動方向に限定し
て構成あるいは強化すれば試料室蓋等を軽量化できる。
する構造により、効果的に支持強度を向上できる。さら
に支持方向を電子線カラムをステージ移動方向に限定し
て構成あるいは強化すれば試料室蓋等を軽量化できる。
【図１】本発明の一実施例の斜視図。
【図２】電子線描画装置の説明図。
１…電子線カラム、２…対物レンズ、３…固定梁、４…
試料室蓋、５…試料室。
試料室蓋、５…試料室。
Claims (2)
- 【請求項１】電子線を発生する電子銃と、前記電子線を
成形絞りにより成形する成形レンズ群と、前記成形レン
ズ群と成形ビームを縮小する縮小レンズ群と縮小した成
形ビームを描画試料面に投影する対物レンズ群と投影像
を偏向し照射位置決めをするビーム偏向器からなる電子
線カラムと、偏向照射位置へ試料移動する試料ステージ
と、前記試料ステージを真空に保持する試料室とからな
る電子線照射機構において、 対物レンズの下部と上部を梁により前記試料室に固定し
たことを特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項２】ステージを連続に移動し前記ビーム偏向器
で追従する描画方式で連続移動方向に請求項１に記載の
補強をした電子線描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12620195A JPH08320570A (ja) | 1995-05-25 | 1995-05-25 | 電子線描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12620195A JPH08320570A (ja) | 1995-05-25 | 1995-05-25 | 電子線描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08320570A true JPH08320570A (ja) | 1996-12-03 |
Family
ID=14929216
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12620195A Pending JPH08320570A (ja) | 1995-05-25 | 1995-05-25 | 電子線描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08320570A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6794665B2 (en) | 2002-04-22 | 2004-09-21 | Hitachi High-Technologies Corporation | Electron beam drawing apparatus |
| EP1577929A2 (en) | 2004-03-16 | 2005-09-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron beam exposure apparatus |
| WO2013015019A1 (ja) * | 2011-07-25 | 2013-01-31 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子装置 |
| JP2017195304A (ja) * | 2016-04-21 | 2017-10-26 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム装置 |
-
1995
- 1995-05-25 JP JP12620195A patent/JPH08320570A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6794665B2 (en) | 2002-04-22 | 2004-09-21 | Hitachi High-Technologies Corporation | Electron beam drawing apparatus |
| EP1577929A2 (en) | 2004-03-16 | 2005-09-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron beam exposure apparatus |
| US7230257B2 (en) | 2004-03-16 | 2007-06-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron beam exposure apparatus |
| WO2013015019A1 (ja) * | 2011-07-25 | 2013-01-31 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子装置 |
| JP2013026150A (ja) * | 2011-07-25 | 2013-02-04 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子装置 |
| CN103597571A (zh) * | 2011-07-25 | 2014-02-19 | 株式会社日立高新技术 | 带电粒子装置 |
| US8927930B2 (en) | 2011-07-25 | 2015-01-06 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle device |
| JP2017195304A (ja) * | 2016-04-21 | 2017-10-26 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3890136B2 (ja) | 露光装置とこれを用いたデバイス製造方法、ならびにステージ装置 | |
| US6937911B2 (en) | Compensating for cable drag forces in high precision stages | |
| US6359679B1 (en) | Positioning device, exposure device, and device manufacturing method | |
| US6285437B1 (en) | Method for controlling stages, apparatus therefor, and scanning type exposure apparatus | |
| JPH0831724A (ja) | 電子線描画装置及び電子線描画方法 | |
| JPH08320570A (ja) | 電子線描画装置 | |
| JPH01199428A (ja) | 電子ビーム露光方法及びその装置 | |
| US20040113101A1 (en) | Charged-particle-beam microlithography systems that detect and offset beam-perturbing displacements of optical-column components | |
| US4891524A (en) | Charged particle beam exposure system and method of compensating for eddy current effect on charged particle beam | |
| JP2003318080A (ja) | 電子ビーム描画装置 | |
| JP3455006B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
| JPH08273570A (ja) | 試料に対する精密作業を行う装置 | |
| JP3138005B2 (ja) | 電子線描画装置 | |
| US20010011707A1 (en) | Object carrier for a particle-optical apparatus | |
| JP3637490B2 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
| JP4208914B2 (ja) | 露光装置とこれを用いたデバイス製造方法、ならびにステージ装置 | |
| US6603833B2 (en) | X-ray exposure apparatus | |
| JP3198187B2 (ja) | 荷電粒子ビーム露光装置の調整方法 | |
| JPH10302696A (ja) | 電子線投影レンズ | |
| JPH08111364A (ja) | 電子線描画装置 | |
| JP3607989B2 (ja) | 荷電粒子線転写装置 | |
| JP3469568B2 (ja) | 荷電ビーム描画方法及び描画装置 | |
| JP3448660B2 (ja) | 荷電粒子線転写用マスク及び荷電粒子線転写装置 | |
| JPH03504286A (ja) | Ｘ線リソグラフイの投影スケール変更方法 | |
| JPH0152894B2 (ja) |