JPH0833656B2 - 液状フオトソルダ−レジスト組成物 - Google Patents
液状フオトソルダ−レジスト組成物Info
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- JPH0833656B2 JPH0833656B2 JP62037847A JP3784787A JPH0833656B2 JP H0833656 B2 JPH0833656 B2 JP H0833656B2 JP 62037847 A JP62037847 A JP 62037847A JP 3784787 A JP3784787 A JP 3784787A JP H0833656 B2 JPH0833656 B2 JP H0833656B2
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- Japan
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- radical
- polymerizable
- mol
- meth
- monohydric
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は，印刷回路製造工程などにおいて好適に用い
られ，紫外線などの放射線による露光および弱アルカリ
水溶液による現像の後に，すぐれたハンダメッキ耐性を
発現する液状フォトソルダーレジスト組成物に関する。
られ，紫外線などの放射線による露光および弱アルカリ
水溶液による現像の後に，すぐれたハンダメッキ耐性を
発現する液状フォトソルダーレジスト組成物に関する。
（従来の技術） 従来，液状フォトソルダーレジストとしては，露光
後,1,1,1−トリクロロエタンなどのハロゲン系有機溶剤
により現像される溶剤現像型のものが知られていた。し
かしながら，ハロゲン系有機溶剤は有機溶剤の中では毒
性が高く，作業環境保全，大気汚染防止などの面から，
弱アルカリ水溶液により現像されるアルカリ現像型のも
のへの転換が望まれていた。
後,1,1,1−トリクロロエタンなどのハロゲン系有機溶剤
により現像される溶剤現像型のものが知られていた。し
かしながら，ハロゲン系有機溶剤は有機溶剤の中では毒
性が高く，作業環境保全，大気汚染防止などの面から，
弱アルカリ水溶液により現像されるアルカリ現像型のも
のへの転換が望まれていた。
しかしながら，これまで提案さたアルカリ現像型の液
状フォトソルダーレジスト組成物は，冷暗所においても
硬化が徐々に進行し，数日から１週間程度でゲル化する
ため，使用直前に硬化剤を混合する二液型として用いら
れており、二液を計量混合する面倒がある上に，印刷塗
工後に残った液状フォトソルダーレジスト組成物の再使
用が困難であるという欠点があった。
状フォトソルダーレジスト組成物は，冷暗所においても
硬化が徐々に進行し，数日から１週間程度でゲル化する
ため，使用直前に硬化剤を混合する二液型として用いら
れており、二液を計量混合する面倒がある上に，印刷塗
工後に残った液状フォトソルダーレジスト組成物の再使
用が困難であるという欠点があった。
（発明が解決しようとする問題点） 本発明は，上記の種々の欠点を改良し，貯蔵安定性に
すぐれ一液型としても使用可能で，弱アルカリ水溶液で
現像することができ，露光現像後にすぐれたハンダメッ
キ耐性を発現する液状フォトソルダーレジスト組成物を
提供するものである。
すぐれ一液型としても使用可能で，弱アルカリ水溶液で
現像することができ，露光現像後にすぐれたハンダメッ
キ耐性を発現する液状フォトソルダーレジスト組成物を
提供するものである。
（問題点を解決するための手段） 本発明は，無水マレイン酸および（または）無水イタ
コン酸10モル％以上と無水マレイン酸および無水イタコ
ン酸以外のラジカル重合性モノマー90モル％以下とを共
重合して得られる共重合物の無水マレイン酸および無水
イタコン酸成分１モルに対して，ラジカル重合性の一価
アルコールおよび（または）一価エポキシ化合物，およ
びラジカル重合性でない一価アルコールおよび（また
は）一価エポキシ化合物0.05〜0.95モルの割合で反応さ
せて得られるエステル化物（Ａ），およびトリグリシジ
ルイソシアヌレート，ハイドロキノンジグリシジルエー
テル，ビスフェノールＳジグリシジルエーテル，クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂およびフェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂から選ばれる１種または２種以上の
ラジカル重合性二重結合を有さないエポキシ化合物
（Ｂ）からなる混合物100重量部，前記（Ａ）以外のエ
ポキシ基を有さないラジカル重合性化合物（Ｃ）10〜20
0重量部，および必要に応じて有機溶剤（Ｄ）からなる
液状フォトソルダーレジスト組成物である。
コン酸10モル％以上と無水マレイン酸および無水イタコ
ン酸以外のラジカル重合性モノマー90モル％以下とを共
重合して得られる共重合物の無水マレイン酸および無水
イタコン酸成分１モルに対して，ラジカル重合性の一価
アルコールおよび（または）一価エポキシ化合物，およ
びラジカル重合性でない一価アルコールおよび（また
は）一価エポキシ化合物0.05〜0.95モルの割合で反応さ
せて得られるエステル化物（Ａ），およびトリグリシジ
ルイソシアヌレート，ハイドロキノンジグリシジルエー
テル，ビスフェノールＳジグリシジルエーテル，クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂およびフェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂から選ばれる１種または２種以上の
ラジカル重合性二重結合を有さないエポキシ化合物
（Ｂ）からなる混合物100重量部，前記（Ａ）以外のエ
ポキシ基を有さないラジカル重合性化合物（Ｃ）10〜20
0重量部，および必要に応じて有機溶剤（Ｄ）からなる
液状フォトソルダーレジスト組成物である。
本発明において無水マレイン酸および（または）無水
イタコン酸と共重合される無水マレイン酸および無水イ
タコン酸以外のラジカル重合性モノマーとしては、無水
マレイン酸および（または）無水イタコン酸とゲル化せ
ずに共重合可能なモノマーであり，無水酸基と反応する
エポキシ基、イソシアネート基，水酸基，あるいはアミ
ノ基などの活性基を有しないモノマーである。このよう
なモノマーとしては，スチレン、α−メチルスチレンな
どのスチレン系モノマー類，メチル（メタ）アクリレー
ト，エチル（メタ）アクリレート，ブチル（メタ）アク
リレートなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル
類，酢酸ビニルなどあるいはこれらの混合物を用いるこ
とができるが，得られる液状フォトソルダーレジスト組
成物の露光現像後の硬度の面からは，スチレン，α−メ
チルスチレン，メチルメタアクリレート，あるいはこれ
らの混合物を主成分とするものを用いることが好まし
い。また，本発明の液状フォトソルダーレジスト組成物
の性能を阻害しない範囲で，（メタ）アクリル酸，マレ
イン酸などの不飽和酸を含んでいてもよい。
イタコン酸と共重合される無水マレイン酸および無水イ
タコン酸以外のラジカル重合性モノマーとしては、無水
マレイン酸および（または）無水イタコン酸とゲル化せ
ずに共重合可能なモノマーであり，無水酸基と反応する
エポキシ基、イソシアネート基，水酸基，あるいはアミ
ノ基などの活性基を有しないモノマーである。このよう
なモノマーとしては，スチレン、α−メチルスチレンな
どのスチレン系モノマー類，メチル（メタ）アクリレー
ト，エチル（メタ）アクリレート，ブチル（メタ）アク
リレートなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル
類，酢酸ビニルなどあるいはこれらの混合物を用いるこ
とができるが，得られる液状フォトソルダーレジスト組
成物の露光現像後の硬度の面からは，スチレン，α−メ
チルスチレン，メチルメタアクリレート，あるいはこれ
らの混合物を主成分とするものを用いることが好まし
い。また，本発明の液状フォトソルダーレジスト組成物
の性能を阻害しない範囲で，（メタ）アクリル酸，マレ
イン酸などの不飽和酸を含んでいてもよい。
無水マレイン酸および（または）無水イタコン酸10モ
ル％以上と無水マレイン酸および無水イタコン酸以外の
モノマー90モル％以下とが共重合され共重合物とされ
る。無水マレイン酸および（または）無水イタコン酸の
量が10モル％未満の場合には，露光後，未露光部分の弱
アルカリ水溶液への溶解性が低くなるとともに，露光部
分のハンダメッキ耐性が低くなる。
ル％以上と無水マレイン酸および無水イタコン酸以外の
モノマー90モル％以下とが共重合され共重合物とされ
る。無水マレイン酸および（または）無水イタコン酸の
量が10モル％未満の場合には，露光後，未露光部分の弱
アルカリ水溶液への溶解性が低くなるとともに，露光部
分のハンダメッキ耐性が低くなる。
得られた共重合の無水マレイン酸および無水イタコン
酸成分１モルに対して，ラジカル重合性の一価アルコー
ルおよび（または）一価エポキシ化合物，および必要に
応じてラジカル重合性でない一価アルコールおよび（ま
たは）一価エポキシ化合物0.05〜0.95モルの割合で反応
させて，エステル化物（Ａ）が得られる。
酸成分１モルに対して，ラジカル重合性の一価アルコー
ルおよび（または）一価エポキシ化合物，および必要に
応じてラジカル重合性でない一価アルコールおよび（ま
たは）一価エポキシ化合物0.05〜0.95モルの割合で反応
させて，エステル化物（Ａ）が得られる。
ラジカル重合性の一価アルコールとしては,2−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート,2−ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート,3−ヒドロキシブチル（メタ）
アクリレートなどの水酸基含有（メタ）アクリル酸エス
テル，アリルアルコールなど，あるいはこれらの混合物
を用いることができるが，得られる共重合物の無水マレ
イン酸および無水イタコン酸成分とのエステル化反応が
速く，エステル化物（Ａ）の露光時の硬化反応が速いこ
とから,2−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを用
いることが好ましい。また，ラジカル重合性の一価エポ
キシ化合物としては，グリシジル（メタ）アクリレー
ト，アリルグリシジルエーテル，シクロヘキセンビニル
モノエポキサイドなど，あるいはこれらの混合物を用い
ることができる。
キシエチル（メタ）アクリレート,2−ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート,3−ヒドロキシブチル（メタ）
アクリレートなどの水酸基含有（メタ）アクリル酸エス
テル，アリルアルコールなど，あるいはこれらの混合物
を用いることができるが，得られる共重合物の無水マレ
イン酸および無水イタコン酸成分とのエステル化反応が
速く，エステル化物（Ａ）の露光時の硬化反応が速いこ
とから,2−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを用
いることが好ましい。また，ラジカル重合性の一価エポ
キシ化合物としては，グリシジル（メタ）アクリレー
ト，アリルグリシジルエーテル，シクロヘキセンビニル
モノエポキサイドなど，あるいはこれらの混合物を用い
ることができる。
また，得られるエステル化物（Ａ）のエチレン性二重
結合の密度すなわち露光時の硬化性と弱アルカリ水溶液
への溶解性とのバランスを調節するために，上記のラジ
カル重合性の一価アルコールおよび（または）一価エポ
キシ化合物に，ラジカル重合性でない一価アルコールお
よび（または）一価エポキシ化合物を併用する。このよ
うなラジカル重合性でない一価アルコールには，メタノ
ール，エタノール、プロピルアルコール，ブタノールな
どの脂肪族一価アルコール，ベンジルアルコール，フェ
ノールやアルキルフェノールのアルキレンオキサイド付
加物などの芳香族アルコール，シクロヘキサノールなど
の脂環族アルコールなど，あるいはこれらの混合物を用
いることができる。また，ラジカル重合性でない一価エ
ポキシ化合物としては,n−ブチルグリシジルエーテルな
どのアルキルグリシジルエーテル，フェニルグリシジル
エーテルなどのアリールグリシジルエーテル，スチレン
オキサイド，プロピレンオキサイド，オクチレンオキサ
イドなどのアルキレンオキサイド，三級カルボン酸グリ
シジルエーテルなどをあげることができる。
結合の密度すなわち露光時の硬化性と弱アルカリ水溶液
への溶解性とのバランスを調節するために，上記のラジ
カル重合性の一価アルコールおよび（または）一価エポ
キシ化合物に，ラジカル重合性でない一価アルコールお
よび（または）一価エポキシ化合物を併用する。このよ
うなラジカル重合性でない一価アルコールには，メタノ
ール，エタノール、プロピルアルコール，ブタノールな
どの脂肪族一価アルコール，ベンジルアルコール，フェ
ノールやアルキルフェノールのアルキレンオキサイド付
加物などの芳香族アルコール，シクロヘキサノールなど
の脂環族アルコールなど，あるいはこれらの混合物を用
いることができる。また，ラジカル重合性でない一価エ
ポキシ化合物としては,n−ブチルグリシジルエーテルな
どのアルキルグリシジルエーテル，フェニルグリシジル
エーテルなどのアリールグリシジルエーテル，スチレン
オキサイド，プロピレンオキサイド，オクチレンオキサ
イドなどのアルキレンオキサイド，三級カルボン酸グリ
シジルエーテルなどをあげることができる。
上記共重合物の無水マレイン酸および無水イタコン酸
成分１モルに対して，反応されるラジカル重合性の一価
アルコールおよび（または『一価エポキシ化合物，およ
びラジカル重合性でない一価アルコールおよび（また
は）一価エポキシ化合物の割合が0.05モル未満の場合に
は，露光後，未露光部分の弱アルカリ水溶液への溶解性
が低くなるとともに，露光部分のハンダメッキ耐性が低
くなり,0.95モルを超える場合には，露光部分のハンダ
メッキ耐性が低くなる。
成分１モルに対して，反応されるラジカル重合性の一価
アルコールおよび（または『一価エポキシ化合物，およ
びラジカル重合性でない一価アルコールおよび（また
は）一価エポキシ化合物の割合が0.05モル未満の場合に
は，露光後，未露光部分の弱アルカリ水溶液への溶解性
が低くなるとともに，露光部分のハンダメッキ耐性が低
くなり,0.95モルを超える場合には，露光部分のハンダ
メッキ耐性が低くなる。
本発明においてラジカル重合性二重結合を有さないエ
ポキシ化合物（Ｂ）としては，トリグリシジルイソシア
ヌレート（TGIC），ハイドロキノンジグリシジルエーテ
ル，ビスフェノールＳジグリシジルエーテル，クレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂およびフェノールノボラッ
ク型エポキシ樹脂から選ばれる１種または２種以上が用
いられるが,TGICを主成分とするものが特に貯蔵安定性
が高く，このようなものを用いることが最も好ましい。
上記のようなクレゾールノボラック型エポキシ樹脂の代
表例としては「エピクロンＮ−695」（大日本インキ化
学工業（株）製，商品名）があり，フェノールノボラッ
ク型エポキシ樹脂の代表例としては「エピクロンＮ−77
5」（大日本インキ化学工業（株）製，商品名）がある
他，このようなノボラック型エポキシ樹脂としては，
「エピコート152」，「エピコート154」（油化シェルエ
ポキシ（株）製）「DEN431」，「DEN438」（ダウ・ケミ
カル社製），「EPN1138」（チバ社製）（いずれも商品
名）などがある。
ポキシ化合物（Ｂ）としては，トリグリシジルイソシア
ヌレート（TGIC），ハイドロキノンジグリシジルエーテ
ル，ビスフェノールＳジグリシジルエーテル，クレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂およびフェノールノボラッ
ク型エポキシ樹脂から選ばれる１種または２種以上が用
いられるが,TGICを主成分とするものが特に貯蔵安定性
が高く，このようなものを用いることが最も好ましい。
上記のようなクレゾールノボラック型エポキシ樹脂の代
表例としては「エピクロンＮ−695」（大日本インキ化
学工業（株）製，商品名）があり，フェノールノボラッ
ク型エポキシ樹脂の代表例としては「エピクロンＮ−77
5」（大日本インキ化学工業（株）製，商品名）がある
他，このようなノボラック型エポキシ樹脂としては，
「エピコート152」，「エピコート154」（油化シェルエ
ポキシ（株）製）「DEN431」，「DEN438」（ダウ・ケミ
カル社製），「EPN1138」（チバ社製）（いずれも商品
名）などがある。
エステル化物（Ａ）に対するラジカル重合性二重結合
を有さないエポキシ化合物（Ｂ）の量には，特に制限は
ないが，エステル化物（Ａ）の無水マレイン酸および無
水イタコン酸成分に対して，エポキシ化合物（Ｂ）を当
量比0.5〜1.5の割合で，特に好ましくは当量比1.0前後
の割合で用いることが好ましい。エポキシ化合物（Ｂ）
を当量比0.5未満，または1.5を超えて用いる場合には，
ハンダメッキ耐性が若干低くなる傾向がある。また，上
記共重合物に反応させるラジカル重合性の一価アルコー
ルおよび（または）一価エポキシ化合物の量が多い場合
には，エポキシ化合物（Ｂ）の量を少なくすることがで
きる。
を有さないエポキシ化合物（Ｂ）の量には，特に制限は
ないが，エステル化物（Ａ）の無水マレイン酸および無
水イタコン酸成分に対して，エポキシ化合物（Ｂ）を当
量比0.5〜1.5の割合で，特に好ましくは当量比1.0前後
の割合で用いることが好ましい。エポキシ化合物（Ｂ）
を当量比0.5未満，または1.5を超えて用いる場合には，
ハンダメッキ耐性が若干低くなる傾向がある。また，上
記共重合物に反応させるラジカル重合性の一価アルコー
ルおよび（または）一価エポキシ化合物の量が多い場合
には，エポキシ化合物（Ｂ）の量を少なくすることがで
きる。
本発明において前記（Ａ）以外のエポキシ基を有さな
いラジカル重合性化合物（Ｃ）としては，エチル（メ
タ）アクリレート，ブチル（メタ）アクリレート,2−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート,2−ヒドロキシプ
ロピル（メタ）アクリレート，スチレン，α−アルキル
スチレン，オリゴエステル（メタ）モノアクリレート，
（メタ）アクリル酸などのモノ（メタ）アクリレート
類，エチレングリコールジ（メタ）アクリレート，ポリ
エチレングリコールジアクリレート，ネオペンチルグリ
コールジ（メタ）アクリレート，テトラメチロールメタ
ンジ（メタ）アクリレート，トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレート，トリメチロールメタントリ
（メタ）アクリレート，ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート，ジペンタエリスリトールペンタ（メ
タ）アクリレート，ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート,2−ヒドロキシ−１−（メタ）アクリ
ロキシ−３−（メタ）アクリロキシプロパン，ポリエス
テルポリ（メタ）アクリレート，ポリウレタンポリ（メ
タ）アクリレートなどのポリ（メタ）アクリレート類，
ジアリルフタレート類など，あるいはこれらの混合物を
用いることができるが，銅箔回路への接着性の面からは
水酸基やカルボキシ基を有するものを主成分とするもの
を用いることが好ましく，銅箔回路への接着性，硬化性
および可撓性の面からはテトラメチロールメタントリア
クリレートを主成分とするものを用いることが好まし
い。
いラジカル重合性化合物（Ｃ）としては，エチル（メ
タ）アクリレート，ブチル（メタ）アクリレート,2−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート,2−ヒドロキシプ
ロピル（メタ）アクリレート，スチレン，α−アルキル
スチレン，オリゴエステル（メタ）モノアクリレート，
（メタ）アクリル酸などのモノ（メタ）アクリレート
類，エチレングリコールジ（メタ）アクリレート，ポリ
エチレングリコールジアクリレート，ネオペンチルグリ
コールジ（メタ）アクリレート，テトラメチロールメタ
ンジ（メタ）アクリレート，トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレート，トリメチロールメタントリ
（メタ）アクリレート，ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート，ジペンタエリスリトールペンタ（メ
タ）アクリレート，ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート,2−ヒドロキシ−１−（メタ）アクリ
ロキシ−３−（メタ）アクリロキシプロパン，ポリエス
テルポリ（メタ）アクリレート，ポリウレタンポリ（メ
タ）アクリレートなどのポリ（メタ）アクリレート類，
ジアリルフタレート類など，あるいはこれらの混合物を
用いることができるが，銅箔回路への接着性の面からは
水酸基やカルボキシ基を有するものを主成分とするもの
を用いることが好ましく，銅箔回路への接着性，硬化性
および可撓性の面からはテトラメチロールメタントリア
クリレートを主成分とするものを用いることが好まし
い。
（Ａ）および（Ｂ）からなる混合物100重量部に対し
て（Ｃ）は10〜200重量部用いられる。
て（Ｃ）は10〜200重量部用いられる。
（Ｃ）の量が10重量部未満では硬化が不十分となり，
露光後，弱アルカリ水溶液による現像の際に露光部分が
剥離し,200重量部を超えると，タックが強くなり，マス
クが貼りついてしまい，接触露光ができなくなる。
露光後，弱アルカリ水溶液による現像の際に露光部分が
剥離し,200重量部を超えると，タックが強くなり，マス
クが貼りついてしまい，接触露光ができなくなる。
本発明において，粘度調整などの目的で，必要に応じ
て有機溶剤（Ｄ）を用いることができる。有機溶剤
（Ｄ）は，エポキシ化合物（Ｂ）の種類により適宜選択
される。このような有機溶剤（Ｄ）としては，例えば，
エチレングリコールモノアルキルエーテル類，ジエチレ
ングリコールモノアルキルエーテル類，エチレングリコ
ールジアルキルエーテル類，ジエチレングリコールジア
ルキルエーテル類，エチレングリコールモノアルキルエ
ーテルアセテート類，ジエチレングリコールモノアルキ
ルエーテルアセテート類などの他，エポキシ化合物
（Ｂ）が，トリグリシジルイソシアヌレート，ハイドロ
キノンジグリシジルエーテルまたはビスフェノールＳグ
リシジルエーテルである場合には，アセトン，メチルエ
チルケトン，メチルイソブチルケトンなどのケトン類，
酢酸エチル，酢酸ブチル，酢酸イソプロピルなどのエス
テル類，トルエン，キシレンなどの芳香族炭化水素類，
ジメチルホルムアミドなどを用いることができる。
て有機溶剤（Ｄ）を用いることができる。有機溶剤
（Ｄ）は，エポキシ化合物（Ｂ）の種類により適宜選択
される。このような有機溶剤（Ｄ）としては，例えば，
エチレングリコールモノアルキルエーテル類，ジエチレ
ングリコールモノアルキルエーテル類，エチレングリコ
ールジアルキルエーテル類，ジエチレングリコールジア
ルキルエーテル類，エチレングリコールモノアルキルエ
ーテルアセテート類，ジエチレングリコールモノアルキ
ルエーテルアセテート類などの他，エポキシ化合物
（Ｂ）が，トリグリシジルイソシアヌレート，ハイドロ
キノンジグリシジルエーテルまたはビスフェノールＳグ
リシジルエーテルである場合には，アセトン，メチルエ
チルケトン，メチルイソブチルケトンなどのケトン類，
酢酸エチル，酢酸ブチル，酢酸イソプロピルなどのエス
テル類，トルエン，キシレンなどの芳香族炭化水素類，
ジメチルホルムアミドなどを用いることができる。
本発明の液状フォトソルダーレジスト組成物には，そ
の性能を阻害しない範囲で，必要に応じて，印刷塗布状
態を確認しやすくするためのフタロシアニングリーン，
チタン白などの染顔料，流動性を調整するための微粉シ
リカなどのチクソトロープ剤，流動性を調整し現像を容
易にするためのタルク，炭酸マグネシウム，炭酸カルシ
ウム，天然マイカ，合成マイカなどの体質顔料，暗反応
を防止し貯蔵安定性を増大させるための重合禁止剤，ワ
ックス類，あるいは熱重合開始剤などの添加物（Ｅ）を
添加することができる。上記合成マイカとしては，天然
マイカの結晶水をフッ素で置換した形の合成マイカであ
るコロイド性フッ素けい酸マグネシウム「ダイモナイ
ト」シリーズ（トピー工業（株）製，商品名）などを用
いることが好ましい。また，露光に用いられる放射線が
紫外線の場合には，硬化性の面から，光重合開始剤およ
び必要に応じて光重合促進剤（Ｆ）を添加することが好
ましい。このような光重合開始剤としては，ベンゾフェ
ノン，メチルベンゾフェノン,o−ベンゾイル安息香酸，
ベンゾイルエチルエーテル,2,2−ジエトキシアセトフェ
ノン,2,4−ジエチルチオキサントンなどがあり，光重合
促進剤としてはｐ−ジメチル安息香酸イソアミル,4,4−
ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン，ジメチルエタ
ノールアミンなどがある。
の性能を阻害しない範囲で，必要に応じて，印刷塗布状
態を確認しやすくするためのフタロシアニングリーン，
チタン白などの染顔料，流動性を調整するための微粉シ
リカなどのチクソトロープ剤，流動性を調整し現像を容
易にするためのタルク，炭酸マグネシウム，炭酸カルシ
ウム，天然マイカ，合成マイカなどの体質顔料，暗反応
を防止し貯蔵安定性を増大させるための重合禁止剤，ワ
ックス類，あるいは熱重合開始剤などの添加物（Ｅ）を
添加することができる。上記合成マイカとしては，天然
マイカの結晶水をフッ素で置換した形の合成マイカであ
るコロイド性フッ素けい酸マグネシウム「ダイモナイ
ト」シリーズ（トピー工業（株）製，商品名）などを用
いることが好ましい。また，露光に用いられる放射線が
紫外線の場合には，硬化性の面から，光重合開始剤およ
び必要に応じて光重合促進剤（Ｆ）を添加することが好
ましい。このような光重合開始剤としては，ベンゾフェ
ノン，メチルベンゾフェノン,o−ベンゾイル安息香酸，
ベンゾイルエチルエーテル,2,2−ジエトキシアセトフェ
ノン,2,4−ジエチルチオキサントンなどがあり，光重合
促進剤としてはｐ−ジメチル安息香酸イソアミル,4,4−
ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン，ジメチルエタ
ノールアミンなどがある。
上記（Ａ），（Ｂ）および（Ｃ），必要に応じて
（Ｄ），（Ｅ）および（Ｆ）が混合され，三本ロール，
ボールミルなどの分散手段，あるいはスーパーミキサー
などの攪拌手段により混練または混合される。このよう
に混練または混合して得られた液状フォトソルダーレジ
スト組成物は，スクリーン印刷，ロールコート，カーテ
ンフローコート，スプレーコートなどの方法により，銅
箔回路上全面に印刷塗布される。印刷塗布後，必要に応
じて遠赤外線または温風により50〜80℃程度にプリベー
クされ有機溶剤（Ｄ）が除去され，ハンダメッキされる
部分だけが放射線を通さないようにしたネガマスクを用
いて放射線による露光が行なわれる。ネガマスクとして
は，放射線が紫外線の場合にはネガフィルムが，電子線
の場合には金属製マスクが,X線の場合には鉛製マスク
が，それぞれ使用されるが，簡便なネガフィルムが使用
できるため放射線としては紫外線を用いることが好まし
い。紫外線の強度としては700〜600mJ/cm2である。次
に，炭酸ナトリウム水溶液などの弱アルカリ性の現像液
によりスプレーなどの手段で現像され,150〜170℃程度
の熱風で１時間程度あるいは赤外線で170〜180℃に７〜
８分程度ポストーベークされ，ハンダメッキ耐性を有す
るソルダーレジスト基板を得られる。
（Ｄ），（Ｅ）および（Ｆ）が混合され，三本ロール，
ボールミルなどの分散手段，あるいはスーパーミキサー
などの攪拌手段により混練または混合される。このよう
に混練または混合して得られた液状フォトソルダーレジ
スト組成物は，スクリーン印刷，ロールコート，カーテ
ンフローコート，スプレーコートなどの方法により，銅
箔回路上全面に印刷塗布される。印刷塗布後，必要に応
じて遠赤外線または温風により50〜80℃程度にプリベー
クされ有機溶剤（Ｄ）が除去され，ハンダメッキされる
部分だけが放射線を通さないようにしたネガマスクを用
いて放射線による露光が行なわれる。ネガマスクとして
は，放射線が紫外線の場合にはネガフィルムが，電子線
の場合には金属製マスクが,X線の場合には鉛製マスク
が，それぞれ使用されるが，簡便なネガフィルムが使用
できるため放射線としては紫外線を用いることが好まし
い。紫外線の強度としては700〜600mJ/cm2である。次
に，炭酸ナトリウム水溶液などの弱アルカリ性の現像液
によりスプレーなどの手段で現像され,150〜170℃程度
の熱風で１時間程度あるいは赤外線で170〜180℃に７〜
８分程度ポストーベークされ，ハンダメッキ耐性を有す
るソルダーレジスト基板を得られる。
本発明により，貯蔵安定性にすぐれ一液型としても使
用可能で，弱アルカリ水溶液で現像することができ，作
業環境保全や大気汚染の問題がなく，露光現像後にすぐ
れたハンダメッキ耐性を発現する液状フォトソルダーレ
ジスト組成物が得られるようになった。
用可能で，弱アルカリ水溶液で現像することができ，作
業環境保全や大気汚染の問題がなく，露光現像後にすぐ
れたハンダメッキ耐性を発現する液状フォトソルダーレ
ジスト組成物が得られるようになった。
Claims (1)
- 【請求項１】無水マレイン酸および（または）無水イタ
コン酸10モル％以上と無水マレイン酸および無水イタコ
ン酸以外のラジカル重合性モノマー90モル％以下とを共
重合して得られる共重合物の無水マレイン酸および無水
イタコン酸成分１モルに対して、ラジカル重合性の一価
アルコールおよび（または）一価エポキシ化合物、およ
びラジカル重合性でない一価アルコールおよび（また
は）一価エポキシ化合物0.05〜0.95モルの割合で反応さ
せて得られるエステル化物（Ａ），およびトリグリシジ
ルイソシアヌレート、ハイドロキノンジグリシジルエー
テル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂およびフェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂から選ばれる１種または２種以上の
ラジカル重合性二重結合を有さないエポキシ化合物
（Ｂ）からなる混合物100重量部、前記（Ａ）以外のエ
ポキシ基を有さないラジカル重合性化合物（Ｃ）10〜20
0重量部、および必要に応じて有機溶剤（Ｄ）からなる
液状フォトソルダーレジスト組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62037847A JPH0833656B2 (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 液状フオトソルダ−レジスト組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62037847A JPH0833656B2 (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 液状フオトソルダ−レジスト組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63205649A JPS63205649A (ja) | 1988-08-25 |
| JPH0833656B2 true JPH0833656B2 (ja) | 1996-03-29 |
Family
ID=12508928
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62037847A Expired - Lifetime JPH0833656B2 (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 液状フオトソルダ−レジスト組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0833656B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2750399B2 (ja) * | 1989-10-24 | 1998-05-13 | 東京応化工業株式会社 | 耐熱性感光性樹脂組成物 |
| US5723261A (en) * | 1989-11-30 | 1998-03-03 | Tamura Kaken Co., Ltd. | Photopolymerizable composition |
| JP2007079294A (ja) * | 2005-09-15 | 2007-03-29 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| JP4672527B2 (ja) * | 2005-11-08 | 2011-04-20 | 三洋化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
| JP6114799B2 (ja) * | 2015-10-20 | 2017-04-12 | 株式会社タムラ製作所 | 感光性樹脂組成物並びに感光性樹脂組成物の硬化被膜を有するプリント配線板及び反射シートの製造方法 |
| JP5997860B1 (ja) | 2016-03-16 | 2016-09-28 | 互応化学工業株式会社 | 液状ソルダーレジスト組成物及びプリント配線板 |
| JP6112691B1 (ja) * | 2016-03-16 | 2017-04-12 | 互応化学工業株式会社 | 液状ソルダーレジスト組成物及びプリント配線板 |
| JP6154942B1 (ja) * | 2016-07-11 | 2017-06-28 | 互応化学工業株式会社 | 液状ソルダーレジスト組成物及びプリント配線板 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62285903A (ja) * | 1986-06-04 | 1987-12-11 | Ube Ind Ltd | 光硬化性組成物 |
| JP2585224B2 (ja) * | 1986-07-03 | 1997-02-26 | 三井東圧化学株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
-
1987
- 1987-02-23 JP JP62037847A patent/JPH0833656B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63205649A (ja) | 1988-08-25 |
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