JPH08329448A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH08329448A JPH08329448A JP8095957A JP9595796A JPH08329448A JP H08329448 A JPH08329448 A JP H08329448A JP 8095957 A JP8095957 A JP 8095957A JP 9595796 A JP9595796 A JP 9595796A JP H08329448 A JPH08329448 A JP H08329448A
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- Japan
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- magnetic
- layer
- coating
- magnetic layer
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 短波長領域での高出力と走行耐久性を両立
し、生産性に優れた磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 可撓性支持体10と、この上に形成され
た塗膜層と、この塗膜層の上に形成された磁性層30を
備える磁気記録媒体で、前記塗膜層20は、結合剤およ
び非磁性粒子を有し、可撓性支持体10の上に塗設後に
少なくとも1回の延伸処理を行い、その厚さは0.05
〜0.7μmで、前記磁性層30は、磁性粉末、結合
剤、および研磨材を含有しその厚さは、0.05〜1.
0μmで、前記塗膜層20中に含有の非磁性粒子は、そ
の平均粒径が0.01〜0.08μmで、前記磁性層3
0中に含有の研磨材は、平均粒径が0.05〜0.8μ
mである。
し、生産性に優れた磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 可撓性支持体10と、この上に形成され
た塗膜層と、この塗膜層の上に形成された磁性層30を
備える磁気記録媒体で、前記塗膜層20は、結合剤およ
び非磁性粒子を有し、可撓性支持体10の上に塗設後に
少なくとも1回の延伸処理を行い、その厚さは0.05
〜0.7μmで、前記磁性層30は、磁性粉末、結合
剤、および研磨材を含有しその厚さは、0.05〜1.
0μmで、前記塗膜層20中に含有の非磁性粒子は、そ
の平均粒径が0.01〜0.08μmで、前記磁性層3
0中に含有の研磨材は、平均粒径が0.05〜0.8μ
mである。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に関
し、特に高密度記録に適する塗布型の磁気記録媒体に関
する。
し、特に高密度記録に適する塗布型の磁気記録媒体に関
する。
【0002】
【従来の技術】近年、高密度記録の要求から、強磁性粉
末をより微細化したり、合金磁性粉末を用いたり、ある
いは記録媒体の磁化量の増加や高保磁力化、磁性層表面
の平滑化、磁性層の垂直(斜め)配向化、磁性層の薄膜
化等の様々な方法が検討されている。これらの高密度記
録の要求に加え、さらに、磁気記録媒体の小型化が求め
られており、媒体の薄層化、特に、磁性層の薄層化が大
きな課題となっている。
末をより微細化したり、合金磁性粉末を用いたり、ある
いは記録媒体の磁化量の増加や高保磁力化、磁性層表面
の平滑化、磁性層の垂直(斜め)配向化、磁性層の薄膜
化等の様々な方法が検討されている。これらの高密度記
録の要求に加え、さらに、磁気記録媒体の小型化が求め
られており、媒体の薄層化、特に、磁性層の薄層化が大
きな課題となっている。
【0003】しかしながら、単に、磁性層を薄層化にし
た場合には、最終的にカレンダ加工によって表面性を向
上させようとしても、カレンダ加工の効果が顕著に現れ
ない。そのため、磁性層の表面性が改善されず、媒体特
性としての電磁変換特性の低下が大きな問題となってい
た。
た場合には、最終的にカレンダ加工によって表面性を向
上させようとしても、カレンダ加工の効果が顕著に現れ
ない。そのため、磁性層の表面性が改善されず、媒体特
性としての電磁変換特性の低下が大きな問題となってい
た。
【0004】このような問題に対し、媒体(特に、磁性
層)表面を平滑にするために、磁性層と可撓性支持体と
の間に、下塗り層を設ける方法が検討されている。
層)表面を平滑にするために、磁性層と可撓性支持体と
の間に、下塗り層を設ける方法が検討されている。
【0005】この下塗り層を設ける方法については、例
えば、特開昭57−198536号公報に提案されて
いるように、可撓性支持体形成後に、この可撓性支持体
の上に下塗り層を塗設し、この下塗り層を乾燥させた後
に、磁性層を形成させる方法や、特公平5−5949
0号公報に提案されているように、可撓性支持体の上に
下塗り層を塗設し、この下塗り層が湿潤状態のうちに、
磁性層を形成させる方法等がある。また、必ずしも磁気
記録媒体専用に用いられるわけではないが、特開昭5
8−29626号公報には、接着性を向上させるための
ポリエステルフィルムとして、ポリエステルフィルム基
材の上にポリエステルを主成分とする塗布層(接着層)
を塗設した後に、延伸熱処理を施して配向結晶化を完了
させるフィルムの製造方法が提案されている。
えば、特開昭57−198536号公報に提案されて
いるように、可撓性支持体形成後に、この可撓性支持体
の上に下塗り層を塗設し、この下塗り層を乾燥させた後
に、磁性層を形成させる方法や、特公平5−5949
0号公報に提案されているように、可撓性支持体の上に
下塗り層を塗設し、この下塗り層が湿潤状態のうちに、
磁性層を形成させる方法等がある。また、必ずしも磁気
記録媒体専用に用いられるわけではないが、特開昭5
8−29626号公報には、接着性を向上させるための
ポリエステルフィルムとして、ポリエステルフィルム基
材の上にポリエステルを主成分とする塗布層(接着層)
を塗設した後に、延伸熱処理を施して配向結晶化を完了
させるフィルムの製造方法が提案されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
特開昭57−198536号公報に提案されている方法
では、下塗り層と磁性層の機能は最適化しうるが、下塗
り層を設けた時点での微細な膜厚変動が生じやすく、工
程制御が複雑になりやすい傾向にある。さらにこの微細
な膜厚の変動を防止するために、下塗り層を形成し乾燥
させた後にカレンダ加工を行うことも可能であるが、よ
り生産工程が複雑になって歩留の低下も招きやすい。ま
た、磁性層の薄層化に対して下塗り層が乾燥しているた
めに配向の低下を招きやすいという欠点をも有してい
る。
特開昭57−198536号公報に提案されている方法
では、下塗り層と磁性層の機能は最適化しうるが、下塗
り層を設けた時点での微細な膜厚変動が生じやすく、工
程制御が複雑になりやすい傾向にある。さらにこの微細
な膜厚の変動を防止するために、下塗り層を形成し乾燥
させた後にカレンダ加工を行うことも可能であるが、よ
り生産工程が複雑になって歩留の低下も招きやすい。ま
た、磁性層の薄層化に対して下塗り層が乾燥しているた
めに配向の低下を招きやすいという欠点をも有してい
る。
【0007】また、上記特公平5−59490号公報
に提案されている方法では、一度の塗布で下塗り層と磁
性層とを塗設することが可能であり、上記従来の方法
と比べると工程は簡略化できる。しかしながら、下塗り
層と磁性層との界面の乱れや塗料同士の混合が生じ、で
き上がった媒体はその媒体特性である出力変動などが発
生する可能性がある。また、下塗り層と磁性層との塗料
のマッチング等を考慮しなければ塗布そのものが行えな
いという規制があり、塗料の選択範囲が限定され、下塗
り層と磁性層の組成そのものを最適化できない等の欠点
がある。
に提案されている方法では、一度の塗布で下塗り層と磁
性層とを塗設することが可能であり、上記従来の方法
と比べると工程は簡略化できる。しかしながら、下塗り
層と磁性層との界面の乱れや塗料同士の混合が生じ、で
き上がった媒体はその媒体特性である出力変動などが発
生する可能性がある。また、下塗り層と磁性層との塗料
のマッチング等を考慮しなければ塗布そのものが行えな
いという規制があり、塗料の選択範囲が限定され、下塗
り層と磁性層の組成そのものを最適化できない等の欠点
がある。
【0008】これに対して、特開昭58−29626
号公報に開示されている方法は、単にフィルムに被着さ
せるものとの接着性のみを主たる目的とし、特に、高密
度記録に適する薄膜の磁性層を備える磁気記録媒体に関
する下塗り層としてのベースフィルムの仕様の設定は提
案されていない。
号公報に開示されている方法は、単にフィルムに被着さ
せるものとの接着性のみを主たる目的とし、特に、高密
度記録に適する薄膜の磁性層を備える磁気記録媒体に関
する下塗り層としてのベースフィルムの仕様の設定は提
案されていない。
【0009】また、上記の類似の技術として、特開平
4−248116号公報には、ポリエステルフィルムに
カーボンブラックと水溶性ポリウレタン樹脂を主体とし
た塗布液を塗布し、延伸処理を行った後、磁性層を設け
る旨を特徴とする磁気記録媒体の提案がなされている。
しかしながら、この提案における主たる目的は電気抵抗
を低下させることであり、また磁性層の厚さも4μmと
厚く、更にカーボンブラックの平均粒径は0.1〜0.
5μmと大きな粒子を用いており、磁性層を薄層塗布し
た場合の表面の粗さの改善を目的としたものではない。
4−248116号公報には、ポリエステルフィルムに
カーボンブラックと水溶性ポリウレタン樹脂を主体とし
た塗布液を塗布し、延伸処理を行った後、磁性層を設け
る旨を特徴とする磁気記録媒体の提案がなされている。
しかしながら、この提案における主たる目的は電気抵抗
を低下させることであり、また磁性層の厚さも4μmと
厚く、更にカーボンブラックの平均粒径は0.1〜0.
5μmと大きな粒子を用いており、磁性層を薄層塗布し
た場合の表面の粗さの改善を目的としたものではない。
【0010】またさらに、カーボンブラックは分散性が
悪いため、凝集により、ベースフィルムの表面荒れが発
生しやすくなる。そのため、高密度記録を目的とする磁
気記録媒体には適さない。また、カーボンブラックの含
有は、ベースフィルムの再生利用に際して、不純物とし
て障害となるために、社会的要請である資源の有効利用
の観点からも好ましいものではない。
悪いため、凝集により、ベースフィルムの表面荒れが発
生しやすくなる。そのため、高密度記録を目的とする磁
気記録媒体には適さない。また、カーボンブラックの含
有は、ベースフィルムの再生利用に際して、不純物とし
て障害となるために、社会的要請である資源の有効利用
の観点からも好ましいものではない。
【0011】本発明はこのような実状のもとに創案され
たものであって、その目的は短波長領域での高出力と走
行耐久性を両立し、かつ生産性に優れた磁気記録媒体を
提供することにある。
たものであって、その目的は短波長領域での高出力と走
行耐久性を両立し、かつ生産性に優れた磁気記録媒体を
提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】このような目的を解決す
るために、本出願に係る発明者らが、膜厚の薄い磁性層
と支持体の上に形成される塗膜層との関係を鋭意研究し
た結果、生産性に優れることはもとより、膜厚の薄い磁
性層の表面性を向上させることにより、短波長領域での
高出力化が達成でき、さらには走行耐久性にも優れる塗
膜層と磁性層と最適条件を見いだし本発明に至ったので
ある。
るために、本出願に係る発明者らが、膜厚の薄い磁性層
と支持体の上に形成される塗膜層との関係を鋭意研究し
た結果、生産性に優れることはもとより、膜厚の薄い磁
性層の表面性を向上させることにより、短波長領域での
高出力化が達成でき、さらには走行耐久性にも優れる塗
膜層と磁性層と最適条件を見いだし本発明に至ったので
ある。
【0013】すなわち、本発明は、可撓性支持体と、こ
の支持体上に形成された塗膜層と、この塗膜層の上に形
成された磁性層を備える磁気記録媒体であって、前記塗
膜層は、結合剤および非磁性粒子を有するとともに前記
可撓性支持体の上に塗設された後に少なくとも1回の延
伸処理がなされており、その厚さは0.05〜0.7μ
mであり、前記磁性層は、磁性粉末、結合剤、および研
磨材を含有するとともにその厚さは、0.05〜1.0
μmであり、前記塗膜層中に含有される非磁性粒子は、
その平均粒径が0.01〜0.08μmであり、前記磁
性層中に含有される研磨材は、その平均粒径が0.05
〜0.8μmであり、かつ、下記式(1)および式
(2)の条件を満足するように構成される。
の支持体上に形成された塗膜層と、この塗膜層の上に形
成された磁性層を備える磁気記録媒体であって、前記塗
膜層は、結合剤および非磁性粒子を有するとともに前記
可撓性支持体の上に塗設された後に少なくとも1回の延
伸処理がなされており、その厚さは0.05〜0.7μ
mであり、前記磁性層は、磁性粉末、結合剤、および研
磨材を含有するとともにその厚さは、0.05〜1.0
μmであり、前記塗膜層中に含有される非磁性粒子は、
その平均粒径が0.01〜0.08μmであり、前記磁
性層中に含有される研磨材は、その平均粒径が0.05
〜0.8μmであり、かつ、下記式(1)および式
(2)の条件を満足するように構成される。
【0014】 最大粒径(dmx)≦(平均粒径(dav)×2.0)+0.5 …式(1) 最大粒径(dmx)≦(塗膜層の厚さ(tc )+磁性層の厚さ(tm ))+ 0.5 …式(2) 本発明の磁気記録媒体は、可撓性支持体の上に、結合剤
および非磁性粒子を有するとともに少なくとも1回の延
伸処理がなされた所定厚さの塗膜層と、この塗膜層の上
に形成された所定の磁性層を備えているので、生産性に
優れることはもとより、膜厚の薄い磁性層の表面性を上
げることができて短波長領域での高出力化が達成でき
る。さらには走行耐久性にも優れる。
および非磁性粒子を有するとともに少なくとも1回の延
伸処理がなされた所定厚さの塗膜層と、この塗膜層の上
に形成された所定の磁性層を備えているので、生産性に
優れることはもとより、膜厚の薄い磁性層の表面性を上
げることができて短波長領域での高出力化が達成でき
る。さらには走行耐久性にも優れる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体の好
適な実施の形態を図1に基づいて説明する。図1は本発
明の磁気記録媒体の断面図である。この図によれば、本
発明の磁気記録媒体1は、可撓性支持体10と、この上
に塗設、延伸された塗膜層20と、この塗膜層の上に形
成された磁性層30を備えている。
適な実施の形態を図1に基づいて説明する。図1は本発
明の磁気記録媒体の断面図である。この図によれば、本
発明の磁気記録媒体1は、可撓性支持体10と、この上
に塗設、延伸された塗膜層20と、この塗膜層の上に形
成された磁性層30を備えている。
【0016】本発明に用いられる可撓性支持体10とし
ては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン2,6ナフタレート等のポリエステル類、ポリア
ミド、ポリイミド等の各種プラスチックを用いることが
できる。ただし、ポリアミド、ポリイミドは、延伸倍率
が小さいので延伸による膜厚の均一性のレベルは低くな
る傾向にある。
ては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン2,6ナフタレート等のポリエステル類、ポリア
ミド、ポリイミド等の各種プラスチックを用いることが
できる。ただし、ポリアミド、ポリイミドは、延伸倍率
が小さいので延伸による膜厚の均一性のレベルは低くな
る傾向にある。
【0017】このような可撓性支持体10の厚さに特に
制限はないが、磁気記録媒体の小型化の要求に応じるた
めに、2〜14μm、好ましくは、3〜10μmの厚さ
にするのがよい。
制限はないが、磁気記録媒体の小型化の要求に応じるた
めに、2〜14μm、好ましくは、3〜10μmの厚さ
にするのがよい。
【0018】このような可撓性支持体10の上に形成さ
れる塗膜層20は、結合剤および非磁性粒子を有して形
成されるとともに、前記可撓性支持体10の上に塗設・
乾燥させられた後に、前記可撓性支持体10と一体化さ
れたまま、少なくとも1回の延伸処理がなされる。延伸
後の最終的な塗膜層20の厚さは0.05〜0.7μ
m、より好ましくは 0.1〜0.5μmの範囲内にあ
るように設定される。
れる塗膜層20は、結合剤および非磁性粒子を有して形
成されるとともに、前記可撓性支持体10の上に塗設・
乾燥させられた後に、前記可撓性支持体10と一体化さ
れたまま、少なくとも1回の延伸処理がなされる。延伸
後の最終的な塗膜層20の厚さは0.05〜0.7μ
m、より好ましくは 0.1〜0.5μmの範囲内にあ
るように設定される。
【0019】この塗膜層20の厚さが、0.05μm未
満となると、塗布工程において、粒子の脱落が多くな
り、テープ品質としてドロップアウトが増加するという
不都合が生じ、また、0.7μmを超えると延伸の際、
塗膜にひび割れ等が発生し易く、平滑な塗膜を得ること
が難しくなるという不都合が生じる。
満となると、塗布工程において、粒子の脱落が多くな
り、テープ品質としてドロップアウトが増加するという
不都合が生じ、また、0.7μmを超えると延伸の際、
塗膜にひび割れ等が発生し易く、平滑な塗膜を得ること
が難しくなるという不都合が生じる。
【0020】塗膜層20の延伸処理は、前述したように
可撓性支持体10と一体で行われ、その延伸率は、3〜
10倍、好ましくは、4〜8倍とされる。このような塗
膜層20の延伸処理が行われないと、この上に形成され
る磁性層の表面の最終的なカレンダ加工等による平滑化
が図れないのである。すなわち、本発明では、塗膜層2
0中に所定の非磁性粒子を含有させ、所定の延伸処理を
して、所定の厚さの膜厚範囲とすることによって、塗膜
層20そのものに加工性(柔軟な変形性)を持たせて、
磁性層の表面のカレンダ加工による薄層の磁性層30の
表面性を向上させているのである。
可撓性支持体10と一体で行われ、その延伸率は、3〜
10倍、好ましくは、4〜8倍とされる。このような塗
膜層20の延伸処理が行われないと、この上に形成され
る磁性層の表面の最終的なカレンダ加工等による平滑化
が図れないのである。すなわち、本発明では、塗膜層2
0中に所定の非磁性粒子を含有させ、所定の延伸処理を
して、所定の厚さの膜厚範囲とすることによって、塗膜
層20そのものに加工性(柔軟な変形性)を持たせて、
磁性層の表面のカレンダ加工による薄層の磁性層30の
表面性を向上させているのである。
【0021】この塗膜層20の塗設は、可撓性支持体1
0を押し出し成形するインライン中で行い、さらに塗膜
層20の少なくとも1回の延伸処理もインライン中で行
うことが、生産性向上の観点から好ましい。
0を押し出し成形するインライン中で行い、さらに塗膜
層20の少なくとも1回の延伸処理もインライン中で行
うことが、生産性向上の観点から好ましい。
【0022】塗膜層20に含有される非磁性粒子の平均
粒径は、0.01〜0.08μm、より好ましくは、
0.02〜0.06μmである。非磁性粒子の平均粒径
が、0.01μm未満となると、塗料中での十分な分散
ができないという不都合が生じる。この一方で、平均粒
径が0.08μmを超えると、塗膜層20の塗膜表面粗
さが大きくなり、最終製品である磁気記録媒体の媒体特
性である出力の低下を招いてしまうという不都合が生じ
る。
粒径は、0.01〜0.08μm、より好ましくは、
0.02〜0.06μmである。非磁性粒子の平均粒径
が、0.01μm未満となると、塗料中での十分な分散
ができないという不都合が生じる。この一方で、平均粒
径が0.08μmを超えると、塗膜層20の塗膜表面粗
さが大きくなり、最終製品である磁気記録媒体の媒体特
性である出力の低下を招いてしまうという不都合が生じ
る。
【0023】なお、前記塗膜層20中に含有される非磁
性粒子の平均粒径は、本発明では以下のように定義され
る。すなわち、個々の粒子に対してそれぞれ粒子の最大
長さを測定し、それらの算術平均として求められる。具
体的測定方法としては、磁気記録媒体を熱硬化性エポキ
シ樹脂で包埋し、ダイアモンドカッターにて薄く切断し
たサンプルを透過型電子顕微鏡(TEM)(日本電子
(株)製 JEM100CX等)にて観察し(必要に応
じて観察場所を次々と増やして)、合計粒子数100個
以上を測定しその平均値として求められる。塗膜層20
の厚さは、磁気記録媒体を熱硬化性エポキシ樹脂で包埋
し、ダイアモンドカッターにて薄く切断したサンプルを
透過型電子顕微鏡(TEM)(日本電子(株)製 JE
M100CX等)にて観察し、観察場所を変えて10ケ
所の厚さを測定しその平均値として求められる。
性粒子の平均粒径は、本発明では以下のように定義され
る。すなわち、個々の粒子に対してそれぞれ粒子の最大
長さを測定し、それらの算術平均として求められる。具
体的測定方法としては、磁気記録媒体を熱硬化性エポキ
シ樹脂で包埋し、ダイアモンドカッターにて薄く切断し
たサンプルを透過型電子顕微鏡(TEM)(日本電子
(株)製 JEM100CX等)にて観察し(必要に応
じて観察場所を次々と増やして)、合計粒子数100個
以上を測定しその平均値として求められる。塗膜層20
の厚さは、磁気記録媒体を熱硬化性エポキシ樹脂で包埋
し、ダイアモンドカッターにて薄く切断したサンプルを
透過型電子顕微鏡(TEM)(日本電子(株)製 JE
M100CX等)にて観察し、観察場所を変えて10ケ
所の厚さを測定しその平均値として求められる。
【0024】用いられる具体的な非磁性粒子としては、
例えば、シリカ、シリカゾル、アルミナ、アルミナゾ
ル、ジルコニウムゾル、炭酸カルシウム、酸化チタン、
ポリスチレン樹脂、スチレン−エチレングリコールジメ
タクリレート、スチレン−ジビニルベンゼン、メチルメ
タアクリレート−ジビニルベンゼン、シリコーン樹脂、
メラミン樹脂、ホルムアルデヒド樹脂などが挙げられ
る。もちろんこれらの組み合わせでもよい。これらのう
ち、可撓性支持体のリサイクルの点から無色もしくは、
白色である粒子を用いることが好ましい。
例えば、シリカ、シリカゾル、アルミナ、アルミナゾ
ル、ジルコニウムゾル、炭酸カルシウム、酸化チタン、
ポリスチレン樹脂、スチレン−エチレングリコールジメ
タクリレート、スチレン−ジビニルベンゼン、メチルメ
タアクリレート−ジビニルベンゼン、シリコーン樹脂、
メラミン樹脂、ホルムアルデヒド樹脂などが挙げられ
る。もちろんこれらの組み合わせでもよい。これらのう
ち、可撓性支持体のリサイクルの点から無色もしくは、
白色である粒子を用いることが好ましい。
【0025】このような非磁性粒子は、塗膜層20中
に、通常、3〜60wt%、より好ましくは20〜50
wt%含有される。この値が、3wt%未満となると、
磁性層塗布時における支持体の走行安定性が著しく悪化
するという製造上の不都合が生じ、また、この値が60
wt%を超えると、塗膜層20からの非磁性粒子の脱落
数が増加し、ドロップアウト等が増加するという不都合
が生じる。
に、通常、3〜60wt%、より好ましくは20〜50
wt%含有される。この値が、3wt%未満となると、
磁性層塗布時における支持体の走行安定性が著しく悪化
するという製造上の不都合が生じ、また、この値が60
wt%を超えると、塗膜層20からの非磁性粒子の脱落
数が増加し、ドロップアウト等が増加するという不都合
が生じる。
【0026】塗膜層20の形成に用いられる結合剤(樹
脂成分)としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂から選
択される。中でも、水溶性あるいは水分散性の樹脂を用
いることは、生産工程を防爆構造にする必要がなく、ま
た環境に悪影響を与えないという観点から好ましい。具
体的には、水溶性あるいは水分散性のポリエステル系樹
脂、ウレタン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリプ
ロピレン系樹脂、ポリアミド、ビニル系樹脂、ブタジエ
ン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、カーボネ
ート系樹脂、メラミン系樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ビ
ニルアルコール系樹脂、ゼラチン類などが挙げられる。
また、結合剤は、これらの共重合体やこれらを混合した
ものであってもよい。
脂成分)としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂から選
択される。中でも、水溶性あるいは水分散性の樹脂を用
いることは、生産工程を防爆構造にする必要がなく、ま
た環境に悪影響を与えないという観点から好ましい。具
体的には、水溶性あるいは水分散性のポリエステル系樹
脂、ウレタン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリプ
ロピレン系樹脂、ポリアミド、ビニル系樹脂、ブタジエ
ン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、カーボネ
ート系樹脂、メラミン系樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ビ
ニルアルコール系樹脂、ゼラチン類などが挙げられる。
また、結合剤は、これらの共重合体やこれらを混合した
ものであってもよい。
【0027】水溶性あるいは水分散性のポリエステル系
樹脂としては、ポリエステル系樹脂の分子内にスルホン
酸塩、カルボン酸塩、ポリオキシアルキレングリコール
等を含有するものを用いる。スルホン酸塩の基を分子内
に導入するためには、例えば5−Naスルホイソフタル
酸、5−アンモニウムスルホイソフタル酸、4−メチル
アンモニウムスルホイソフタル酸、2−Naスルホテレ
フタル酸、5−Kスルホイソフタル酸、4−Kスルホイ
ソフタル酸、2−Kスルホテレフタル酸、Naスルホコ
ハクフタル酸等のスルホン酸アルカリ金属塩系またはス
ルホン酸アミン塩系化合物等を用いることができる。ス
ルホン酸塩の基を有する多価カルボン酸または多価アル
コールは、通常、全多価カルボン酸成分または多価アル
コール成分中2モル%〜60モル%、好ましくは8〜2
5モル%を占めるようにすることが好ましい。この値が
2モル%未満となると親水性が劣り、また、60モル%
を超えると、耐水性が劣り、しかも重合体の製造上不利
となってしまう。
樹脂としては、ポリエステル系樹脂の分子内にスルホン
酸塩、カルボン酸塩、ポリオキシアルキレングリコール
等を含有するものを用いる。スルホン酸塩の基を分子内
に導入するためには、例えば5−Naスルホイソフタル
酸、5−アンモニウムスルホイソフタル酸、4−メチル
アンモニウムスルホイソフタル酸、2−Naスルホテレ
フタル酸、5−Kスルホイソフタル酸、4−Kスルホイ
ソフタル酸、2−Kスルホテレフタル酸、Naスルホコ
ハクフタル酸等のスルホン酸アルカリ金属塩系またはス
ルホン酸アミン塩系化合物等を用いることができる。ス
ルホン酸塩の基を有する多価カルボン酸または多価アル
コールは、通常、全多価カルボン酸成分または多価アル
コール成分中2モル%〜60モル%、好ましくは8〜2
5モル%を占めるようにすることが好ましい。この値が
2モル%未満となると親水性が劣り、また、60モル%
を超えると、耐水性が劣り、しかも重合体の製造上不利
となってしまう。
【0028】多価カルボン酸として用いる他の成分は、
テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル
酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,4−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリ
メット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、イタコン酸、
等が例示することができる。多価アルコール成分として
は、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、
1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジ
メタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパ
ン、ポリ(エチレンオキシド)グリコール、ポリ(テト
ラメチレンオキシド)グリコール等を例示することがで
きる。また、これらの成分と共にp−ヒドロキシ安息香
酸、p−(β−ヒドロキシエトキシ)安息香酸等のヒド
ロキシカルボン酸も用いることができる。このポリエス
テル樹脂は、上記の多価カルボン酸あるいはそのエステ
ル形成誘導体と上記多価アルコールあるいはそのエステ
ル形成性誘導体とから公知の方法によって合成される。
テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル
酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,4−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリ
メット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、イタコン酸、
等が例示することができる。多価アルコール成分として
は、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、
1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジ
メタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパ
ン、ポリ(エチレンオキシド)グリコール、ポリ(テト
ラメチレンオキシド)グリコール等を例示することがで
きる。また、これらの成分と共にp−ヒドロキシ安息香
酸、p−(β−ヒドロキシエトキシ)安息香酸等のヒド
ロキシカルボン酸も用いることができる。このポリエス
テル樹脂は、上記の多価カルボン酸あるいはそのエステ
ル形成誘導体と上記多価アルコールあるいはそのエステ
ル形成性誘導体とから公知の方法によって合成される。
【0029】さらに塗膜層20には、耐溶剤性を強化す
るために、架橋結合剤を添加して塗膜層20の架橋密度
を高めることが好ましい。架橋結合剤としては、例え
ば、メラミン系架橋剤、尿素系架橋剤、エポキシ系架橋
剤、イソシアネート系架橋剤等が単独ないしは混合して
用いられる。架橋結合剤の添加量は、通常、樹脂100
重量部に対して1〜20重量部程度とされる。この架橋
結合剤が多すぎるとリサイクルの点から好ましくない。
るために、架橋結合剤を添加して塗膜層20の架橋密度
を高めることが好ましい。架橋結合剤としては、例え
ば、メラミン系架橋剤、尿素系架橋剤、エポキシ系架橋
剤、イソシアネート系架橋剤等が単独ないしは混合して
用いられる。架橋結合剤の添加量は、通常、樹脂100
重量部に対して1〜20重量部程度とされる。この架橋
結合剤が多すぎるとリサイクルの点から好ましくない。
【0030】さらに塗膜層20には、潤滑剤を含有させ
てもよい。用いる潤滑剤としては、例えば、一塩基性脂
肪酸;ジメチルシロキサンに代表されるシリコーンオイ
ル;フッ素系潤滑剤;鉱物油;α−オレフィンオリゴマ
ー、n−パラフィン等に代表される炭化水素;動物油;
植物油等、が挙げられる。
てもよい。用いる潤滑剤としては、例えば、一塩基性脂
肪酸;ジメチルシロキサンに代表されるシリコーンオイ
ル;フッ素系潤滑剤;鉱物油;α−オレフィンオリゴマ
ー、n−パラフィン等に代表される炭化水素;動物油;
植物油等、が挙げられる。
【0031】これらの具体例としては、ラウリン酸、ミ
リスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エ
ライジン酸等の一塩基性脂肪酸や、ブチルミリステー
ト、ブチルパルミテート、ブチルステアレート、ネオペ
ンチルグリコールジオレエート、ソルビタンモノステア
レート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリス
テアレート、オレイルオレエート、イソセチルステアレ
ート、イソトリデシルステアレート、オクチルステアレ
ート、イソオクチルステアレート、アミルステアレー
ト、ブトキシエチルステアレート、2−エチルヘキシル
ステアレート、トリメチロールプロパントリオレエート
等の脂肪酸エルテルが挙げられる。これらは、一般に潤
滑剤として広く使用されているものである。このような
潤滑剤の添加量は、通常、樹脂100wt%に対して
0.1〜30wt%の範囲にあることが好ましい。もち
ろん、2種類以上の潤滑剤を組み合わせてもよい。この
ような塗膜層20の上には、磁性層30が形成される。
この磁性層30には、主成分として磁性粉末、結合剤
(バインダ)および研磨材が含有されている。さらに、
この磁性層の厚さは、0.05〜1.0μm、好ましく
は、0.08〜0.7μm、より好ましくは、0.1〜
0.5μmとされる。この値が、0.05μm未満とな
ると、現時点での塗布技術では均一に塗布することがで
きないため、膜厚変動が大きいという不都合が生じ、ま
た、この値が1.0μmを超えると、短波長域での出力
の低下やカレンダー加工による研磨材の埋没により耐久
性が悪化する。これを防止するには研磨材の添加量を増
やす必要があり、またこれにより、電磁変換特性が低下
するという不都合が生じる。
リスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エ
ライジン酸等の一塩基性脂肪酸や、ブチルミリステー
ト、ブチルパルミテート、ブチルステアレート、ネオペ
ンチルグリコールジオレエート、ソルビタンモノステア
レート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリス
テアレート、オレイルオレエート、イソセチルステアレ
ート、イソトリデシルステアレート、オクチルステアレ
ート、イソオクチルステアレート、アミルステアレー
ト、ブトキシエチルステアレート、2−エチルヘキシル
ステアレート、トリメチロールプロパントリオレエート
等の脂肪酸エルテルが挙げられる。これらは、一般に潤
滑剤として広く使用されているものである。このような
潤滑剤の添加量は、通常、樹脂100wt%に対して
0.1〜30wt%の範囲にあることが好ましい。もち
ろん、2種類以上の潤滑剤を組み合わせてもよい。この
ような塗膜層20の上には、磁性層30が形成される。
この磁性層30には、主成分として磁性粉末、結合剤
(バインダ)および研磨材が含有されている。さらに、
この磁性層の厚さは、0.05〜1.0μm、好ましく
は、0.08〜0.7μm、より好ましくは、0.1〜
0.5μmとされる。この値が、0.05μm未満とな
ると、現時点での塗布技術では均一に塗布することがで
きないため、膜厚変動が大きいという不都合が生じ、ま
た、この値が1.0μmを超えると、短波長域での出力
の低下やカレンダー加工による研磨材の埋没により耐久
性が悪化する。これを防止するには研磨材の添加量を増
やす必要があり、またこれにより、電磁変換特性が低下
するという不都合が生じる。
【0032】このような磁性層中に含有される研磨材
は、平均粒径0.05〜0.8μm、好ましくは、0.
08〜0.5μm、より好ましくは、0.1〜0.3μ
mの範囲ものが用いられ、かつ、下記式(1)および式
(2)の条件を満足する研磨材が用いられる。
は、平均粒径0.05〜0.8μm、好ましくは、0.
08〜0.5μm、より好ましくは、0.1〜0.3μ
mの範囲ものが用いられ、かつ、下記式(1)および式
(2)の条件を満足する研磨材が用いられる。
【0033】 最大粒径(dmx)≦(平均粒径(dav)×2.0)+0.5 …式(1) 最大粒径(dmx)≦(塗膜層の厚さ(tc )+磁性層の厚さ(tm ))+ 0.5 …式(2) 上記式(1)および式(2)において、(dmx),(d
av),(tc ),(tm )の単位はμmである。また
上記式(1)および式(2)において、研磨材の平均粒
径(dav)および最大粒径(dmx)は、本発明では以下
のように定義される。すなわち、平均粒径(dav)は、
個々の粒子に対してそれぞれの粒子の最大長さを測定
し、それらの算術平均として求められる。また、最大粒
径(dmx)は、個々の粒子に対してそれぞれの粒子の最
大長さを測定し、それらの粒径分布を求め、この粒径分
布の粒径の大きい側から5%の個数をカットしたところ
の粒径の値をもって定義される。具体的測定方法として
は、記録媒体の断面写真を撮り、その中から任意に10
0個以上の研磨材粒子をサンプリングし、これらの粒子
の最大長さを測定し、上記の算出法に従って、dav、d
mx、それぞれの値を求める。
av),(tc ),(tm )の単位はμmである。また
上記式(1)および式(2)において、研磨材の平均粒
径(dav)および最大粒径(dmx)は、本発明では以下
のように定義される。すなわち、平均粒径(dav)は、
個々の粒子に対してそれぞれの粒子の最大長さを測定
し、それらの算術平均として求められる。また、最大粒
径(dmx)は、個々の粒子に対してそれぞれの粒子の最
大長さを測定し、それらの粒径分布を求め、この粒径分
布の粒径の大きい側から5%の個数をカットしたところ
の粒径の値をもって定義される。具体的測定方法として
は、記録媒体の断面写真を撮り、その中から任意に10
0個以上の研磨材粒子をサンプリングし、これらの粒子
の最大長さを測定し、上記の算出法に従って、dav、d
mx、それぞれの値を求める。
【0034】上記研磨材の平均粒径が0.05μm未満
となると、塗料分散が十分にできないという不都合が生
じ、また、この値が0.8μmを超えたり、あるいは、
上記(1)および(2)式を満たさないと研磨材の影響
により、磁性層とヘッドのギャップが大きくなり、短波
長域での出力低下が著しくなるという不都合が生じる。
となると、塗料分散が十分にできないという不都合が生
じ、また、この値が0.8μmを超えたり、あるいは、
上記(1)および(2)式を満たさないと研磨材の影響
により、磁性層とヘッドのギャップが大きくなり、短波
長域での出力低下が著しくなるという不都合が生じる。
【0035】使用できる研磨材としては、例えば、金
属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化
物、金属炭化物、金属硫化物等の無機質粉末が挙げられ
る。
属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化
物、金属炭化物、金属硫化物等の無機質粉末が挙げられ
る。
【0036】具体的には、α−アルミナ、β−アルミ
ナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、δーアルミナ、三酸
化二クロム、α−酸化鉄、γ−酸化鉄、ゲータイト、S
iO2、ZnO、TiO2 、ZrO2 、SnO2 、窒化
珪素、窒化硼素、炭化珪素、炭化チタン、炭化モリブデ
ン、炭化ホウ素、炭化タングステン、炭酸カルシウム、
炭酸バリウム、炭酸ストロンチウム、炭酸マグネシウ
ム、硫酸バリウム、硫化亜鉛、二硫化モリブデン、二硫
化タングステン、人造ダイアモンド等が単独または組み
合わせて使用される。
ナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、δーアルミナ、三酸
化二クロム、α−酸化鉄、γ−酸化鉄、ゲータイト、S
iO2、ZnO、TiO2 、ZrO2 、SnO2 、窒化
珪素、窒化硼素、炭化珪素、炭化チタン、炭化モリブデ
ン、炭化ホウ素、炭化タングステン、炭酸カルシウム、
炭酸バリウム、炭酸ストロンチウム、炭酸マグネシウ
ム、硫酸バリウム、硫化亜鉛、二硫化モリブデン、二硫
化タングステン、人造ダイアモンド等が単独または組み
合わせて使用される。
【0037】これらの研磨材は、磁性粉末に対して重量
比率で、通常、0.1〜20wt%、好ましくは0.5
〜15wt%、より好ましくは1〜10wt%の範囲で
用いられる。
比率で、通常、0.1〜20wt%、好ましくは0.5
〜15wt%、より好ましくは1〜10wt%の範囲で
用いられる。
【0038】これらの研磨材は磁性層の要求特性に合わ
せて1種ないしは2種以上、適宜組み合わせて用いれば
よい。2種以上を混合して用いる場合には、混合したも
のがそれぞれ、上記の範囲を満たす必要がある。
せて1種ないしは2種以上、適宜組み合わせて用いれば
よい。2種以上を混合して用いる場合には、混合したも
のがそれぞれ、上記の範囲を満たす必要がある。
【0039】上記の研磨材は、必ずしも100%純粋で
ある必要はなく、主成分が70%以上であれば効果は減
少しない。
ある必要はなく、主成分が70%以上であれば効果は減
少しない。
【0040】また、これらの研磨材は、水に可溶なアル
カリ金属、アルカリ土類金属、塩素、硫酸、硝酸等のイ
オンが少ないことが必要で、その量が多いと媒体化した
ときの保存特性に悪影響を及ぼす。
カリ金属、アルカリ土類金属、塩素、硫酸、硝酸等のイ
オンが少ないことが必要で、その量が多いと媒体化した
ときの保存特性に悪影響を及ぼす。
【0041】さらに、磁性層30には磁性粉末が含有さ
れる。用いる磁性粉末としては、酸化鉄磁性粉末、強磁
性金属粉末、板状六方晶フェライト、二酸化クロム等が
挙げられる。これらの中でも特に、強磁性金属粉末、板
状六方晶フェライトを用いることが好ましい。
れる。用いる磁性粉末としては、酸化鉄磁性粉末、強磁
性金属粉末、板状六方晶フェライト、二酸化クロム等が
挙げられる。これらの中でも特に、強磁性金属粉末、板
状六方晶フェライトを用いることが好ましい。
【0042】強磁性金属粉末としては、Fe、Ni、C
oおよびこれらの合金が例示され、α−Fe、Fe−C
o、Fe−Ni、Fe−Co−Ni、Co、Co−Ni
等の強磁性金属元素を主成分とするものを用いる場合、
金属(Fe、Co、Ni等)または合金を70wt%以
上含むことが好ましく、さらには75wt%以上含むこ
とが好ましい。また、Feを主成分とし、さらに少なく
ともCoを含有する強磁性金属磁性粉末においては、そ
のFe原子に対するCo原子の量は、通常、5〜40w
t%、好ましくは6〜35wt%である。また、Feお
よび/またはCoを主成分とする強磁性金属粉末におい
ては、さらにYを含む希土類元素を含有するものが好ま
しい。さらにこれら強磁性金属粉末は、粒子表面に酸化
被膜あるいは、一部炭化ないし窒化された強磁性金属粉
末、または表面に炭素質被膜がなされた強磁性金属粉末
であってもよい。上記強磁性金属粉末については、少量
の水酸化物または酸化物を含んでもよい。これら強磁性
金属粉末は、公知の製造方法により得られたものを用い
ることができ、下記の方法を挙げることができる。製造
方法の例としては、強磁性金属の有機酸塩(主としてシ
ュウ酸塩)を水素等の還元性気体で還元する方法、含水
酸化鉄または含水酸化鉄を加熱して得た酸化鉄を水素等
の還元性気体で還元する方法、金属カルボニル化合物を
熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナ
トリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジン等の還元剤
を用いて還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸
発させて微粉末を得る方法等である。このようにして得
られた強磁性金属粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有
機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬
したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化皮膜を形
成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガス
と不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成す
る方法のいずれを施したものでも用いることができる。
oおよびこれらの合金が例示され、α−Fe、Fe−C
o、Fe−Ni、Fe−Co−Ni、Co、Co−Ni
等の強磁性金属元素を主成分とするものを用いる場合、
金属(Fe、Co、Ni等)または合金を70wt%以
上含むことが好ましく、さらには75wt%以上含むこ
とが好ましい。また、Feを主成分とし、さらに少なく
ともCoを含有する強磁性金属磁性粉末においては、そ
のFe原子に対するCo原子の量は、通常、5〜40w
t%、好ましくは6〜35wt%である。また、Feお
よび/またはCoを主成分とする強磁性金属粉末におい
ては、さらにYを含む希土類元素を含有するものが好ま
しい。さらにこれら強磁性金属粉末は、粒子表面に酸化
被膜あるいは、一部炭化ないし窒化された強磁性金属粉
末、または表面に炭素質被膜がなされた強磁性金属粉末
であってもよい。上記強磁性金属粉末については、少量
の水酸化物または酸化物を含んでもよい。これら強磁性
金属粉末は、公知の製造方法により得られたものを用い
ることができ、下記の方法を挙げることができる。製造
方法の例としては、強磁性金属の有機酸塩(主としてシ
ュウ酸塩)を水素等の還元性気体で還元する方法、含水
酸化鉄または含水酸化鉄を加熱して得た酸化鉄を水素等
の還元性気体で還元する方法、金属カルボニル化合物を
熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナ
トリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジン等の還元剤
を用いて還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸
発させて微粉末を得る方法等である。このようにして得
られた強磁性金属粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有
機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬
したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化皮膜を形
成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガス
と不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成す
る方法のいずれを施したものでも用いることができる。
【0043】板状六方晶フェライトは、磁化容易軸が平
板の垂直方向にある六角板状の強磁性粉末であり、例え
ば、Ba−フェライト、Sr−フェライト、Pb−フェ
ライト、Ca−フェライト及びこれらのFe原子の価数
を合わせた金属原子置換フェライト、六方晶Co粉末等
が挙げられる。より具体的には、マグネトプランバイト
型のBa−フェライト及びSr−フェライト、さらに一
部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のBa
−フェライト及びSr−フェライト等が挙げられ、とく
に好ましいものとしてはBa−フェライト、Sr−フェ
ライトの保磁力を制御するためにFe原子の価数を合わ
せた金属原子置換フェライトである。この保磁力を制御
するために置換添加して用いられる金属原子としては、
Co−Ti、Co−Ti−Sn、Co−Ti−Zr、C
u−Zn、Cu−Ti−Zn、Ni−Ti−Zn等を用
いることが好ましい。Ba−フェライトを用いる場合、
板径は六角板状の粒子の板の幅を意味し、電子顕微鏡を
使用して測定する。この板径は0.01〜0.1μm程
度で、板厚は直径の1/2〜1/20程度とされる。
板の垂直方向にある六角板状の強磁性粉末であり、例え
ば、Ba−フェライト、Sr−フェライト、Pb−フェ
ライト、Ca−フェライト及びこれらのFe原子の価数
を合わせた金属原子置換フェライト、六方晶Co粉末等
が挙げられる。より具体的には、マグネトプランバイト
型のBa−フェライト及びSr−フェライト、さらに一
部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のBa
−フェライト及びSr−フェライト等が挙げられ、とく
に好ましいものとしてはBa−フェライト、Sr−フェ
ライトの保磁力を制御するためにFe原子の価数を合わ
せた金属原子置換フェライトである。この保磁力を制御
するために置換添加して用いられる金属原子としては、
Co−Ti、Co−Ti−Sn、Co−Ti−Zr、C
u−Zn、Cu−Ti−Zn、Ni−Ti−Zn等を用
いることが好ましい。Ba−フェライトを用いる場合、
板径は六角板状の粒子の板の幅を意味し、電子顕微鏡を
使用して測定する。この板径は0.01〜0.1μm程
度で、板厚は直径の1/2〜1/20程度とされる。
【0044】なお、これら上記のすべての磁性粉末に
は、Al、Si、Cr、Mn、Co、Ni、Zn、C
u、Zr、Ti、Bi、Ag、Pt、B、C、P、N、
Y、S、Sc、V、Mo、Rh、Pd、Ag、Sn、S
b、Te、Ba、Ca、Ta、W、Re、Au、Hg、
Pb、La、Sr、希土類等の元素を少量添加したもの
であってもよく、これらの元素の中でもとくに、Al、
Si、P、Y、希土類元素を添加することによって粒度
分布を向上させ、焼結を防止する等の効果がある。
は、Al、Si、Cr、Mn、Co、Ni、Zn、C
u、Zr、Ti、Bi、Ag、Pt、B、C、P、N、
Y、S、Sc、V、Mo、Rh、Pd、Ag、Sn、S
b、Te、Ba、Ca、Ta、W、Re、Au、Hg、
Pb、La、Sr、希土類等の元素を少量添加したもの
であってもよく、これらの元素の中でもとくに、Al、
Si、P、Y、希土類元素を添加することによって粒度
分布を向上させ、焼結を防止する等の効果がある。
【0045】またこれら磁性粉末には、Al、Si、P
またはこれらの酸化物膜で覆ったものでも、Si、A
l、Ti等のカップリング剤や各種の界面活性剤等で表
面処理したものでもよい。
またはこれらの酸化物膜で覆ったものでも、Si、A
l、Ti等のカップリング剤や各種の界面活性剤等で表
面処理したものでもよい。
【0046】強磁性金属粉末の場合には水に可溶性のN
a、K、Ca、Fe、Ni等の無機イオンを含む場合が
あるが、その量は、通常、好ましくは500ppm以下
である。
a、K、Ca、Fe、Ni等の無機イオンを含む場合が
あるが、その量は、通常、好ましくは500ppm以下
である。
【0047】これらの磁性粉末にはあとで述べる分散
剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤等で分散前にあら
かじめ処理を行ってもかまわない。
剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤等で分散前にあら
かじめ処理を行ってもかまわない。
【0048】磁性粉末の含水率は、通常、0.1〜2%
であればよいが、結合剤の種類によって最適化すること
が好ましい。
であればよいが、結合剤の種類によって最適化すること
が好ましい。
【0049】磁性粉末のpHは用いる結合剤との組み合
わせにより最適化することが好ましく、その範囲は、通
常、4〜12であるが、好ましくは6〜10である。
わせにより最適化することが好ましく、その範囲は、通
常、4〜12であるが、好ましくは6〜10である。
【0050】これらの磁性粉末をBET法による比表面
積で表せば、通常、25〜100m2 /gであり、好ま
しくは40〜85m2 /gであり、25m2 /g未満で
はノイズが高くなり、100m2 /gを超えると分散が
難しいためテープの平滑性が得られにくく好ましくな
い。
積で表せば、通常、25〜100m2 /gであり、好ま
しくは40〜85m2 /gであり、25m2 /g未満で
はノイズが高くなり、100m2 /gを超えると分散が
難しいためテープの平滑性が得られにくく好ましくな
い。
【0051】このような磁性粉末は、通常バインダー1
00wt%に対し100〜2000wt%程度含有さ
れ、磁性層中の磁性粉末の含有量は、全体の50〜95
wt%、好ましくは55〜90wt%とし、磁性粉末の
含有量が多すぎると磁性層中の樹脂を始めとする添加物
の量が相対的に減少するため、磁性層の耐久性が低下す
る等の欠点が生じやすくなり、少なすぎると高い再生出
力を得られない。
00wt%に対し100〜2000wt%程度含有さ
れ、磁性層中の磁性粉末の含有量は、全体の50〜95
wt%、好ましくは55〜90wt%とし、磁性粉末の
含有量が多すぎると磁性層中の樹脂を始めとする添加物
の量が相対的に減少するため、磁性層の耐久性が低下す
る等の欠点が生じやすくなり、少なすぎると高い再生出
力を得られない。
【0052】これらの磁性粉末は、それぞれ単独で使用
してもよいし、2種以上(例えば、Ba−フェライト
と、金属磁性粉末)を混合して用いてもよい。
してもよいし、2種以上(例えば、Ba−フェライト
と、金属磁性粉末)を混合して用いてもよい。
【0053】磁性層30に含有される結合剤としては、
熱可塑性樹脂、熱硬化性ないし反応型樹脂、電子線感応
型変性樹脂等が用いられ、その組み合わせは媒体の特
性、工程条件に合わせて適宜選択使用される。
熱可塑性樹脂、熱硬化性ないし反応型樹脂、電子線感応
型変性樹脂等が用いられ、その組み合わせは媒体の特
性、工程条件に合わせて適宜選択使用される。
【0054】熱可塑性樹脂としては、通常、軟化温度が
150℃以下、平均分子量5、000〜200、00
0、重合度50〜2、000程度のものであり、熱硬化
樹脂、反応型樹脂または電子線官能型変性樹脂も熱可塑
性樹脂同様の平均分子量、重合度のものであって、塗
布、乾燥、カレンダー加工後に加熱、および/または電
子線照射することにより、縮合、付加等の反応により分
子量は無限大のものとなるものである。
150℃以下、平均分子量5、000〜200、00
0、重合度50〜2、000程度のものであり、熱硬化
樹脂、反応型樹脂または電子線官能型変性樹脂も熱可塑
性樹脂同様の平均分子量、重合度のものであって、塗
布、乾燥、カレンダー加工後に加熱、および/または電
子線照射することにより、縮合、付加等の反応により分
子量は無限大のものとなるものである。
【0055】これらのうちで、好ましく用いられるもの
としては、以下に示すような塩化ビニル系共重合体およ
びポリウレタン樹脂の組み合わせである。
としては、以下に示すような塩化ビニル系共重合体およ
びポリウレタン樹脂の組み合わせである。
【0056】塩化ビニル系共重合体は、塩化ビニル含有
量60〜95wt%、とくに60〜90wt%のものが
好ましく、その平均重合度は100〜500程度である
ことが好ましい。
量60〜95wt%、とくに60〜90wt%のものが
好ましく、その平均重合度は100〜500程度である
ことが好ましい。
【0057】このような塩化ビニル系共重合体として
は、硫酸基および/またはスルホ基を極性基(以下S含
有極性基)として含有するものが好ましく、S含有極性
基(−SO4 Y、−SO3 Y)において、YがH、アル
カリ金属のいずれであってもよいが、Y=Kで、−SO
4 K、−SO3 Kであることがとくに好ましく、これら
S含有極性基は、いずれか一方であっても、両者を含有
するものであってもよく、両者を含むときにはその比は
任意である。
は、硫酸基および/またはスルホ基を極性基(以下S含
有極性基)として含有するものが好ましく、S含有極性
基(−SO4 Y、−SO3 Y)において、YがH、アル
カリ金属のいずれであってもよいが、Y=Kで、−SO
4 K、−SO3 Kであることがとくに好ましく、これら
S含有極性基は、いずれか一方であっても、両者を含有
するものであってもよく、両者を含むときにはその比は
任意である。
【0058】また、これらのS含有極性基は、S原子と
して分子中に0.01〜10wt%、特に0.1〜5w
t%含まれていることが好ましい。
して分子中に0.01〜10wt%、特に0.1〜5w
t%含まれていることが好ましい。
【0059】また極性基としては、必要に応じS含有極
性基の他に、−OPO2 Y基、−PO3 Y基、−COO
Y基(YはH、アルカリ金属)、アミノ基(−NR
2 )、−NR3 Cl(RはH、メチル、エチル)等を含
有させることもできる。
性基の他に、−OPO2 Y基、−PO3 Y基、−COO
Y基(YはH、アルカリ金属)、アミノ基(−NR
2 )、−NR3 Cl(RはH、メチル、エチル)等を含
有させることもできる。
【0060】この中で、アミノ基は前記Sと併用しなく
とも良く、また種々のものであってよいが、特にジアル
キルアミノ基(好ましくは炭素原子数1〜10のアルキ
ル)が好ましい。
とも良く、また種々のものであってよいが、特にジアル
キルアミノ基(好ましくは炭素原子数1〜10のアルキ
ル)が好ましい。
【0061】このようなアミノ基は通常、アミン変性に
よって得られ、塩化ビニル・アルキルカルボン酸ビニル
エステルの共重合体をアルコール等の有機溶剤に分散あ
るいは溶解させ、その中にアミン化合物(脂肪族アミ
ン、脂環状アミン、アルカノールアミン、アルコキシア
ルキルアミン等の第1級、第2級もしくは第3級アミン
等)と、容易にケン化反応を進行させるためのエポキシ
基含有化合物とを加えてケン化反応を行なうことで得ら
れ、そのアミノ基を有するビニル単位が0.05〜5w
t%で、なおアンモニウム塩基が結果的に含まれていて
も良い。
よって得られ、塩化ビニル・アルキルカルボン酸ビニル
エステルの共重合体をアルコール等の有機溶剤に分散あ
るいは溶解させ、その中にアミン化合物(脂肪族アミ
ン、脂環状アミン、アルカノールアミン、アルコキシア
ルキルアミン等の第1級、第2級もしくは第3級アミン
等)と、容易にケン化反応を進行させるためのエポキシ
基含有化合物とを加えてケン化反応を行なうことで得ら
れ、そのアミノ基を有するビニル単位が0.05〜5w
t%で、なおアンモニウム塩基が結果的に含まれていて
も良い。
【0062】これらのS含有極性基が結合する樹脂骨格
は、塩化ビニル系樹脂であり、塩化ビニル、エポキシ基
を有する単量体、さらに必要に応じてこれらと共重合可
能な他の単量体を、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウ
ム等のSを含む強酸根を有するラジカル発生剤の存在下
に重合して得ることができ、これらのラジカル発生剤の
使用量は、単量体に対して通常は0.3〜9.0wt
%、好ましくは1.0〜5.0wt%であり、重合にお
いては水溶性のものが多いので、乳化重合あるいは、メ
タノール等のアルコールを重合媒体とする懸濁重合や、
ケトン類を溶媒とする溶液重合が好適である。
は、塩化ビニル系樹脂であり、塩化ビニル、エポキシ基
を有する単量体、さらに必要に応じてこれらと共重合可
能な他の単量体を、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウ
ム等のSを含む強酸根を有するラジカル発生剤の存在下
に重合して得ることができ、これらのラジカル発生剤の
使用量は、単量体に対して通常は0.3〜9.0wt
%、好ましくは1.0〜5.0wt%であり、重合にお
いては水溶性のものが多いので、乳化重合あるいは、メ
タノール等のアルコールを重合媒体とする懸濁重合や、
ケトン類を溶媒とする溶液重合が好適である。
【0063】このような塩化ビニル系樹脂と併用するポ
リウレタン樹脂は、耐摩耗性および支持体への接着性が
良い点で特に有効であり、これらには、側鎖に極性基、
水酸基等を有するものであっても良く、特に硫黄または
燐を含有する極性基を含有しているものが好ましい。
リウレタン樹脂は、耐摩耗性および支持体への接着性が
良い点で特に有効であり、これらには、側鎖に極性基、
水酸基等を有するものであっても良く、特に硫黄または
燐を含有する極性基を含有しているものが好ましい。
【0064】これらポリウレタン樹脂とは、通常、ポリ
エステルポリオールおよび/またはポリエーテルポリオ
ール等のヒドロキシ基含有樹脂とポリイソシアネート含
有化合物との反応により得られる樹脂の総称であって、
下記に詳述する合成原料を数平均分子量で500〜20
0000程度に重合したもので、そのQ値(重量平均分
子量/数平均分子量)は1.5〜4程度である。
エステルポリオールおよび/またはポリエーテルポリオ
ール等のヒドロキシ基含有樹脂とポリイソシアネート含
有化合物との反応により得られる樹脂の総称であって、
下記に詳述する合成原料を数平均分子量で500〜20
0000程度に重合したもので、そのQ値(重量平均分
子量/数平均分子量)は1.5〜4程度である。
【0065】またこれらのウレタン樹脂は、用いる結合
剤中において、ガラス転移温度Tgが−20℃≦Tg≦
80℃の範囲で異なるものを少なくとも2種類以上、さ
らにその合計量が全結合剤の10〜90wt%であり、
これら複数のポリウレタン樹脂を含有することで、高温
度環境下での走行安定性とカレンダ加工性、電磁変換特
性のバランスが得られる点で好ましい。
剤中において、ガラス転移温度Tgが−20℃≦Tg≦
80℃の範囲で異なるものを少なくとも2種類以上、さ
らにその合計量が全結合剤の10〜90wt%であり、
これら複数のポリウレタン樹脂を含有することで、高温
度環境下での走行安定性とカレンダ加工性、電磁変換特
性のバランスが得られる点で好ましい。
【0066】さらにこれら塩化ビニル系共重合体と、S
および/またはP含有極性基含有ウレタン樹脂とは、そ
の重量混合比が10:90〜90:10となるように混
合して用いることが好ましい。
および/またはP含有極性基含有ウレタン樹脂とは、そ
の重量混合比が10:90〜90:10となるように混
合して用いることが好ましい。
【0067】なお、これらの樹脂に加えて、全体の20
wt%以下の範囲で、公知の各種樹脂が含有されていて
もよい。
wt%以下の範囲で、公知の各種樹脂が含有されていて
もよい。
【0068】ウレタン樹脂中に含まれる極性基として、
S含有基としては−SO3 M、−SO4 M、P含有極性
基としては、=PO3 M、=PO3 M、=POM、−P
=O(OM1 )(OM2 )、−OP=O(OM1 )(O
M2 )、−COOM、−NR4 X(ここで、M、M1 、
M2 は、H、Li、Na、K、−NR4 、−NHR3を
示し、Rはアルキル基もしくはHを示し、Xはハロゲン
原子を示す)−OH、−NR2 、−N+ R3 、(Rは炭
化水素基)、エポキシ基、−SH、−CN等から選ばれ
る少なくとも一つ以上の極性基を共重合または付加反応
で導入したものを用いることが好ましく、このうちMと
しては特にNaが好ましく、これら極性基は、原子とし
て分子中に0.01〜10wt%、特に0.02〜3w
t%含まれていることが好ましく、これら極性基は骨格
樹脂の主鎖中に存在しても、分枝中に存在してもよい。
S含有基としては−SO3 M、−SO4 M、P含有極性
基としては、=PO3 M、=PO3 M、=POM、−P
=O(OM1 )(OM2 )、−OP=O(OM1 )(O
M2 )、−COOM、−NR4 X(ここで、M、M1 、
M2 は、H、Li、Na、K、−NR4 、−NHR3を
示し、Rはアルキル基もしくはHを示し、Xはハロゲン
原子を示す)−OH、−NR2 、−N+ R3 、(Rは炭
化水素基)、エポキシ基、−SH、−CN等から選ばれ
る少なくとも一つ以上の極性基を共重合または付加反応
で導入したものを用いることが好ましく、このうちMと
しては特にNaが好ましく、これら極性基は、原子とし
て分子中に0.01〜10wt%、特に0.02〜3w
t%含まれていることが好ましく、これら極性基は骨格
樹脂の主鎖中に存在しても、分枝中に存在してもよい。
【0069】このようなウレタン樹脂は公知の方法によ
り、特定の極性基含有化合物および/または特定の極性
基含有化合物と反応させた原料樹脂等を含む原料とを溶
剤中、または無溶剤中で反応させることにより得られ
る。
り、特定の極性基含有化合物および/または特定の極性
基含有化合物と反応させた原料樹脂等を含む原料とを溶
剤中、または無溶剤中で反応させることにより得られ
る。
【0070】これら以外の熱可塑性樹脂としては、例え
ば(メタ)アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アクリロ
ニトリル−ブタジエン系共重合体、ポリアミド樹脂、ポ
リビニルブチラール、ニトロセルロース、スチレン−ブ
タジエン系共重合体、ポリビニルアルコール樹脂、アセ
タール樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリ
エーテル樹脂、ポリカプロラクトン等の多官能性ポリエ
ーテル類、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、フェノー
ル樹脂、ポリブタジエンエラストマー、塩化ゴム、アク
リルゴム、イソプレンゴム、エポキシ変性ゴム等を挙げ
ることができる。
ば(メタ)アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アクリロ
ニトリル−ブタジエン系共重合体、ポリアミド樹脂、ポ
リビニルブチラール、ニトロセルロース、スチレン−ブ
タジエン系共重合体、ポリビニルアルコール樹脂、アセ
タール樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリ
エーテル樹脂、ポリカプロラクトン等の多官能性ポリエ
ーテル類、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、フェノー
ル樹脂、ポリブタジエンエラストマー、塩化ゴム、アク
リルゴム、イソプレンゴム、エポキシ変性ゴム等を挙げ
ることができる。
【0071】また熱硬化性樹脂としては、縮重合するフ
ェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホルマール樹脂、メラ
ミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、アクリル
系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ−ポリアミド樹
脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂
等が挙げられる。
ェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホルマール樹脂、メラ
ミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、アクリル
系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ−ポリアミド樹
脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂
等が挙げられる。
【0072】上記共重合体の中でも、末端およびまたは
側鎖に水酸基を有するものが反応型樹脂として、イソシ
アナートを使用した架橋や電子線架橋変性等が容易に利
用できるため好適であり、さらに末端や側鎖に極性基と
して−COOH、−SO3 M、−OSO3 M、−OPO
3 X、−PO3 X、−PO2 X、−N+ R3 Cl- 、−
NR2 等をはじめとする酸性極性基、塩基性極性基等を
含有していてもよく、これらの含有は分散性の向上に好
適である。、これらは一種単独で使用しても、二種以上
を組み合わせて使用してもよい。
側鎖に水酸基を有するものが反応型樹脂として、イソシ
アナートを使用した架橋や電子線架橋変性等が容易に利
用できるため好適であり、さらに末端や側鎖に極性基と
して−COOH、−SO3 M、−OSO3 M、−OPO
3 X、−PO3 X、−PO2 X、−N+ R3 Cl- 、−
NR2 等をはじめとする酸性極性基、塩基性極性基等を
含有していてもよく、これらの含有は分散性の向上に好
適である。、これらは一種単独で使用しても、二種以上
を組み合わせて使用してもよい。
【0073】バインダー樹脂を硬化する架橋剤として
は、各種ポリイソシアナートを用いることができ、トリ
レンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナー
ト、メチレンジイソシアナート等の1種以上を、トリメ
チロールプロパン等の水酸基を複数有するものに変性し
た架橋剤、またはジイソシアネート化合物3分子が結合
したイソシアヌレート型の架橋剤を用いることが好まし
く、架橋剤の含有量は樹脂100wt%に対し、1〜5
0wt%とすることが好ましく、この架橋剤によりバイ
ンダー樹脂に含有される水酸基等と三次元的に結合して
塗膜層の耐久性が向上できる。
は、各種ポリイソシアナートを用いることができ、トリ
レンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナー
ト、メチレンジイソシアナート等の1種以上を、トリメ
チロールプロパン等の水酸基を複数有するものに変性し
た架橋剤、またはジイソシアネート化合物3分子が結合
したイソシアヌレート型の架橋剤を用いることが好まし
く、架橋剤の含有量は樹脂100wt%に対し、1〜5
0wt%とすることが好ましく、この架橋剤によりバイ
ンダー樹脂に含有される水酸基等と三次元的に結合して
塗膜層の耐久性が向上できる。
【0074】具体的には日本ポリウレタン株式会社製の
コロネートL、コロネートHL、コロネート3041、
コロネート2030、旭化成株式会社製の24A−10
0、TPI−100、BFGoodrich社製のデス
モジュールL、N等が挙げられる。
コロネートL、コロネートHL、コロネート3041、
コロネート2030、旭化成株式会社製の24A−10
0、TPI−100、BFGoodrich社製のデス
モジュールL、N等が挙げられる。
【0075】一般にこのような、反応性または熱硬化性
樹脂を硬化するには、加熱オーブン中で50〜80℃に
て6〜100時間加熱したり、あるいは低速度にて、8
0〜120℃のオーブン中を走行させたりする。
樹脂を硬化するには、加熱オーブン中で50〜80℃に
て6〜100時間加熱したり、あるいは低速度にて、8
0〜120℃のオーブン中を走行させたりする。
【0076】さらに上記共重合体に公知の手法により、
(メタ)アクリル系二重結合を導入して電子線感応変性
を行ったものを使用することも可能である この電子線感応変性を行うには、トリレンジイソシアネ
ート(TDI)と2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート(2−HEMA)との反応物(アダクト)とを反
応させるウレタン変性、エチレン性不飽和二重結合を1
個以上およびイソシアネート基1個を1分子中に有し、
かつウレタン結合を分子中に持たないモノマー(2−イ
ソシアネートエチル(メタ)アクリレート等)を用いる
改良型ウレタン変性と水酸基やカルボン酸基を有する樹
脂に対し(メタ)アクリル基とカルボン酸無水物あるい
はジカルボン酸を有する化合物を反応させてエステル変
性する方法とがよく知られているが、これらの中でも改
良ウレタン変性が、塩化ビニル系樹脂の含有比率を上げ
ても脆くならず、しかも分散性、表面性にすぐれた塗膜
を得ることができるため好ましい。
(メタ)アクリル系二重結合を導入して電子線感応変性
を行ったものを使用することも可能である この電子線感応変性を行うには、トリレンジイソシアネ
ート(TDI)と2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート(2−HEMA)との反応物(アダクト)とを反
応させるウレタン変性、エチレン性不飽和二重結合を1
個以上およびイソシアネート基1個を1分子中に有し、
かつウレタン結合を分子中に持たないモノマー(2−イ
ソシアネートエチル(メタ)アクリレート等)を用いる
改良型ウレタン変性と水酸基やカルボン酸基を有する樹
脂に対し(メタ)アクリル基とカルボン酸無水物あるい
はジカルボン酸を有する化合物を反応させてエステル変
性する方法とがよく知られているが、これらの中でも改
良ウレタン変性が、塩化ビニル系樹脂の含有比率を上げ
ても脆くならず、しかも分散性、表面性にすぐれた塗膜
を得ることができるため好ましい。
【0077】またその電子線官能基含有量は、製造時の
安定性、電子線硬化性等から水酸基成分中1〜40モル
%、好ましくは10〜30モル%であり、特に塩化ビニ
ル系共重合体の場合1分子あたり1〜20個、好ましく
は2〜10個の官能基となるようにモノマーを反応させ
ると分散性、硬化性ともに優れた電子線硬化性樹脂を得
ることができる。
安定性、電子線硬化性等から水酸基成分中1〜40モル
%、好ましくは10〜30モル%であり、特に塩化ビニ
ル系共重合体の場合1分子あたり1〜20個、好ましく
は2〜10個の官能基となるようにモノマーを反応させ
ると分散性、硬化性ともに優れた電子線硬化性樹脂を得
ることができる。
【0078】ここにいうアクリル系二重結合とは、(メ
タ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル、(メ
タ)アクリル酸アミドの残基である(メタ)アクリロイ
ル基をいう。
タ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル、(メ
タ)アクリル酸アミドの残基である(メタ)アクリロイ
ル基をいう。
【0079】これら電子線感応変性樹脂を用いる場合、
架橋率を向上させるために従来公知の多官能アクリレー
トを1〜50wt%混合して使用してもよい。
架橋率を向上させるために従来公知の多官能アクリレー
トを1〜50wt%混合して使用してもよい。
【0080】電子線感応性変性樹脂をバインダーとして
用いた場合の硬化に際しての照射線源としては、吸収線
量の制御、製造工程ラインへの導入、電離放射線の遮蔽
の見地から、電子線を使用する方法および/または紫外
線を使用する方法が有利であり、電子線の場合には加速
電圧100KV〜750KV、好ましくは150〜30
0KVの電子線加速器を用い、吸収線量を20〜200
キログレイになるように照射するのが好都合である。
用いた場合の硬化に際しての照射線源としては、吸収線
量の制御、製造工程ラインへの導入、電離放射線の遮蔽
の見地から、電子線を使用する方法および/または紫外
線を使用する方法が有利であり、電子線の場合には加速
電圧100KV〜750KV、好ましくは150〜30
0KVの電子線加速器を用い、吸収線量を20〜200
キログレイになるように照射するのが好都合である。
【0081】また電子線架橋に際しては、酸素濃度が1
%以下のN2 、He、CO2 等の不活性ガス雰囲気で電
子線を照射することが重要で、これは放射線照射により
生じたO3 等がラジカルを捕捉するのを防ぐためであ
る。
%以下のN2 、He、CO2 等の不活性ガス雰囲気で電
子線を照射することが重要で、これは放射線照射により
生じたO3 等がラジカルを捕捉するのを防ぐためであ
る。
【0082】一方、紫外線を用いる場合には、電子線硬
化性樹脂を含有するバインダーの中には、従来公知の光
重合増感剤が加えられ、その照射については、キセノン
放電管、水素放電管等の紫外線電球等を用いればよい。
化性樹脂を含有するバインダーの中には、従来公知の光
重合増感剤が加えられ、その照射については、キセノン
放電管、水素放電管等の紫外線電球等を用いればよい。
【0083】さらに磁性層30の形成のための磁性塗料
に含有される溶剤としては、特に制限はないが、バイン
ダーの溶解性、相溶性および乾燥効率等を考慮して適宜
選択され、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のエステル類、イソプロパノール、ブタノール等の
アルコール類、ジオキサン、テトヒドロフラン、ジメチ
ルホルムアミド、ヘキサン、塩素置換炭化水素類等の希
釈剤ないし溶剤を単一溶剤またはこれらの任意比率の混
合溶剤として用いる。
に含有される溶剤としては、特に制限はないが、バイン
ダーの溶解性、相溶性および乾燥効率等を考慮して適宜
選択され、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のエステル類、イソプロパノール、ブタノール等の
アルコール類、ジオキサン、テトヒドロフラン、ジメチ
ルホルムアミド、ヘキサン、塩素置換炭化水素類等の希
釈剤ないし溶剤を単一溶剤またはこれらの任意比率の混
合溶剤として用いる。
【0084】これら有機溶剤は必ずしも100%純粋で
はなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分
解物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわな
いが、これらの不純分は5wt%以下が好ましく、さら
に好ましくは3wt%以下であることが必要で、不純物
が多いと磁性粉の分散性、塗料の貯蔵安定性、磁性層の
硬化特性、媒体における保存特性等に悪影響を及ぼす。
はなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分
解物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわな
いが、これらの不純分は5wt%以下が好ましく、さら
に好ましくは3wt%以下であることが必要で、不純物
が多いと磁性粉の分散性、塗料の貯蔵安定性、磁性層の
硬化特性、媒体における保存特性等に悪影響を及ぼす。
【0085】これらの溶剤は、塗料の粘度を塗布の段階
でコーンプレート型または二重円筒型粘度計によるシェ
アレート3000sec-1 において5〜100cpとする
ように、結合剤総量に対して10〜10000wt%、
特に100〜5000wt%の割合で使用し、塗料全体
の溶剤の使用割合としては、固形分(不揮発分)濃度5
〜40wt%、好ましくは10〜35wt%程度となる
ように用いればよいが、その溶剤種、混合比率、使用量
の決定には塗料に用いられている顔料の種類、比表面
積、粒子サイズ、磁性粉であればその磁化量、顔料の体
積または重量充填度、さらには塗料の希釈安定性等を考
慮して上記の粘度範囲になるよう調整して用いればよ
い。
でコーンプレート型または二重円筒型粘度計によるシェ
アレート3000sec-1 において5〜100cpとする
ように、結合剤総量に対して10〜10000wt%、
特に100〜5000wt%の割合で使用し、塗料全体
の溶剤の使用割合としては、固形分(不揮発分)濃度5
〜40wt%、好ましくは10〜35wt%程度となる
ように用いればよいが、その溶剤種、混合比率、使用量
の決定には塗料に用いられている顔料の種類、比表面
積、粒子サイズ、磁性粉であればその磁化量、顔料の体
積または重量充填度、さらには塗料の希釈安定性等を考
慮して上記の粘度範囲になるよう調整して用いればよ
い。
【0086】また、溶剤添加操作は、塗料の製造の各工
程において段階的に行うことが好ましく、流量規制して
タンク内に撹拌しながら順次添加したり、配管で塗料と
徐々に混合する等の操作を行うことが良く、さらに可能
であれば溶剤添加時または希釈時に濾過および/または
分散処理を行うことがさらに好ましく、これらの操作を
行うことにより塗料の安定性と凝集物、異物の発生を抑
えることが可能となるからである。
程において段階的に行うことが好ましく、流量規制して
タンク内に撹拌しながら順次添加したり、配管で塗料と
徐々に混合する等の操作を行うことが良く、さらに可能
であれば溶剤添加時または希釈時に濾過および/または
分散処理を行うことがさらに好ましく、これらの操作を
行うことにより塗料の安定性と凝集物、異物の発生を抑
えることが可能となるからである。
【0087】磁性層形成のための磁性塗料中には、通
常、潤滑剤が含有される。用いる潤滑剤としては、公知
の種々の潤滑剤の中で、特に脂肪酸および/または脂肪
酸エステルを用いるのが好ましく、炭素数12〜24
(不飽和結合を含んでも、また分枝していても構わな
い)の一塩基性脂肪酸、炭素数10〜24(不飽和結合
を含んでも、また分枝していても構わない)の一塩基性
脂肪酸と炭素数2〜22(不飽和結合を含んでも、また
分枝していても構わない)の一価、二価、三価、四価、
五価、六価アルコール、ソルビタン、ソルビトール等の
環状もしくは多糖類還元アルコール等のいずれか一つと
からなるモノ脂肪酸エステル、ジ脂肪酸エステル、トリ
脂肪酸エステル、これらの混合物、または2種類以上を
併用してもよい。
常、潤滑剤が含有される。用いる潤滑剤としては、公知
の種々の潤滑剤の中で、特に脂肪酸および/または脂肪
酸エステルを用いるのが好ましく、炭素数12〜24
(不飽和結合を含んでも、また分枝していても構わな
い)の一塩基性脂肪酸、炭素数10〜24(不飽和結合
を含んでも、また分枝していても構わない)の一塩基性
脂肪酸と炭素数2〜22(不飽和結合を含んでも、また
分枝していても構わない)の一価、二価、三価、四価、
五価、六価アルコール、ソルビタン、ソルビトール等の
環状もしくは多糖類還元アルコール等のいずれか一つと
からなるモノ脂肪酸エステル、ジ脂肪酸エステル、トリ
脂肪酸エステル、これらの混合物、または2種類以上を
併用してもよい。
【0088】これらの具体例として一塩基性脂肪酸につ
いては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ス
テアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベ
ヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等を挙げることがで
き、脂肪酸エステルについては、ブチルミリステート、
ブチルパルミテート、ブチルステアレート、ネオペンチ
ルグリコールジオレエート、ソルビタンモノステアレー
ト、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステア
レート、オレイルオレエート、イソセチルステアレー
ト、イソトリデシルステアレート、オクチルステアレー
ト、イソオクチルステアレート、アミルステアレート、
ブトキシエチルステアレート等が挙げられる。
いては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ス
テアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベ
ヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等を挙げることがで
き、脂肪酸エステルについては、ブチルミリステート、
ブチルパルミテート、ブチルステアレート、ネオペンチ
ルグリコールジオレエート、ソルビタンモノステアレー
ト、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステア
レート、オレイルオレエート、イソセチルステアレー
ト、イソトリデシルステアレート、オクチルステアレー
ト、イソオクチルステアレート、アミルステアレート、
ブトキシエチルステアレート等が挙げられる。
【0089】これらの脂肪酸および/または脂肪酸エス
テルの潤滑剤、分散剤としての効果は、強磁性微粉末に
対して、その合計量として0. 1wt%以上含有させる
ことによって出現し、含有率を増加させることにより、
その効果は顕著になるが、その含有率が強磁性微粉末に
対して、その合計量が20wt%を越えると、磁性層中
に留まりきれずに塗膜表面に吐出し、磁気ヘッドを汚し
たり、出力を低下させる等の悪影響を及ぼす。
テルの潤滑剤、分散剤としての効果は、強磁性微粉末に
対して、その合計量として0. 1wt%以上含有させる
ことによって出現し、含有率を増加させることにより、
その効果は顕著になるが、その含有率が強磁性微粉末に
対して、その合計量が20wt%を越えると、磁性層中
に留まりきれずに塗膜表面に吐出し、磁気ヘッドを汚し
たり、出力を低下させる等の悪影響を及ぼす。
【0090】このため、脂肪酸および/または脂肪酸エ
ステルの磁性層中における含有量は、強磁性微粉末に対
してその合計量として0. 1〜20wt%がよく、1〜
15wt%が好ましく、1〜12wt%がより好まし
い。
ステルの磁性層中における含有量は、強磁性微粉末に対
してその合計量として0. 1〜20wt%がよく、1〜
15wt%が好ましく、1〜12wt%がより好まし
い。
【0091】さらに、バックコート層がある場合は、潤
滑剤をバックコート層側に多く含有させて、磁性層表面
への転写による表面潤滑性の向上を図ることができる。
滑剤をバックコート層側に多く含有させて、磁性層表面
への転写による表面潤滑性の向上を図ることができる。
【0092】これらの脂肪酸および/または脂肪酸エス
テルは必ずしも100%純粋ではなく、主成分以外に異
性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分
が含まれてもかまわない。これらの不純分は40%以下
が好ましく、さらに好ましくは20%以下である。
テルは必ずしも100%純粋ではなく、主成分以外に異
性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分
が含まれてもかまわない。これらの不純分は40%以下
が好ましく、さらに好ましくは20%以下である。
【0093】また、用いられる脂肪酸、脂肪酸エステ
ル、添加剤等のすべてまたはその一部は、磁気記録媒体
構成用の塗料製造のどの工程で添加しても構わない。例
えば、混練工程前に顔料粉末と混合する場合、顔料粉末
と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工
程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に
添加する場合、溶剤に希釈または分散させた溶液を予め
塗布した層上に塗布する等の方法がある。
ル、添加剤等のすべてまたはその一部は、磁気記録媒体
構成用の塗料製造のどの工程で添加しても構わない。例
えば、混練工程前に顔料粉末と混合する場合、顔料粉末
と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工
程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に
添加する場合、溶剤に希釈または分散させた溶液を予め
塗布した層上に塗布する等の方法がある。
【0094】磁性層30形成のための磁性塗料中には、
通常、潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果等
を発現させるための添加剤が含有される。例えば、シリ
コーンオイル類、フッ素オイル、フッ素置換炭化水素基
含有のアルコール、脂肪酸、エステル、エーテル類、パ
ラフィン類、前記一塩基性脂肪酸類の金属(Li、N
a、K、Ca、Ba、Cu、Pb等)塩類、前記脂肪酸
エステル製造用アルコール類、アルコキシアルコール
類、ポリエチレンオキシド付加モノアルキルエーテルの
脂肪酸エステル類、脂肪族または環状アミン類、脂肪酸
アミド類、第四級アンモニウム塩類、ポリオレフィン
類、ポリグリコール、ポリフェニルエーテル、フッ素含
有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ア
ルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール
系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体等の
ノニオン界面活性剤、ホスホニウムまたはスルホニウム
等のカチオン系界面活性剤およびそのアルカリ金属塩、
カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸
エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤および
そのアルカリ金属塩、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、ア
ルキルベタイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。
通常、潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果等
を発現させるための添加剤が含有される。例えば、シリ
コーンオイル類、フッ素オイル、フッ素置換炭化水素基
含有のアルコール、脂肪酸、エステル、エーテル類、パ
ラフィン類、前記一塩基性脂肪酸類の金属(Li、N
a、K、Ca、Ba、Cu、Pb等)塩類、前記脂肪酸
エステル製造用アルコール類、アルコキシアルコール
類、ポリエチレンオキシド付加モノアルキルエーテルの
脂肪酸エステル類、脂肪族または環状アミン類、脂肪酸
アミド類、第四級アンモニウム塩類、ポリオレフィン
類、ポリグリコール、ポリフェニルエーテル、フッ素含
有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ア
ルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール
系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体等の
ノニオン界面活性剤、ホスホニウムまたはスルホニウム
等のカチオン系界面活性剤およびそのアルカリ金属塩、
カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸
エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤および
そのアルカリ金属塩、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、ア
ルキルベタイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。
【0095】これらの界面活性剤については、「界面活
性剤便覧」(産業図書株式会社発行)に詳細に記載され
ている。
性剤便覧」(産業図書株式会社発行)に詳細に記載され
ている。
【0096】これらの添加剤量は、磁性粉末に対して総
計10wt%以下、特に0.01〜5wt%とし、磁性
粉末が存在しない場合には、結合剤に対して0.005
〜50wt%の範囲で用いれば良い。
計10wt%以下、特に0.01〜5wt%とし、磁性
粉末が存在しない場合には、結合剤に対して0.005
〜50wt%の範囲で用いれば良い。
【0097】さらに、これらの無機化合物は、磁性粉末
との混練時または分散時に同時に添加しても良いし、あ
らかじめ結合剤で分散しておいて、磁性塗料の分散時に
添加しても構わない。
との混練時または分散時に同時に添加しても良いし、あ
らかじめ結合剤で分散しておいて、磁性塗料の分散時に
添加しても構わない。
【0098】さらに、磁性塗料中には、カーボンブラッ
クを含有させてもよい。カーボンブラックとしてはファ
ーネスカーボンブラック、サーマルカーボンブラック、
アセチレンブラック等を用いることができる。これらの
カーボンブラックの粒子サイズ等は任意に設定すれば良
いが、媒体に要求される電気抵抗と摩擦特性および最短
記録波長における出力のバランス(表面粗さ)から適宜
選択すれば良く、単一系でも混合系でも良く、単独で粒
度分布等を選択することもできる。これらカーボンブラ
ックの平均粒径は10nm〜400nm、好ましくは2
0〜350nmであり、さらに詳細には、電磁変換特性
を優先的に考慮すると20〜40nmが好ましく、摩擦
特性を重視する場合は40〜350nmの範囲で電磁変
換特性において許容される可能な限り大きな粒径を用い
ることが好ましい。また、カーボンブラックの選定にお
いては、粒子サイズのみならず、BET値、DBP値を
考慮する必要があるが、カーボンブラックの粒子サイ
ズ、BET値およびDBP値は密接に関係するため、単
独でかけ離れた数値とすることは実現不可能であるた
め、これらの三要素は媒体の要求特性と塗料における分
散特性、流動特性とにより実験的に選定することが必要
である。
クを含有させてもよい。カーボンブラックとしてはファ
ーネスカーボンブラック、サーマルカーボンブラック、
アセチレンブラック等を用いることができる。これらの
カーボンブラックの粒子サイズ等は任意に設定すれば良
いが、媒体に要求される電気抵抗と摩擦特性および最短
記録波長における出力のバランス(表面粗さ)から適宜
選択すれば良く、単一系でも混合系でも良く、単独で粒
度分布等を選択することもできる。これらカーボンブラ
ックの平均粒径は10nm〜400nm、好ましくは2
0〜350nmであり、さらに詳細には、電磁変換特性
を優先的に考慮すると20〜40nmが好ましく、摩擦
特性を重視する場合は40〜350nmの範囲で電磁変
換特性において許容される可能な限り大きな粒径を用い
ることが好ましい。また、カーボンブラックの選定にお
いては、粒子サイズのみならず、BET値、DBP値を
考慮する必要があるが、カーボンブラックの粒子サイ
ズ、BET値およびDBP値は密接に関係するため、単
独でかけ離れた数値とすることは実現不可能であるた
め、これらの三要素は媒体の要求特性と塗料における分
散特性、流動特性とにより実験的に選定することが必要
である。
【0099】これらのカーボンブラックは、結合剤に対
して、重量比率で10〜500wt%、あるいは磁性粉
末に対して、0.1〜20wt%の範囲で用いられる
が、媒体の要求特性と塗料における分散特性、流動特性
とにより実験的に選定することが必要である。これらの
カーボンブラックは磁性層、バックコート層、下地層等
の要求特性に合わせて適宜組み合わせて用いればよい。
さらに、これらのカーボンブラックは、磁性粉との混練
時または分散時に同時に添加しても良いし、あらかじめ
結合剤で分散しておいて、磁性塗料の分散時に添加して
も構わない。
して、重量比率で10〜500wt%、あるいは磁性粉
末に対して、0.1〜20wt%の範囲で用いられる
が、媒体の要求特性と塗料における分散特性、流動特性
とにより実験的に選定することが必要である。これらの
カーボンブラックは磁性層、バックコート層、下地層等
の要求特性に合わせて適宜組み合わせて用いればよい。
さらに、これらのカーボンブラックは、磁性粉との混練
時または分散時に同時に添加しても良いし、あらかじめ
結合剤で分散しておいて、磁性塗料の分散時に添加して
も構わない。
【0100】また、これらのカーボンブラックを潤滑
剤、分散剤等で表面処理したり、表面の一部をグラファ
イト化したもの等を使用しても構わない。
剤、分散剤等で表面処理したり、表面の一部をグラファ
イト化したもの等を使用しても構わない。
【0101】本発明で使用できるカーボンブラックは、
例えば「カーボンブラック便覧」、カーボンブラック協
会編を参考にすることができる。
例えば「カーボンブラック便覧」、カーボンブラック協
会編を参考にすることができる。
【0102】さらに磁性塗料中には、非強磁性有機質粉
末を含有させてもよい。用いられる非強磁性有機質粉末
としては、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナ
ミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系
顔料、アゾ系顔料、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエ
ステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド
系樹脂粉末、フッ化炭化水素樹脂粉末、ジビニルベンゼ
ン系樹脂粉末等が挙げられる。このような非強磁性有機
質粉末は、結合剤に対して、重量比率で0.1〜20w
t%の範囲で用いられる。
末を含有させてもよい。用いられる非強磁性有機質粉末
としては、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナ
ミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系
顔料、アゾ系顔料、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエ
ステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド
系樹脂粉末、フッ化炭化水素樹脂粉末、ジビニルベンゼ
ン系樹脂粉末等が挙げられる。このような非強磁性有機
質粉末は、結合剤に対して、重量比率で0.1〜20w
t%の範囲で用いられる。
【0103】支持体に磁性塗料を塗設する方法として
は、押出しノズル塗布法、リバースロール塗布法、グラ
ビアロール塗布法、ナイフコーター塗布法、ドクターブ
レード塗布法、キスコート塗布法、カラーコート塗布
法、スライドビード塗布法等が利用できる。これらの中
でも、特に、グラビアロール塗布法は生産性に優れ、リ
バースロール塗布法は塗布に使用できる塗料の範囲が広
く好ましい。また、押出しノズル塗布法は、同時多層塗
布が可能な点で優れる。この好ましい3つの方法の中で
も、塗膜厚の制御のしやすさにおいて、押出しノズル塗
布法が特に好ましい。
は、押出しノズル塗布法、リバースロール塗布法、グラ
ビアロール塗布法、ナイフコーター塗布法、ドクターブ
レード塗布法、キスコート塗布法、カラーコート塗布
法、スライドビード塗布法等が利用できる。これらの中
でも、特に、グラビアロール塗布法は生産性に優れ、リ
バースロール塗布法は塗布に使用できる塗料の範囲が広
く好ましい。また、押出しノズル塗布法は、同時多層塗
布が可能な点で優れる。この好ましい3つの方法の中で
も、塗膜厚の制御のしやすさにおいて、押出しノズル塗
布法が特に好ましい。
【0104】このような方法により支持体上に塗設され
た磁性塗料(このものはいわゆる磁性層を形成する)
は、磁場配向処理、乾燥処理、平滑化処理等が施され
る。磁性層の平滑化処理として、カレンダ処理を行う
が、カレンダ処理ロールとしてはエポキシ、ポリエステ
ル、ナイロン、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドア
ミド等の耐熱性のあるプラスチックロール(カーボン、
金属やその他の無機化合物を練り込んであるものでもよ
い)と金属ロールの組合わせ(3ないし7段の組合わ
せ)、または金属ロール同士で処理することもでき、そ
の処理温度は、好ましくは70℃以上、さらに好ましく
は80℃以上、その線圧力は好ましくは200kg/c
m、さらに好ましくは300kg/cm、その速度は2
0m/分〜700m/分の範囲である。しかる後、例え
ば、所望の形態に裁断等されて磁気記録媒体が形成され
る。
た磁性塗料(このものはいわゆる磁性層を形成する)
は、磁場配向処理、乾燥処理、平滑化処理等が施され
る。磁性層の平滑化処理として、カレンダ処理を行う
が、カレンダ処理ロールとしてはエポキシ、ポリエステ
ル、ナイロン、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドア
ミド等の耐熱性のあるプラスチックロール(カーボン、
金属やその他の無機化合物を練り込んであるものでもよ
い)と金属ロールの組合わせ(3ないし7段の組合わ
せ)、または金属ロール同士で処理することもでき、そ
の処理温度は、好ましくは70℃以上、さらに好ましく
は80℃以上、その線圧力は好ましくは200kg/c
m、さらに好ましくは300kg/cm、その速度は2
0m/分〜700m/分の範囲である。しかる後、例え
ば、所望の形態に裁断等されて磁気記録媒体が形成され
る。
【0105】なお、本発明においては、必要に応じて、
可撓性支持体10と塗膜層20の間に、適宜、非磁性粒
子の粒径や添加量をコントロールした中間層や、低いガ
ラス転移温度(Tg)を備える樹脂層を設けてもよい。
こうすることにより、さらなる表面粗さの均一性やカレ
ンダ加工性の向上が期待できることがある。
可撓性支持体10と塗膜層20の間に、適宜、非磁性粒
子の粒径や添加量をコントロールした中間層や、低いガ
ラス転移温度(Tg)を備える樹脂層を設けてもよい。
こうすることにより、さらなる表面粗さの均一性やカレ
ンダ加工性の向上が期待できることがある。
【0106】また、本発明の磁気記録媒体1は、可撓性
支持体10の裏面側(磁性層が形成されない面)にいわ
ゆる公知の種々のバックコート層を設けてもよい。
支持体10の裏面側(磁性層が形成されない面)にいわ
ゆる公知の種々のバックコート層を設けてもよい。
【0107】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。
をさらに詳細に説明する。
【0108】(実施例1)可撓性支持体10の作製 SiO2 粒子を含有するエチレングリコールスラリーを
調整し、テレフタル酸ジメチルとエステル交換反応をさ
せて、重縮合させ、SiO2 粒子を所定量含有するポリ
エチレンテレフタレート(PET)のチップを作った。
このチップを180℃で3時間減圧乾燥し、押し出し機
に供給し300℃で溶融し、この押し出されたポリマー
を、静電印加キャスト法を用いて表面温度30℃のキャ
スティングドラムに巻つけて冷却固化し、熱可塑性ポリ
マーの未延伸フィルムを作製した。その後、この未延伸
フィルムを温度80℃にて、ロールの周速差を利用して
長手方向に3.5倍延伸した。
調整し、テレフタル酸ジメチルとエステル交換反応をさ
せて、重縮合させ、SiO2 粒子を所定量含有するポリ
エチレンテレフタレート(PET)のチップを作った。
このチップを180℃で3時間減圧乾燥し、押し出し機
に供給し300℃で溶融し、この押し出されたポリマー
を、静電印加キャスト法を用いて表面温度30℃のキャ
スティングドラムに巻つけて冷却固化し、熱可塑性ポリ
マーの未延伸フィルムを作製した。その後、この未延伸
フィルムを温度80℃にて、ロールの周速差を利用して
長手方向に3.5倍延伸した。
【0109】塗膜層20の形成 このようにして作製したPET性の可撓性支持体10の
上に、下記の要領で塗膜層20を設け、延伸処理を行っ
た。すなわち、平均粒径40nm(0.04μm)の有
機粒子(スチレン−エチレングリコールジメタクリレー
ト)を水溶性ポリエステル樹脂に40wt%含有させる
とともに分散させて作製した水溶液を、バーコーターに
て、上記可撓性支持体10の上に塗設後、この一軸延伸
フィルムをテンター法を用いて90℃で幅方向に4.0
倍延伸した。なお塗膜層20の乾燥は横延伸時に同時に
行った。さらに、110℃の条件でロールの周速差を利
用して長手方向に1.6倍ほど再度延伸した。その後、
定長下で、220℃の条件で5秒間熱処理し、総厚さ
5.5μm、塗膜層の乾燥厚みが0.05μmの二軸配
向ポリエステルフィルムを得た。
上に、下記の要領で塗膜層20を設け、延伸処理を行っ
た。すなわち、平均粒径40nm(0.04μm)の有
機粒子(スチレン−エチレングリコールジメタクリレー
ト)を水溶性ポリエステル樹脂に40wt%含有させる
とともに分散させて作製した水溶液を、バーコーターに
て、上記可撓性支持体10の上に塗設後、この一軸延伸
フィルムをテンター法を用いて90℃で幅方向に4.0
倍延伸した。なお塗膜層20の乾燥は横延伸時に同時に
行った。さらに、110℃の条件でロールの周速差を利
用して長手方向に1.6倍ほど再度延伸した。その後、
定長下で、220℃の条件で5秒間熱処理し、総厚さ
5.5μm、塗膜層の乾燥厚みが0.05μmの二軸配
向ポリエステルフィルムを得た。
【0110】磁性層30の形成 このポリエステルフィルムの塗膜層20側に、以下のよ
うな磁性層30を設けた。
うな磁性層30を設けた。
【0111】Hc=2000Oe、σs =140emu
/g、平均長軸長さ0.08μm、平均軸比5である強
磁性金属磁性粉末(Fe/Co/Al/Y=100/2
0/4.2/5.3(重量比))を含む下記の組成物を
用い、磁性層形成のための磁性塗料を調製した。
/g、平均長軸長さ0.08μm、平均軸比5である強
磁性金属磁性粉末(Fe/Co/Al/Y=100/2
0/4.2/5.3(重量比))を含む下記の組成物を
用い、磁性層形成のための磁性塗料を調製した。
【0112】 磁性層形成のための磁性塗料組成物 強磁性金属磁性粉末 …100重量部 塩化ビニル系共重合体(日本ゼオン(株)製,MR−110) … 8.3 重量部 ポリエステルポリウレタン樹脂(東洋紡績(株)製,UR−8300) … 8.3 重量部 α−アルミナ … 5重量部 ステアリン酸 … 1重量部 ステアリン酸ブチル … 1重量部 メチルエチルケトン …111重量部 トルエン …111重量部 シクロヘキサノン … 74重量部 この組成物の一部またはすべてをニーダにて十分に混練
処理を行った後、サンドグラインダーミルにて分散混
合、希釈を行った。このようにして得られた磁性塗料に
硬化剤(日本ポリウレタン工業(株)製,コロネート
L)を3.3重量部添加混合した磁性層形成用の塗料を
ノズル塗布方式により、前述の要領で作製した厚さ5.
5μmのPETフィルム支持体の上(塗膜層20側)に
磁性層乾燥厚みが0.2μmとなるように塗設し、その
後、配向処理、乾燥、カレンダ処理を施した。
処理を行った後、サンドグラインダーミルにて分散混
合、希釈を行った。このようにして得られた磁性塗料に
硬化剤(日本ポリウレタン工業(株)製,コロネート
L)を3.3重量部添加混合した磁性層形成用の塗料を
ノズル塗布方式により、前述の要領で作製した厚さ5.
5μmのPETフィルム支持体の上(塗膜層20側)に
磁性層乾燥厚みが0.2μmとなるように塗設し、その
後、配向処理、乾燥、カレンダ処理を施した。
【0113】この一方で、PETフィルム支持体の反対
面(磁性層を設けない面)に下記組成からなるバックコ
ート組成物に硬化剤(日本ポリウレタン工業(株)製,
コロネートL)を2重量部添加混合したバックコート層
形成用塗料を塗布し、カレンダ処理を施した後に、熱硬
化処理を行った。しかる後、このものを8mm幅に裁断
し、テープ状の磁気記録媒体サンプルを作製した(実施
例サンプル1)。
面(磁性層を設けない面)に下記組成からなるバックコ
ート組成物に硬化剤(日本ポリウレタン工業(株)製,
コロネートL)を2重量部添加混合したバックコート層
形成用塗料を塗布し、カレンダ処理を施した後に、熱硬
化処理を行った。しかる後、このものを8mm幅に裁断
し、テープ状の磁気記録媒体サンプルを作製した(実施
例サンプル1)。
【0114】 バックコート層用組成物 カーボンブラック-1(コロンビヤンカーボン(株)製,コンダクテックス SCウルトラ:平均粒径21nm,BET値220m2 /g) … 80重量部 カーボンブラック-2(コロンビヤンカーボン(株)製,セバカーブMT: 平均粒径350nm,BET値8m2 /g) … 1重量部 α−酸化鉄(戸田工業(株)製,TF-100:平均粒径0.1μm) … 1重量部 塩化ビニル系共重合体A(日信化学工業(株)製,MPR−TA(塩ビ− 酢ビ−ビニルアルコール共重合体):平均重合度420) … 40重量部 塩化ビニル系共重合体B(日信化学工業(株)製,MRR−ANO(L) (塩ビ−酢ビ−ビニルアルコール共重合体):窒素原子 390ppm含有、平均重合度340) … 25重量部 ポリエステルポリウレタン樹脂(東洋紡績 (株)製,TS9555: -SO 3 Na含有、数平均分子量40000 ) … 35重量部 メチルエチルケトン …700重量部 トルエン …400重量部 シクロヘキサノン …300重量部 (実施例2〜4)上記実施例1において、下記表1に示
されるように塗膜層20の厚さを種々変えた。それ以外
は、上記実施例1と同様にして実施例2〜4のサンプル
を作製した。
されるように塗膜層20の厚さを種々変えた。それ以外
は、上記実施例1と同様にして実施例2〜4のサンプル
を作製した。
【0115】(実施例5〜9)上記実施例3において、
下記表1に示されるように磁性層30の厚さを種々変え
た。それ以外は、上記実施例3と同様にして実施例5〜
9のサンプルを作製した。
下記表1に示されるように磁性層30の厚さを種々変え
た。それ以外は、上記実施例3と同様にして実施例5〜
9のサンプルを作製した。
【0116】(実施例10〜12)上記実施例3におい
て、下記表1に示されるように塗膜層20に含有される
非磁性粒子の粒子径を変えた。それ以外は、上記実施例
3と同様にして実施例10〜12のサンプルを作製し
た。
て、下記表1に示されるように塗膜層20に含有される
非磁性粒子の粒子径を変えた。それ以外は、上記実施例
3と同様にして実施例10〜12のサンプルを作製し
た。
【0117】(実施例13および14)上記実施例3に
おいて、下記表1に示されるように塗膜層20に含有さ
れる非磁性粒子の添加量を変えた。それ以外は、上記実
施例3と同様にして実施例13および14のサンプルを
作製した。
おいて、下記表1に示されるように塗膜層20に含有さ
れる非磁性粒子の添加量を変えた。それ以外は、上記実
施例3と同様にして実施例13および14のサンプルを
作製した。
【0118】(実施例15)上記実施例3において、可
撓性支持体10と塗膜層20からなる基板の材質を下記
のように変えた。それ以外は、上記実施例3と同様にし
て実施例15のサンプルを作製した。
撓性支持体10と塗膜層20からなる基板の材質を下記
のように変えた。それ以外は、上記実施例3と同様にし
て実施例15のサンプルを作製した。
【0119】すなわち、可撓性支持体と塗膜層からなる
基板フィルムを下記の要領で作製したものとした。
基板フィルムを下記の要領で作製したものとした。
【0120】可撓性支持体の作製 SiO2 粒子を含有するエチレングリコールスラリーを
調整し、ナフタレン−2,6−ジカルボン酸ジメチルと
エステル交換反応をさせて、重縮合させ、SiO2 粒子
を所定量含有するポリエチレンナフタレート(PEN)
のチップを作った。このチップを用いて熱可塑性ポリマ
ーを調整した。このポリマーを280℃で4時間減圧乾
燥し、押し出し機に供給し295℃で溶融し、このポリ
マーを、静電印加キャスト法を用いてキャスティングド
ラムに巻つけて冷却固化し、熱可塑性ポリマーの未延伸
フィルムを作製した。その後、この未延伸フィルムを温
度145℃にて、ロールの周速差を利用して長手方向に
2.5倍延伸した。
調整し、ナフタレン−2,6−ジカルボン酸ジメチルと
エステル交換反応をさせて、重縮合させ、SiO2 粒子
を所定量含有するポリエチレンナフタレート(PEN)
のチップを作った。このチップを用いて熱可塑性ポリマ
ーを調整した。このポリマーを280℃で4時間減圧乾
燥し、押し出し機に供給し295℃で溶融し、このポリ
マーを、静電印加キャスト法を用いてキャスティングド
ラムに巻つけて冷却固化し、熱可塑性ポリマーの未延伸
フィルムを作製した。その後、この未延伸フィルムを温
度145℃にて、ロールの周速差を利用して長手方向に
2.5倍延伸した。
【0121】このようにして作製した可撓性支持体の上
に、下記の要領で塗膜層を設け、延伸乾燥処理を行っ
た。すなわち、平均粒径40nm(0.04μm)の有
機粒子(スチレン−エチレングリコールジメタクリレー
ト)を水溶性ポリエステル樹脂に40wt%含有させる
とともに分散させて作製した水溶液を、バーコーターに
て、上記可撓性支持体の上に塗設後、横延伸時と同時に
乾燥させた。乾燥厚みは、0.2μmであった。
に、下記の要領で塗膜層を設け、延伸乾燥処理を行っ
た。すなわち、平均粒径40nm(0.04μm)の有
機粒子(スチレン−エチレングリコールジメタクリレー
ト)を水溶性ポリエステル樹脂に40wt%含有させる
とともに分散させて作製した水溶液を、バーコーターに
て、上記可撓性支持体の上に塗設後、横延伸時と同時に
乾燥させた。乾燥厚みは、0.2μmであった。
【0122】この一軸延伸フィルムをテンター法を用い
て135℃で幅方向に4.2倍延伸した後、210℃で
熱固定した。この熱固定されたフィルムを、160℃の
条件でロールの周速差を利用して長手方向に1.9倍ほ
ど再度延伸した。その後、定長下で、220℃の条件で
5秒間熱固定し、総厚さ5.5μmの二軸配向ポリエス
テルフィルムを得た。
て135℃で幅方向に4.2倍延伸した後、210℃で
熱固定した。この熱固定されたフィルムを、160℃の
条件でロールの周速差を利用して長手方向に1.9倍ほ
ど再度延伸した。その後、定長下で、220℃の条件で
5秒間熱固定し、総厚さ5.5μmの二軸配向ポリエス
テルフィルムを得た。
【0123】(実施例16〜19)上記実施例3におい
て、下記表2に示されるように磁性層30の厚さ、なら
びに磁性層に含有される研磨材の平均粒径および最大粒
径を種々変えた。それ以外は、上記実施例3と同様にし
て実施例16〜19のサンプルを作製した。
て、下記表2に示されるように磁性層30の厚さ、なら
びに磁性層に含有される研磨材の平均粒径および最大粒
径を種々変えた。それ以外は、上記実施例3と同様にし
て実施例16〜19のサンプルを作製した。
【0124】(実施例20)上記実施例3において、下
記表2に示されるように塗膜層20に含有される非磁性
粒子の種類をシリカ(表中、符号B)に変えた。それ以
外は、上記実施例3と同様にして実施例20のサンプル
を作製した。
記表2に示されるように塗膜層20に含有される非磁性
粒子の種類をシリカ(表中、符号B)に変えた。それ以
外は、上記実施例3と同様にして実施例20のサンプル
を作製した。
【0125】(実施例21)上記実施例3において、下
記表2に示されるように磁性層30に含有される研磨材
の平均粒径および最大粒径を変えた。それ以外は、上記
実施例3と同様にして実施例21のサンプルを作製し
た。
記表2に示されるように磁性層30に含有される研磨材
の平均粒径および最大粒径を変えた。それ以外は、上記
実施例3と同様にして実施例21のサンプルを作製し
た。
【0126】(実施例22)上記実施例21において、
下記表2に示されるように磁性層30の厚みを変更し
た。それ以外は、上記実施例21同様にして実施例22
のサンプルを作製した。
下記表2に示されるように磁性層30の厚みを変更し
た。それ以外は、上記実施例21同様にして実施例22
のサンプルを作製した。
【0127】(実施例23)上記実施例19において、
下記表2に示されるように磁性層30に含有される研磨
材の平均粒径および最大粒径を変えた。それ以外は、上
記実施例19と同様にして実施例23のサンプルを作製
した。
下記表2に示されるように磁性層30に含有される研磨
材の平均粒径および最大粒径を変えた。それ以外は、上
記実施例19と同様にして実施例23のサンプルを作製
した。
【0128】(実施例24〜26)上記実施例4におい
て、下記表2に示されるように磁性層30に含有される
研磨材の平均粒径および最大粒径を変えた。さらに磁性
層30の厚さも変えた。それ以外は、上記実施例4と同
様にして実施例24〜26のサンプルをそれぞれ作製し
た。
て、下記表2に示されるように磁性層30に含有される
研磨材の平均粒径および最大粒径を変えた。さらに磁性
層30の厚さも変えた。それ以外は、上記実施例4と同
様にして実施例24〜26のサンプルをそれぞれ作製し
た。
【0129】(実施例27および28)上記実施例3に
おいて、下記表2に示されるように磁性層30に含有さ
れる研磨材の平均粒径および最大粒径を変えた。さらに
磁性層30の厚さも変えた。それ以外は、上記実施例3
と同様にして実施例27および28のサンプルをそれぞ
れ作製した。
おいて、下記表2に示されるように磁性層30に含有さ
れる研磨材の平均粒径および最大粒径を変えた。さらに
磁性層30の厚さも変えた。それ以外は、上記実施例3
と同様にして実施例27および28のサンプルをそれぞ
れ作製した。
【0130】(実施例29)上記実施例3において、下
記表2に示されるように磁性層30の厚さを変えた。そ
れ以外は、上記実施例3と同様にして実施例29のサン
プルを作製した。
記表2に示されるように磁性層30の厚さを変えた。そ
れ以外は、上記実施例3と同様にして実施例29のサン
プルを作製した。
【0131】(実施例30)上記実施例26において、
下記表2に示されるように磁性層30に含有される研磨
材の平均粒径および最大粒径を変えた。それ以外は、上
記実施例26と同様にして実施例30のサンプルを作製
した。
下記表2に示されるように磁性層30に含有される研磨
材の平均粒径および最大粒径を変えた。それ以外は、上
記実施例26と同様にして実施例30のサンプルを作製
した。
【0132】(実施例31〜35)上記実施例2におい
て、下記表3に示されるように塗膜層20に含有される
非磁性粒子の粒径および添加量を変えた。それ以外は、
上記実施例2と同様にして実施例31〜35のサンプル
をそれぞれ作製した。
て、下記表3に示されるように塗膜層20に含有される
非磁性粒子の粒径および添加量を変えた。それ以外は、
上記実施例2と同様にして実施例31〜35のサンプル
をそれぞれ作製した。
【0133】(実施例36)上記実施例3において、下
記表3に示されるように塗膜層20に含有される非磁性
粒子の添加量を変えた。それ以外は、上記実施例3と同
様にして実施例36のサンプルをそれぞれ作製した。
記表3に示されるように塗膜層20に含有される非磁性
粒子の添加量を変えた。それ以外は、上記実施例3と同
様にして実施例36のサンプルをそれぞれ作製した。
【0134】(実施例37および38)上記実施例12
において、下記表3に示されるように塗膜層20に含有
される非磁性粒子の添加量を変えた。それ以外は、上記
実施例12と同様にして実施例37および38のサンプ
ルをそれぞれ作製した。
において、下記表3に示されるように塗膜層20に含有
される非磁性粒子の添加量を変えた。それ以外は、上記
実施例12と同様にして実施例37および38のサンプ
ルをそれぞれ作製した。
【0135】(実施例39および40)上記実施例3に
おいて、下記表3に示されるように塗膜層20に含有さ
れる非磁性粒子の種類を変えた。それ以外は、上記実施
例3と同様にして実施例39および40のサンプルをそ
れぞれ作製した。
おいて、下記表3に示されるように塗膜層20に含有さ
れる非磁性粒子の種類を変えた。それ以外は、上記実施
例3と同様にして実施例39および40のサンプルをそ
れぞれ作製した。
【0136】表中、粒子Cはスチレン−ジビニルベンゼ
ン系の有機粒子を、粒子Dは、メチルメタアクリレート
−ジビニルベンゼン系の有機粒子を表す。
ン系の有機粒子を、粒子Dは、メチルメタアクリレート
−ジビニルベンゼン系の有機粒子を表す。
【0137】(実施例41)下記に示す要領で、さらに
本発明のテープ状の磁気記録媒体サンプルを作製した。
本発明のテープ状の磁気記録媒体サンプルを作製した。
【0138】可撓性支持体10の作製および塗膜層20
の形成 ジメチルテレフタレート100重量部、エチレングリコ
ール65重量部および酢酸マグネシウム0.09重量部
を反応器にとり、加熱昇温するとともにメタノールを留
去しつつエステル交換を行った。反応開始後、約4時間
を要して230℃まで昇温し、実質的にエステル交換を
終了した。ここで、平均粒径0.1μmのSiO2 粒子
0.3重量部をエチレングリコールスラリーとして添加
し、この後、エチルアシッドホスフェート0.4重量
部、3酸化アンチモン0.04重量部を加え、反応系の
圧力を常温より減ずると同時に、加熱昇温し、最終的に
1mmHg,285℃の条件とした。4時間後、系内を
常圧に戻し、極限粘度0.66のポリエチレンテレフタ
レート(以下、PETと称する)を得た。
の形成 ジメチルテレフタレート100重量部、エチレングリコ
ール65重量部および酢酸マグネシウム0.09重量部
を反応器にとり、加熱昇温するとともにメタノールを留
去しつつエステル交換を行った。反応開始後、約4時間
を要して230℃まで昇温し、実質的にエステル交換を
終了した。ここで、平均粒径0.1μmのSiO2 粒子
0.3重量部をエチレングリコールスラリーとして添加
し、この後、エチルアシッドホスフェート0.4重量
部、3酸化アンチモン0.04重量部を加え、反応系の
圧力を常温より減ずると同時に、加熱昇温し、最終的に
1mmHg,285℃の条件とした。4時間後、系内を
常圧に戻し、極限粘度0.66のポリエチレンテレフタ
レート(以下、PETと称する)を得た。
【0139】このようにして得られたPETを、180
℃で4時間乾燥した後、押し出し機に供給し290℃で
溶融し、この押し出されたポリマーを静電印加キャスト
法を用いて表面温度40℃のキャスティングドラムに巻
つけて冷却固化し、未延伸シートを得た。
℃で4時間乾燥した後、押し出し機に供給し290℃で
溶融し、この押し出されたポリマーを静電印加キャスト
法を用いて表面温度40℃のキャスティングドラムに巻
つけて冷却固化し、未延伸シートを得た。
【0140】この未延伸シートを縦方向に89℃で2.
6倍、さらに80℃で1.73倍にロール延伸法にて延
伸した。次いで、塗膜層20を形成させるために上記の
実施例1と同様の組成の塗布液をバーコーターにて塗工
し、塗工後のフィルムをテンターに導き、横方向に12
0〜145℃で3.2倍の延伸を行い、引き続き、22
0℃で10秒間熱固定を行い、総厚さ5.5μm、塗膜
層の乾燥厚さが0.2μmの2軸配向ポリエステルフィ
ルムを得た。
6倍、さらに80℃で1.73倍にロール延伸法にて延
伸した。次いで、塗膜層20を形成させるために上記の
実施例1と同様の組成の塗布液をバーコーターにて塗工
し、塗工後のフィルムをテンターに導き、横方向に12
0〜145℃で3.2倍の延伸を行い、引き続き、22
0℃で10秒間熱固定を行い、総厚さ5.5μm、塗膜
層の乾燥厚さが0.2μmの2軸配向ポリエステルフィ
ルムを得た。
【0141】磁性層30の形成 上記ポリエステルフィルムの塗膜層20側に、上記実施
例1と同様の磁性層形成のための塗料をノズル塗布方式
により磁性層の乾燥厚さが0.2μmとなるように塗設
し、その後、配向処理、乾燥、カレンダ処理を施した。
例1と同様の磁性層形成のための塗料をノズル塗布方式
により磁性層の乾燥厚さが0.2μmとなるように塗設
し、その後、配向処理、乾燥、カレンダ処理を施した。
【0142】この一方で、上記ポリエステルフィルムの
反対面(磁性層を設けない面)に実施例1と同様のバッ
クコート層形成のための塗料を塗布し、カレンダ処理を
施した後、熱硬化処理を行った。しかる後、このものを
8mm幅に裁断し、テープ状の磁気記録サンプル41を
作製した。
反対面(磁性層を設けない面)に実施例1と同様のバッ
クコート層形成のための塗料を塗布し、カレンダ処理を
施した後、熱硬化処理を行った。しかる後、このものを
8mm幅に裁断し、テープ状の磁気記録サンプル41を
作製した。
【0143】(比較例1)上記実施例1において、下記
表3に示されるように塗膜層20の厚さを0.03μm
に変えた。それ以外は、上記実施例1と同様にして比較
例1のサンプルを作製した。
表3に示されるように塗膜層20の厚さを0.03μm
に変えた。それ以外は、上記実施例1と同様にして比較
例1のサンプルを作製した。
【0144】(比較例2)上記実施例3において、下記
表3に示されるように磁性層30の厚さを1.5μmに
変えた。それ以外は、上記実施例3と同様にして比較例
2のサンプルを作製した。
表3に示されるように磁性層30の厚さを1.5μmに
変えた。それ以外は、上記実施例3と同様にして比較例
2のサンプルを作製した。
【0145】(比較例3〜6)上記実施例1において、
塗膜層20を設けなかった。さらに磁性層の厚さを1.
5μm,0.2μm,0.7μm,1.0μmと種々変
化させた。それ以外は、上記実施例1と同様にして比較
例3〜6のサンプルを作製した。
塗膜層20を設けなかった。さらに磁性層の厚さを1.
5μm,0.2μm,0.7μm,1.0μmと種々変
化させた。それ以外は、上記実施例1と同様にして比較
例3〜6のサンプルを作製した。
【0146】(比較例7)上記実施例3において、磁性
層30に含有される研磨材の平均粒径および最大粒径を
変えた。それ以外は、上記実施例3と同様にして比較例
7のサンプルを作製した。ちなみに、このサンプルは上
記式(1)および式(2)の条件を満足しないものであ
る。
層30に含有される研磨材の平均粒径および最大粒径を
変えた。それ以外は、上記実施例3と同様にして比較例
7のサンプルを作製した。ちなみに、このサンプルは上
記式(1)および式(2)の条件を満足しないものであ
る。
【0147】(比較例8)上記実施例3において、磁性
層30の厚さ、および磁性層30に含有される研磨材の
最大粒径を変えた。それ以外は、上記実施例3と同様に
して比較例8のサンプルを作製した。ちなみに、このサ
ンプルは上記式(1)および式(2)の条件を満足しな
いものである。
層30の厚さ、および磁性層30に含有される研磨材の
最大粒径を変えた。それ以外は、上記実施例3と同様に
して比較例8のサンプルを作製した。ちなみに、このサ
ンプルは上記式(1)および式(2)の条件を満足しな
いものである。
【0148】(比較例9)上記実施例3において、塗膜
層20を、下記の塗料組成物からなる下地層に変えた。
もちろん、この下地層は、単に可撓性支持体の上に塗設
後、乾燥させただけであり延伸処理も行われていない。
それ以外は、上記実施例3と同様にして比較例9のサン
プルを作製した。
層20を、下記の塗料組成物からなる下地層に変えた。
もちろん、この下地層は、単に可撓性支持体の上に塗設
後、乾燥させただけであり延伸処理も行われていない。
それ以外は、上記実施例3と同様にして比較例9のサン
プルを作製した。
【0149】 下地層形成のための塗料組成物 針状α酸化鉄(平均長軸長さ0.15μm、BET53m2 /g) …100重量部 カーボンブラック(コロンビヤンカーボン(株)製, コンダクテックスSC)… 25重量部 塩化ビニル系共重合体(日本ゼオン(株)製,MR−110) … 10重量部 ポリウレタン樹脂A(東洋紡績(株)製,UR8200)… 5重量部 ポリウレタン樹脂B(東洋紡績(株)製,UR8700)… 5重量部 α−アルミナ(住友化学工業(株)製,HIT60A) … 10重量部 ステアリン酸 … 2重量部 ステアリン酸ブチル … 1重量部 メチルエチルケトン … 80重量部 トルエン … 80重量部 シクロヘキサノン … 80重量部 上記材料の一部または全部をニーダーで混練した後、サ
ンドグラインダーミルにて分散混合、希釈を行った。さ
らに、塗料を塗布する直前に硬化剤(日本ポリウレタン
工業(株)製,コロネートL)を3.6重量部添加混合
し、塗布を行った。
ンドグラインダーミルにて分散混合、希釈を行った。さ
らに、塗料を塗布する直前に硬化剤(日本ポリウレタン
工業(株)製,コロネートL)を3.6重量部添加混合
し、塗布を行った。
【0150】(比較例10)上記実施例3において、下
記表4に示されるように塗膜層20の厚さ、塗膜層20
に含有される非磁性粒子の粒子径および添加量を変え
た。それ以外は、上記実施例3と同様にして比較例10
のサンプルを作製した。
記表4に示されるように塗膜層20の厚さ、塗膜層20
に含有される非磁性粒子の粒子径および添加量を変え
た。それ以外は、上記実施例3と同様にして比較例10
のサンプルを作製した。
【0151】(比較例11)上記実施例21において、
下記表4に示されるように塗膜層20の厚さを変えた。
それ以外は、上記実施例21と同様にして比較例11の
サンプルを作製した。ちなみに、このサンプルは上記式
(2)の条件を満足しないものである。
下記表4に示されるように塗膜層20の厚さを変えた。
それ以外は、上記実施例21と同様にして比較例11の
サンプルを作製した。ちなみに、このサンプルは上記式
(2)の条件を満足しないものである。
【0152】(比較例12)上記実施例4において、下
記表4に示されるように磁性層30に含有される研磨材
の平均粒径および最大粒径を変えた。それ以外は、上記
実施例4と同様にして比較例12のサンプルを作製し
た。ちなみに、このサンプルは上記式(1)の条件を満
足しないものである。
記表4に示されるように磁性層30に含有される研磨材
の平均粒径および最大粒径を変えた。それ以外は、上記
実施例4と同様にして比較例12のサンプルを作製し
た。ちなみに、このサンプルは上記式(1)の条件を満
足しないものである。
【0153】(比較例13)上記比較例7において、下
記表4に示されるように磁性層30の厚さを変えた。そ
れ以外は、上記実施例7と同様にして比較例13のサン
プルを作製した。ちなみに、このサンプルは上記式
(1)および式(2)の条件を満足しないものである。
記表4に示されるように磁性層30の厚さを変えた。そ
れ以外は、上記実施例7と同様にして比較例13のサン
プルを作製した。ちなみに、このサンプルは上記式
(1)および式(2)の条件を満足しないものである。
【0154】(比較例14)上記実施例23において、
下記表4に示されるように磁性層30の厚さを変えた。
それ以外は、上記実施例23と同様にして比較例14の
サンプルを作製した。ちなみに、このサンプルは上記式
(2)の条件を満足しないものである。
下記表4に示されるように磁性層30の厚さを変えた。
それ以外は、上記実施例23と同様にして比較例14の
サンプルを作製した。ちなみに、このサンプルは上記式
(2)の条件を満足しないものである。
【0155】(比較例15)上記実施例30において、
下記表4に示されるように磁性層30の厚さを変えた。
それ以外は、上記実施例30と同様にして比較例15の
サンプルを作製した。ちなみに、このサンプルは上記式
(2)の条件を満足しないものである。
下記表4に示されるように磁性層30の厚さを変えた。
それ以外は、上記実施例30と同様にして比較例15の
サンプルを作製した。ちなみに、このサンプルは上記式
(2)の条件を満足しないものである。
【0156】このようにして下記表1〜表4に示される
ごとく種々のサンプル(実施例1〜41,比較例1〜1
5)を作製し、これらについて、以下に示すような磁気
特性、電磁変換特性、テープ表面性の評価を行った。
ごとく種々のサンプル(実施例1〜41,比較例1〜1
5)を作製し、これらについて、以下に示すような磁気
特性、電磁変換特性、テープ表面性の評価を行った。
【0157】表面粗さSRa 小坂研究所『Surfcorder ET−30HK』
を用い、倍率20000倍、CUT−OFF 80μ
m、Xピッチ 1μm、Yピッチ 20μm、X Le
ngth 500μm×30本で測定した。なお、1サ
ンプルにつき3回測定し、その平均値を測定データとし
た。
を用い、倍率20000倍、CUT−OFF 80μ
m、Xピッチ 1μm、Yピッチ 20μm、X Le
ngth 500μm×30本で測定した。なお、1サ
ンプルにつき3回測定し、その平均値を測定データとし
た。
【0158】電磁変換特性(出力) Hi8デッキ(ソニー(株)製EV−S900)で、
7.0MHzの波長の記録信号の再生出力を測定した。
比較例1のサンプルを標準(0dB)として相対評価し
た。
7.0MHzの波長の記録信号の再生出力を測定した。
比較例1のサンプルを標準(0dB)として相対評価し
た。
【0159】スチル特性 Hi8デッキ(ソニー(株)製EV−S900)にテー
プをローディングし、一次停止にした状態を続け、RF
出力が−16dBになるまでの時間を測定した。
プをローディングし、一次停止にした状態を続け、RF
出力が−16dBになるまでの時間を測定した。
【0160】ドロップアウト(DO)個数 Hi8デッキ(ソニー(株)製EV−S900)からR
F出力をDOカウンターに入力して1分間でのDOの個
数を測定した(ただし、カウント条件は、巾(時間)が
5μsec以上で深さ(出力の落ち)が−16dB以
下)。
F出力をDOカウンターに入力して1分間でのDOの個
数を測定した(ただし、カウント条件は、巾(時間)が
5μsec以上で深さ(出力の落ち)が−16dB以
下)。
【0161】これらの結果を下記表1〜表4に示した。
【0162】
【表1】
【0163】
【表2】
【0164】
【表3】
【0165】
【表4】 上記表1〜表4において、塗膜層の粒子種Aは、用いた
非磁性粒子がスチレン−エチレングリコールジメタクリ
レートの有機粒子であること、粒子種Bは、用いた非磁
性粒子がシリカであること、粒子種Cは、スチレン−ジ
ビニルベンゼン系の有機粒子であること、粒子種Dは、
メチルメタアクリレート−ジビニルベンゼン系の有機粒
子であることを、それぞれ示す。また、総合評価の表示
は、◎が最も良く、次いで、〇,×,××の順番とな
る。
非磁性粒子がスチレン−エチレングリコールジメタクリ
レートの有機粒子であること、粒子種Bは、用いた非磁
性粒子がシリカであること、粒子種Cは、スチレン−ジ
ビニルベンゼン系の有機粒子であること、粒子種Dは、
メチルメタアクリレート−ジビニルベンゼン系の有機粒
子であることを、それぞれ示す。また、総合評価の表示
は、◎が最も良く、次いで、〇,×,××の順番とな
る。
【0166】ちなみに、◎の判断基準は、出力+5dB
以上、スチル30分以上、DO20個以下である。ま
た、〇の判断基準は、出力+2dB以上、スチル30分
以上、DO20個以下である。これらの基準を満足しな
いものは、その程度に応じて×,または××と判断し
た。なお、比較例10の場合、特に塗膜層中の粒子の脱
落が多く発生していた。
以上、スチル30分以上、DO20個以下である。ま
た、〇の判断基準は、出力+2dB以上、スチル30分
以上、DO20個以下である。これらの基準を満足しな
いものは、その程度に応じて×,または××と判断し
た。なお、比較例10の場合、特に塗膜層中の粒子の脱
落が多く発生していた。
【0167】(実施例42)下記に示す要領で、本発明
のフロッピーディスクのサンプルを作製した。
のフロッピーディスクのサンプルを作製した。
【0168】可撓性支持体10の作製および塗膜層20
の形成 ジメチルテレフタレート100重量部、エチレングリコ
ール65重量部および酢酸マグネシウム0.09重量部
を反応器にとり、加熱昇温するとともにメタノールを留
去しつつエステル交換を行った。反応開始後、約4時間
を要して230℃まで昇温し、実質的にエステル交換を
終了した。ここで、平均粒径0.1μmのSiO2 粒子
0.3重量部をエチレングリコールスラリーとして添加
し、この後、エチルアシッドホスフェート0.4重量
部、3酸化アンチモン0.04重量部を加え、反応系の
圧力を常温より減ずると同時に、加熱昇温し、最終的に
1mmHg,285℃の条件とした。4時間後、系内を
常圧に戻し、極限粘度0.66のポリエチレンテレフタ
レート(以下、PETと称する)を得た。
の形成 ジメチルテレフタレート100重量部、エチレングリコ
ール65重量部および酢酸マグネシウム0.09重量部
を反応器にとり、加熱昇温するとともにメタノールを留
去しつつエステル交換を行った。反応開始後、約4時間
を要して230℃まで昇温し、実質的にエステル交換を
終了した。ここで、平均粒径0.1μmのSiO2 粒子
0.3重量部をエチレングリコールスラリーとして添加
し、この後、エチルアシッドホスフェート0.4重量
部、3酸化アンチモン0.04重量部を加え、反応系の
圧力を常温より減ずると同時に、加熱昇温し、最終的に
1mmHg,285℃の条件とした。4時間後、系内を
常圧に戻し、極限粘度0.66のポリエチレンテレフタ
レート(以下、PETと称する)を得た。
【0169】このようにして得られたPETを、180
℃で4時間乾燥した後、押し出し機に供給し290℃で
溶融し、この押し出されたポリマーを静電印加キャスト
法を用いて表面温度40℃のキャスティングドラムに巻
つけて冷却固化し、未延伸フィルム(シート)を得た。
℃で4時間乾燥した後、押し出し機に供給し290℃で
溶融し、この押し出されたポリマーを静電印加キャスト
法を用いて表面温度40℃のキャスティングドラムに巻
つけて冷却固化し、未延伸フィルム(シート)を得た。
【0170】この未延伸フィルム(シート)を縦方向に
85℃で3.6倍にロール延伸法にて延伸した。次い
で、塗膜層20を形成させるために上記の実施例1と同
様の組成の塗布液をバーコーターにて、上記のフィルム
の両面にそれぞれ塗工し、塗工後のフィルムをテンター
に導き、横方向に120〜145℃で4.0倍の延伸を
行い、引き続き、220℃で10秒間熱固定を行い、総
厚さ62μm、塗膜層の乾燥厚さが0.2μm(片面側
の値であり、両面の塗膜層厚さは合計で0.4μm)の
2軸配向ポリエステルフィルムを得た。
85℃で3.6倍にロール延伸法にて延伸した。次い
で、塗膜層20を形成させるために上記の実施例1と同
様の組成の塗布液をバーコーターにて、上記のフィルム
の両面にそれぞれ塗工し、塗工後のフィルムをテンター
に導き、横方向に120〜145℃で4.0倍の延伸を
行い、引き続き、220℃で10秒間熱固定を行い、総
厚さ62μm、塗膜層の乾燥厚さが0.2μm(片面側
の値であり、両面の塗膜層厚さは合計で0.4μm)の
2軸配向ポリエステルフィルムを得た。
【0171】磁性層30の形成 上記ポリエステルフィルムの両面に、以下のような磁性
層30を設けた。
層30を設けた。
【0172】Hc=1680Oe、σs =140emu
/g、平均長軸長さ0.15μm、である強磁性金属磁
性粉末を含む下記の組成物を用い、磁性層形成のための
磁性塗料を調製した。
/g、平均長軸長さ0.15μm、である強磁性金属磁
性粉末を含む下記の組成物を用い、磁性層形成のための
磁性塗料を調製した。
【0173】 磁性層形成のための磁性塗料組成物 強磁性金属磁性粉末 …100重量部 熱硬化性塩化ビニル系共重合体(日本ゼオン(株)製,MR−110) … 15重量部 熱硬化性ポリウレタン樹脂(東洋紡績(株)製,UR−8200) … 16重量部 α−アルミナ … 12重量部 カーボンブラック … 4重量部 メチルエチルケトン … 70重量部 トルエン … 30重量部 シクロヘキサノン …100重量部 以上の組成物をサンドグラインダーミルにて分散した
後、下記の組成物を添加して、さらに分散して磁性塗料
を作製した。
後、下記の組成物を添加して、さらに分散して磁性塗料
を作製した。
【0174】 ステアリン酸ブチル … 1重量部 ソルビタンモノステアレート … 3重量部 ネオペンチルグリコールジオレエート … 5重量部 メチルエチルケトン … 46重量部 トルエン … 20重量部 シクロヘキサノン … 66重量部 このようにして得られた磁性塗料に硬化剤(日本ポリウ
レタン工業(株)製,コロネートL)を磁性塗料100
0重量部に対して12重量部添加混合し、当該磁性塗料
を、ノズル塗布方式により前述の要領で作製した厚さ6
2μmのPETフィルム支持体の両面に磁性層乾燥厚み
が0.3μmとなるように塗設し、その後、配向処理、
乾燥、カレンダ処理を施した。しかる後、このものを直
径3.5インチのドーナッツ状に打ち抜き60℃にて2
4時間以上放置して、フロッピーディスクを作製した
(実施例42のサンプル)。
レタン工業(株)製,コロネートL)を磁性塗料100
0重量部に対して12重量部添加混合し、当該磁性塗料
を、ノズル塗布方式により前述の要領で作製した厚さ6
2μmのPETフィルム支持体の両面に磁性層乾燥厚み
が0.3μmとなるように塗設し、その後、配向処理、
乾燥、カレンダ処理を施した。しかる後、このものを直
径3.5インチのドーナッツ状に打ち抜き60℃にて2
4時間以上放置して、フロッピーディスクを作製した
(実施例42のサンプル)。
【0175】(比較例16)上記実施例42において、
塗膜層20を設けなかった。それ以外は、上記実施例4
2と同様にしてフロッピーディスクの比較例16サンプ
ルを作製した。
塗膜層20を設けなかった。それ以外は、上記実施例4
2と同様にしてフロッピーディスクの比較例16サンプ
ルを作製した。
【0176】(比較例17)上記実施例42において、
磁性層30の厚さを1.5μmに変えた。それ以外は、
上記実施例42と同様にしてフロッピーディスクの比較
例17サンプルを作製した。
磁性層30の厚さを1.5μmに変えた。それ以外は、
上記実施例42と同様にしてフロッピーディスクの比較
例17サンプルを作製した。
【0177】このような3種のサンプル(実施例42、
比較例16、および比較例17)について、以下に示す
ような評価法に基づいて、出力、分解能、オーバーライ
ト特性(O/W特性)および耐久性を評価した。
比較例16、および比較例17)について、以下に示す
ような評価法に基づいて、出力、分解能、オーバーライ
ト特性(O/W特性)および耐久性を評価した。
【0178】評価方法 NEC(株)製フロッピーディスクドライブFD133
5を用いて、出力、分解能、オーバーライト特性を以下
のようにして調べた。なお、上記フロッピーディスクド
ライブはMFM(modified frequency modulation )記
録方式のものであり、(2,7)符号方式での測定のた
め記録波長数を下記のように変更した。
5を用いて、出力、分解能、オーバーライト特性を以下
のようにして調べた。なお、上記フロッピーディスクド
ライブはMFM(modified frequency modulation )記
録方式のものであり、(2,7)符号方式での測定のた
め記録波長数を下記のように変更した。
【0179】 基準仕様 1F:321.5KHz, 2F:625KHz (Fは、Frequency の略である) 改造仕様 RL7:234KHz, RL2:625KHz (RLは、Run Lengthの略である) 上記フロッピーディスクドライブは、回転数360R.
P.M.、トラック半径は最内周サイド1が23.01
4mm、最外周サイド0が39.500mmであり、上
記周波数を記録した際の波長および記録密度は下記のと
おりである。
P.M.、トラック半径は最内周サイド1が23.01
4mm、最外周サイド0が39.500mmであり、上
記周波数を記録した際の波長および記録密度は下記のと
おりである。
【0180】 最外周サイド0にRL7を記録した場合:波長6.35μm 記録密度8.0KFCI 最外周サイド0にRL2を記録した場合:波長2.38μm 記録密度21.3KFCI 最内周サイド1にRL7を記録した場合:波長3.70μm 記録密度13.7KFCI 最内周サイド1にRL2を記録した場合:波長1.39μm 記録密度36.6KFCI (上記FCIは、Flux Change per Inch の略である)出力 最内周サイド1にてRL2を記録し、平均信号振幅をオ
シロスコープにより測定した。
シロスコープにより測定した。
【0181】分解能 最内周サイド1にてRL7およびRL2を記録し、平均
信号振幅をそれぞれオシロスコープにより測定し、下記
式により分解能を算出した。
信号振幅をそれぞれオシロスコープにより測定し、下記
式により分解能を算出した。
【0182】分解能=(RL2平均信号振幅/RL7平
均信号振幅)×100オーバーライト特性(O/W特性) 最外周サイド0にて、RL7を記録し、平均信号振幅を
測定する。次に、消去を行わないでRL2を重ね書き
し、RL7の残留平均信号振幅を測定し、下記式により
オーバーライト値(O/W値)を算出した。これらの平
均信号振幅の測定にはスペクトラムアナライザーを使用
した。
均信号振幅)×100オーバーライト特性(O/W特性) 最外周サイド0にて、RL7を記録し、平均信号振幅を
測定する。次に、消去を行わないでRL2を重ね書き
し、RL7の残留平均信号振幅を測定し、下記式により
オーバーライト値(O/W値)を算出した。これらの平
均信号振幅の測定にはスペクトラムアナライザーを使用
した。
【0183】O/W値=20log(RL7残留平均信
号振幅/RL7平均信号振幅)耐久性 低温(0℃)および高温低湿(60℃、10%RH)の
測定環境条件にて、それぞれ、連続して記録再生を行
い、初期出力の80%になるまでの時間を測定し、ディ
スクの耐久性を調べた。
号振幅/RL7平均信号振幅)耐久性 低温(0℃)および高温低湿(60℃、10%RH)の
測定環境条件にて、それぞれ、連続して記録再生を行
い、初期出力の80%になるまでの時間を測定し、ディ
スクの耐久性を調べた。
【0184】これらの測定結果を下記表5に示した。
【0185】
【表5】 表5に示される結果より本発明の実施例42のサンプル
は、すべての測定項目にて極めて良好な結果が得られて
いる。比較例16のサンプルは、オーバーライト特性は
良好であるが、カレンダー加工性が低下しているため、
出力が低く、耐久性も良くない。比較例17のサンプル
は、特に、磁性層の膜厚が厚いためにオーバーライト特
性が悪い。
は、すべての測定項目にて極めて良好な結果が得られて
いる。比較例16のサンプルは、オーバーライト特性は
良好であるが、カレンダー加工性が低下しているため、
出力が低く、耐久性も良くない。比較例17のサンプル
は、特に、磁性層の膜厚が厚いためにオーバーライト特
性が悪い。
【0186】(実施例43)Hc=2000Oe、σs
=140emu/g、平均長軸長さ0.08μm、平均
軸比5である強磁性金属磁性粉末(Fe/Co/Al/
Y=100/20/4.2/5.3(重量比))を含む
下記の組成物を用い、磁性層形成のための磁性塗料を調
製した。
=140emu/g、平均長軸長さ0.08μm、平均
軸比5である強磁性金属磁性粉末(Fe/Co/Al/
Y=100/20/4.2/5.3(重量比))を含む
下記の組成物を用い、磁性層形成のための磁性塗料を調
製した。
【0187】 磁性層形成のための磁性塗料組成物 強磁性金属磁性粉末 …100重量部 塩化ビニル系共重合体(日本ゼオン(株)製,MR−110) … 8.3 重量部 ポリエステルポリウレタン樹脂(東洋紡績(株)製,UR−8300) … 8.3 重量部 α−アルミナ … 1重量部 ステアリン酸 … 1重量部 ステアリン酸ブチル … 1重量部 メチルエチルケトン …111重量部 トルエン …111重量部 シクロヘキサノン … 74重量部 この組成物をニーダにて十分に混練処理を行った後、サ
ンドグラインダーミルにて分散を行った。このようにし
て得られた磁性塗料に硬化剤(日本ポリウレタン工業
(株)製,コロネートL)を3.3重量部添加混合し、
磁性層形成のための塗料を作製した。
ンドグラインダーミルにて分散を行った。このようにし
て得られた磁性塗料に硬化剤(日本ポリウレタン工業
(株)製,コロネートL)を3.3重量部添加混合し、
磁性層形成のための塗料を作製した。
【0188】次いで、下記の要領で下地層形成のための
塗料を作製した。
塗料を作製した。
【0189】 下地層形成のための塗料組成物 α−Fe2 O3 (戸田工業(株)製、DPN250BX)…100重量部 塩化ビニル系共重合体(日本ゼオン(株)製,MR−110) … 10重量部 ポリエステルポリウレタン樹脂(東洋紡績(株)製, UR8700)… 10重量部 α−Al2 O3 … 3重量部 ステアリン酸 … 1重量部 ステアリン酸ブチル … 1重量部 メチルエチルケトン … 80重量部 トルエン … 80重量部 シクロヘキサノン … 80重量部 この組成をニーダーにて十分混練した後、サンドグライ
ンダーミルにて分散を行った。このようにして得られた
磁性塗料に硬化剤(日本ポリウレタン工業(株)製,コ
ロネートL)を4重量部添加混合し、下地層形成用の塗
料を作製した。
ンダーミルにて分散を行った。このようにして得られた
磁性塗料に硬化剤(日本ポリウレタン工業(株)製,コ
ロネートL)を4重量部添加混合し、下地層形成用の塗
料を作製した。
【0190】このような下地層形成用の塗料を、上記実
施例3で使用した支持体の上(塗膜層20の上)に下地
層厚さが0.5μmとなるように塗布し、乾燥、カレン
ダー処理を行い、さらに熱硬化させて下地層を形成し
た。次いで、この下地層の上に、磁性層の乾燥厚みが
0.2μmとなるように上記の磁性塗料を塗設し、その
後、配向処理、乾燥、カレンダー処理を施した。
施例3で使用した支持体の上(塗膜層20の上)に下地
層厚さが0.5μmとなるように塗布し、乾燥、カレン
ダー処理を行い、さらに熱硬化させて下地層を形成し
た。次いで、この下地層の上に、磁性層の乾燥厚みが
0.2μmとなるように上記の磁性塗料を塗設し、その
後、配向処理、乾燥、カレンダー処理を施した。
【0191】次いで、支持体の反対面(磁性層を設けな
い面)に、上記の実施例1で用いたバックコート層形成
のための塗料を塗布し、カレンダ処理を施した後に、熱
硬化処理を行った。しかる後、このものを8mm幅に裁
断し、テープ状の磁気記録媒体サンプルを作製した(実
施例サンプル43)。
い面)に、上記の実施例1で用いたバックコート層形成
のための塗料を塗布し、カレンダ処理を施した後に、熱
硬化処理を行った。しかる後、このものを8mm幅に裁
断し、テープ状の磁気記録媒体サンプルを作製した(実
施例サンプル43)。
【0192】(比較例18)上記実施例サンプル43に
おいて、塗膜層20のない支持体を用いた。それ以外
は、上記実施例43と同様にして比較例18のサンプル
を作製した。
おいて、塗膜層20のない支持体を用いた。それ以外
は、上記実施例43と同様にして比較例18のサンプル
を作製した。
【0193】このような2種のサンプル(実施例43お
よび比較例18)について、前述した記磁気テープでの
測定項目、すなわち、表面粗さSRa、電磁変換特性
(出力)、スチル特性およびドロップアウト、(DO)
個数を測定した。
よび比較例18)について、前述した記磁気テープでの
測定項目、すなわち、表面粗さSRa、電磁変換特性
(出力)、スチル特性およびドロップアウト、(DO)
個数を測定した。
【0194】これらの結果を下記表6に示した。
【0195】
【表6】 表6に示される結果より、比較例18のサンプルは塗膜
層がないために下地層を設けてもカレンダー処理での効
果が少なく、媒体としての表面粗さSRaが大きくなっ
ている。そのために電磁変換特性(出力)が低くなって
いる。
層がないために下地層を設けてもカレンダー処理での効
果が少なく、媒体としての表面粗さSRaが大きくなっ
ている。そのために電磁変換特性(出力)が低くなって
いる。
【0196】
【発明の効果】上記の結果より本発明の効果は明らかで
ある。すなわち、本発明の磁気記録媒体は、可撓性支持
体の上に、結合剤および非磁性粒子を有するとともに少
なくとも1回の延伸処理がなされた所定厚さの塗膜層
と、この塗膜層の上に形成された所定の磁性層を備えて
いるので、生産性に優れることはもとより、膜厚の薄い
磁性層の表面性を向上させることができる。これにより
短波長領域での高出力化が達成できるという効果を奏す
る。さらには走行耐久性にも優れるという効果を奏す
る。
ある。すなわち、本発明の磁気記録媒体は、可撓性支持
体の上に、結合剤および非磁性粒子を有するとともに少
なくとも1回の延伸処理がなされた所定厚さの塗膜層
と、この塗膜層の上に形成された所定の磁性層を備えて
いるので、生産性に優れることはもとより、膜厚の薄い
磁性層の表面性を向上させることができる。これにより
短波長領域での高出力化が達成できるという効果を奏す
る。さらには走行耐久性にも優れるという効果を奏す
る。
【図1】本発明の磁気記録媒体の一例を示す断面図であ
る。
る。
1…磁気記録媒体 10…可撓性支持体 20…塗膜層 30…磁性層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 原田 敬 滋賀県坂田郡山東町井之口347番地 ダイ アホイルヘキスト株式会社中央研究所内
Claims (4)
- 【請求項1】 可撓性支持体と、この支持体上に形成さ
れた塗膜層と、この塗膜層の上に形成された磁性層を備
える磁気記録媒体であって、 前記塗膜層は、結合剤および非磁性粒子を有するととも
に前記可撓性支持体の上に塗設された後に少なくとも1
回の延伸処理がなされており、その厚さは0.05〜
0.7μmであり、 前記磁性層は、磁性粉末、結合剤、および研磨材を含有
するとともにその厚さは、0.05〜1.0μmであ
り、 前記塗膜層中に含有される非磁性粒子は、その平均粒径
が0.01〜0.08μmであり、 前記磁性層中に含有される研磨材は、その平均粒径が
0.05〜0.8μmであり、かつ、下記式(1)およ
び式(2)の条件を満足することを特徴とする磁気記録
媒体。 最大粒径(dmx)≦(平均粒径(dav)×2.0)+0.5 …式(1) 最大粒径(dmx)≦(塗膜層の厚さ(tc )+磁性層の厚さ(tm ))+ 0.5 …式(2) - 【請求項2】 前記塗膜層中に含有される非磁性粒子の
含有量は、3〜60wt%である請求項1記載の磁気記
録媒体。 - 【請求項3】 前記磁性層中に含有される研磨材の含有
量は、0.1〜20wt%である請求項1または請求項
2記載の磁気記録媒体。 - 【請求項4】 前記塗膜層の結合剤は、水溶性または水
分散性樹脂である請求項1ないし請求項3のいずれかに
記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8095957A JPH08329448A (ja) | 1995-03-28 | 1996-03-26 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-93182 | 1995-03-28 | ||
| JP9318295 | 1995-03-28 | ||
| JP8095957A JPH08329448A (ja) | 1995-03-28 | 1996-03-26 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08329448A true JPH08329448A (ja) | 1996-12-13 |
Family
ID=26434608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8095957A Withdrawn JPH08329448A (ja) | 1995-03-28 | 1996-03-26 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08329448A (ja) |
-
1996
- 1996-03-26 JP JP8095957A patent/JPH08329448A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030603 |