JPS63205649A - 液状フオトソルダ−レジスト組成物 - Google Patents
液状フオトソルダ−レジスト組成物Info
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- JPS63205649A JPS63205649A JP3784787A JP3784787A JPS63205649A JP S63205649 A JPS63205649 A JP S63205649A JP 3784787 A JP3784787 A JP 3784787A JP 3784787 A JP3784787 A JP 3784787A JP S63205649 A JPS63205649 A JP S63205649A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は、印刷回路製造工程などにおいて好適に用いら
れ、紫外線などの放射線による露光および弱アルカリ水
溶液による現像の後に、すぐれたハンダメッキ耐性を発
現する液状フォトソルダーレジスト組成物に関する。
れ、紫外線などの放射線による露光および弱アルカリ水
溶液による現像の後に、すぐれたハンダメッキ耐性を発
現する液状フォトソルダーレジスト組成物に関する。
（従来の技術）
従来、液状フォトソルダーレジストとしては、ｎ□光１
．１，１．１−トリクロロエタンなどのハロゲン系有機
溶剤により現像される溶剤現像型のものが知られていた
。しかしながら、ハロゲン系有機溶剤は有機溶剤の中で
は毒性が高く１作業環境保全、大気汚染防止などの面か
ら９弱アルカリ水溶液により現像されるアルカリ現像型
のものへの転換が望まれていた。
．１，１．１−トリクロロエタンなどのハロゲン系有機
溶剤により現像される溶剤現像型のものが知られていた
。しかしながら、ハロゲン系有機溶剤は有機溶剤の中で
は毒性が高く１作業環境保全、大気汚染防止などの面か
ら９弱アルカリ水溶液により現像されるアルカリ現像型
のものへの転換が望まれていた。
しかしながら、これまで提案さたアルカリ現像型の液状
フォトソルダーレジスト組成物は、冷暗所においても硬
化が徐々に進行し、数日から１ｉＰｉ間程度でゲル化す
るため、使用直前に硬化剤を混合する二液型として用い
られており、二液を計量混合する面倒がある上に、印刷
塗工後に残った液状フォトソルダーレジスト組成物の再
使用が困難であるという欠点があった。
フォトソルダーレジスト組成物は、冷暗所においても硬
化が徐々に進行し、数日から１ｉＰｉ間程度でゲル化す
るため、使用直前に硬化剤を混合する二液型として用い
られており、二液を計量混合する面倒がある上に、印刷
塗工後に残った液状フォトソルダーレジスト組成物の再
使用が困難であるという欠点があった。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は、上記の種々の欠点を改良し、貯蔵安定性にす
ぐれ一液型としても使用可能で１弱アルカリ水溶液で現
像することができ、露光現象後にすぐれたハンダメッキ
耐性を発現する液状フォトソルダーレジスト組成物を提
供するものである。
ぐれ一液型としても使用可能で１弱アルカリ水溶液で現
像することができ、露光現象後にすぐれたハンダメッキ
耐性を発現する液状フォトソルダーレジスト組成物を提
供するものである。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、無水マレイン酸および（または）無水イタコ
ン酸１０モル％以上と無水マレイン酸および無水イタコ
ン酸以外のラジカル重合性モノマー９０モル％以下とを
共重合して得られる共重合の無水マレイン酸および無水
イタコン酸成分１モルに対して。
ン酸１０モル％以上と無水マレイン酸および無水イタコ
ン酸以外のラジカル重合性モノマー９０モル％以下とを
共重合して得られる共重合の無水マレイン酸および無水
イタコン酸成分１モルに対して。
ラジカル重合性の一価アルコールおよび（または）一価
エポキシ化合物、および必要に応じてラジカル重合性で
ない一価アルコールおよび（または）一価エポキシ化合
物０．０５〜０．９５モルの割合で反応させて得られる
エステル化物（Ａ）、およびトリグリシジルイソシアヌ
レート、ハイドロキノンジグリシジルエーテル、ビスフ
ェノールＳジグリシジルエーテル、タレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂およびフェノールノボラック型エポキ
シ樹脂から選ばれる１種または２種以上のエポキシ化合
物（Ｂ）からなる混合物１００重量部、前記（Ａ）以外
のエポキシ基を有さないラジカル重合性化合物（Ｃ）１
０〜２００重量部、および必要に応じて有機溶剤（Ｄ）
からなる液状フォトソルダーレジスト組成物である。
エポキシ化合物、および必要に応じてラジカル重合性で
ない一価アルコールおよび（または）一価エポキシ化合
物０．０５〜０．９５モルの割合で反応させて得られる
エステル化物（Ａ）、およびトリグリシジルイソシアヌ
レート、ハイドロキノンジグリシジルエーテル、ビスフ
ェノールＳジグリシジルエーテル、タレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂およびフェノールノボラック型エポキ
シ樹脂から選ばれる１種または２種以上のエポキシ化合
物（Ｂ）からなる混合物１００重量部、前記（Ａ）以外
のエポキシ基を有さないラジカル重合性化合物（Ｃ）１
０〜２００重量部、および必要に応じて有機溶剤（Ｄ）
からなる液状フォトソルダーレジスト組成物である。
本発明において無水マレイン酸および（または）無水イ
タコン酸と共重合される無水マレイン酸および無水イタ
コン酸以外のラジカル重合性モノマーとしては、無水マ
レイン酸および（または）無水イタコン酸とゲル化せず
に共重合可能なモノマーであり。
タコン酸と共重合される無水マレイン酸および無水イタ
コン酸以外のラジカル重合性モノマーとしては、無水マ
レイン酸および（または）無水イタコン酸とゲル化せず
に共重合可能なモノマーであり。
無水酸基と反応するエポキシ基、イソシアネート基。
水酸基、あるいはアミノ基などの活性基を有しないモノ
マーである。このようなモノマーとしては、スチレン、
α−メチルスチレンなどのスチレン系モノマー類、メチ
ル（メタ）アクリレートエチル（メタ）アクリレート、
ブチル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸
アルキルエステル類、酢酸ビニルなどあるいはこれらの
混合物を用いることができるが、得られる液状フォトソ
ルダーレジスト組成物の露光現像後の硬度の面からは、
スチレン、α−メチルスチレン、メチルメタアクリレー
ト、あるいはこれらの混合物を主成分とするものを用い
ることが好ましい。また２本発明の液状フォトソルダー
レジスト組成物の性能を阻害しない範囲で、 （メタ）
アクリル酸、マレイン酸などの不飽和酸を含んでいても
よい。
マーである。このようなモノマーとしては、スチレン、
α−メチルスチレンなどのスチレン系モノマー類、メチ
ル（メタ）アクリレートエチル（メタ）アクリレート、
ブチル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸
アルキルエステル類、酢酸ビニルなどあるいはこれらの
混合物を用いることができるが、得られる液状フォトソ
ルダーレジスト組成物の露光現像後の硬度の面からは、
スチレン、α−メチルスチレン、メチルメタアクリレー
ト、あるいはこれらの混合物を主成分とするものを用い
ることが好ましい。また２本発明の液状フォトソルダー
レジスト組成物の性能を阻害しない範囲で、 （メタ）
アクリル酸、マレイン酸などの不飽和酸を含んでいても
よい。
無水マレイン酸および（または）無水イタコン酸１０モ
ル％以上と無水マレイン酸および無水イタコン酸以外の
モノマー９０モル％以下とが共重合され共重合物とされ
る。無水マレイン酸および（または）無水イタコン酸の
量が１０モル％未満の場合には、露光後、未露光部分の
弱アルカリ水溶液への溶解性が低くなるとともに、露光
部分のハンダメッキ耐性が低くなる。
ル％以上と無水マレイン酸および無水イタコン酸以外の
モノマー９０モル％以下とが共重合され共重合物とされ
る。無水マレイン酸および（または）無水イタコン酸の
量が１０モル％未満の場合には、露光後、未露光部分の
弱アルカリ水溶液への溶解性が低くなるとともに、露光
部分のハンダメッキ耐性が低くなる。
得られた共重合物の無水マレイン酸および無水イタコン
酸成分１モルに対して、ラジカル重合性の一価アルコー
ルおよび（または）一価エポキシ化合物。
酸成分１モルに対して、ラジカル重合性の一価アルコー
ルおよび（または）一価エポキシ化合物。
および必要に応じてラジカル重合性でない一価アルコー
ルおよび（または）一価エポキシ化合物０．０５〜０．
９５モルの割合で反応させて、エステル化物（Ａ）が得
られる。
ルおよび（または）一価エポキシ化合物０．０５〜０．
９５モルの割合で反応させて、エステル化物（Ａ）が得
られる。
ラジカル重合性の一価アルコールとしては、２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メ
タ）アクリレートなどの水酸基含有（メタ）アクリル酸
エステル、アリルアルコールなど、あるいはこれらの混
合物を用いることができるが、得られる共重合物の無水
マレイン酸および無水イタコン酸成分とのエステル化反
応が速く、エステル化物（Ａ）の露光時の硬化反応が速
いことから。
キシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メ
タ）アクリレートなどの水酸基含有（メタ）アクリル酸
エステル、アリルアルコールなど、あるいはこれらの混
合物を用いることができるが、得られる共重合物の無水
マレイン酸および無水イタコン酸成分とのエステル化反
応が速く、エステル化物（Ａ）の露光時の硬化反応が速
いことから。
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを用いるこ
とが好ましい、また、ラジカル重合性の一価エボキシ化
合物としては、グリシジル（メタ）アクリレート、アリ
ルグリシジルエーテル、シクロヘキセンビニルモノエポ
キサイドなど、あるいはこれらの混合物を用いることが
できる。
とが好ましい、また、ラジカル重合性の一価エボキシ化
合物としては、グリシジル（メタ）アクリレート、アリ
ルグリシジルエーテル、シクロヘキセンビニルモノエポ
キサイドなど、あるいはこれらの混合物を用いることが
できる。
また、得られるエステル化物（Ａ）のエチレン性二重結
合の密度すなわち露光時の硬化性と弱アルカリ水溶液へ
の溶解性とのバランスを調節するために。
合の密度すなわち露光時の硬化性と弱アルカリ水溶液へ
の溶解性とのバランスを調節するために。
上記のラジカル重合性の一価アルコールおよび（または
）一価エポキシ化合物に、ラジカル重合性でない一価ア
ルコールおよび（または）一価エポキシ化合物を併用す
ることもできる。このようなラジカル重合性でない一価
アルコールには、メタノール、エタノール、プロピルア
ルコール、ブタノールなどの脂肪族一価アルコール、ベ
ンジルアルコール、フェノールやアルキルフェノールの
アルキレンオキサイド付加物などの芳香族アルコール、
シクロヘキサノールなどの脂環族アルコールなど、ある
いはこれらの混合物を用いることができる。また、ラジ
カル重合性でない一価エボキシ化合物としては、ｎ−ブ
チルグリシジルエーテルなどのアルキルグリシジルエー
テル、フェニルグリシジルエーテルなどのアリールグリ
シジルエーテル、スチレンオキサイド、プロピレンオキ
サイド、オクチレンオキサイドなどのアルキレンオキサ
イド、三級カルボン酸グリシジルエステルなどをあげる
ことができる。
）一価エポキシ化合物に、ラジカル重合性でない一価ア
ルコールおよび（または）一価エポキシ化合物を併用す
ることもできる。このようなラジカル重合性でない一価
アルコールには、メタノール、エタノール、プロピルア
ルコール、ブタノールなどの脂肪族一価アルコール、ベ
ンジルアルコール、フェノールやアルキルフェノールの
アルキレンオキサイド付加物などの芳香族アルコール、
シクロヘキサノールなどの脂環族アルコールなど、ある
いはこれらの混合物を用いることができる。また、ラジ
カル重合性でない一価エボキシ化合物としては、ｎ−ブ
チルグリシジルエーテルなどのアルキルグリシジルエー
テル、フェニルグリシジルエーテルなどのアリールグリ
シジルエーテル、スチレンオキサイド、プロピレンオキ
サイド、オクチレンオキサイドなどのアルキレンオキサ
イド、三級カルボン酸グリシジルエステルなどをあげる
ことができる。
上記共重合物の無水マレイン酸および無水イタコン酸成
分１モルに対して２反応されるラジカル重合性の一価ア
ルコールおよび（または）一価エポキシ化合物、および
必要に応じてラジカル重合性でない一価アルコールおよ
び（または）一価エポキシ化合物の割合が０．０５モル
未満の場合には、露光後、未露光部分の弱アルカリ水溶
液への溶解性が低くなるとともに、露光部分のハンダメ
ッキ耐性が低くなり。
分１モルに対して２反応されるラジカル重合性の一価ア
ルコールおよび（または）一価エポキシ化合物、および
必要に応じてラジカル重合性でない一価アルコールおよ
び（または）一価エポキシ化合物の割合が０．０５モル
未満の場合には、露光後、未露光部分の弱アルカリ水溶
液への溶解性が低くなるとともに、露光部分のハンダメ
ッキ耐性が低くなり。
０．９５モルを超える場合には、露光部分のハンダメッ
キ耐性が低くなる。
キ耐性が低くなる。
本発明においてエポキシ化合物（Ｂ）としては。
トリグリシジルイソシアヌレート（ＴＧ Ｉ Ｇ） 、
ハイドロキノンジクリシジルエーテル、ビスフェノール
Ｓジグリシジルエーテル、タレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂およびフェノールノボラック型エポキシ樹脂か
ら選ばれる１種または２種以上が用いられるが、ＴＧＩ
Ｃを主成分とするものが特に貯蔵安定性が高く、このよ
うなものを用いることが最も好ましい、上記のようなタ
レゾールノボラック型エポキシ樹脂の代表例としては「
エピクロンＮ−６９５」 （大日本インキ化学工業■製
、商品名）があり。
ハイドロキノンジクリシジルエーテル、ビスフェノール
Ｓジグリシジルエーテル、タレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂およびフェノールノボラック型エポキシ樹脂か
ら選ばれる１種または２種以上が用いられるが、ＴＧＩ
Ｃを主成分とするものが特に貯蔵安定性が高く、このよ
うなものを用いることが最も好ましい、上記のようなタ
レゾールノボラック型エポキシ樹脂の代表例としては「
エピクロンＮ−６９５」 （大日本インキ化学工業■製
、商品名）があり。
フェノールノボラック型エポキシ樹脂の代表例としては
「エピクロンＮ−７７５Ｊ （大日本インキ化学工業
■製、商品名）がある他、このようなノボラック型エポ
キシ樹脂としては、［エピコート１５２Ｊ。
「エピクロンＮ−７７５Ｊ （大日本インキ化学工業
■製、商品名）がある他、このようなノボラック型エポ
キシ樹脂としては、［エピコート１５２Ｊ。
「エピコート１５４Ｊ （油化シェルエポキシ■製）
ｒＤＥＮ４３１ｊ、ｒＤＥＮ４３８Ｊ （ダウ・ケミ
カル社製）、ｒＥＰＮ１１３８Ｊ （チバ社製）（い
ずれも商品名）などがある。
ｒＤＥＮ４３１ｊ、ｒＤＥＮ４３８Ｊ （ダウ・ケミ
カル社製）、ｒＥＰＮ１１３８Ｊ （チバ社製）（い
ずれも商品名）などがある。
エステル化物（Ａ）に対するエポキシ化合物（Ｂ）の量
には、特に制限はないが、エステル化物（Ａ）の無水マ
レイン酸および無水イタコン酸成分に対して、エポキシ
化合物（Ｂ）を当量比０．５〜１゜５の割合で、特に好
ましくは当量比１．０前後の割合で用いることが好まし
い。エポキシ化合物（Ｂ）を当量比０．５未満、または
１．５を趙えて用いる場合には、ハンダメッキ耐性が若
干低くなる傾向がある。
には、特に制限はないが、エステル化物（Ａ）の無水マ
レイン酸および無水イタコン酸成分に対して、エポキシ
化合物（Ｂ）を当量比０．５〜１゜５の割合で、特に好
ましくは当量比１．０前後の割合で用いることが好まし
い。エポキシ化合物（Ｂ）を当量比０．５未満、または
１．５を趙えて用いる場合には、ハンダメッキ耐性が若
干低くなる傾向がある。
また、上記共重合物に反応させるラジカル重合性の一価
アルコールおよび（または）一価エポキシ化合物の量が
多い場合には、エポキシ化合物（Ｂ）の量を少なくする
ことができる。
アルコールおよび（または）一価エポキシ化合物の量が
多い場合には、エポキシ化合物（Ｂ）の量を少なくする
ことができる。
本発明において前記（Ａ）以外のエポキシ基を有さない
ラジカル重合性化合物（Ｃ）としては、エチル（メタ）
アクリレ−ロブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート。
ラジカル重合性化合物（Ｃ）としては、エチル（メタ）
アクリレ−ロブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート。
２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、スチレ
ン、α−アルキルスチレン、オリゴエステル（メタ）モ
ノアクリレート （メタ）アクリル酸などのモノ （メ
タ）アクリレート類、エチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、テト
ラメチロールメタンジ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ （メタ）アクリレート、トリメチ
ロールメタントリ （メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ （メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキ
シ−１−（メタ）アクリロキシ−３−（メタ）アクリロ
キシプロパン、ポリエステルポリ （メタ）アクリレー
ト、ポリウレタンポリ （メタ）アクリレートなどのポ
リ （メタ）アクリレート類、ジアリルフタレート類な
ど、あるいはこれらの混合物を用いることができるが、
＆１ｉｉｌ箔回路への接着性の面からは水酸基やカルボ
キシル基を有するものを主成分とするものを用いること
が好ましく、銅箔回路への接着性、硬化性および可塑性
の面からはテトラメチロールメタントリアクリレートを
主成分とするものを用いることが好ましい。
ン、α−アルキルスチレン、オリゴエステル（メタ）モ
ノアクリレート （メタ）アクリル酸などのモノ （メ
タ）アクリレート類、エチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、テト
ラメチロールメタンジ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ （メタ）アクリレート、トリメチ
ロールメタントリ （メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ （メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキ
シ−１−（メタ）アクリロキシ−３−（メタ）アクリロ
キシプロパン、ポリエステルポリ （メタ）アクリレー
ト、ポリウレタンポリ （メタ）アクリレートなどのポ
リ （メタ）アクリレート類、ジアリルフタレート類な
ど、あるいはこれらの混合物を用いることができるが、
＆１ｉｉｌ箔回路への接着性の面からは水酸基やカルボ
キシル基を有するものを主成分とするものを用いること
が好ましく、銅箔回路への接着性、硬化性および可塑性
の面からはテトラメチロールメタントリアクリレートを
主成分とするものを用いることが好ましい。
（Ａ）および（Ｂ）からなる混合物１００重量部に対し
て（Ｃ）は１０〜２００重量部用いられる。
て（Ｃ）は１０〜２００重量部用いられる。
（Ｃ）の量が１０重量部未満では硬化が不十分となり、
露光後２弱アルカリ水溶液による現像の際に露光部分が
剥離し、２００重量部を超えると、タックが強くなり、
マスクが貼りついてしまい、接触露光ができなくなる。
露光後２弱アルカリ水溶液による現像の際に露光部分が
剥離し、２００重量部を超えると、タックが強くなり、
マスクが貼りついてしまい、接触露光ができなくなる。
本発明において、粘度調整などの目的で、必要に応じて
有機溶剤（Ｄ）を用いることができる。有機溶剤（Ｄ）
は、エポキシ化合物（Ｂ）の種類により適宜選択される
。このような有機溶剤（Ｄ）としては９例えば、エチレ
ングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリ
コールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジ
アルキルエーテル類。
有機溶剤（Ｄ）を用いることができる。有機溶剤（Ｄ）
は、エポキシ化合物（Ｂ）の種類により適宜選択される
。このような有機溶剤（Ｄ）としては９例えば、エチレ
ングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリ
コールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジ
アルキルエーテル類。
ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレン
グリコールモノアルキルエーテルアセテート類。
グリコールモノアルキルエーテルアセテート類。
ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート
類などの他、エポキシ化合物（Ｂ）が、トリグリシジル
イソシアヌレート、ハイドロキノンジグリシジルエーテ
ルまたはビスフェノールＳグリシジルエーテルである場
合には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトンなどのケトン類。
類などの他、エポキシ化合物（Ｂ）が、トリグリシジル
イソシアヌレート、ハイドロキノンジグリシジルエーテ
ルまたはビスフェノールＳグリシジルエーテルである場
合には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトンなどのケトン類。
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピルなどのエス
テル類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、
ジメチルホルムアミドなどを用いることができる。
テル類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、
ジメチルホルムアミドなどを用いることができる。
本発明の液状フォトソルダーレジスト組成物には。
その性能を阻害しない範囲で、必要に応じて、印刷塗布
状態を確認しやすくするためのフタロシアニングリーン
、チタン白などの染顔料、流動性を調整するための微粉
シリカなどのチクソトロープ剤、流動性を調整し現像を
容易にするためのタルク、炭酸マグネシウム、炭酸カル
シウム、天然マイカ、合成マイカなどの体質顔料、暗反
応を防止し貯蔵安定性を増大させるための重合禁止剤、
ワックス類、あるいは熱重合開始剤などの添加剤（Ｅ）
を添加することができる。上記合成マイカとしては、天
然マイカの結晶水をふっ素で置換した形の合成マイカで
あるコロイド性含ふっ素けい酸マグネシウム「ダイモナ
イト」シリーズ（トビーエ業側製、商品名）などを用い
ることが好ましい。また、露光に用いられる放射線が紫
外線の場合には、硬化性の面から、光重合開始剤および
必要に応じて光重合促進剤（Ｆ）を添加することが好ま
しい。このような光重合開始剤としては、ベンゾフェノ
ン、メチルベンゾフェノン、０−ヘンソイル安息香ｆｉ
、ベンゾイルエチルエーテル。
状態を確認しやすくするためのフタロシアニングリーン
、チタン白などの染顔料、流動性を調整するための微粉
シリカなどのチクソトロープ剤、流動性を調整し現像を
容易にするためのタルク、炭酸マグネシウム、炭酸カル
シウム、天然マイカ、合成マイカなどの体質顔料、暗反
応を防止し貯蔵安定性を増大させるための重合禁止剤、
ワックス類、あるいは熱重合開始剤などの添加剤（Ｅ）
を添加することができる。上記合成マイカとしては、天
然マイカの結晶水をふっ素で置換した形の合成マイカで
あるコロイド性含ふっ素けい酸マグネシウム「ダイモナ
イト」シリーズ（トビーエ業側製、商品名）などを用い
ることが好ましい。また、露光に用いられる放射線が紫
外線の場合には、硬化性の面から、光重合開始剤および
必要に応じて光重合促進剤（Ｆ）を添加することが好ま
しい。このような光重合開始剤としては、ベンゾフェノ
ン、メチルベンゾフェノン、０−ヘンソイル安息香ｆｉ
、ベンゾイルエチルエーテル。
２．２−ジエトキシアセトフヱノン、２．４−ジエチル
チオキサントンなどがあり、光重合促進剤としてはｐ−
ジメチル安息香酸イソアミル、４．４−ビス（ジエチル
アミノ）ベンゾフェノン、ジメチルエタノールアミンな
どがある。
チオキサントンなどがあり、光重合促進剤としてはｐ−
ジメチル安息香酸イソアミル、４．４−ビス（ジエチル
アミノ）ベンゾフェノン、ジメチルエタノールアミンな
どがある。
上記（Ａ）、 （Ｂ）および（Ｃ）、必要に応じて（
Ｄ）、 （Ｅ）および（Ｆ）が混合され、三本ロール
、ボールミルなどの分散手段、あるいはスーパーミキサ
ーなどの攪拌手段により混練または混合される。このよ
うに混練または混合して得られた液状フォトソルダーレ
ジスト組成物は、スクリーン印刷。
Ｄ）、 （Ｅ）および（Ｆ）が混合され、三本ロール
、ボールミルなどの分散手段、あるいはスーパーミキサ
ーなどの攪拌手段により混練または混合される。このよ
うに混練または混合して得られた液状フォトソルダーレ
ジスト組成物は、スクリーン印刷。
ロールコート、カーテンフローコート、スプレーコート
などの方法により、銅箔回路上全面に印刷塗布される。
などの方法により、銅箔回路上全面に印刷塗布される。
印刷塗布後、必要に応じて遠赤外線または温風により５
０〜８０℃程度にプリベークされ有機溶剤（Ｄ）が除去
され、ハンダメッキされる部分だけが放射線を通さない
ようにしたネガマスクを用いて放射線による露光が行な
われる。ネガマスクとしては、放射線が紫外線の場合に
はネガフィルムが。
０〜８０℃程度にプリベークされ有機溶剤（Ｄ）が除去
され、ハンダメッキされる部分だけが放射線を通さない
ようにしたネガマスクを用いて放射線による露光が行な
われる。ネガマスクとしては、放射線が紫外線の場合に
はネガフィルムが。
電子線の場合には金属製マスクが、Ｘ線の場合には鉛製
°マスクが、それぞれ使用されるが９Ｍ便なネガフィル
ムが使用できるため放射線としては紫外線を用いること
が好ましい。紫外線の強度としては７００〜６００ｍＪ
／−である。次に、炭酸ナトリウム水溶液などの弱アル
カリ性の現像液によりスプレーなどの手段で現像され、
１５０〜１７０℃程度の熱風で１時間程度あるいは赤外
線で１７０〜１８０℃に７〜８分程度ボスト−ベークさ
れ、ハンダメッキ耐性を有するソルダーレジスト基板を
得られる。
°マスクが、それぞれ使用されるが９Ｍ便なネガフィル
ムが使用できるため放射線としては紫外線を用いること
が好ましい。紫外線の強度としては７００〜６００ｍＪ
／−である。次に、炭酸ナトリウム水溶液などの弱アル
カリ性の現像液によりスプレーなどの手段で現像され、
１５０〜１７０℃程度の熱風で１時間程度あるいは赤外
線で１７０〜１８０℃に７〜８分程度ボスト−ベークさ
れ、ハンダメッキ耐性を有するソルダーレジスト基板を
得られる。
（実施例）
以下、実施例により本発明を説明する。例中１部とは重
量部を１％とは重量％をそれぞれ表わす。
量部を１％とは重量％をそれぞれ表わす。
合成例１
スチレン−無水マレイン酸共重合体ｒｓＭＡ１０００Ｊ
（ＡＲＣＯ社製、商品名、無水マレイン酸含有率５
０モル％）４０４部をジエチレングリコールジメチルエ
ーテル（以下、ジグライムという。）４２５部に加熱溶
解したものに、空気を吹き込みながら、２−ヒドロキシ
エチルアクリレート（以下２−ＨＥＡという。）４６．
４部を滴下し、１１０℃で１８時間加熱反応させた後、
８０℃にまで冷却し、エタノール５０部を滴下し、さら
に８０℃で８時間加熱反応させた。得られたエステル化
物溶液（ａ）は。
（ＡＲＣＯ社製、商品名、無水マレイン酸含有率５
０モル％）４０４部をジエチレングリコールジメチルエ
ーテル（以下、ジグライムという。）４２５部に加熱溶
解したものに、空気を吹き込みながら、２−ヒドロキシ
エチルアクリレート（以下２−ＨＥＡという。）４６．
４部を滴下し、１１０℃で１８時間加熱反応させた後、
８０℃にまで冷却し、エタノール５０部を滴下し、さら
に８０℃で８時間加熱反応させた。得られたエステル化
物溶液（ａ）は。
固形分５４％、酸価１６０の粘稠褐色液体であった。
合成例２
ｒｓＭＡｌｏｏｏＪ ４０４部をジグライム５００部に
加熱溶解したものに、空気を吹き込みながら。
加熱溶解したものに、空気を吹き込みながら。
２−ＨＥＡ５０部を滴下し、１１０℃で１８時間反応さ
せた。得られたエステル化物溶液（ｂ）は、固形分５０
％、酸価１６５の褐色の粘稠液体であった。
せた。得られたエステル化物溶液（ｂ）は、固形分５０
％、酸価１６５の褐色の粘稠液体であった。
合成例３
９０℃に加熱したジグライム４００部に、スチレン９０
部、メチルメタアクリレート６０部、無水マレイン酸１
５０部、アゾビスイソブチロニトリル３部およびイソオ
クチルメルカプトプロピオネート３部を３０分間で滴下
した後、ちっ素気流中にて９０℃で２時間反応させた。
部、メチルメタアクリレート６０部、無水マレイン酸１
５０部、アゾビスイソブチロニトリル３部およびイソオ
クチルメルカプトプロピオネート３部を３０分間で滴下
した後、ちっ素気流中にて９０℃で２時間反応させた。
次に、このようにして得られたスチレン−メチルメタア
クリレート−無水マレイン酸共重合体溶液に２−ＨＥＡ
１００部を滴下し。
クリレート−無水マレイン酸共重合体溶液に２−ＨＥＡ
１００部を滴下し。
１００℃で１８時間反応させた後、８０℃にまで冷却し
、トルエンジイソシアネート２０部を加え、８０℃で２
時間加熱して未反応の２−ＨＥＡとトルエンジイソシア
ネートとを反応させた。次に、テトラメチロールメタン
トリアクリレート２０部を滴下し。
、トルエンジイソシアネート２０部を加え、８０℃で２
時間加熱して未反応の２−ＨＥＡとトルエンジイソシア
ネートとを反応させた。次に、テトラメチロールメタン
トリアクリレート２０部を滴下し。
８０℃で２時間加熱して未反応のトルエンジイソシアネ
ートとテトラメチロールメタントリアクリレートの一部
とを反応させた。得られたエステル化物溶液（Ｃ）は、
固形分５２％、エステル化物含有率４６．３％、酸価１
５２の褐色粘稠液体であった。
ートとテトラメチロールメタントリアクリレートの一部
とを反応させた。得られたエステル化物溶液（Ｃ）は、
固形分５２％、エステル化物含有率４６．３％、酸価１
５２の褐色粘稠液体であった。
合成例４
９０℃に加熱したジグライム４３０部に、スチレン９０
部、メチルメタアクリレート５０部、無水マレイン酸１
５０部、アゾビスイソブチロニトリル３部およびイソオ
クチルメルカプトプロピオネート３部を３０分間で滴下
し、ちっ素気流中、９０℃で２時間反応させた後、２−
ヒドロキシエチルメタアクリレート１５６部を滴下し、
空気を吹き込みながら１００℃で２０分間反応させた。
部、メチルメタアクリレート５０部、無水マレイン酸１
５０部、アゾビスイソブチロニトリル３部およびイソオ
クチルメルカプトプロピオネート３部を３０分間で滴下
し、ちっ素気流中、９０℃で２時間反応させた後、２−
ヒドロキシエチルメタアクリレート１５６部を滴下し、
空気を吹き込みながら１００℃で２０分間反応させた。
得られたエステル化物溶液（ｄ）は、固形分５１％、酸
価１３２の褐色粘稠液体であった。
価１３２の褐色粘稠液体であった。
合成例５
スチレン−無水マレイン酸共重合体く無水マレイン酸含
有率１２．５モル％２分子量３６００）８６０部をブチ
ルセロソルブアセテート９４２部に溶解したものを１０
０℃に加熱し、これに２−ＨＥＡ１１６部を滴下し、空
気を吹き込みながら１００℃で１８時間反応させた。得
られたエステル化物溶液（ｅ）は、固形分５０％、酸価
１２０の粘稠液体であった。
有率１２．５モル％２分子量３６００）８６０部をブチ
ルセロソルブアセテート９４２部に溶解したものを１０
０℃に加熱し、これに２−ＨＥＡ１１６部を滴下し、空
気を吹き込みながら１００℃で１８時間反応させた。得
られたエステル化物溶液（ｅ）は、固形分５０％、酸価
１２０の粘稠液体であった。
合成例６
ｒｓＭＡｌｏｏｏＪ ４０４部をジグライム４００部に
溶解したものに、グリシジルメタアクリレート１１３．
６部を滴下し、酸素気流中、８０℃で６時間反応させた
。得られたエステル化物溶液（ｆ）は。
溶解したものに、グリシジルメタアクリレート１１３．
６部を滴下し、酸素気流中、８０℃で６時間反応させた
。得られたエステル化物溶液（ｆ）は。
固形分５７％、酸価１８８の粘稠液体であった。
比較合成例
ｒｓＭＡｌｏｏｏＪ ４０４部をジグライム４００部に
溶解したものに、エタノール９２部を滴下し。
溶解したものに、エタノール９２部を滴下し。
８０℃で１８時間反応させた。得られたエステル化溶液
（ｇ）は、固形分５５％、酸価１５４の褐色粘稠液体で
あった。
（ｇ）は、固形分５５％、酸価１５４の褐色粘稠液体で
あった。
実施例１〜６および比較例１〜５
表１に示す組成の合成例１〜６および比較合成例で得ら
れたエステル化物溶液（ａ）〜（ｇ）、エポキシ化合物
（Ｂ）およびラジカル重合性化合物（Ｃ）の混合物１０
０部に、２．４−ジエチルチオキサントン２．０部、ｐ
−ジメチル安息香酸イソアミル０．５部、フタロシアニ
ングリーン１．２部、微粉シリカ１．２部、タルク１２
部を加え、三本ロールで混練し、液状フォトソルダーレ
ジスト組成物を得た。得られた液状フォトソルダーレジ
スト組成物の貯蔵安定性を試験した結果をあわせて表１
に示す。結果は。
れたエステル化物溶液（ａ）〜（ｇ）、エポキシ化合物
（Ｂ）およびラジカル重合性化合物（Ｃ）の混合物１０
０部に、２．４−ジエチルチオキサントン２．０部、ｐ
−ジメチル安息香酸イソアミル０．５部、フタロシアニ
ングリーン１．２部、微粉シリカ１．２部、タルク１２
部を加え、三本ロールで混練し、液状フォトソルダーレ
ジスト組成物を得た。得られた液状フォトソルダーレジ
スト組成物の貯蔵安定性を試験した結果をあわせて表１
に示す。結果は。
ゲル化までの時間で表示した。
得られた液状フォトソルダーレジスト組成物を。
１５０メツシユのポリエステル製スクリーン版を用いて
、ｗ４４部エポキシ−ガラス繊維積層板上全面にスクリ
ーン印刷し、８０℃で３０分間プリベークした後、試験
用ネガフィルム「フジステップガイド２１５段ステップ
」 （富士写真フィルム■製、商品名）を接触させ、高
圧水銀灯により、露光強度１３゜５ ｍ Ｗ ／ ｃｔ
ｌ 、露光量７００ｍＪ／ａＪで紫外線露光した。露光
後、１．５％炭酸ナトリウム水溶液（液温３０℃）を用
いてスプレー圧３ ｋＨ／ ｃｄで２０秒間現像した。
、ｗ４４部エポキシ−ガラス繊維積層板上全面にスクリ
ーン印刷し、８０℃で３０分間プリベークした後、試験
用ネガフィルム「フジステップガイド２１５段ステップ
」 （富士写真フィルム■製、商品名）を接触させ、高
圧水銀灯により、露光強度１３゜５ ｍ Ｗ ／ ｃｔ
ｌ 、露光量７００ｍＪ／ａＪで紫外線露光した。露光
後、１．５％炭酸ナトリウム水溶液（液温３０℃）を用
いてスプレー圧３ ｋＨ／ ｃｄで２０秒間現像した。
露光現像後の残りステップ段数をあわせて表１に示す。
現像後、１５０℃で１時間ポストベークを行なった。ボ
ストベーク後、フランクスｒＬＯＮＣＯレジンフラック
ス７７−２５Ｊ （ＬＯＮＣＯ社製、商品名）を塗布
し、８０℃で２分間乾燥し、１分間空冷し、２６０±５
℃のハンダ浴に２０秒間浸漬し、空冷した後、１．１．
１−１−リクロルエタンで洗浄した後、セロファン粘着
テープ基盤目剥離試験により密着性の評価を行なった。
ストベーク後、フランクスｒＬＯＮＣＯレジンフラック
ス７７−２５Ｊ （ＬＯＮＣＯ社製、商品名）を塗布
し、８０℃で２分間乾燥し、１分間空冷し、２６０±５
℃のハンダ浴に２０秒間浸漬し、空冷した後、１．１．
１−１−リクロルエタンで洗浄した後、セロファン粘着
テープ基盤目剥離試験により密着性の評価を行なった。
これを１回目として、続いて２回目以降のハンダ浴浸漬
からセロファン粘着テープ基盤目剥離試験までのサイク
ルをくりかえした。結果をあわせて表１に示す。
からセロファン粘着テープ基盤目剥離試験までのサイク
ルをくりかえした。結果をあわせて表１に示す。
なお１表１中、略号は次の通りである。
ＨＱＤＧＥ ：ハイドロキノンジグリシジルエーテルＢ
ＰＳＤＧＥ：ビスフェノールＳジグリシジルエーテル エピコー）８２８ ：ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂
（油化シェルエポキシ■製、商品名）ＴＭＰＴＡニトリ
メチロールプロパントリアクリレート ＴＭＭＴＡ ：テトラメチロールメタントリアクリレー
ト ＴＥＣ；ＤＡ ：テトラエチレングリコールジアクリレ
ート （以下、余白） 〔発明の効果〕 本発明により、貯蔵安定性にすぐれ一液型としても使用
可能で１弱アルカリ水溶液で現像することができ９作業
環境保全や大気汚染の問題がなく、露光現像後にすぐれ
たハンダメッキ耐性を発現する液状フォトソルダーレジ
スト組成物が得られるようになった。
ＰＳＤＧＥ：ビスフェノールＳジグリシジルエーテル エピコー）８２８ ：ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂
（油化シェルエポキシ■製、商品名）ＴＭＰＴＡニトリ
メチロールプロパントリアクリレート ＴＭＭＴＡ ：テトラメチロールメタントリアクリレー
ト ＴＥＣ；ＤＡ ：テトラエチレングリコールジアクリレ
ート （以下、余白） 〔発明の効果〕 本発明により、貯蔵安定性にすぐれ一液型としても使用
可能で１弱アルカリ水溶液で現像することができ９作業
環境保全や大気汚染の問題がなく、露光現像後にすぐれ
たハンダメッキ耐性を発現する液状フォトソルダーレジ
スト組成物が得られるようになった。
Claims (1)
- 無水マレイン酸および（または）無水イタコン酸１０モ
ル％以上と無水マレイン酸および無水イタコン酸以外の
ラジカル重合性モノマー９０モル％以下とを共重合して
得られる共重合物の無水マレイン酸および無水イタコン
酸成分１モルに対して、ラジカル重合性の一価アルコー
ルおよび（または）一価エポキシ化合物、および必要に
応じてラジカル重合性でない一価アルコールおよび（ま
たは）一価エポキシ化合物０．０５〜０．９５モルの割
合で反応させて得られるエステル化物（Ａ）、およびト
リグリシジルイソシアヌレート、ハイドロキノンジグリ
シジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテ
ル、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂およびフェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂から選ばれる１種または
２種以上のエポキシ化合物（Ｂ）からなる混合物１００
重量部、前記（Ａ）以外のエポキシ基を有さないラジカ
ル重合性化合物（Ｃ）１０〜２００重量部、および必要
に応じて有機溶剤（Ｄ）からなる液状フォトソルダーレ
ジスト組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62037847A JPH0833656B2 (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 液状フオトソルダ−レジスト組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62037847A JPH0833656B2 (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 液状フオトソルダ−レジスト組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63205649A true JPS63205649A (ja) | 1988-08-25 |
| JPH0833656B2 JPH0833656B2 (ja) | 1996-03-29 |
Family
ID=12508928
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62037847A Expired - Lifetime JPH0833656B2 (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 液状フオトソルダ−レジスト組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0833656B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03137648A (ja) * | 1989-10-24 | 1991-06-12 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 耐熱性感光性樹脂組成物 |
| US5723261A (en) * | 1989-11-30 | 1998-03-03 | Tamura Kaken Co., Ltd. | Photopolymerizable composition |
| JP2007079294A (ja) * | 2005-09-15 | 2007-03-29 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| JP2007133032A (ja) * | 2005-11-08 | 2007-05-31 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| JP2016075912A (ja) * | 2015-10-20 | 2016-05-12 | 株式会社タムラ製作所 | 感光性樹脂組成物並びに感光性樹脂組成物の硬化被膜を有するプリント配線板及び反射シートの製造方法 |
| JP5997860B1 (ja) * | 2016-03-16 | 2016-09-28 | 互応化学工業株式会社 | 液状ソルダーレジスト組成物及びプリント配線板 |
| WO2017158660A1 (ja) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | 互応化学工業株式会社 | 液状ソルダーレジスト組成物及びプリント配線板 |
| JP2017167505A (ja) * | 2016-07-11 | 2017-09-21 | 互応化学工業株式会社 | 液状ソルダーレジスト組成物及びプリント配線板 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62285903A (ja) * | 1986-06-04 | 1987-12-11 | Ube Ind Ltd | 光硬化性組成物 |
| JPS6311930A (ja) * | 1986-07-03 | 1988-01-19 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 感光性樹脂組成物 |
-
1987
- 1987-02-23 JP JP62037847A patent/JPH0833656B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62285903A (ja) * | 1986-06-04 | 1987-12-11 | Ube Ind Ltd | 光硬化性組成物 |
| JPS6311930A (ja) * | 1986-07-03 | 1988-01-19 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 感光性樹脂組成物 |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH03137648A (ja) * | 1989-10-24 | 1991-06-12 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 耐熱性感光性樹脂組成物 |
| US5723261A (en) * | 1989-11-30 | 1998-03-03 | Tamura Kaken Co., Ltd. | Photopolymerizable composition |
| JP2007079294A (ja) * | 2005-09-15 | 2007-03-29 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
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| JP2017167336A (ja) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | 互応化学工業株式会社 | 液状ソルダーレジスト組成物及びプリント配線板 |
| CN107533294A (zh) * | 2016-03-16 | 2018-01-02 | 互应化学工业株式会社 | 液体阻焊剂组合物和印刷线路板 |
| US20180136559A1 (en) * | 2016-03-16 | 2018-05-17 | Goo Chemical Co., Ltd. | Liquid solder resist composition and printed wiring board |
| US10254647B2 (en) | 2016-03-16 | 2019-04-09 | Goo Chemical Co., Ltd. | Liquid solder resist composition and printed wiring board |
| US10261414B2 (en) | 2016-03-16 | 2019-04-16 | Goo Chemical Co., Ltd. | Liquid solder resist composition and printed wiring board |
| JP2017167505A (ja) * | 2016-07-11 | 2017-09-21 | 互応化学工業株式会社 | 液状ソルダーレジスト組成物及びプリント配線板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0833656B2 (ja) | 1996-03-29 |
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