JPH08334895A - 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - Google Patents
感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法Info
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 優れた接着性、感度と解像性、経時安定性を
有するため、生産性良く、コントラストの良いカラーブ
ラウン管用のブラックマトリックスが製作できる感光性
組成物を提供する。 【構成】 本発明に係る感光性組成物は、ジメチルアク
リルアミド、アクリルアミドからなる共重合体と水溶性
アジド化合物からなる感光性組成物であって、この感光
性組成物は優れた感度、解像性を示し、また、この組成
物の塗膜を形成する工程、パターン露光する工程、現像
する工程から成るパターン形成方法によれば、特に水現
像可能ネガ型感光組成物で高感度、高解像度のパターン
が得られ、特に、カラーブラウン管のブラックマトリッ
クスの製造に際し、コントラストに優れたブラックマト
リックスが作成でき、生産性を向上させることができ
る。
有するため、生産性良く、コントラストの良いカラーブ
ラウン管用のブラックマトリックスが製作できる感光性
組成物を提供する。 【構成】 本発明に係る感光性組成物は、ジメチルアク
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アジド化合物からなる感光性組成物であって、この感光
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は感光性組成物及びパター
ン形成方法に係り、特にカラーブラウン管のブラックマ
トリックスの作成に適した感光性組成物及びパターン形
成方法に関する。
ン形成方法に係り、特にカラーブラウン管のブラックマ
トリックスの作成に適した感光性組成物及びパターン形
成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】カラーブラウン管はフェースプレート内
面に赤、緑、青の蛍光体からなるストライプまたはドッ
トパターンとその空隙を黒鉛等からなる非発光性光吸収
物質で埋めた構造であり、その蛍光体パターンの空隙を
埋めた非発光性光吸収部分をブラックマトリックスとい
う。
面に赤、緑、青の蛍光体からなるストライプまたはドッ
トパターンとその空隙を黒鉛等からなる非発光性光吸収
物質で埋めた構造であり、その蛍光体パターンの空隙を
埋めた非発光性光吸収部分をブラックマトリックスとい
う。
【0003】ここで、ブラックマトリックスは一般的に
以下のように作成される。水系感光性組成物をフェース
プレート内面に塗工し、シャドーマスクを通して赤、
緑、青の蛍光体パターンの位置に相当する部分を露光
し、水にて現像することにより水系感光性組成物のパタ
ーンを得る。続いて黒鉛の分散液を塗工し、水系感光性
組成物を分解しやすい剥離液に浸して水系感光性組成物
パターンとその上に付着した黒鉛を一緒に剥離すること
によりブラックマトリックスは作成される。
以下のように作成される。水系感光性組成物をフェース
プレート内面に塗工し、シャドーマスクを通して赤、
緑、青の蛍光体パターンの位置に相当する部分を露光
し、水にて現像することにより水系感光性組成物のパタ
ーンを得る。続いて黒鉛の分散液を塗工し、水系感光性
組成物を分解しやすい剥離液に浸して水系感光性組成物
パターンとその上に付着した黒鉛を一緒に剥離すること
によりブラックマトリックスは作成される。
【0004】このブラックマトリックスの作成には従来
以下のような水系感光性組成物が使用されている。 (1)ポリビニルアルコール−重クロム酸塩 (2)特開昭48−90185号公報等に開示されてい
るポリビニルピロリドン−水溶性アジド化合物 (3)特公昭52−20225号公報等に開示されてい
るアクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体
−水溶性アジド化合物等
以下のような水系感光性組成物が使用されている。 (1)ポリビニルアルコール−重クロム酸塩 (2)特開昭48−90185号公報等に開示されてい
るポリビニルピロリドン−水溶性アジド化合物 (3)特公昭52−20225号公報等に開示されてい
るアクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体
−水溶性アジド化合物等
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
(1)の感光性組成物は、感度及びグラファイトの剥離
性等は良好だが、解像性、経時安定性が悪く、さらに六
価クロムの公害問題を有する。
(1)の感光性組成物は、感度及びグラファイトの剥離
性等は良好だが、解像性、経時安定性が悪く、さらに六
価クロムの公害問題を有する。
【0006】また、上記(2)の感光性組成物は、解像
性及びグラファイトの剥離性等は良好だが、低感度並び
に湿度、温度等の変化により感度が変化して生産安定性
が悪いという欠点を有する。
性及びグラファイトの剥離性等は良好だが、低感度並び
に湿度、温度等の変化により感度が変化して生産安定性
が悪いという欠点を有する。
【0007】さらに、上記(3)の感光性組成物は、感
度及び解像性等は良好だが、現像性並びにグラファイト
の剥離性が上記(1)、(2)の感光性組成物に比べ劣
るという欠点を有する。
度及び解像性等は良好だが、現像性並びにグラファイト
の剥離性が上記(1)、(2)の感光性組成物に比べ劣
るという欠点を有する。
【0008】本発明は、上記従来の感光性組成物の種々
の欠点を改良した感光性組成物及びこれを用いたパター
ン形成方法を提供することを目的とする。
の欠点を改良した感光性組成物及びこれを用いたパター
ン形成方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成する本発
明に係る感光性組成物の構成は、ジメチルアクリルアミ
ド、アクリルアミドからなる共重合体並びに水溶性アジ
ド化合物を含むことを特徴とする。
明に係る感光性組成物の構成は、ジメチルアクリルアミ
ド、アクリルアミドからなる共重合体並びに水溶性アジ
ド化合物を含むことを特徴とする。
【0010】上記感光性組成物において、上記共重合体
のモノマーの比率がモル比でジメチルアクリルアミドが
1に対して、アクリルアミドが0.05〜4.0の範囲
であることを特徴とする。
のモノマーの比率がモル比でジメチルアクリルアミドが
1に対して、アクリルアミドが0.05〜4.0の範囲
であることを特徴とする。
【0011】上記感光性組成物において、上記水溶性ア
ジド化合物が共重合体に対し2〜50重量%の範囲であ
ることを特徴とする。
ジド化合物が共重合体に対し2〜50重量%の範囲であ
ることを特徴とする。
【0012】一方の本発明に係る感光性組成物を用いた
パターン形成方法は、上記感光性組成物を基板上に感光
性組成物の塗膜を形成する工程と、上記感光性組成物の
塗膜を所望のパターン露光する工程と、上記パターン露
光をした感光性組成物の塗膜を水または水系現像液にて
現像する工程とを有することを特徴とする。
パターン形成方法は、上記感光性組成物を基板上に感光
性組成物の塗膜を形成する工程と、上記感光性組成物の
塗膜を所望のパターン露光する工程と、上記パターン露
光をした感光性組成物の塗膜を水または水系現像液にて
現像する工程とを有することを特徴とする。
【0013】上記パターン形成方法において、上記パタ
ーンを形成しようとする基板がカラーブラウン管のフェ
ースプレートの内面であることを特徴とする。
ーンを形成しようとする基板がカラーブラウン管のフェ
ースプレートの内面であることを特徴とする。
【0014】以下、本発明の内容を詳細に説明する。本
発明に係る感光性組成物の構成は、ジメチルアクリルア
ミドとアクリルアミドを共重合させ、この共重合体と水
溶性アジド化合物を組み合わせるものであり、特に、本
発明の感光性組成物はジメチルアクリルアミド(以下
「DMAA」という)とアクリルアミド(以下「AA」
という)よりなる共重合体並びに水溶性アジド化合物を
含むことを特徴とする。
発明に係る感光性組成物の構成は、ジメチルアクリルア
ミドとアクリルアミドを共重合させ、この共重合体と水
溶性アジド化合物を組み合わせるものであり、特に、本
発明の感光性組成物はジメチルアクリルアミド(以下
「DMAA」という)とアクリルアミド(以下「AA」
という)よりなる共重合体並びに水溶性アジド化合物を
含むことを特徴とする。
【0015】また、この共重合体は、モノマーのモル比
でDMAAが1に対し、AAが0.05〜4.0の範囲
の共重合体が好ましい。これは、AAが0.05以下の
共重合体の場合はその共重合体の酸素透過性が高すぎる
ためにアジド化合物の露光により発生するナイトレンが
酸素によりクエンチされやすくなるために有効に共重合
体の架橋反応が進行せず、結果として低感度になるから
である。一方AAが4.0を超えると共重合体の粘度が
高くなりすぎ塗布性が悪くなりやすいからである。さら
に、一般的に言ってシャードマスクを通過した光はシャ
ドーマスクのマスク幅より広がるわけであるが、その広
がったエネルギーの低い光でも膜中の酸素透過性が低い
場合は光硬化しやすくなり、その結果解像性が悪くなり
やすいという問題もあるからである。また、AAが4.
0を超えると酸素透過性が低下してくるため、前述のよ
うな理由により解像性が低下して好ましくないからであ
る。
でDMAAが1に対し、AAが0.05〜4.0の範囲
の共重合体が好ましい。これは、AAが0.05以下の
共重合体の場合はその共重合体の酸素透過性が高すぎる
ためにアジド化合物の露光により発生するナイトレンが
酸素によりクエンチされやすくなるために有効に共重合
体の架橋反応が進行せず、結果として低感度になるから
である。一方AAが4.0を超えると共重合体の粘度が
高くなりすぎ塗布性が悪くなりやすいからである。さら
に、一般的に言ってシャードマスクを通過した光はシャ
ドーマスクのマスク幅より広がるわけであるが、その広
がったエネルギーの低い光でも膜中の酸素透過性が低い
場合は光硬化しやすくなり、その結果解像性が悪くなり
やすいという問題もあるからである。また、AAが4.
0を超えると酸素透過性が低下してくるため、前述のよ
うな理由により解像性が低下して好ましくないからであ
る。
【0016】本発明の共重合体は、例えば、DMAA、
AAの水溶液を2、2’−アゾビス(2−アミジノプロ
パン)塩酸塩(以下「V−50」という)、または過硫
酸カリウムなどの過硫酸塩、並びにこれらを用いたいわ
ゆるレドックス触媒を開始剤として重合させて合成し得
るが、これらに限定されるものではない。
AAの水溶液を2、2’−アゾビス(2−アミジノプロ
パン)塩酸塩(以下「V−50」という)、または過硫
酸カリウムなどの過硫酸塩、並びにこれらを用いたいわ
ゆるレドックス触媒を開始剤として重合させて合成し得
るが、これらに限定されるものではない。
【0017】本発明に使用される水溶性アジド化合物と
して以下に具体例を挙げるが、本発明において使用でき
る水溶性アジド化合物はこれらに限定されるものではな
い。
して以下に具体例を挙げるが、本発明において使用でき
る水溶性アジド化合物はこれらに限定されるものではな
い。
【0018】
【化1】
【化2】
【化3】
【化4】
【化5】
【化6】
【化7】
【化8】
【化9】
【0019】上記式「化1」〜「化9」において、X
は、リチウム,ナトリウム,カリウム,アンモニウム,
モノアルキルアンモニウム,ジアルキルアンモニウム,
トリアルキルアンモニウム又はテトラアルキルアンモニ
ウム等を表す。
は、リチウム,ナトリウム,カリウム,アンモニウム,
モノアルキルアンモニウム,ジアルキルアンモニウム,
トリアルキルアンモニウム又はテトラアルキルアンモニ
ウム等を表す。
【0020】さらに、特開昭51−4956号、特開平
2−173007号、特開平2−92905号、特開平
2−204750号、特開平5−11442号、特開平
5−67433号、特開平5−113661号、特開平
6−32823号、特願平5−84375号、特願平6
−68354号等の各公報に記載のスルホン酸基または
その塩とアジド基を含むポリマーも挙げることができ
る。
2−173007号、特開平2−92905号、特開平
2−204750号、特開平5−11442号、特開平
5−67433号、特開平5−113661号、特開平
6−32823号、特願平5−84375号、特願平6
−68354号等の各公報に記載のスルホン酸基または
その塩とアジド基を含むポリマーも挙げることができ
る。
【0021】上記水溶性アジド化合物のうち、1分子中
にアジド基を2個以上有するものが、光硬化性が特に良
好である。また、これらの化合物を二種類以上混合して
用いることもできる。
にアジド基を2個以上有するものが、光硬化性が特に良
好である。また、これらの化合物を二種類以上混合して
用いることもできる。
【0022】これらの水溶性アジド化合物は、共重合体
に対して2〜50重量%の範囲で用いるのが好ましい。
これは、水溶性アジド化合物が2%未満では感度が充分
でなく、一方50%を超えると塗膜の膜物性が悪くな
り、共に好ましくないからである。
に対して2〜50重量%の範囲で用いるのが好ましい。
これは、水溶性アジド化合物が2%未満では感度が充分
でなく、一方50%を超えると塗膜の膜物性が悪くな
り、共に好ましくないからである。
【0023】本発明の組成物は、前述の共重合体と水溶
性アジド化合物並びに必要に応じた各種の配合剤を、水
を主体とする溶剤に溶解あるいは分散させることにより
調製することができる。
性アジド化合物並びに必要に応じた各種の配合剤を、水
を主体とする溶剤に溶解あるいは分散させることにより
調製することができる。
【0024】この際用いられる溶剤としては、一般には
水が用いられるが、これに50重量%以下の割合で水に
可溶な溶剤、例えば、メチルアルコール、エチルアルコ
ール、イソプロピルアルコール、アセトン、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、Nーメ
チルピロリジノン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル等を加えることがで
きる。
水が用いられるが、これに50重量%以下の割合で水に
可溶な溶剤、例えば、メチルアルコール、エチルアルコ
ール、イソプロピルアルコール、アセトン、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、Nーメ
チルピロリジノン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル等を加えることがで
きる。
【0025】本発明の感光性組成物には塗布性、感度、
現像性等の改良のために本発明の感光性組成物に相溶性
をもちうる水溶性高分子化合物を添加することができ
る。しかし多量添加すると本発明の共重合体の優れた物
性に影響を与えるため、添加量は本発明の共重合体に対
して50重量%以下の範囲が好ましい。このような高分
子化合物としては、例えばポリビニルアルコール、ゼラ
チン、ポリビニルピロリドン及びその共重合体、ポリビ
ニルメチルエーテル、ビニルアルコールとマレイン酸の
共重合、水溶性セルロース誘導体、ポリエチレンオキシ
ド等が例示される。本発明の感光性組成物には、塗布特
性の改良のために必要に応じて例えばエチレングリコー
ル、ソルビトールあるいは界面活性剤等を添加すること
ができる。
現像性等の改良のために本発明の感光性組成物に相溶性
をもちうる水溶性高分子化合物を添加することができ
る。しかし多量添加すると本発明の共重合体の優れた物
性に影響を与えるため、添加量は本発明の共重合体に対
して50重量%以下の範囲が好ましい。このような高分
子化合物としては、例えばポリビニルアルコール、ゼラ
チン、ポリビニルピロリドン及びその共重合体、ポリビ
ニルメチルエーテル、ビニルアルコールとマレイン酸の
共重合、水溶性セルロース誘導体、ポリエチレンオキシ
ド等が例示される。本発明の感光性組成物には、塗布特
性の改良のために必要に応じて例えばエチレングリコー
ル、ソルビトールあるいは界面活性剤等を添加すること
ができる。
【0026】本発明の感光性組成物には、基板への接着
性の改良のため必要に応じて接着促進剤であるいわゆる
シランカップリング剤を添加することができる。これら
の接着促進剤は、例えば、N−β(アミノエチル)−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノ
エチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等の
水溶性を持つ接着促進剤が用いられる。
性の改良のため必要に応じて接着促進剤であるいわゆる
シランカップリング剤を添加することができる。これら
の接着促進剤は、例えば、N−β(アミノエチル)−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノ
エチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等の
水溶性を持つ接着促進剤が用いられる。
【0027】本発明の感光性組成物には、必要に応じ
て、例えば防腐剤、消泡剤、pH調整剤を添加すること
もできる。
て、例えば防腐剤、消泡剤、pH調整剤を添加すること
もできる。
【0028】本発明の感光性組成物には、必要に応じ
て、例えば膜強度、耐水性、種々の基板への接着性の改
良等のために疎水性高分子エマルジョンを添加すること
ができる。ここで、上記添加する疎水性エマルジョンと
しては、ポリ酢酸ビニルエマルジョン、ポリアクリル酸
エステルエマルジョン、ウレタンエマルジョン等が例示
される。
て、例えば膜強度、耐水性、種々の基板への接着性の改
良等のために疎水性高分子エマルジョンを添加すること
ができる。ここで、上記添加する疎水性エマルジョンと
しては、ポリ酢酸ビニルエマルジョン、ポリアクリル酸
エステルエマルジョン、ウレタンエマルジョン等が例示
される。
【0029】更に、露光によるハレーションの防止、又
は着色画像を得るために本発明の感光性組成物に顔料、
染料等の着色剤を添加することもできる。特に、本発明
の感光性組成物に顔料を分散させて得られた着色画像
は、例えば液晶ディスプレー用カラーフィルター、印刷
用カラープルーフ、第二原図等に応用できる。
は着色画像を得るために本発明の感光性組成物に顔料、
染料等の着色剤を添加することもできる。特に、本発明
の感光性組成物に顔料を分散させて得られた着色画像
は、例えば液晶ディスプレー用カラーフィルター、印刷
用カラープルーフ、第二原図等に応用できる。
【0030】以下、本発明の感光性組成物によるパター
ン形成方法について説明する。
ン形成方法について説明する。
【0031】(1)基板上に感光性組成物の塗膜を形成
する工程 基板としては本発明の感光性組成物が接着しうるすべて
の基板が使用できる。本発明に使用される基板として以
下に具体例を挙げるが、本発明において使用できる基板
はこれらに限定されるものではない。すなわち、上記基
板の具体例としては、例えばソーダガラス、SiO2処
理ガラス、ITO着きガラス等のガラス類,ポリエステ
ル系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリ塩化ビニル
フィルム、ポリプロピレンフィルム等の各種プラスチッ
クフィルム類,各種金属基板,金属を積層したプラスチ
ック板及びプラスチックフィルム,プラスチック、金属
メッシュ,シリコンウエハー等が例示される。
する工程 基板としては本発明の感光性組成物が接着しうるすべて
の基板が使用できる。本発明に使用される基板として以
下に具体例を挙げるが、本発明において使用できる基板
はこれらに限定されるものではない。すなわち、上記基
板の具体例としては、例えばソーダガラス、SiO2処
理ガラス、ITO着きガラス等のガラス類,ポリエステ
ル系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリ塩化ビニル
フィルム、ポリプロピレンフィルム等の各種プラスチッ
クフィルム類,各種金属基板,金属を積層したプラスチ
ック板及びプラスチックフィルム,プラスチック、金属
メッシュ,シリコンウエハー等が例示される。
【0032】本発明の感光性組成物の塗布方法としては
従来から使用されてる回転塗布法、ロールコター法、カ
ーテンコート法、アプリケーター法等が例示される。ま
た、塗布後、常法による所定の温度で乾燥することによ
り塗膜が得られる。
従来から使用されてる回転塗布法、ロールコター法、カ
ーテンコート法、アプリケーター法等が例示される。ま
た、塗布後、常法による所定の温度で乾燥することによ
り塗膜が得られる。
【0033】(2)パターン露光工程 上記感光性組成物の塗膜の露光光源としては、超高圧水
銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドラ
ンプ、ケミカルランプ等用いられる水溶性アジド化合物
が感光する波長の光を出す一般的な光源はすべて使用で
きる。また、露光方式としては縮小投影露光法、コンタ
クト露光法、プロキシミティー露光法等一般的な露光方
式はすべて使用できる。
銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドラ
ンプ、ケミカルランプ等用いられる水溶性アジド化合物
が感光する波長の光を出す一般的な光源はすべて使用で
きる。また、露光方式としては縮小投影露光法、コンタ
クト露光法、プロキシミティー露光法等一般的な露光方
式はすべて使用できる。
【0034】(3)現像工程 上記パターン露光された感光性組成物の塗膜は水、水−
水溶性溶媒の混合溶媒、酸、アルカリ、緩衝剤、界面活
性剤等を溶解した水溶液等により現像できる。上記現像
方式としてはスプレー現像、デッピング現像、パドル現
像等一般的な方式で現像できる。
水溶性溶媒の混合溶媒、酸、アルカリ、緩衝剤、界面活
性剤等を溶解した水溶液等により現像できる。上記現像
方式としてはスプレー現像、デッピング現像、パドル現
像等一般的な方式で現像できる。
【0035】本発明のパターン形成方法は特に、カラー
ブラウン管のフェースプレートの内面に適用するのが好
適である。上記カラーブラウン管のフェースプレートの
内面に、上述した本発明のパターンを形成方法を適用す
ると、高感度、高解像であるので、生産性が良い。上記
パターン形成後、グラファイトを塗布し、剥離液で処理
することによりブラックマトリックスを形成するのであ
るが、本発明により形成したパターンは剥離性が良好な
のできれいなブラックマトリックスが形成出来る。
ブラウン管のフェースプレートの内面に適用するのが好
適である。上記カラーブラウン管のフェースプレートの
内面に、上述した本発明のパターンを形成方法を適用す
ると、高感度、高解像であるので、生産性が良い。上記
パターン形成後、グラファイトを塗布し、剥離液で処理
することによりブラックマトリックスを形成するのであ
るが、本発明により形成したパターンは剥離性が良好な
のできれいなブラックマトリックスが形成出来る。
【0036】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例によって、なんら制限
されるものではない。
するが、本発明はこれらの実施例によって、なんら制限
されるものではない。
【0037】<実施例1>攪拌機、冷却器、温度計、窒
素ガス導入管を取り付けた1リットルの 反応器に、D
MAA20.5gr、AA14.84gr(モル比DM
AA:AA=1:1)、純水460grを入れ、60℃
に保ちながら窒素ガスを二時間通し、装置内及びモノマ
ー水溶液中の酸素を置換した後、V−50 0.1gr
/純水9grの水溶液を加えた。反応溶液を攪拌しなが
ら、5時間そのままの温度で重合を行った。このように
して得られた共重合体はGPC(ゲルパーミッションク
ロマトグラフィー)分析にて測定した結果、モノマー残
量は0.1%以下であった。また得られた共重合体の粘
度は6100cp(25℃)であった。
素ガス導入管を取り付けた1リットルの 反応器に、D
MAA20.5gr、AA14.84gr(モル比DM
AA:AA=1:1)、純水460grを入れ、60℃
に保ちながら窒素ガスを二時間通し、装置内及びモノマ
ー水溶液中の酸素を置換した後、V−50 0.1gr
/純水9grの水溶液を加えた。反応溶液を攪拌しなが
ら、5時間そのままの温度で重合を行った。このように
して得られた共重合体はGPC(ゲルパーミッションク
ロマトグラフィー)分析にて測定した結果、モノマー残
量は0.1%以下であった。また得られた共重合体の粘
度は6100cp(25℃)であった。
【0038】以下に示すような処方の感光性組成物を調
整した。 上記共重合体7.12wt%水溶液 :140.4gr 4、4’−ジアジドスチルベン−2,2’−ジスルホン酸ナトリウム (以下「DAzST(Na)」という) :1.0gr (共重合体固形分:DAzST(Na)=100:10) 純水 :408gr シランカップリング剤(KBM−603) :0.15gr 上記処方の感光性組成物を、0.5umメンブランフィ
ルターで濾過し、次いでこの濾過物を、いわゆるスピン
コート法によりカラーブラウン管のフェースプレート内
面に塗布し、50℃x1分乾燥して0.65umの塗膜
を得た。 次にホール径135umのシャドーマスクと
フェースプレートの距離1cm、シャードマスクと超高
圧水銀灯の距離30cm、フェースプレート面での35
0nmの照度0.15(mw/cm2)の露光条件にて
緑、青、赤に相当する位置に各々8秒露光した。尚、露
光時の相対湿度は45%であった。続いて水でスプレー
現像を行った。(ノズル:スプレーイングシステム社製
No0.3、水圧:2.0(kg/cm2)、温度:40
℃、距離15cm) 得られたパターンを顕微鏡で観察すると、シャドーマス
クに忠実なパターンが得られた。同様な条件で、相対湿
度60%にて露光した場合は上記と同様なパターンサイ
ズを得るための露光時間は12秒であった。続いて45
%の相対湿度下で露光してパターングされた上記フェー
スプレートに黒鉛の分散液(日立冶金社製:ヒタゾル6
6S)を1.0umに塗工し、50℃x2分乾燥後、4
0℃の5%硫酸溶液に30秒デッピングし、続いてノズ
ル:スプレーイングシステム社製No2、水圧:2.0
(kg/cm2)、温度:40℃、距離5cmの条件にて
水を30秒スプレーを行った。これにてパターンドット
とその上に付着した黒鉛は一緒に剥離されてマトリック
スホールが得られた。得られたマトリックスホールを顕
微鏡にて観察するとパターンに忠実なマトリックスホー
ルであった。
整した。 上記共重合体7.12wt%水溶液 :140.4gr 4、4’−ジアジドスチルベン−2,2’−ジスルホン酸ナトリウム (以下「DAzST(Na)」という) :1.0gr (共重合体固形分:DAzST(Na)=100:10) 純水 :408gr シランカップリング剤(KBM−603) :0.15gr 上記処方の感光性組成物を、0.5umメンブランフィ
ルターで濾過し、次いでこの濾過物を、いわゆるスピン
コート法によりカラーブラウン管のフェースプレート内
面に塗布し、50℃x1分乾燥して0.65umの塗膜
を得た。 次にホール径135umのシャドーマスクと
フェースプレートの距離1cm、シャードマスクと超高
圧水銀灯の距離30cm、フェースプレート面での35
0nmの照度0.15(mw/cm2)の露光条件にて
緑、青、赤に相当する位置に各々8秒露光した。尚、露
光時の相対湿度は45%であった。続いて水でスプレー
現像を行った。(ノズル:スプレーイングシステム社製
No0.3、水圧:2.0(kg/cm2)、温度:40
℃、距離15cm) 得られたパターンを顕微鏡で観察すると、シャドーマス
クに忠実なパターンが得られた。同様な条件で、相対湿
度60%にて露光した場合は上記と同様なパターンサイ
ズを得るための露光時間は12秒であった。続いて45
%の相対湿度下で露光してパターングされた上記フェー
スプレートに黒鉛の分散液(日立冶金社製:ヒタゾル6
6S)を1.0umに塗工し、50℃x2分乾燥後、4
0℃の5%硫酸溶液に30秒デッピングし、続いてノズ
ル:スプレーイングシステム社製No2、水圧:2.0
(kg/cm2)、温度:40℃、距離5cmの条件にて
水を30秒スプレーを行った。これにてパターンドット
とその上に付着した黒鉛は一緒に剥離されてマトリック
スホールが得られた。得られたマトリックスホールを顕
微鏡にて観察するとパターンに忠実なマトリックスホー
ルであった。
【0039】<実施例2>上記実施例1とほぼ同様な条
件にてDMAA:AA=1:0.5モル比の共重合体を
合成し、実施例1と同様な組成、評価条件にて感度、解
像度を測定した。 相対湿度45%の露光条件:8秒、マスクパターンに忠
実なパターンが得られた。 相対湿度60%の露光条件:12秒、マスクパターンに
忠実なパターンが得られた。
件にてDMAA:AA=1:0.5モル比の共重合体を
合成し、実施例1と同様な組成、評価条件にて感度、解
像度を測定した。 相対湿度45%の露光条件:8秒、マスクパターンに忠
実なパターンが得られた。 相対湿度60%の露光条件:12秒、マスクパターンに
忠実なパターンが得られた。
【0040】<比較例1>実施例1とほぼ同様な条件に
てDMAAのホモポリマーを合成し、実施例1と同様な
組成、評価条件にて感度、解像度を測定した。 相対湿度45%の露光条件:17秒、マスクパターンに
忠実なパターンが得られた。 相対湿度60%の露光条件:30秒、マスクパターンに
忠実なパターンが得られた。 実施例1,2の共重合体に比べDMAAのホモポリマー
は低感度であり、湿度による感度低下が大きかった。
てDMAAのホモポリマーを合成し、実施例1と同様な
組成、評価条件にて感度、解像度を測定した。 相対湿度45%の露光条件:17秒、マスクパターンに
忠実なパターンが得られた。 相対湿度60%の露光条件:30秒、マスクパターンに
忠実なパターンが得られた。 実施例1,2の共重合体に比べDMAAのホモポリマー
は低感度であり、湿度による感度低下が大きかった。
【0041】<比較例2>実施例1とほぼ同様な条件に
てDMAA:AA=1:4.2モル比の共重合体を合成
し、実施例1と同様な組成、評価条件にて感度、解像度
を測定した。 相対湿度45%の露光条件:10秒、フリンジの多いパ
ターンであった。 相対湿度60%の露光条件:15秒、フリンジの多いパ
ターンであった。 実施例1,2の共重合体に比べDMAA:AA=1:
4.2の共重合体は解像度が悪いという結果であった。
てDMAA:AA=1:4.2モル比の共重合体を合成
し、実施例1と同様な組成、評価条件にて感度、解像度
を測定した。 相対湿度45%の露光条件:10秒、フリンジの多いパ
ターンであった。 相対湿度60%の露光条件:15秒、フリンジの多いパ
ターンであった。 実施例1,2の共重合体に比べDMAA:AA=1:
4.2の共重合体は解像度が悪いという結果であった。
【0042】<比較例3> 処方 ポリビニルピロリドン(ISP社製K−90) :10.0gr DAzST(Na) :1.0gr 純水 :429gr シランカップリング剤(KBM−603) :0.15gr 0.5umメンブランフィルターで濾過した上記ポリビ
ニルピロリドン系感光性組成物を、実施例1と同様な評
価条件にて感度、解像度を測定した。 相対湿度45%の露光条件:20秒、マスクパターンに
忠実なパターンが得られた。 相対湿度60%の露光条件:35秒、マスクパターンに
忠実なパターンが得られた。 実施例1,2の共重合体に比べポリビニルピロリドン系
感光性組成物は低感度であり、湿度による感度低下が大
きかった。
ニルピロリドン系感光性組成物を、実施例1と同様な評
価条件にて感度、解像度を測定した。 相対湿度45%の露光条件:20秒、マスクパターンに
忠実なパターンが得られた。 相対湿度60%の露光条件:35秒、マスクパターンに
忠実なパターンが得られた。 実施例1,2の共重合体に比べポリビニルピロリドン系
感光性組成物は低感度であり、湿度による感度低下が大
きかった。
【0043】<比較例4>実施例1とほぼ同様な条件に
てジアセトンアクリルアミド:AA=1:2.0モル比
の共重合体を合成し、実施例1と同様な組成、評価条件
にて感度、解像度を測定した。 相対湿度45%の露光条件:15秒、マスクパターンに
忠実なパターンが得られた。 相対湿度60%の露光条件:20秒、マスクパターンに
忠実なパターンが得られた。 このジアセトンアクリルアミド−アクリルアミド共重合
体の感光性組成物は実施例1、2、比較例1、2、3の
感光性組成物に比べて現像性がやや悪かった。続いて実
施例1と同様に露光してパターングされた上記フェース
プレートに黒鉛の分散液(日立冶金社製:ヒタゾル66
S)を1.0umに塗工し、50℃x2分乾燥後、40
℃の5%硫酸溶液に30秒デッピングし、続いてノズ
ル:スプレーイングシステム社製No2、水圧:2.0
(kg/cm2)、温度:40℃、距離5cmの条件にて
水を30秒スプレーを行った。しかし全く黒鉛は剥離さ
れずマトリックスホールは得られなかった。同様な操作
を5%硫酸を5%過酸化水素−0.5%スルファミン酸
からなる剥離液に変え、50℃x1分デッピングの条件
にて剥離は可能となったが、実施例1の感光性組成物に
比べ剥離性は悪いという結果であった。
てジアセトンアクリルアミド:AA=1:2.0モル比
の共重合体を合成し、実施例1と同様な組成、評価条件
にて感度、解像度を測定した。 相対湿度45%の露光条件:15秒、マスクパターンに
忠実なパターンが得られた。 相対湿度60%の露光条件:20秒、マスクパターンに
忠実なパターンが得られた。 このジアセトンアクリルアミド−アクリルアミド共重合
体の感光性組成物は実施例1、2、比較例1、2、3の
感光性組成物に比べて現像性がやや悪かった。続いて実
施例1と同様に露光してパターングされた上記フェース
プレートに黒鉛の分散液(日立冶金社製:ヒタゾル66
S)を1.0umに塗工し、50℃x2分乾燥後、40
℃の5%硫酸溶液に30秒デッピングし、続いてノズ
ル:スプレーイングシステム社製No2、水圧:2.0
(kg/cm2)、温度:40℃、距離5cmの条件にて
水を30秒スプレーを行った。しかし全く黒鉛は剥離さ
れずマトリックスホールは得られなかった。同様な操作
を5%硫酸を5%過酸化水素−0.5%スルファミン酸
からなる剥離液に変え、50℃x1分デッピングの条件
にて剥離は可能となったが、実施例1の感光性組成物に
比べ剥離性は悪いという結果であった。
【0044】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の感光性組成
物は、優れた感度と解像性を有するため、生産性及び生
産安定性が良く、コントラストの良いカラーブラウン管
用のブラックマトリックスが製作できる。
物は、優れた感度と解像性を有するため、生産性及び生
産安定性が良く、コントラストの良いカラーブラウン管
用のブラックマトリックスが製作できる。
Claims (5)
- 【請求項1】 ジメチルアクリルアミド、アクリルアミ
ドからなる共重合体並びに水溶性アジド化合物を含むこ
とを特徴とする感光性組成物。 - 【請求項2】 請求項1の感光性組成物において、 上記共重合体のモノマーの比率がモル比でジメチルアク
リルアミドが1に対して、アクリルアミドが0.05〜
4.0の範囲であることを特徴とする感光性組成物。 - 【請求項3】 請求項1及び2の感光性組成物におい
て、 上記水溶性アジド化合物が共重合体に対し2〜50重量
%の範囲であることを特徴とする感光性組成物。 - 【請求項4】 請求項1〜3における感光性組成物を基
板上に感光性組成物の塗膜を形成する工程と、上記感光
性組成物の塗膜を所望のパターン露光する工程と、上記
パターン露光をした感光性組成物の塗膜を水または水系
現像液にて現像する工程とを有することを特徴とするパ
ターン形成方法。 - 【請求項5】 請求項4のパターン形成方法において、 上記パターンを形成しようとする基板がカラーブラウン
管のフェースプレートの内面であることを特徴とするパ
ターン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14160895A JP3510005B2 (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14160895A JP3510005B2 (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08334895A true JPH08334895A (ja) | 1996-12-17 |
| JP3510005B2 JP3510005B2 (ja) | 2004-03-22 |
Family
ID=15295979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14160895A Expired - Fee Related JP3510005B2 (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3510005B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998049600A1 (fr) * | 1997-04-30 | 1998-11-05 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Composition photosensible et procede pour former des motifs |
| KR100869783B1 (ko) * | 2001-10-29 | 2008-11-21 | 삼성에스디아이 주식회사 | 네가티브 포토레지스트 제조용 아지드기를 갖는 아크릴계단량체 및 중합체 |
-
1995
- 1995-06-08 JP JP14160895A patent/JP3510005B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998049600A1 (fr) * | 1997-04-30 | 1998-11-05 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Composition photosensible et procede pour former des motifs |
| KR100869783B1 (ko) * | 2001-10-29 | 2008-11-21 | 삼성에스디아이 주식회사 | 네가티브 포토레지스트 제조용 아지드기를 갖는 아크릴계단량체 및 중합체 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3510005B2 (ja) | 2004-03-22 |
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