JPH08334572A - 時計用文字板およびその製造方法 - Google Patents
時計用文字板およびその製造方法Info
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- JPH08334572A JPH08334572A JP14032895A JP14032895A JPH08334572A JP H08334572 A JPH08334572 A JP H08334572A JP 14032895 A JP14032895 A JP 14032895A JP 14032895 A JP14032895 A JP 14032895A JP H08334572 A JPH08334572 A JP H08334572A
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Landscapes
- Electromechanical Clocks (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 風防ガラス２３を有するケース２５と、指針
２９を駆動するムーブメント２７と、ムーブメントの風
防ガラス側に配置する太陽電池１９と、太陽電池の受光
面側に配置する被覆部材１７とを備え、被覆部材は基板
１１と基板上に設ける反射防止層１５とを有する時計用
文字板およびその製造方法。 【効果】 基板の受光面側に反射防止層を設けることに
よって、基板表面での光の反射を低減し、被覆部材での
透過率が大きくなり、太陽電池に到達する光量が増大
し、この太陽電池の起電力が大きくなる。
２９を駆動するムーブメント２７と、ムーブメントの風
防ガラス側に配置する太陽電池１９と、太陽電池の受光
面側に配置する被覆部材１７とを備え、被覆部材は基板
１１と基板上に設ける反射防止層１５とを有する時計用
文字板およびその製造方法。 【効果】 基板の受光面側に反射防止層を設けることに
よって、基板表面での光の反射を低減し、被覆部材での
透過率が大きくなり、太陽電池に到達する光量が増大
し、この太陽電池の起電力が大きくなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は太陽電池を備える時計の
時刻表示手段である文字板の構成とその製造方法とに関
し、とくに太陽電池の受光面側に設ける被覆部材の構成
とその製造方法とに関するものである。
時刻表示手段である文字板の構成とその製造方法とに関
し、とくに太陽電池の受光面側に設ける被覆部材の構成
とその製造方法とに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、太陽電池を有する時計用文字板の
太陽電池は、光を吸収して発電を行う関係上、風防ガラ
スの下面の文字板に、外から見えるような構造で使用す
るのが一般的な構成となっている。
太陽電池は、光を吸収して発電を行う関係上、風防ガラ
スの下面の文字板に、外から見えるような構造で使用す
るのが一般的な構成となっている。
【０００３】このような構成では、太陽電池が独特の濃
紫の色を有するため、時計としての外観的な調和をとろ
うとすると、文字板の色やデザインを大きな制約を受け
ることになる。
紫の色を有するため、時計としての外観的な調和をとろ
うとすると、文字板の色やデザインを大きな制約を受け
ることになる。
【０００４】そこで太陽電池の受光面側に被覆部材を配
置して太陽電池を見えなくすることが提案されている。
この被覆部材は、セラミックス材料のような透光性を有
する材料で構成する。
置して太陽電池を見えなくすることが提案されている。
この被覆部材は、セラミックス材料のような透光性を有
する材料で構成する。
【０００５】そしてこの被覆部材は、被覆部材に照射さ
れる光の１／２から２／３の光は透過して太陽電池に照
射され、時計を駆動するための起電力が発生する。
れる光の１／２から２／３の光は透過して太陽電池に照
射され、時計を駆動するための起電力が発生する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このような手段におい
ては、被覆部材を透過し太陽電池に到達する光が起電力
に関与するわけで、できるだけ太陽電池の起電力が大き
くなるような、透過率が大きな被覆部材が要求されてい
る。
ては、被覆部材を透過し太陽電池に到達する光が起電力
に関与するわけで、できるだけ太陽電池の起電力が大き
くなるような、透過率が大きな被覆部材が要求されてい
る。
【０００７】本発明の目的は、上記課題を解決して、透
過率が大きな被覆部材を備える文字板を有する時計用文
字板の構成と、この構成を形成するための製造方法とを
提供することである。
過率が大きな被覆部材を備える文字板を有する時計用文
字板の構成と、この構成を形成するための製造方法とを
提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の時計用文字板およびその製造方法は、下記
記載の手段を採用する。
に、本発明の時計用文字板およびその製造方法は、下記
記載の手段を採用する。
【０００９】本発明の時計用文字板は、風防ガラスを有
するケースと、指針を駆動するムーブメントと、ムーブ
メントの風防ガラス側に配置する太陽電池と、太陽電池
の受光面側に配置する被覆部材とを備え、被覆部材は基
板と基板上に設ける反射防止層とを有することを特徴と
する。
するケースと、指針を駆動するムーブメントと、ムーブ
メントの風防ガラス側に配置する太陽電池と、太陽電池
の受光面側に配置する被覆部材とを備え、被覆部材は基
板と基板上に設ける反射防止層とを有することを特徴と
する。
【００１０】本発明の時計用文字板は、風防ガラスを有
するケースと、指針を駆動するムーブメントと、ムーブ
メントの風防ガラス側に配置する太陽電池と、太陽電池
の受光面側に配置する被覆部材とを備え、被覆部材はセ
ラミックスからなる基板と基板上に設ける反射防止層と
を有することを特徴とする。
するケースと、指針を駆動するムーブメントと、ムーブ
メントの風防ガラス側に配置する太陽電池と、太陽電池
の受光面側に配置する被覆部材とを備え、被覆部材はセ
ラミックスからなる基板と基板上に設ける反射防止層と
を有することを特徴とする。
【００１１】本発明の時計用文字板は、風防ガラスを有
するケースと、指針を駆動するムーブメントと、ムーブ
メントの風防ガラス側に配置する太陽電池と、太陽電池
の受光面側に配置する被覆部材とを備え、被覆部材はセ
ラミックスからなる基板と基板上に設ける有機膜からな
る反射防止層とを有することを特徴とする。
するケースと、指針を駆動するムーブメントと、ムーブ
メントの風防ガラス側に配置する太陽電池と、太陽電池
の受光面側に配置する被覆部材とを備え、被覆部材はセ
ラミックスからなる基板と基板上に設ける有機膜からな
る反射防止層とを有することを特徴とする。
【００１２】本発明の時計用文字板は、風防ガラスを有
するケースと、指針を駆動するムーブメントと、ムーブ
メントの風防ガラス側に配置する太陽電池と、太陽電池
の受光面側に配置する被覆部材とを備え、被覆部材はセ
ラミックスからなる基板と基板上に設ける無機膜からな
る反射防止層とを有することを特徴とする。
するケースと、指針を駆動するムーブメントと、ムーブ
メントの風防ガラス側に配置する太陽電池と、太陽電池
の受光面側に配置する被覆部材とを備え、被覆部材はセ
ラミックスからなる基板と基板上に設ける無機膜からな
る反射防止層とを有することを特徴とする。
【００１３】本発明の時計用文字板は、風防ガラスを有
するケースと、指針を駆動するムーブメントと、ムーブ
メントの風防ガラス側に配置する太陽電池と、太陽電池
の受光面側に配置する被覆部材とを備え、被覆部材はセ
ラミックスからなる基板と基板上に設ける樹脂膜からな
る有機膜の反射防止層とを有することを特徴とする。
するケースと、指針を駆動するムーブメントと、ムーブ
メントの風防ガラス側に配置する太陽電池と、太陽電池
の受光面側に配置する被覆部材とを備え、被覆部材はセ
ラミックスからなる基板と基板上に設ける樹脂膜からな
る有機膜の反射防止層とを有することを特徴とする。
【００１４】本発明の時計用文字板は、風防ガラスを有
するケースと、指針を駆動するムーブメントと、ムーブ
メントの風防ガラス側に配置する太陽電池と、太陽電池
の受光面側に配置する被覆部材とを備え、被覆部材はセ
ラミックスからなる基板と基板上に設ける酸化シリコン
膜、窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜、あるいは酸
化タンタル膜からなる無機膜の反射防止層とを有するこ
とを特徴とする。
するケースと、指針を駆動するムーブメントと、ムーブ
メントの風防ガラス側に配置する太陽電池と、太陽電池
の受光面側に配置する被覆部材とを備え、被覆部材はセ
ラミックスからなる基板と基板上に設ける酸化シリコン
膜、窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜、あるいは酸
化タンタル膜からなる無機膜の反射防止層とを有するこ
とを特徴とする。
【００１５】本発明の時計用文字板の製造方法は、バイ
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に有機膜を形成し、焼成処理を行い反射
防止層を形成する工程とを有することを特徴とする。
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に有機膜を形成し、焼成処理を行い反射
防止層を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００１６】本発明の時計用文字板の製造方法は、グリ
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に有機膜を形成
し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工程とを有す
ることを特徴とする。
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に有機膜を形成
し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工程とを有す
ることを特徴とする。
【００１７】本発明の時計用文字板の製造方法は、粉末
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に有機膜を形成し、焼成処理を行
い反射防止層を形成する工程とを有することを特徴とす
る。
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に有機膜を形成し、焼成処理を行
い反射防止層を形成する工程とを有することを特徴とす
る。
【００１８】本発明の時計用文字板の製造方法は、バイ
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に樹脂膜からなる有機膜を形成し、焼成
処理を行い反射防止層を形成する工程とを有することを
特徴とする。
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に樹脂膜からなる有機膜を形成し、焼成
処理を行い反射防止層を形成する工程とを有することを
特徴とする。
【００１９】本発明の時計用文字板の製造方法は、グリ
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に樹脂膜からなる
有機膜を形成し、焼成処理を行い反射防止層を形成する
工程とを有することを特徴とする。
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に樹脂膜からなる
有機膜を形成し、焼成処理を行い反射防止層を形成する
工程とを有することを特徴とする。
【００２０】本発明の時計用文字板の製造方法は、粉末
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に樹脂膜からなる有機膜を形成
し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工程とを有す
ることを特徴とする。
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に樹脂膜からなる有機膜を形成
し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工程とを有す
ることを特徴とする。
【００２１】本発明の時計用文字板の製造方法は、バイ
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に無機膜からなる反射防止層を物理蒸着
法により形成する工程とを有することを特徴とする。
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に無機膜からなる反射防止層を物理蒸着
法により形成する工程とを有することを特徴とする。
【００２２】本発明の時計用文字板の製造方法は、グリ
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に無機膜からなる
反射防止層を物理蒸着法により形成する工程とを有する
ことを特徴とする。
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に無機膜からなる
反射防止層を物理蒸着法により形成する工程とを有する
ことを特徴とする。
【００２３】本発明の時計用文字板の製造方法は、粉末
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に無機膜からなる反射防止層を物
理蒸着法により形成する工程とを有することを特徴とす
る。
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に無機膜からなる反射防止層を物
理蒸着法により形成する工程とを有することを特徴とす
る。
【００２４】本発明の時計用文字板の製造方法は、バイ
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に無機膜からなる反射防止層を化学的気
相成長法により形成する工程とを有することを特徴とす
る。
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に無機膜からなる反射防止層を化学的気
相成長法により形成する工程とを有することを特徴とす
る。
【００２５】本発明の時計用文字板の製造方法は、グリ
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に無機膜からなる
反射防止層を化学的気相成長法により形成する工程とを
有することを特徴とする。
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に無機膜からなる
反射防止層を化学的気相成長法により形成する工程とを
有することを特徴とする。
【００２６】本発明の時計用文字板の製造方法は、粉末
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に無機膜からなる反射防止層を化
学的気相成長法により形成する工程とを有することを特
徴とする。
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に無機膜からなる反射防止層を化
学的気相成長法により形成する工程とを有することを特
徴とする。
【００２７】本発明の時計用文字板の製造方法は、バイ
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に塗布ガラス膜を形成し、焼成処理を行
い反射防止層を形成する工程とを有することを特徴とす
る。
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に塗布ガラス膜を形成し、焼成処理を行
い反射防止層を形成する工程とを有することを特徴とす
る。
【００２８】本発明の時計用文字板の製造方法は、グリ
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に塗布ガラス膜を
形成し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工程とを
有することを特徴とする。
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に塗布ガラス膜を
形成し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工程とを
有することを特徴とする。
【００２９】本発明の時計用文字板の製造方法は、粉末
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に塗布ガラス膜を形成し、焼成処
理を行い反射防止層を形成する工程とを有することを特
徴とする。
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に塗布ガラス膜を形成し、焼成処
理を行い反射防止層を形成する工程とを有することを特
徴とする。
【００３０】本発明の時計用文字板の製造方法は、バイ
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に有機膜を形成し、さらに焼成処理を行
い反射防止層を形成する工程と、受光面側に時刻目盛り
と文字とマークを形成する工程とを有することを特徴と
する。
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に有機膜を形成し、さらに焼成処理を行
い反射防止層を形成する工程と、受光面側に時刻目盛り
と文字とマークを形成する工程とを有することを特徴と
する。
【００３１】本発明の時計用文字板の製造方法は、グリ
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に有機膜を形成
し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工程と、受光
面側に時刻目盛りと文字とマークを形成する工程とを有
することを特徴とする。
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に有機膜を形成
し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工程と、受光
面側に時刻目盛りと文字とマークを形成する工程とを有
することを特徴とする。
【００３２】本発明の時計用文字板の製造方法は、粉末
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に有機膜を形成し、焼成処理を行
い反射防止層を形成する工程と、受光面側に時刻目盛り
と文字とマークを形成する工程とを有すること特徴とす
る。
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に有機膜を形成し、焼成処理を行
い反射防止層を形成する工程と、受光面側に時刻目盛り
と文字とマークを形成する工程とを有すること特徴とす
る。
【００３３】本発明の時計用文字板の製造方法は、バイ
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に樹脂膜からなる有機膜を形成し、焼成
処理を行い反射防止層を形成する工程と、受光面側に時
刻目盛りと文字とマークを形成する工程とを有すること
特徴とする。
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に樹脂膜からなる有機膜を形成し、焼成
処理を行い反射防止層を形成する工程と、受光面側に時
刻目盛りと文字とマークを形成する工程とを有すること
特徴とする。
【００３４】本発明の時計用文字板の製造方法は、グリ
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に樹脂膜からなる
有機膜を形成し、焼成処理を行い反射防止層を形成する
工程と、受光面側に時刻目盛りと文字とマークを形成す
る工程とを有すること特徴とする。
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に樹脂膜からなる
有機膜を形成し、焼成処理を行い反射防止層を形成する
工程と、受光面側に時刻目盛りと文字とマークを形成す
る工程とを有すること特徴とする。
【００３５】本発明の時計用文字板の製造方法は、粉末
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に樹脂膜からなる有機膜を形成
し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工程と、受光
面側に時刻目盛りと文字とマークを形成する工程とを有
すること特徴とする。
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に樹脂膜からなる有機膜を形成
し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工程と、受光
面側に時刻目盛りと文字とマークを形成する工程とを有
すること特徴とする。
【００３６】本発明の時計用文字板の製造方法は、バイ
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に無機膜からなる反射防止層を物理蒸着
法により形成する工程と、受光面側に時刻目盛りと文字
とマークを形成する工程とを有すること特徴とする。
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に無機膜からなる反射防止層を物理蒸着
法により形成する工程と、受光面側に時刻目盛りと文字
とマークを形成する工程とを有すること特徴とする。
【００３７】本発明の時計用文字板の製造方法は、グリ
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に無機膜からなる
反射防止層を物理蒸着法により形成する工程と、受光面
側に時刻目盛りと文字とマークを形成する工程とを有す
ること特徴とする。
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に無機膜からなる
反射防止層を物理蒸着法により形成する工程と、受光面
側に時刻目盛りと文字とマークを形成する工程とを有す
ること特徴とする。
【００３８】本発明の時計用文字板の製造方法は、粉末
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に無機膜からなる反射防止層を物
理蒸着法により形成する工程と、受光面側に時刻目盛り
と文字とマークを形成する工程とを有すること特徴とす
る。
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に無機膜からなる反射防止層を物
理蒸着法により形成する工程と、受光面側に時刻目盛り
と文字とマークを形成する工程とを有すること特徴とす
る。
【００３９】本発明の時計用文字板の製造方法は、バイ
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に無機膜からなる反射防止層を化学的気
相成長法により形成する工程と、受光面側に時刻目盛り
と文字とマークを形成する工程とを有すること特徴とす
る。
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に無機膜からなる反射防止層を化学的気
相成長法により形成する工程と、受光面側に時刻目盛り
と文字とマークを形成する工程とを有すること特徴とす
る。
【００４０】本発明の時計用文字板の製造方法は、グリ
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に無機膜からなる
反射防止層を化学的気相成長法により形成する工程と、
受光面側に時刻目盛りと文字とマークを形成する工程と
を有すること特徴とする。
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に無機膜からなる
反射防止層を化学的気相成長法により形成する工程と、
受光面側に時刻目盛りと文字とマークを形成する工程と
を有すること特徴とする。
【００４１】本発明の時計用文字板の製造方法は、粉末
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に無機膜からなる反射防止層を化
学的気相成長法により形成する工程と、受光面側に時刻
目盛りと文字とマークを形成する工程とを有すること特
徴とする。
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に無機膜からなる反射防止層を化
学的気相成長法により形成する工程と、受光面側に時刻
目盛りと文字とマークを形成する工程とを有すること特
徴とする。
【００４２】本発明の時計用文字板の製造方法は、バイ
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に塗布ガラス膜を形成し、焼成処理を行
い反射防止層を形成する工程と、受光面側に時刻目盛り
と文字とマークを形成する工程とを有すること特徴とす
る。
ンダーを含むセラミックス材料を金型内に入れ加圧処理
と焼成処理とを行い被覆部材を構成する基板を形成する
工程と、基板上に塗布ガラス膜を形成し、焼成処理を行
い反射防止層を形成する工程と、受光面側に時刻目盛り
と文字とマークを形成する工程とを有すること特徴とす
る。
【００４３】本発明の時計用文字板の製造方法は、グリ
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に塗布ガラス膜を
形成し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工程と、
受光面側に時刻目盛りと文字とマークを形成する工程と
を有すること特徴とする。
ーンシートをプレス加工し焼成処理を行い被覆部材を構
成する基板を形成する工程と、基板上に塗布ガラス膜を
形成し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工程と、
受光面側に時刻目盛りと文字とマークを形成する工程と
を有すること特徴とする。
【００４４】本発明の時計用文字板の製造方法は、粉末
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に塗布ガラス膜を形成し、焼成処
理を行い反射防止層を形成する工程と、受光面側に時刻
目盛りと文字とマークを形成する工程とを有すること特
徴とする。
射出成形と焼成処理を行い被覆部材を構成する基板を形
成する工程と、基板上に塗布ガラス膜を形成し、焼成処
理を行い反射防止層を形成する工程と、受光面側に時刻
目盛りと文字とマークを形成する工程とを有すること特
徴とする。
【００４５】
【作用】本発明の文字板を構成し太陽電池の受光面側に
配置する被覆部材においては、基板上に反射防止層を設
ける構造を採用する。
配置する被覆部材においては、基板上に反射防止層を設
ける構造を採用する。
【００４６】そしてこの基板としてはセラミックス材料
を適用し、反射防止層の材料として透光性被膜からなる
有機膜あるいは無機膜を適用する。
を適用し、反射防止層の材料として透光性被膜からなる
有機膜あるいは無機膜を適用する。
【００４７】このように基板の受光面側に反射防止層を
設けることによって、基板表面での光の反射を低減し、
被覆部材における透過率が大きくなり、太陽電池に到達
する光量が増大し、この太陽電池の起電力が大きくな
る。
設けることによって、基板表面での光の反射を低減し、
被覆部材における透過率が大きくなり、太陽電池に到達
する光量が増大し、この太陽電池の起電力が大きくな
る。
【００４８】
【実施例】以下図面を用いて本発明の実施例における時
計用文字板の構成と、この構成を形成するための製造方
法とを説明する。
計用文字板の構成と、この構成を形成するための製造方
法とを説明する。
【００４９】まずはじめに本発明の実施例における時計
用文字板の構成を、図１と図２と図３とを用いて説明す
る。図１は本発明の実施例における時計用文字板を構成
する被覆部材を示す断面図であり、図２は本発明の実施
例における文字板を時計に組み込んだ状態を示す断面図
であり、図３は本発明の実施例における時計用文字板を
示す平面図である。以下、図１と図２と図３とを交互に
参照して時計用文字板の構成を説明する。
用文字板の構成を、図１と図２と図３とを用いて説明す
る。図１は本発明の実施例における時計用文字板を構成
する被覆部材を示す断面図であり、図２は本発明の実施
例における文字板を時計に組み込んだ状態を示す断面図
であり、図３は本発明の実施例における時計用文字板を
示す平面図である。以下、図１と図２と図３とを交互に
参照して時計用文字板の構成を説明する。
【００５０】図２に示すように、透明ガラスやサファイ
アから構成する風防ガラス２３を取り付けるケース２５
内に、ムーブメント２７を設ける。このムーブメント２
７は指針２９を駆動する。
アから構成する風防ガラス２３を取り付けるケース２５
内に、ムーブメント２７を設ける。このムーブメント２
７は指針２９を駆動する。
【００５１】このムーブメント２７内には、図２には図
示しないが、太陽電池１９の起電力を貯蔵する電気二重
層コンデンサーや、時間基準源として水晶振動子や、こ
の水晶振動子の発振周波数をもとに時計を駆動する駆動
パルスを発生する半導体集積回路や、この駆動パルスを
受けて輪列機構を１秒ごとに指針２９を駆動するステッ
プモーターや、輪列機構などを備えている。
示しないが、太陽電池１９の起電力を貯蔵する電気二重
層コンデンサーや、時間基準源として水晶振動子や、こ
の水晶振動子の発振周波数をもとに時計を駆動する駆動
パルスを発生する半導体集積回路や、この駆動パルスを
受けて輪列機構を１秒ごとに指針２９を駆動するステッ
プモーターや、輪列機構などを備えている。
【００５２】ケース２５には、樹脂材料からなる第２の
パッキング３９を介して、風防ガラス２３を取り付け、
時計内にチリやホコリや水分の侵入を防止する気密構造
にしている。
パッキング３９を介して、風防ガラス２３を取り付け、
時計内にチリやホコリや水分の侵入を防止する気密構造
にしている。
【００５３】さらにケース２５の風防ガラス２３と反対
側の面に溝を設け、その溝内にゴム材料からなる第１の
パッキング３７を設ける。そして裏蓋３５とケース２５
との間に配置する第１のパッキング３７によって、時計
内にチリやホコリや水分の侵入を防止する気密構造にし
ている。
側の面に溝を設け、その溝内にゴム材料からなる第１の
パッキング３７を設ける。そして裏蓋３５とケース２５
との間に配置する第１のパッキング３７によって、時計
内にチリやホコリや水分の侵入を防止する気密構造にし
ている。
【００５４】そして時計の時刻表示手段として文字板２
１は、太陽電池１９と被覆部材１７とからなり、風防ガ
ラス２３の下面側に配置する。そして、文字板２１の受
光面側には、被覆部材１７を介して、ムーブメント２７
を駆動するための起電力を発生する太陽電池１９を備え
ている。
１は、太陽電池１９と被覆部材１７とからなり、風防ガ
ラス２３の下面側に配置する。そして、文字板２１の受
光面側には、被覆部材１７を介して、ムーブメント２７
を駆動するための起電力を発生する太陽電池１９を備え
ている。
【００５５】太陽電池１９は、光エネルギーを電気エネ
ルギーに変換する機能を有する。そして太陽電池１９
は、非単結晶シリコン薄膜にｐ型の不純物とｎ型の不純
物とを選択的に導入し、さらにｐ型の非単結晶シリコン
薄膜とｎ型の非単結晶シリコン薄膜との間に不純物濃度
の低いｉ型の非単結晶シリコン薄膜を有するｐｉｎ構造
をもつ。
ルギーに変換する機能を有する。そして太陽電池１９
は、非単結晶シリコン薄膜にｐ型の不純物とｎ型の不純
物とを選択的に導入し、さらにｐ型の非単結晶シリコン
薄膜とｎ型の非単結晶シリコン薄膜との間に不純物濃度
の低いｉ型の非単結晶シリコン薄膜を有するｐｉｎ構造
をもつ。
【００５６】そしてこの太陽電池１９は、４つの太陽電
池を直列に接続して、２．１Ｖから２．３Ｖの起電力を
得ている。
池を直列に接続して、２．１Ｖから２．３Ｖの起電力を
得ている。
【００５７】そしてさらに、太陽電池１９の受光面側に
は、この太陽電池１９を風防ガラス２３側から見えない
ように被覆部材１７を設ける。なお図３の平面図に示す
ように、被覆部材１７のおもて面には、時刻の５分ごと
や１分ごとの時刻目盛りや文字やマークを設ける。
は、この太陽電池１９を風防ガラス２３側から見えない
ように被覆部材１７を設ける。なお図３の平面図に示す
ように、被覆部材１７のおもて面には、時刻の５分ごと
や１分ごとの時刻目盛りや文字やマークを設ける。
【００５８】さらに被覆部材１７には、１２時位置と６
時位置にそれぞれ突起部４７を設ける。さらにまたこの
被覆部材１７の突起部４７に対応する凹部を中枠３３
（図２参照）に設け、そのうえさらにこの中枠３３には
被覆部材１７に対応する段差を設ける。
時位置にそれぞれ突起部４７を設ける。さらにまたこの
被覆部材１７の突起部４７に対応する凹部を中枠３３
（図２参照）に設け、そのうえさらにこの中枠３３には
被覆部材１７に対応する段差を設ける。
【００５９】そして被覆部材１７の突起部４７と中枠３
３の凹部とを位置合わせして、ムーブメント２７に対す
る文字板２１の位置を規制している。
３の凹部とを位置合わせして、ムーブメント２７に対す
る文字板２１の位置を規制している。
【００６０】さらに被覆部材１７には、時針を駆動する
筒車と、分針を駆動する筒カナと、秒針を駆動する秒針
車とを突出するための中心穴４１を設ける。
筒車と、分針を駆動する筒カナと、秒針を駆動する秒針
車とを突出するための中心穴４１を設ける。
【００６１】さらにまた被覆部材１７には、日付を表示
するための日板や、曜日を表示するための曜日板を、被
覆部材１７から覗かせるための窓部４３を設けている。
するための日板や、曜日を表示するための曜日板を、被
覆部材１７から覗かせるための窓部４３を設けている。
【００６２】中枠３３はムーブメント２７と被覆部材１
７と太陽電池１９とをケース２５に保持する働きをも
ち、中枠３３は樹脂材料で構成する。そしてケース２５
の開口内に中枠３３を介して、被覆部材１７と太陽電池
１９とムーブメント２７とを収納する。
７と太陽電池１９とをケース２５に保持する働きをも
ち、中枠３３は樹脂材料で構成する。そしてケース２５
の開口内に中枠３３を介して、被覆部材１７と太陽電池
１９とムーブメント２７とを収納する。
【００６３】前述のように中枠３３には、被覆部材１７
の板厚と同じ寸法の段差を設け、この中枠３３の段差に
被覆部材１７を落とし込むように収納している。このた
め、ケース２５や見切り３１と接触する面側は、中枠３
３と被覆部材１７との高さが揃い、ほぼ同一平面とな
る。
の板厚と同じ寸法の段差を設け、この中枠３３の段差に
被覆部材１７を落とし込むように収納している。このた
め、ケース２５や見切り３１と接触する面側は、中枠３
３と被覆部材１７との高さが揃い、ほぼ同一平面とな
る。
【００６４】さらに中枠３３には、被覆部材１７を収納
する段差の下側に太陽電池１９を収納するための開口を
設け、被覆部材１７の下面に太陽電池１９を配置してい
る。
する段差の下側に太陽電池１９を収納するための開口を
設け、被覆部材１７の下面に太陽電池１９を配置してい
る。
【００６５】そして被覆部材１７と太陽電池１９とムー
ブメント２７とを保持する中枠３３の風防ガラス２３と
反対側の端面領域を裏蓋３５で押圧することにより、見
切り３１とケース２５に被覆部材１７を押しつけるよう
に接触させている。
ブメント２７とを保持する中枠３３の風防ガラス２３と
反対側の端面領域を裏蓋３５で押圧することにより、見
切り３１とケース２５に被覆部材１７を押しつけるよう
に接触させている。
【００６６】見切り３１は被覆部材１９の外周領域を覆
い、時計の化粧板としての役割をもつ。そしてこの見切
り３１はケース２５と異なる材料で構成したり、見切り
３１表面をダイヤモンド工具を用いて研削加工して、そ
の表面を鏡面にしている。
い、時計の化粧板としての役割をもつ。そしてこの見切
り３１はケース２５と異なる材料で構成したり、見切り
３１表面をダイヤモンド工具を用いて研削加工して、そ
の表面を鏡面にしている。
【００６７】この被覆部材１７は、図１に示すように、
基板１１と、この基板１１上でしかも被覆部材１７の受
光面側に設ける反射防止層１３とから構成する。
基板１１と、この基板１１上でしかも被覆部材１７の受
光面側に設ける反射防止層１３とから構成する。
【００６８】そしてこの被覆部材１７は、被覆部材１７
に照射された光の１／２から２／３の光は透過して、太
陽電池１９に光照射されて、起電力が発生する。
に照射された光の１／２から２／３の光は透過して、太
陽電池１９に光照射されて、起電力が発生する。
【００６９】本発明の基板１１は、厚さ０．１ｍｍから
０．５ｍｍ程度のセラミックス材料で構成する。ここで
基板１１の厚さは薄いほうの限界は基板１１材料の強度
から制限され、厚いほうの限界は基板１１の透過率や時
計の厚さから制限され、前述の厚さ範囲となる。
０．５ｍｍ程度のセラミックス材料で構成する。ここで
基板１１の厚さは薄いほうの限界は基板１１材料の強度
から制限され、厚いほうの限界は基板１１の透過率や時
計の厚さから制限され、前述の厚さ範囲となる。
【００７０】そしてセラミックスからなる基板１１材料
としては、アルミナやジルコニア材料を使用する。
としては、アルミナやジルコニア材料を使用する。
【００７１】基板１１の受光面側に設ける反射防止層１
５は、有機膜あるいは無機膜から構成する。そして反射
防止層１５は、有機膜としては樹脂膜を適用し、無機膜
としては酸化シリコン膜（ＳｉＯ2 ）や窒化シリコン膜
（Ｓｉ3 Ｎ4 ）や酸化アルミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 ）や酸
化タンタル膜（Ｔａ2 Ｏ5 ）を適用する。
５は、有機膜あるいは無機膜から構成する。そして反射
防止層１５は、有機膜としては樹脂膜を適用し、無機膜
としては酸化シリコン膜（ＳｉＯ2 ）や窒化シリコン膜
（Ｓｉ3 Ｎ4 ）や酸化アルミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 ）や酸
化タンタル膜（Ｔａ2 Ｏ5 ）を適用する。
【００７２】これらの有機膜や無機膜からなる反射防止
層１５は、この反射防止層１５の光の透過率は９８％か
ら１００％であり、さらに表面あらさが小さくなめらか
表面をもっている。このため、反射防止層１５表面での
光の乱反射を低減することができる。
層１５は、この反射防止層１５の光の透過率は９８％か
ら１００％であり、さらに表面あらさが小さくなめらか
表面をもっている。このため、反射防止層１５表面での
光の乱反射を低減することができる。
【００７３】基板１１上に反射防止層１５を設けたとき
と、基板１１上に反射防止層１５を設けないときとの透
過率を比較すると、反射防止層１５を設けたときのほう
が、被覆部材１７における透過率は３．５％から５．０
％向上していた。
と、基板１１上に反射防止層１５を設けないときとの透
過率を比較すると、反射防止層１５を設けたときのほう
が、被覆部材１７における透過率は３．５％から５．０
％向上していた。
【００７４】これは被覆部材１１表面での光の乱反射
を、反射防止層１５を設けることによって少なくするこ
とができ、透過率を大きくすることができるためである
と考えている。その結果、被覆部材１７を透過して太陽
電池１９に照射される光の到達量が多くなり、太陽電池
１９の起電力が大きくなる。
を、反射防止層１５を設けることによって少なくするこ
とができ、透過率を大きくすることができるためである
と考えている。その結果、被覆部材１７を透過して太陽
電池１９に照射される光の到達量が多くなり、太陽電池
１９の起電力が大きくなる。
【００７５】つぎに本発明の実施例における時計用文字
板の製造方法を説明する。まずはじめに太陽電池１９を
形成するための製造方法を説明する。
板の製造方法を説明する。まずはじめに太陽電池１９を
形成するための製造方法を説明する。
【００７６】まずはじめに太陽電池１９の支持基板とし
て、鉄とニッケルとコバルトとの合金であるコバールを
プレス加工することにより、太陽電池１９の外形形状
と、中心穴４１と、必要に応じて表示窓４３とを形成す
る。
て、鉄とニッケルとコバルトとの合金であるコバールを
プレス加工することにより、太陽電池１９の外形形状
と、中心穴４１と、必要に応じて表示窓４３とを形成す
る。
【００７７】この太陽電池１９の支持基板として使用す
るコバールは、この支持基板上に形成する絶縁膜である
ガラス層と線膨張率とほぼ等しい。したがって、温度変
化によってガラス層が破損することを抑制することがで
きる。
るコバールは、この支持基板上に形成する絶縁膜である
ガラス層と線膨張率とほぼ等しい。したがって、温度変
化によってガラス層が破損することを抑制することがで
きる。
【００７８】その後、支持基板であるコバール裏面に２
つの文字板足（図示せず）を、スポット溶接や接着の手
段により形成する。
つの文字板足（図示せず）を、スポット溶接や接着の手
段により形成する。
【００７９】この文字板足は、ムーブメント２７と文字
板２１との相互の位置決めを行い、ムーブメント２７の
穴に文字板足を押し込むような構成や、文字板足の側面
からネジ止めする構成を採用することによって、文字板
２１をムーブメント２７に固定する。
板２１との相互の位置決めを行い、ムーブメント２７の
穴に文字板足を押し込むような構成や、文字板足の側面
からネジ止めする構成を採用することによって、文字板
２１をムーブメント２７に固定する。
【００８０】この文字板足は太陽電池１９に形成しなく
てもよく、さらに文字板足を形成した薄板と太陽電池を
形成したコバールの支持基板とを接着剤を用いて接合し
て、文字板２１としてもよい。
てもよく、さらに文字板足を形成した薄板と太陽電池を
形成したコバールの支持基板とを接着剤を用いて接合し
て、文字板２１としてもよい。
【００８１】その後、この文字板足を形成した面と反対
側の面の全面に、液状の塗布ガラス膜（ＳＯＧ）を回転
塗布法により形成する。
側の面の全面に、液状の塗布ガラス膜（ＳＯＧ）を回転
塗布法により形成する。
【００８２】その後、温度３００℃から４００℃で焼成
処理を行い、塗布ガラス膜中に含まれる溶媒を蒸発させ
て、ガラス層（図示せず）を形成する。
処理を行い、塗布ガラス膜中に含まれる溶媒を蒸発させ
て、ガラス層（図示せず）を形成する。
【００８３】このガラス層は１μｍから２μｍの膜厚で
形成し、この膜厚の制御は回転塗布法における回転数
や、塗布ガラス膜に含まれる溶媒の粘度を調整すること
により可能である。
形成し、この膜厚の制御は回転塗布法における回転数
や、塗布ガラス膜に含まれる溶媒の粘度を調整すること
により可能である。
【００８４】なおこの塗布ガラス膜は、回転塗布法以外
に、印刷法や、塗布ガラス液中に基板を浸漬して形成す
るディップ法や、ロールを用いて形成する方法によって
も形成することができる。
に、印刷法や、塗布ガラス液中に基板を浸漬して形成す
るディップ法や、ロールを用いて形成する方法によって
も形成することができる。
【００８５】つぎにスパッタリング装置を用いて、下部
電極（図示せず）を形成する。この下部電極はシリコン
を１重量％程度含むアルミニウムを用いる。この下部電
極はガラス層上に選択的に形成し、その膜厚は１μｍと
する。
電極（図示せず）を形成する。この下部電極はシリコン
を１重量％程度含むアルミニウムを用いる。この下部電
極はガラス層上に選択的に形成し、その膜厚は１μｍと
する。
【００８６】選択的に下部電極を形成するときは、メタ
ルマスクを使用する。このメタルマスクは薄板の金属材
料で構成し、下部電極を形成する領域に開口部を設け
る。そして開口部を形成したメタルマスクをコバールの
支持基板上に重ね、スパッタリング装置内に配置し、開
口内に下部電極を形成する。
ルマスクを使用する。このメタルマスクは薄板の金属材
料で構成し、下部電極を形成する領域に開口部を設け
る。そして開口部を形成したメタルマスクをコバールの
支持基板上に重ね、スパッタリング装置内に配置し、開
口内に下部電極を形成する。
【００８７】さらに同じスパッタリング装置を用いて、
下部電極の上面にクロム（Ｃｒ）からなる拡散防止層
（図示せず）を、１００ｎｍの膜厚で形成する。この拡
散防止層は、下部電極と半導体層との相互拡散を防止す
る役割を有する。
下部電極の上面にクロム（Ｃｒ）からなる拡散防止層
（図示せず）を、１００ｎｍの膜厚で形成する。この拡
散防止層は、下部電極と半導体層との相互拡散を防止す
る役割を有する。
【００８８】この拡散防止層は、下部電極として高融点
金属や、高融点金属とシリコンとを合金膜を用いるとき
は、下部電極と半導体層との相互拡散を抑制することが
できるので、この拡散防止層の形成は省略することがで
きる。
金属や、高融点金属とシリコンとを合金膜を用いるとき
は、下部電極と半導体層との相互拡散を抑制することが
できるので、この拡散防止層の形成は省略することがで
きる。
【００８９】つぎに拡散防止層の上面に、薄膜の非単結
晶シリコン膜からなり太陽電池として働く半導体層を、
メタルマスクを用いて選択的に形成する。
晶シリコン膜からなり太陽電池として働く半導体層を、
メタルマスクを用いて選択的に形成する。
【００９０】半導体層は、非単結晶シリコン膜としてア
モルファスシリコン膜で構成し、導電型としては、拡散
防止層側からｎ−ｉ−ｐ構造を採用する。
モルファスシリコン膜で構成し、導電型としては、拡散
防止層側からｎ−ｉ−ｐ構造を採用する。
【００９１】この半導体層の形成は、プラズマ化学気相
成長装置を用いて行う。反応ガスとしてはシランガス
（ＳｉＨ4 ）を使用し、導電型がｎ型のアモルファスシ
リコンは不純物としてジボランガス（Ｂ2 Ｈ6 ）を添加
して形成し、導電型がｐ型のアモルファスシリコンは不
純物としてフォスフィンガス（ＰＨ3 ）を添加して形成
する。なおｉ型のアモルファスシリコンは、不純物を添
加しないで形成すればよい。
成長装置を用いて行う。反応ガスとしてはシランガス
（ＳｉＨ4 ）を使用し、導電型がｎ型のアモルファスシ
リコンは不純物としてジボランガス（Ｂ2 Ｈ6 ）を添加
して形成し、導電型がｐ型のアモルファスシリコンは不
純物としてフォスフィンガス（ＰＨ3 ）を添加して形成
する。なおｉ型のアモルファスシリコンは、不純物を添
加しないで形成すればよい。
【００９２】そしてｐ層、ｎ層の膜厚は、それぞれの５
０〜１００ｎｍとし、ｉ層の膜厚は５０〜３００ｎｍと
する。
０〜１００ｎｍとし、ｉ層の膜厚は５０〜３００ｎｍと
する。
【００９３】このｐ−ｉ−ｎ構造のアモルファスシリコ
ンからなる半導体層は、プラズマ化学的気相成長装置内
で連続的に形成する。
ンからなる半導体層は、プラズマ化学的気相成長装置内
で連続的に形成する。
【００９４】このときパターニングする下部電極間のス
ペース寸法を大きくするか、あるいは半導体層の最下層
のｎ型の半導体層のシート抵抗値を１０8 Ωから１０10
Ωとすると、隣接する半導体層１９間のリーク電流を低
く抑えることが可能となり、全面に半導体層を形成する
ことができる。
ペース寸法を大きくするか、あるいは半導体層の最下層
のｎ型の半導体層のシート抵抗値を１０8 Ωから１０10
Ωとすると、隣接する半導体層１９間のリーク電流を低
く抑えることが可能となり、全面に半導体層を形成する
ことができる。
【００９５】つぎに半導体層の上面に透明電極膜として
酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）をスパッタリング装置を
用いて選択的に形成し、上部電極（図示せず）とする。
酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）をスパッタリング装置を
用いて選択的に形成し、上部電極（図示せず）とする。
【００９６】この上部電極は、半導体層の上面と拡散防
止層に接続するように選択的に形成する。そして上部電
極は、１００ｎｍの膜厚で形成する。
止層に接続するように選択的に形成する。そして上部電
極は、１００ｎｍの膜厚で形成する。
【００９７】選択的に上部電極を形成するときは、下部
電極と半導体層との形成方法と同じように、メタルマス
クを使用する。メタルマスクは薄板の金属材料からな
り、透明電極膜を形成する領域に、開口部を設ける。そ
して開口部を形成したメタルマスクを半導体層上に重
ね、スパッタリング装置内に配置し、開口内に酸化イン
ジウムスズを形成する。
電極と半導体層との形成方法と同じように、メタルマス
クを使用する。メタルマスクは薄板の金属材料からな
り、透明電極膜を形成する領域に、開口部を設ける。そ
して開口部を形成したメタルマスクを半導体層上に重
ね、スパッタリング装置内に配置し、開口内に酸化イン
ジウムスズを形成する。
【００９８】その後、透過率が９９％程度のアクリル樹
脂やエポキシ樹脂を回転塗布法によって全面に形成し、
温度２００℃で焼成処理を行い、保護膜（図示せず）を
形成し、太陽電池１９を形成することができる。
脂やエポキシ樹脂を回転塗布法によって全面に形成し、
温度２００℃で焼成処理を行い、保護膜（図示せず）を
形成し、太陽電池１９を形成することができる。
【００９９】この保護膜は膜厚２μｍで形成する。そし
て、ケース２５内が気密性よく、水分の侵入がなく、湿
度変化が小さければ、前述の保護膜の形成は省略するこ
とができる。
て、ケース２５内が気密性よく、水分の侵入がなく、湿
度変化が小さければ、前述の保護膜の形成は省略するこ
とができる。
【０１００】つぎに被覆部材１７の形成方法を説明す
る。まずはじめに基板１１の形成方法を説明する。セラ
ミック材料であるアルミナやジルコニアと、バインダー
とを混合したものを金型内に入れる。
る。まずはじめに基板１１の形成方法を説明する。セラ
ミック材料であるアルミナやジルコニアと、バインダー
とを混合したものを金型内に入れる。
【０１０１】ここでアルミナやジルコニアは、粒径が
０．３μｍのものを使用し、バインダーは３．０％添加
する。
０．３μｍのものを使用し、バインダーは３．０％添加
する。
【０１０２】ここでアルミナやジルコニアの純度は９
９．９％以上のものを使用し、バインダーはポリビニー
ルアルコール（ＰＶＡ）を使用する。
９．９％以上のものを使用し、バインダーはポリビニー
ルアルコール（ＰＶＡ）を使用する。
【０１０３】その後、セラミックス材料とバインダーと
を入れた金型に、プレス装置を使用して加圧処理を行
う。この加圧処理のときの圧力は、１トン／ｃｍ2 の条
件で行う。
を入れた金型に、プレス装置を使用して加圧処理を行
う。この加圧処理のときの圧力は、１トン／ｃｍ2 の条
件で行う。
【０１０４】このとき基板１１は、外形形状だけでな
く、位置規制を行う突起４７や、日付けや曜日を表示す
るための窓部４３や、筒車や筒カナや秒針軸を突出する
ための中心穴４１を同時に形成する。
く、位置規制を行う突起４７や、日付けや曜日を表示す
るための窓部４３や、筒車や筒カナや秒針軸を突出する
ための中心穴４１を同時に形成する。
【０１０５】その後、第１の焼成処理を行って、セラミ
ックスに添加したポリビニールアルコールからなるバイ
ンダーを除去する。この第１の焼成処理は、１２００℃
から１４００℃程度の温度条件で、焼成時間は１２０分
で、焼成雰囲気は大気中で行う。このバインダーを除去
する第１の焼成処理によって、外形寸法は多少小さくな
るが、その厚さはほとんど変化しない。
ックスに添加したポリビニールアルコールからなるバイ
ンダーを除去する。この第１の焼成処理は、１２００℃
から１４００℃程度の温度条件で、焼成時間は１２０分
で、焼成雰囲気は大気中で行う。このバインダーを除去
する第１の焼成処理によって、外形寸法は多少小さくな
るが、その厚さはほとんど変化しない。
【０１０６】その後、第１の焼成処理より高い温度で第
２の焼成処理を行う。この第２の焼成処理は、セラミッ
クスが溶融する温度である１５００℃から１９００℃の
温度で、焼成時間が３００分の条件で行う。なお焼成雰
囲気は水素とする。
２の焼成処理を行う。この第２の焼成処理は、セラミッ
クスが溶融する温度である１５００℃から１９００℃の
温度で、焼成時間が３００分の条件で行う。なお焼成雰
囲気は水素とする。
【０１０７】この第２の焼成処理においては、前述のよ
うに、セラミックス材料が溶融する温度で行うため、そ
の粒径は０．３μｍより大きくなる。
うに、セラミックス材料が溶融する温度で行うため、そ
の粒径は０．３μｍより大きくなる。
【０１０８】このセラミックスの粒径の拡大処理によ
り、基板１１の光の透過率を大きくすることができる。
この粒径の拡大処理による透過率向上の原因は、基板１
１表面での反射光が低減できるためである。
り、基板１１の光の透過率を大きくすることができる。
この粒径の拡大処理による透過率向上の原因は、基板１
１表面での反射光が低減できるためである。
【０１０９】その後、研削装置を用いて、基板１１の表
面に発生するうねりを除去し、その表面を平坦化する。
この研削加工は両面同時加工、あるいは加工治具にセラ
ミックスをワックスを用いて貼り付けて片面加工による
方法がある。なお、研削加工はダイヤモンド砥粒やダイ
ヤモンド砥石を用いて行う。
面に発生するうねりを除去し、その表面を平坦化する。
この研削加工は両面同時加工、あるいは加工治具にセラ
ミックスをワックスを用いて貼り付けて片面加工による
方法がある。なお、研削加工はダイヤモンド砥粒やダイ
ヤモンド砥石を用いて行う。
【０１１０】この研削加工における研削加工寸法として
は、０．３ｍｍ程度の厚さとする。すなわち金型による
加圧処理の終了時点で、基板１１の最終仕上がり寸法よ
り、０．３ｍｍ程度厚い寸法に設定しておく。
は、０．３ｍｍ程度の厚さとする。すなわち金型による
加圧処理の終了時点で、基板１１の最終仕上がり寸法よ
り、０．３ｍｍ程度厚い寸法に設定しておく。
【０１１１】その後、第２の焼成処理より低い温度であ
る１２００℃から１４００℃で、焼成時間が１２０分の
条件で、セラミックスを第３の焼成処理を行う。この第
３の焼成処理は水素中で行い、基板１１表面に付着する
汚れを除去する。
る１２００℃から１４００℃で、焼成時間が１２０分の
条件で、セラミックスを第３の焼成処理を行う。この第
３の焼成処理は水素中で行い、基板１１表面に付着する
汚れを除去する。
【０１１２】その後、バレル装置を用いて基板１１をバ
レル加工する。なおこのバレル加工は、銅（Ｃｕ）ボー
ルを用いて行う。
レル加工する。なおこのバレル加工は、銅（Ｃｕ）ボー
ルを用いて行う。
【０１１３】このバレル加工によって、基板１１の表面
あらさが小さくなり、基板１１の光の透過率が向上す
る。さらにバレル加工によって、基板１１の外縁部やコ
ーナー部に発生するバリを取ることができ、さらにコー
ナー部に丸みを形成することができる。
あらさが小さくなり、基板１１の光の透過率が向上す
る。さらにバレル加工によって、基板１１の外縁部やコ
ーナー部に発生するバリを取ることができ、さらにコー
ナー部に丸みを形成することができる。
【０１１４】その後、第２の焼成処理より低い温度であ
る１２００℃から１４００℃で、焼成時間が１２０分の
条件で、基板１１の第４の焼成処理を行、基板１１を形
成することができる。なおこの第４の焼成処理は水素中
で行い、表面に付着する汚れを除去して、表面の清浄化
処理を行う。
る１２００℃から１４００℃で、焼成時間が１２０分の
条件で、基板１１の第４の焼成処理を行、基板１１を形
成することができる。なおこの第４の焼成処理は水素中
で行い、表面に付着する汚れを除去して、表面の清浄化
処理を行う。
【０１１５】なお、以上説明した基板１１の製造工程に
おいて、金型を用いて行うセラミックス材料の加圧処理
と第１と第２の焼成処理とにおいて、表面平坦性や厚さ
ばらつきを小さくすることができれば、厚さ制御と表面
平坦性のための研削加工と、この研削加工後の第３の焼
成処理とは省略することができる。
おいて、金型を用いて行うセラミックス材料の加圧処理
と第１と第２の焼成処理とにおいて、表面平坦性や厚さ
ばらつきを小さくすることができれば、厚さ制御と表面
平坦性のための研削加工と、この研削加工後の第３の焼
成処理とは省略することができる。
【０１１６】つぎに基板１１の受光面側に反射防止層１
５を形成する製造方法を説明する。はじめに有機膜から
なる反射防止層１５の形成方法を説明する。
５を形成する製造方法を説明する。はじめに有機膜から
なる反射防止層１５の形成方法を説明する。
【０１１７】本発明の実施例では反射防止層１５である
有機膜からなる樹脂膜としては、エポキシ系樹脂材料を
使用する。基板１１上に回転塗布法を用いて、日本合成
ゴムのＪＳＳ−７１５（商品名）を基板１１の受光面側
に、５μｍの膜厚になるように形成する。
有機膜からなる樹脂膜としては、エポキシ系樹脂材料を
使用する。基板１１上に回転塗布法を用いて、日本合成
ゴムのＪＳＳ−７１５（商品名）を基板１１の受光面側
に、５μｍの膜厚になるように形成する。
【０１１８】その後、加熱炉を用いて温度２００℃から
２５０℃で焼成処理して、有機膜中の溶媒を蒸発させ
て、反射防止層１５を形成する。
２５０℃で焼成処理して、有機膜中の溶媒を蒸発させ
て、反射防止層１５を形成する。
【０１１９】このエポキシ系樹脂材料からなる反射防止
層１５は、光の透過率は９８％から９９％であり、その
うえさらに被膜表面は表面あらさは小さくなめらかな表
面をもつため、表面での光の乱反射を低減して、被覆部
材１７における光の透過率が増大する。この結果、太陽
電池１９の起電力が大きくなる。
層１５は、光の透過率は９８％から９９％であり、その
うえさらに被膜表面は表面あらさは小さくなめらかな表
面をもつため、表面での光の乱反射を低減して、被覆部
材１７における光の透過率が増大する。この結果、太陽
電池１９の起電力が大きくなる。
【０１２０】つぎに無機膜からなる反射防止層１５の形
成方法を説明する。無機膜からなる反射防止層１５材料
として、塗布ガラス膜を用いる実施例をまず説明する。
成方法を説明する。無機膜からなる反射防止層１５材料
として、塗布ガラス膜を用いる実施例をまず説明する。
【０１２１】塗布ガラス膜とは、ガラス材料とアルコー
ルなどの溶剤とを混合したものであり、回転塗布法によ
り基板１１上に形成する。このとき回転塗布装置の回転
数や塗布ガラス膜の粘度を調整することにより、形成膜
厚を制御することができる。形成する反射防止層１５膜
厚としては、３μｍとする。
ルなどの溶剤とを混合したものであり、回転塗布法によ
り基板１１上に形成する。このとき回転塗布装置の回転
数や塗布ガラス膜の粘度を調整することにより、形成膜
厚を制御することができる。形成する反射防止層１５膜
厚としては、３μｍとする。
【０１２２】その後、加熱炉を用いて温度３００℃から
４００℃で焼成処理を行って、塗布ガラス膜中に含まれ
る溶剤を蒸発させて、塗布ガラス膜からなる反射防止層
１５を得る。
４００℃で焼成処理を行って、塗布ガラス膜中に含まれ
る溶剤を蒸発させて、塗布ガラス膜からなる反射防止層
１５を得る。
【０１２３】この塗布ガラス膜からなる反射防止層１５
においては、光の透過率は９８％から９９％であり、そ
のうえさらに被膜表面は表面あらさは小さくなめらかな
表面をもつため、表面での光の乱反射を低減して、被覆
部材１７における光の透過率が増大し、太陽電池１９に
おける起電力が大きくなる。
においては、光の透過率は９８％から９９％であり、そ
のうえさらに被膜表面は表面あらさは小さくなめらかな
表面をもつため、表面での光の乱反射を低減して、被覆
部材１７における光の透過率が増大し、太陽電池１９に
おける起電力が大きくなる。
【０１２４】つぎに無機膜からなる反射防止層１５の形
成方法において、その被膜形成方法として物理蒸着法を
適用して反射防止層１５を形成する方法を説明する。
成方法において、その被膜形成方法として物理蒸着法を
適用して反射防止層１５を形成する方法を説明する。
【０１２５】この物理蒸着法としては、真空蒸着法やス
パッタリング法やイオンビーム蒸着法がある。そして物
理蒸着法は、真空中において中性またはイオン化した粒
子を基板に入射させて被膜形成する方法である。この物
理蒸着法では、酸化シリコン膜や酸化アルミニウム膜や
酸化タンタル膜を形成することができる。
パッタリング法やイオンビーム蒸着法がある。そして物
理蒸着法は、真空中において中性またはイオン化した粒
子を基板に入射させて被膜形成する方法である。この物
理蒸着法では、酸化シリコン膜や酸化アルミニウム膜や
酸化タンタル膜を形成することができる。
【０１２６】この物理蒸着法から形成する反射防止層１
５においては、光の透過率は９８％から１００％であ
り、そのうえさらに被膜表面は表面あらさは小さくなめ
らかな表面をもつため、表面での光の乱反射を低減し
て、被覆部材１７における光の透過率が増大し、太陽電
池１９における起電力が大きくなる。
５においては、光の透過率は９８％から１００％であ
り、そのうえさらに被膜表面は表面あらさは小さくなめ
らかな表面をもつため、表面での光の乱反射を低減し
て、被覆部材１７における光の透過率が増大し、太陽電
池１９における起電力が大きくなる。
【０１２７】つぎに無機膜からなる反射防止層１５の形
成方法において、その被膜形成方法として化学的気相成
長法を適用して反射防止層１５を形成する方法を説明す
る。
成方法において、その被膜形成方法として化学的気相成
長法を適用して反射防止層１５を形成する方法を説明す
る。
【０１２８】この化学的気相成長法とは、形成しようと
する被膜の化合物のガスを高温に加熱した基板上に輸送
し、熱分解もしくはほかのガスや蒸気を反応させて基板
上に反応生成物を析出させる被膜形成方法である。この
化学的気相成長法では、酸化シリコン膜や窒化シリコン
膜を形成することができる。
する被膜の化合物のガスを高温に加熱した基板上に輸送
し、熱分解もしくはほかのガスや蒸気を反応させて基板
上に反応生成物を析出させる被膜形成方法である。この
化学的気相成長法では、酸化シリコン膜や窒化シリコン
膜を形成することができる。
【０１２９】この酸化シリコン膜を形成するときは、被
膜の化合物ガスとしてはモノシラン（ＳｉＨ4 ）と酸素
（Ｏ2 ）とを用いる。さらに窒化シリコン膜を形成する
ときは、被膜の化合物ガスとしてはモノシラン（ＳｉＨ
4 ）とアンモニア（ＮＨ3 ）とを使用する。
膜の化合物ガスとしてはモノシラン（ＳｉＨ4 ）と酸素
（Ｏ2 ）とを用いる。さらに窒化シリコン膜を形成する
ときは、被膜の化合物ガスとしてはモノシラン（ＳｉＨ
4 ）とアンモニア（ＮＨ3 ）とを使用する。
【０１３０】この化学的気相成長法から形成する反射防
止層１５においては、光の透過率は９８％から１００％
であり、そのうえさらに被膜表面は表面あらさは小さく
なめらかな表面をもつため、表面での光の乱反射を低減
して、被覆部材１７における光の透過率が増大し、太陽
電池１９における起電力が大きくなる。
止層１５においては、光の透過率は９８％から１００％
であり、そのうえさらに被膜表面は表面あらさは小さく
なめらかな表面をもつため、表面での光の乱反射を低減
して、被覆部材１７における光の透過率が増大し、太陽
電池１９における起電力が大きくなる。
【０１３１】このように被覆部材１７の受光面側に反射
防止層１５を形成した基板１１に、その後、時刻の５分
ごとや１分ごとの時刻目盛りや文字やマークを形成す
る。この時刻目盛りなどは被覆部材１７に形成せず、見
切り３１に形成してもよい。
防止層１５を形成した基板１１に、その後、時刻の５分
ごとや１分ごとの時刻目盛りや文字やマークを形成す
る。この時刻目盛りなどは被覆部材１７に形成せず、見
切り３１に形成してもよい。
【０１３２】つぎに以上の説明と異なる構造の被覆部材
の構造を、図４を用いて説明する。図４は本発明の実施
例における被覆部材を収納する時計を示す断面図であ
る。この図４においては、図２の構成と同等の箇所には
同一の符号を付けている。なお以下の説明は、先の実施
例との相違点を中心に説明し、先の実施例とおなじ構成
の説明は省略する。
の構造を、図４を用いて説明する。図４は本発明の実施
例における被覆部材を収納する時計を示す断面図であ
る。この図４においては、図２の構成と同等の箇所には
同一の符号を付けている。なお以下の説明は、先の実施
例との相違点を中心に説明し、先の実施例とおなじ構成
の説明は省略する。
【０１３３】図４に示す被覆部材１７の構成は、先の実
施例と同じ構成を採用する。そしてその相違点は、見切
り３１によって覆われる領域の被覆部材１７に２つの貫
通穴を設け、この貫通穴に文字板足４５を設ける。そし
てこの文字板足４５を用いてムーブメント２７に対する
文字板２１の位置を規制している。
施例と同じ構成を採用する。そしてその相違点は、見切
り３１によって覆われる領域の被覆部材１７に２つの貫
通穴を設け、この貫通穴に文字板足４５を設ける。そし
てこの文字板足４５を用いてムーブメント２７に対する
文字板２１の位置を規制している。
【０１３４】さらに太陽電池１９には、この文字板足４
５に対応する開口を設ける。そしてこの文字板足４５の
側面からネジ止めしたり、あるいはムーブメント２７に
設ける穴に文字板足４５を押し込むことによって、ムー
ブメント２７に被覆部材１７と太陽電池１９とを固定し
ている。
５に対応する開口を設ける。そしてこの文字板足４５の
側面からネジ止めしたり、あるいはムーブメント２７に
設ける穴に文字板足４５を押し込むことによって、ムー
ブメント２７に被覆部材１７と太陽電池１９とを固定し
ている。
【０１３５】なお以上の実施例の説明では、セラミック
スからなる基板１１は金型を用いて加圧処理により形成
したが、グリーンシートを用いてプレス加工しその後焼
成処理して形成したり、粉末射出成形により形成しその
後焼成処理して基板１１を形成してもよい。
スからなる基板１１は金型を用いて加圧処理により形成
したが、グリーンシートを用いてプレス加工しその後焼
成処理して形成したり、粉末射出成形により形成しその
後焼成処理して基板１１を形成してもよい。
【０１３６】さらに基板１１の反射防止層１５を形成す
る面側のラッピング加工を行い、その表面あらさを小さ
くすると、さらに被覆部材１７における光の透過率を向
上させることができる。
る面側のラッピング加工を行い、その表面あらさを小さ
くすると、さらに被覆部材１７における光の透過率を向
上させることができる。
【０１３７】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の文字板の被覆部材においては、基板の受光面側に反射
防止層を設けている。そしてこの基板としてはセラミッ
クを適用する。このため基板の受光面側に反射防止層を
設けることによって、基板表面での光の反射を低減し、
被覆部材での透過率が大きくなり、太陽電池に到達する
光量が増大し、この太陽電池の起電力が大きくなる。
の文字板の被覆部材においては、基板の受光面側に反射
防止層を設けている。そしてこの基板としてはセラミッ
クを適用する。このため基板の受光面側に反射防止層を
設けることによって、基板表面での光の反射を低減し、
被覆部材での透過率が大きくなり、太陽電池に到達する
光量が増大し、この太陽電池の起電力が大きくなる。
【図１】本発明の実施例における時計用文字板の構成お
よびその製造方法を示す断面図である。
よびその製造方法を示す断面図である。
【図２】本発明の実施例における時計用文字板を適用し
た時計を示す断面図である。
た時計を示す断面図である。
【図３】本発明の実施例における時計用文字板の構成お
よびその製造方法を示す平面図である。
よびその製造方法を示す平面図である。
【図４】本発明の実施例における時計用文字板を適用し
た時計を示す断面図である。
た時計を示す断面図である。
１１ 基板 １５ 反射防止層 １７ 被覆部材 １９ 太陽電池 ２１ 文字板 ２７ ムーブメント ４７ 突起部
Claims (36)
- 【請求項１】 風防ガラスを有するケースと、指針を駆
動するムーブメントと、ムーブメントの風防ガラス側に
配置する太陽電池と、太陽電池の受光面側に配置する被
覆部材とを備え、被覆部材は基板と基板上に設ける反射
防止層とを有することを特徴とする時計用文字板。 - 【請求項２】 風防ガラスを有するケースと、指針を駆
動するムーブメントと、ムーブメントの風防ガラス側に
配置する太陽電池と、太陽電池の受光面側に配置する被
覆部材とを備え、被覆部材はセラミックスからなる基板
と基板上に設ける反射防止層とを有することを特徴とす
る時計用文字板。 - 【請求項３】 風防ガラスを有するケースと、指針を駆
動するムーブメントと、ムーブメントの風防ガラス側に
配置する太陽電池と、太陽電池の受光面側に配置する被
覆部材とを備え、被覆部材はセラミックスからなる基板
と基板上に設ける有機膜からなる反射防止層とを有する
ことを特徴とする時計用文字板。 - 【請求項４】 風防ガラスを有するケースと、指針を駆
動するムーブメントと、ムーブメントの風防ガラス側に
配置する太陽電池と、太陽電池の受光面側に配置する被
覆部材とを備え、被覆部材はセラミックスからなる基板
と基板上に設ける無機膜からなる反射防止層とを有する
ことを特徴とする時計用文字板。 - 【請求項５】 風防ガラスを有するケースと、指針を駆
動するムーブメントと、ムーブメントの風防ガラス側に
配置する太陽電池と、太陽電池の受光面側に配置する被
覆部材とを備え、被覆部材はセラミックスからなる基板
と基板上に設ける樹脂膜からなる有機膜の反射防止層と
を有することを特徴とする時計用文字板。 - 【請求項６】 風防ガラスを有するケースと、指針を駆
動するムーブメントと、ムーブメントの風防ガラス側に
配置する太陽電池と、太陽電池の受光面側に配置する被
覆部材とを備え、被覆部材はセラミックスからなる基板
と基板上に設ける酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸
化アルミニウム膜、あるいは酸化タンタル膜からなる無
機膜の反射防止層とを有することを特徴とする時計用文
字板。 - 【請求項７】 バインダーを含むセラミックス材料を金
型内に入れ加圧処理と焼成処理を行い被覆部材を構成す
る基板を形成する工程と、基板上に有機膜を形成し、焼
成処理を行い反射防止層を形成する工程とを有すること
を特徴とする時計用文字板の製造方法。 - 【請求項８】 グリーンシートをプレス加工し焼成処理
を行い被覆部材を構成する基板を形成する工程と、基板
上に有機膜を形成し、焼成処理を行い反射防止層を形成
する工程とを有することを特徴とする時計用文字板の製
造方法。 - 【請求項９】 粉末射出成形と焼成処理を行い被覆部材
を構成する基板を形成する工程と、基板上に有機膜を形
成し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工程とを有
することを特徴とする時計用文字板の製造方法。 - 【請求項１０】 バインダーを含むセラミックス材料を
金型内に入れ加圧処理と焼成処理を行い被覆部材を構成
する基板を形成する工程と、基板上に樹脂膜からなる有
機膜を形成し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工
程とを有することを特徴とする時計用文字板の製造方
法。 - 【請求項１１】 グリーンシートをプレス加工し焼成処
理を行い被覆部材を構成する基板を形成する工程と、基
板上に樹脂膜からなる有機膜を形成し、焼成処理を行い
反射防止層を形成する工程とを有することを特徴とする
時計用文字板の製造方法。 - 【請求項１２】 粉末射出成形と焼成処理を行い被覆部
材を構成する基板を形成する工程と、基板上に樹脂膜か
らなる有機膜を形成し、焼成処理を行い反射防止層を形
成する工程とを有することを特徴とする時計用文字板の
製造方法。 - 【請求項１３】 バインダーを含むセラミックス材料を
金型内に入れ加圧処理と焼成処理を行い被覆部材を構成
する基板を形成する工程と、基板上に無機膜からなる反
射防止層を物理蒸着法により形成する工程とを有するこ
とを特徴とする時計用文字板の製造方法。 - 【請求項１４】 グリーンシートをプレス加工し焼成処
理を行い被覆部材を構成する基板を形成する工程と、基
板上に無機膜からなる反射防止層を物理蒸着法により形
成する工程とを有することを特徴とする時計用文字板の
製造方法。 - 【請求項１５】 粉末射出成形と焼成処理を行い被覆部
材を構成する基板を形成する工程と、基板上に無機膜か
らなる反射防止層を物理蒸着法により形成する工程とを
有することを特徴とする時計用文字板の製造方法。 - 【請求項１６】 バインダーを含むセラミックス材料を
金型内に入れ加圧処理と焼成処理を行い被覆部材を構成
する基板を形成する工程と、基板上に無機膜からなる反
射防止層を化学的気相成長法により形成する工程とを有
することを特徴とする時計用文字板の製造方法。 - 【請求項１７】 グリーンシートをプレス加工し焼成処
理を行い被覆部材を構成する基板を形成する工程と、基
板上に無機膜からなる反射防止層を化学的気相成長法に
より形成する工程とを有することを特徴とする時計用文
字板の製造方法。 - 【請求項１８】 粉末射出成形と焼成処理を行い被覆部
材を構成する基板を形成する工程と、基板上に無機膜か
らなる反射防止層を化学的気相成長法により形成する工
程とを有することを特徴とする時計用文字板の製造方
法。 - 【請求項１９】 バインダーを含むセラミックス材料を
金型内に入れ加圧処理と焼成処理を行い被覆部材を構成
する基板を形成する工程と、基板上に塗布ガラス膜を形
成し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工程とを有
することを特徴とする時計用文字板の製造方法。 - 【請求項２０】 グリーンシートをプレス加工し焼成処
理を行い被覆部材を構成する基板を形成する工程と、基
板上に塗布ガラス膜を形成し、焼成処理を行い反射防止
層を形成する工程とを有することを特徴とする時計用文
字板の製造方法。 - 【請求項２１】 粉末射出成形と焼成処理を行い被覆部
材を構成する基板を形成する工程と、基板上に塗布ガラ
ス膜を形成し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工
程とを有することを特徴とする時計用文字板の製造方
法。 - 【請求項２２】 バインダーを含むセラミックス材料を
金型内に入れ加圧処理と焼成処理を行い被覆部材を構成
する基板を形成する工程と、基板上に有機膜を形成し、
焼成処理を行い反射防止層を形成する工程と、受光面側
に時刻目盛りと文字とマークを形成する工程とを有する
ことを特徴とする時計用文字板の製造方法。 - 【請求項２３】 グリーンシートをプレス加工し焼成処
理を行い被覆部材を構成する基板を形成する工程と、基
板上に有機膜を形成し、焼成処理を行い反射防止層を形
成する工程と、受光面側に時刻目盛りと文字とマークを
形成する工程とを有することを特徴とする時計用文字板
の製造方法。 - 【請求項２４】 粉末射出成形と焼成処理を行い被覆部
材を構成する基板を形成する工程と、基板上に有機膜を
形成し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工程と、
受光面側に時刻目盛りと文字とマークを形成する工程と
を有すること特徴とする時計用文字板の製造方法。 - 【請求項２５】 バインダーを含むセラミックス材料を
金型内に入れ加圧処理と焼成処理を行い被覆部材を構成
する基板を形成する工程と、基板上に樹脂膜からなる有
機膜を形成し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工
程と、受光面側に時刻目盛りと文字とマークを形成する
工程とを有すること特徴とする時計用文字板の製造方
法。 - 【請求項２６】 グリーンシートをプレス加工し焼成処
理を行い被覆部材を構成する基板を形成する工程と、基
板上に樹脂膜からなる有機膜を形成し、焼成処理を行い
反射防止層を形成する工程と、受光面側に時刻目盛りと
文字とマークを形成する工程とを有すること特徴とする
時計用文字板の製造方法。 - 【請求項２７】 粉末射出成形と焼成処理を行い被覆部
材を構成する基板を形成する工程と、基板上に樹脂膜か
らなる有機膜を形成し、焼成処理を行い反射防止層を形
成する工程と、受光面側に時刻目盛りと文字とマークを
形成する工程とを有すること特徴とする時計用文字板の
製造方法。 - 【請求項２８】 バインダーを含むセラミックス材料を
金型内に入れ加圧処理と焼成処理を行い被覆部材を構成
する基板を形成する工程と、基板上に無機膜からなる反
射防止層を物理蒸着法により形成する工程と、受光面側
に時刻目盛りと文字とマークを形成する工程とを有する
こと特徴とする時計用文字板の製造方法。 - 【請求項２９】 グリーンシートをプレス加工し焼成処
理を行い被覆部材を構成する基板を形成する工程と、基
板上に無機膜からなる反射防止層を物理蒸着法により形
成する工程と、受光面側に時刻目盛りと文字とマークを
形成する工程とを有すること特徴とする時計用文字板の
製造方法。 - 【請求項３０】 粉末射出成形と焼成処理を行い被覆部
材を構成する基板を形成する工程と、基板上に無機膜か
らなる反射防止層を物理蒸着法により形成する工程と、
受光面側に時刻目盛りと文字とマークを形成する工程と
を有すること特徴とする時計用文字板の製造方法。 - 【請求項３１】 バインダーを含むセラミックス材料を
金型内に入れ加圧処理と焼成処理を行い被覆部材を構成
する基板を形成する工程と、基板上に無機膜からなる反
射防止層を化学的気相成長法により形成する工程と、受
光面側に時刻目盛りと文字とマークを形成する工程とを
有すること特徴とする時計用文字板の製造方法。 - 【請求項３２】 グリーンシートをプレス加工し焼成処
理を行い被覆部材を構成する基板を形成する工程と、基
板上に無機膜からなる反射防止層を化学的気相成長法に
より形成する工程と、受光面側に時刻目盛りと文字とマ
ークを形成する工程とを有すること特徴とする時計用文
字板の製造方法。 - 【請求項３３】 粉末射出成形と焼成処理を行い被覆部
材を構成する基板を形成する工程と、基板上に無機膜か
らなる反射防止層を化学的気相成長法により形成する工
程と、受光面側に時刻目盛りと文字とマークを形成する
工程とを有すること特徴とする時計用文字板の製造方
法。 - 【請求項３４】 バインダーを含むセラミックス材料を
金型内に入れ加圧処理と焼成処理を行い被覆部材を構成
する基板を形成する工程と、基板上に塗布ガラス膜を形
成し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工程と、受
光面側に時刻目盛りと文字とマークを形成する工程とを
有すること特徴とする時計用文字板の製造方法。 - 【請求項３５】 グリーンシートをプレス加工し焼成処
理を行い被覆部材を構成する基板を形成する工程と、基
板上に塗布ガラス膜を形成し、焼成処理を行い反射防止
層を形成する工程ｂｂと、受光面側に時刻目盛りと文字
とマークを形成する工程とを有すること特徴とする時計
用文字板の製造方法。 - 【請求項３６】 粉末射出成形と焼成処理を行い被覆部
材を構成する基板を形成する工程と、基板上に塗布ガラ
ス膜を形成し、焼成処理を行い反射防止層を形成する工
程と、受光面側に時刻目盛りと文字とマークを形成する
工程とを有すること特徴とする時計用文字板の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14032895A JPH08334572A (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 時計用文字板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14032895A JPH08334572A (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 時計用文字板およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08334572A true JPH08334572A (ja) | 1996-12-17 |
Family
ID=15266271
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14032895A Pending JPH08334572A (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 時計用文字板およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08334572A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000031596A1 (en) * | 1998-11-26 | 2000-06-02 | Citizen Watch Co., Ltd. | Timepiece |
| JP2008157827A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Seiko Epson Corp | 時計用文字板および時計 |
| JP2008164402A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Seiko Epson Corp | 時計用文字板および時計 |
| JP2020085519A (ja) * | 2018-11-19 | 2020-06-04 | シチズン時計株式会社 | 太陽電池付き発電装置、太陽電池付き時計、及び文字板 |
| JP2020101380A (ja) * | 2018-12-20 | 2020-07-02 | シチズン時計株式会社 | 太陽電池付き発電装置、太陽電池付き時計 |
-
1995
- 1995-06-07 JP JP14032895A patent/JPH08334572A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000031596A1 (en) * | 1998-11-26 | 2000-06-02 | Citizen Watch Co., Ltd. | Timepiece |
| US6791905B1 (en) | 1998-11-26 | 2004-09-14 | Citizen Watch Co., Ltd. | Timepiece |
| JP2008157827A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Seiko Epson Corp | 時計用文字板および時計 |
| JP2008164402A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Seiko Epson Corp | 時計用文字板および時計 |
| JP2020085519A (ja) * | 2018-11-19 | 2020-06-04 | シチズン時計株式会社 | 太陽電池付き発電装置、太陽電池付き時計、及び文字板 |
| JP2020101380A (ja) * | 2018-12-20 | 2020-07-02 | シチズン時計株式会社 | 太陽電池付き発電装置、太陽電池付き時計 |
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