JPH08337576A - トリアジン誘導体の製造法および新規トリアジン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】トリアジン誘導体の簡便かつ高収率な製造法を
提供する。 【解決手段】式 【化１】 〔式中、Ｒ¹は置換されていてもよい炭化水素残基を、
Ｒ²およびＲ³は水素、置換されていてもよい炭化水素残
基あるいは電子吸引基を、Ｒ⁴はアルキル基を示す。〕で
表されるセミカルバゾン誘導体を閉環反応させることを
特徴とする式、 【化２】 〔式中、Ｒ¹は前記と同意義を、Ｘはカルボニル基、チ
オカルボニル基、置換されていてもよいメチレン基を、
破線は二重結合を形成していてもよいことをそれぞれ示
す。〕で表される１,２,４−トリアジン−３−オン誘導
体の製造法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はトリアジン誘導体の
新規な製造法および新規なトリアジン誘導体に関する。
また、本発明製造法での原料として用いられる新規なセ
ミカルバゾン誘導体に関する。

【０００２】

【従来の技術】２位に置換基を有する１,２,４-トリア
ジン誘導体は医薬，動物薬及び農薬などの分野において
有害生物防除剤として広く用いられている。例えば，動
物薬としては日本特許公開公報平成２年−２４０００３
号に魚及び昆虫の寄生虫に対して用いられる薬剤として
報告されているし，日本特許公開公報平成５年−１０４
７号には寄生性原生動物，特にコクシジア等を防除する
のに有効と報告されている。また，農薬としては例えば
日本公表特許公報昭和６１年−５０１０３２号に除草剤
としての有効性が報告されている。このように２位に置
換基を有する１,２,４-トリアジン誘導体、とりわけ-
３,５-ジオン誘導体及び-3-オン誘導体は有害生物を防
除するうえで極めて有用な化合物であり，これらの誘導
体を簡便に工業的に有利に製造する方法を開発するため
本研究に着手した。従来，２位に置換基を有する１,２,
４-トリアジン-３,５-ジオン誘導体を合成する方法は，
ヒドラゾン誘導体をケトカルボン酸と反応させる方法
〔日本公表特許公報昭和６１年−５０１０３２号〕やジ
アゾニウム塩に活性メチレン化合物を反応させた後，閉
環・脱炭酸反応して目的化合物を得る方法〔ジャナール
オブメディシナル ケミストリー（J.Med.Chem.)第２２
巻，１４８３頁，１９７７年〕などが報告されている
が、これらの方法は反応工程数が多い、反応条件が苛酷
であるなどの欠点があり、工業的な製造は困難であっ
た。とりわけ２位に置換基を有する１,２,４-トリアジ
ン-3-オン誘導体を製造する実用的な方法はなかった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は，医薬，動物
薬及び農薬などとして用いることのできるトリアジン誘
導体の簡便かつ高収率な製造法および新規なトリアジン
誘導体を提供するものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは，前述の技
術背景に鑑み，例えばトリアジン環の５位が無置換であ
る２-置換-１,２,４-トリアジン-３-オン誘導体を製造
する方法を確立すべく、種々の検討を重ねた結果、後述
する一般式（Ｉ）で表されるヒドラゾン誘導体を塩基類
の存在下、２,２−ジアルコキシエチルイソシアネート
と反応させたのち酸触媒を用い閉環させて２-置換-１,
２,４-トリアジン-３-オン誘導体（III）を製造し、次
にここで得られた２-置換-１,２,４-トリアジン-３-オ
ン誘導体を酸化して２-置換-１,２,４-トリアジン-３,
５-ジオン誘導体が高収率で製造できることを見いだ
し、さらに鋭意研究を進めた結果、本発明を完成させる
に至った。

【０００５】すなわち、本発明は式

【化９】 〔式中、Ｒ¹は置換されていてもよい炭化水素残基を、
Ｒ²およびＲ³は水素、置換されていてもよい炭化水素残
基あるいは電子吸引基を、Ｒ⁴はアルキル基を示す。〕で
表わされるセミカルバゾン誘導体（II）を閉環反応させ
ることを特徴とする式、

【０００６】

【化１０】 〔式中、Ｒ¹は前記と同意義を、Ｘはカルボニル基、チ
オカルボニル基、置換されていてもよいメチレン基を、
破線は二重結合を形成していてもよいことをそれぞれ示
す。〕で表される１,２,４−トリアジン−３−オン誘導
体（III）の製造法を提供するものである。上記式にお
いて、Ｒ¹で表される置換されていてもよい炭化水素残
基としては例えば芳香環基、具体的には少なくとも１個
の置換基を有していてもよい芳香族同素環基および５〜
６員の芳香族複素環基が挙げられる。置換基を有してい
てもよい芳香族同素環基としては、例えばフェニル，１
−または２−ナフチルなどの炭素数６ないし１４のアリ
ール基が挙げられ、なかでもフェニルが好ましく用いら
れる。３位と４位が置換されたフェニルまたは３位，４
位および５位が置換されたフェニル、さらには２,３,
４,５位が置換されたフェニルが特に好ましい。５〜６
員の芳香族複素環基としては、例えば２−または３−チ
エニル、２−または３−フリル、２−または３−ピロリ
ル、２−、４−または５−オキサゾリル、２−、４−ま
たは５−チアゾリル、３−、４−または５−ピラゾリ
ル、２−、４−または５−イミダゾリル、３−、４−ま
たは５−イソオキサゾリル、３−、４−または５−イソ
チアゾリル、３−または５−(１,２,４−オキサジアゾ
リル)、１,３,４−オキサジアゾリル、３−または５−
(１,２,４−チアジアゾリル)、１,３,４−チアジアゾリ
ル、４−または５−(１,２,３−チアジアゾリル)、１,
２,５−チアジアゾリル、１,２,３−トリアゾリル、１,
２,４−トリアゾリル、１Ｈ−または２Ｈ−テトラゾリ
ル等の炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子、窒素原子等
から選ばれたヘテロ原子を１ないし４個含む５員環基、
例えば２−、３−または４−ピリジル、Ｎ−オキシド−
２−、３−または４−ピリジル、２−、４−または５−
ピリミジニル、Ｎ−オキシド−２−、４−または５−ピ
リミジニル、ジオキソトリアジニル、ピラニル、チオピ
ラニル、１,４−オキサジニル、１,４−チアジニル、
１,３−チアジニル、トリアジニル、オキソトリアジニ
ル、３−または４−ピリダジニル、ピラジニル、Ｎ−オ
キシド−３−または４−ピリダジニル等の炭素原子以外
に酸素原子、硫黄原子、窒素原子等から選ばれたヘテロ
原子を１ないし４個含む６員環基等の炭素原子以外に例
えば酸素原子，硫黄原子，窒素原子などのヘテロ原子を
１ないし４個含む不飽和５ないし６員環があげられる。
なかでも、ヘテロ原子を１個含む６員環が好ましく、含
窒素ヘテロ環などが特に好ましい。

【０００７】このような芳香族同素環または複素環は置
換可能な位置に、例えば(１)例えばメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチ
ル、tert-ブチル等の炭素数１ないし４のアルキル基、
(２)例えばビニル、1-メチルビニル、1-プロペニル、ア
リル等の炭素数２ないし４のアルケニル基、(３)例えば
ベンジル、α−メチルベンジル、α−シアノベンジル、
α−ヒドロキシベンジル、フェネチル基等の炭素数７な
いし１１のアラルキル基、(４)フェニル基、(５)例えば
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、iso-プロポキシ、n-
ブトキシ、iso-ブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキ
シ基等の炭素数１ないし６のアルコキシ基、(６)フェノ
キシ基、(７)例えばホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、n-ブチリル、iso-ブチリル基等の炭素数１ないし６
のアルカノイル基、(８)ベンゾイル基、(９)カルボキシ
ル基、(10)例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、n-プロポキシカルボニル、iso-プロポキシカルボ
ニル、n-ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニ
ル、tert-ブトキシカルボニル基等の炭素数２ないし７
のアルコキシカルボニル基、

【０００８】(11)カルバモイル基、(12)例えばＮ−メチ
ルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロピ
ルカルバモイル、Ｎ−イソプロピルカルバモイル、Ｎ−
ブチルカルバモイル等のＮ−モノ−Ｃ_1-4アルキルカル
バモイル基等、(13)例えばＮ,Ｎ−ジメチルカルバモイ
ル、Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジプロピル
カルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジブチルカルバモイル等のＮ,Ｎ
−ジ−Ｃ_1-4アルキルカルバモイル基、(14)例えばフッ
素、塩素、臭素、沃素等のハロゲン原子、(15)例えばク
ロルメチル、ジクロルメチル、トリフルオルメチル、ト
リフルオルエチル等のモノ−，ジ−またはトリ−ハロゲ
ノ−Ｃ_1-4アルキル基、(16)保護基を有していてもよい
アミノ基、(17)例えばメチルアミノ、エチルアミノ、プ
ロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ等の
モノ−Ｃ_1-4アルキルアミノ基、(18)例えばホルムアミ
ド、アセタミド、トリフルオルアセタミド、プロピオン
アミド、ブチルアミド、イソブチルアミド等の炭素原子
１ないし６のアルカノイルアミノ基等、

【０００９】(19)ベンツアミド等のベンゾイルアミノ基
等、(20)カルバモイルアミノ基、(21)例えばＮ−メチル
カルバモイルアミノ、Ｎ−エチルカルバモイルアミノ、
Ｎ−プロピルカルバモイルアミノ、Ｎ−イソプロピルカ
ルバモイルアミノ、Ｎ−ブチルカルバモイルアミノ等の
Ｎ−Ｃ_1-4アルキルカルバモイルアミノ基等、(22)例え
ばＮ,Ｎ−ジメチルカルバモイルアミノ、Ｎ,Ｎ−ジエチ
ルカルバモイルアミノ、Ｎ,Ｎ−ジプロピルカルバモイ
ルアミノ、Ｎ,Ｎ−ジブチルカルバモイルアミノ等のＮ,
Ｎ−ジ-Ｃ_1-4アルキルカルバモイルアミノ基(23)例えば
メチレンジオキシ、エチレンジオキシ基等の炭素数１な
いし３のアルキレンジオキシ基、(24)ヒドロキシ基、(2
5)ニトロ基、(26)シアノ基、(27)メルカプト基、(28)ス
ルホ基、(29)スルフィノ基、(30)ホスホノ基、(31)スル
ファモイル基、(32)例えばＮ−メチルスルファモイル、
Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−プロピルスルファモイ
ル、Ｎ−イソプロピルスルファモイル、Ｎ−ブチルスル
ファモイル等の炭素数１ないし６のモノアルキルスルフ
ァモイル基、(33)例えばＮ,Ｎ−ジメチルスルファモイ
ル、Ｎ,Ｎ−ジエチルスルファモイル、Ｎ,Ｎ−ジプロピ
ルスルファモイル、Ｎ,Ｎ−ジブチルスルファモイル等
のジ−Ｃ_1-4アルキルスルファモイル基

【００１０】(34)例えばメチルチオ、エチルチオ、プロ
ピルチオ、イソプロピルチオ、n-ブチルチオ、sec-ブチ
ルチオ、tert-ブチルチオ基等の炭素数１ないし６のア
ルキルチオ基、(35)フェニルチオ基、(36)例えばメチル
スルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィ
ニル、ブチルスルフィニル基等の炭素数１ないし６のア
ルキルスルフィニル基、(37)フェニルスルフィニル基、
(38)例えばメチルスルホニル、エチルスルホニル、プロ
ピルスルホニル、ブチルスルホニル基等の炭素数１ない
し６のアルキルスルホニル基、(39)フェニルスルホニル
基、及び(40)１ないし４個の炭素原子、酸素原子、窒素
原子および酸素原子などからなる原子鎖を介して上記芳
香環基に結合していてもよい、例えば２−または３−チ
エニル、２−または３−フリル、２−または３−ピロリ
ル、２−、３−または４−ピリジル、２−、４−または
５−オキサゾリル、２−、４−または５−チアゾリル、
３−、４−または５−ピラゾリル、２−、４−または５
−イミダゾリル、３−、４−または５−イソオキサゾリ
ル、３−、４−または５−イソチアゾリル、３−または
５−(１,２,４−オキサジアゾリル)、１,３,４−オキサ
ジアゾリル、３−または５−(１,２,４−チアジアゾリ
ル)、１,３,４−チアジアゾリル、４−または５−(１,
２,３−チアジアゾリル)、１,２,５−チアジアゾリル、
１,２,３−トリアゾリル、１,２,４−トリアゾリル、１
Ｈ−または２Ｈ−テトラゾリル、Ｎ−オキシド−２−、
３−または４−ピリジル、２−、４−または５−ピリミ
ジニル、Ｎ−オキシド−２−、４−または５−ピリミジ
ニル、オキソイミダゾリル、ジオキソトリアジニル、ピ
ラニル、チオピラニル、１,４−オキサジニル、１,４−
チアジニル、１,３−チアジニル、トリアジニル、オキ
ソトリアジニル、３−または４−ピリダジニル、ピラジ
ニル、Ｎ−オキシド−３−または４−ピリダジニル等の
炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子、窒素原子等から選
ばれたヘテロ原子を１ないし４個含む５または６員環の
複素環基等から選ばれた１ないし５個、好ましくは１な
いし３個の置換基を有していてもよい。

【００１１】これらの内、炭素数２以上の炭素鎖または
環状基を有する基はさらに置換可能な位置に、例えば
(a)例えば塩素、フッ素、臭素等のハロゲン原子、(b)ヒ
ドロキシ基、(c)例えばメトキシ、エトキシ等の炭素数
１ないし４のアルコキシ基、(d)例えばジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ等のジ−Ｃ_1-4アルキルアミノ基、
(e)例えばクロルメチル、１−クロロエチル、１−フル
オロエチル、トリフルオロメチル、トリフルオロエチル
等のハロゲノ−Ｃ_1-4アルキル基、(f)例えばホルミル、
アセチル、プロピオニル、イソプロピオニル、トリフル
オロアセチル、ベンゾイル等の炭素数１ないし７のアシ
ル基、(g)例えばヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエ
チル、２−ヒドロキシエチル等のヒドロキシ−Ｃ_1-4ア
ルキル基、(h)例えばメトキシメチル、１−メトキシエ
チル、１−エトキシエチル、１−アセトキシエチル、２
−エトキシエチル等のＣ_1-4アルコキシ−Ｃ_1-4アルキル
基、及び(i)例えばアミノスルホニル、メチルアミノス
ルホニル、ジメチルアミノスルホニル、モルホリノスル
ホニル等のＣ_1-5スルファモイル基、(j)例えばアミノカ
ルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカ
ルボニル、フェニルアミノカルボニル等のＣ_1-7カルバ
モイル基、(k)例えばエチル、イソプロピル等のＣ_2-4ア
ルキル基、(l)カルボキシル基、(m)例えばメトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、フェノキシカルボニル等
のＣ_1-7アルコキシカルボニル基等から選ばれた１ない
し５個、好ましくは１ないし３個の置換基を有していて
もよい。

【００１２】上記Ｒ¹の炭化水素残基のなかでも置換さ
れていてもよいフェニル基が好ましく、その置換基とし
ては置換されていてもよいアラルキル基（とりわけ置換
されていてもよいベンジルなど）が好ましい。また、置
換されていてもよいフェニルの置換位置としては３位お
よび／または５位と４位とに置換基を有するものなどが
とりわけ好ましい。さらに上記置換基がベンジル基の場
合、その４位が(f)または(g)で置換されたものが、特に
好ましい。上記式において、Ｒ²またはＲ³で表される置
換されていてもよい炭化水素残基としては、例えばアル
キル基及び置換していてもよい芳香族同素環基又は５〜
６員の芳香族複素環基が挙げられ、アルキル基としては
メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イ
ソブチル，s−ブチル，t−ブチルなどの炭素数１〜４の
アルキルが、また置換基を有していてもよい芳香族同素
環基あるいは芳香族複素環基としては前記Ｒ¹と同様の
ものが具体的に例示される。なかでも、アルキル基とし
ては炭素数１ないし４の低級アルキル基（特にメチル）
が、芳香族同素環基としてはフェニル基が、芳香族複素
環基としては、２−，３−または４−ピリジルが好まし
く用いられる。Ｒ²またはＲ³で表される電子吸引基とし
ては、例えばシアノ基、例えばメトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル等の炭素数１ないし６のアルコキシ−
カルボニル、ヒドロキシカルボニル、例えばフェニルオ
キシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等の炭素数
６ないし１０のアリールーオキシカルボニル基、例えば
ピリジルオキシカルボニル、チエニルオキシカルボニル
等の炭素原子以外に例えば窒素原子、硫黄原子、酸素原
子等のヘテロ原子を１ないし４個含む５又は６員複素環
ーオキシカルボニル基、例えば塩素、臭素、フッ素等の
ハロゲン原子等で１ないし３個置換されていてもよい例
えばメチルスルホニル、トリフルオロメチルスルホニ
ル、エチルスルホニル等の炭素数１ないし６のアルキル
スルホニル基、アミノスルホニル、例えばジメトキシホ
スホリル、ジエトキシホスホリル、ジプロポキシホスホ
リル等のジ−Ｃ_1-4アルコキシホスホリル基、例えば塩
素、臭素、フッ素等のハロゲン原子等で１ないし３個置
換されていてもよい例えばアセチル、プロピオニル等の
炭素数１ないし６のアシル基、カルバモイル、例えばメ
チルスルホニルチオカルバモイル、エチルスルホニルチ
オカルバモイル等の炭素数１ないし６のアルキル−スル
ホニルチオカルバモイル基等が用いられる。Ｒ²，Ｒ³の
うちの、いずれか一方が水素原子で、他方がフェニルが
好ましい。さらに，Ｒ²とＲ³とは互いに結合しシクロア
ルキル基等の４〜７員環を形成していてもよい。Ｒ⁴で
表されるアルキル基としては、前記Ｒ²で表されるアル
キル基と同様のものが具体的に例示され、なかでも炭素
数１ないし４のアルキル基，特にメチル、エチルなどが
好ましく用いられる。２個のＲ⁴がアルキレン鎖〔たと
えば−(ＣＨ₂)₂−〕で環を形成していてもよい。

【００１３】本発明製造方法において、中間体であるセ
ミカルバゾン誘導体（II）は次に示す方法により製造す
ることができる。反応式ａ）

【化１１】 〔式中，Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³及びＲ⁴は前記と同意義。〕で表
されるヒドラゾン誘導体（Ｉ）を2,2-ジアルコキシエチ
ルイソシアネートと反応させて中間体であるセミカルバ
ゾン誘導体（II）を製造する反応工程は、通常不活性溶
媒又は無溶媒中で実施され，塩基類の存在下にこれらの
反応を実施してもよい。反応温度は反応に用いる溶媒の
種類に応じて変更されるが、通常約−２０〜１１０℃，
とりわけ約０〜５０℃が適当である。反応時間は反応に
用いる溶媒の種類に応じて変更され、通常約１０分〜５
時間，好ましくは３０分〜２時間が適当である。

【００１４】この反応の溶媒としては，ほとんどすべて
の不活性溶媒が使用でき，一般に有機化学反応に繁用さ
れている溶媒，例えばベンゼン，リグロイン，ベンジ
ン，トルエン，キシレン，塩化メチレン，塩化エチレ
ン，クロロホルム，四塩化炭素，ジクロルエタン，クロ
ルベンゼン，Ｏ−ジクロルベンゼン，エーテル類（例え
ば，ジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ジブ
チルエーテル，グリコールジメチルエーテル，ジグリコ
ールジメチルエーテル，テトラヒドロフラン，ジオキサ
ンなど），ケトン（例えば，アセトン，メチルエチケト
ン，メチルイソプロピルケトン，メチルイソプロピルケ
トンなど），エステル（例えば，酢酸エチルエステルな
ど），ニトリル（例えば，アセトニトリル，プロピオニ
トリルなど），アミド（例えば，ジメチルホルムアミ
ド，ジメチルアセトアミド，ヘキサメチルリン酸トリア
ミドなど），ジメチルスルフォオキシド，ピリジンなど
が用いられる。ヒドラゾン誘導体（Ｉ）に対して2,2-ジ
アルコキシエチルイソシアネートの使用量は通常１.０
〜３.５モル，とりわけ１.０〜１.５モルが好ましい。
また，反応を円滑に進めるために塩基類を加えてもよ
く，この目的に使用される塩基類としては例えば無機塩
基類である炭酸ナトリウム，炭酸カリウム，炭酸カルシ
ウム，水酸化ナトリウム，水酸化カリウムなどが挙げら
れる。有機塩基類であるトリエチルアミン，ピリジン，
ジメチルアニリン，ピコリン，１,５−ジアザビシクロ
〔４,３,０〕ノン−５−エン，１,４−ジアザビシクロ
〔２,２,２〕オクタン，１,８−ジアザビシクロ〔５,
４,０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）等が挙げられる。
塩基類の使用量としては出発原料（I）に対して０.００
１〜３０.０％，好ましくは０.０１〜５.０％が適当で
ある。上記方法により得られるセミカルバゾン誘導体
（II）のうちでも、特にＲ¹が

【化１２】 〔式中、Ｒ^aはアシル，置換されていてもよいスルファ
モイル，置換されていてもよいカルバモイル，カルボキ
シル，アルコキシカルボニル，置換されていてもよいア
ルキル，又は置換されていてもよいアミノ基を、Ａは−
ＣＨ−又は窒素原子を、Ｙ′はメチレン，シアノメチレ
ン，カルボニル，ヒドロキシメチレン，硫黄原子，スル
フィニル，スルフォニルまたは酸素原子を、Ｈal はハ
ロゲンを、またＲ^bは水素原子，ハロゲン（例えばクロ
ル），又は低級アルキル（例えばメチル）を示す〕で表
わされる誘導体（II′）は、新規な誘導体であり、１,
２,４−トリアジン−３−オン誘導体（III）の有用な原
料になる。

【００１５】上述の反応で合成したセミカルバゾン誘導
体（II）を常法に従い閉環反応工程により２−置換−
１,２,４−トリアジン−３−オン誘導体（III）に変換
する。具体的には、次の工程を経て誘導体（III）、つ
まり（III−ａ），（III−ｂ），（III−ｃ），（III−
ｄ）および（III−ｅ）が得られる。

【化１３】

【００１６】すなわち、一般式（I）で表わされるヒド
ラゾン誘導体を塩基類の存在下、２,２−ジアルコキシ
エチルイソシアネートと反応させて中間体（II）を得、
これを酸触媒を用い閉環させて２−置換−１,２,４−ト
リアジン−３−オン誘導体（III−ａ）を製造し、次に
ここで得られた（III−ａ）を酸化して２−置換−１,
２,４−トリアジン−３,５−ジオン誘導体（III−ｂ）
に導びき、更に（III−ｂ）をチオール化反応により２
−置換−１,２,４−トリアジン−３−オン−５−チオン
誘導体（III−ｃ）を製造する。化合物（III−ｃ）はさ
らに２−置換−５−モノ（ジ）置換−１,２,４−トリア
ジン−３−オン（III−ｄ）に導びき、化合物（III−
ａ），（III−ｂ），（III−ｃ）及び（III−ｄ）は各
々還元反応により各出発化合物に概当するトリアジン環
の１−６位が還元された化合物（III−ｅ）を高収率で
製造出来る。

【００１７】反応（II）→（III−ａ）は通常不活性溶
媒又は無溶媒中で実施され，酸類の存在下にこれらの反
応を実施してもよい。反応温度は反応に用いる溶媒の種
類にも関係するが，通常約−２０〜１５０℃，とりわけ
約０〜８０℃が適当である。反応時間は反応に用いる溶
媒の種類にも関係するが，通常約１０分〜５時間，好ま
しくは３０分〜２時間が適当である。この反応の溶媒と
しては，ほとんどすべての不活性溶媒が使用でき，一般
に有機化学反応に繁用されている溶媒，例えばベンゼ
ン，リグロイン，ベンジン，トルエン，キシレン，塩化
メチレン，塩化エチレン，クロロホルム，四塩化炭素，
ジクロルエタン，クロルベンゼン，Ｏ−ジクロルベンゼ
ン，エーテル類（例えば，ジエチルエーテル，ジイソプ
ロピルエーテル，ジブチルエーテル，グリコールジメチ
ルエーテル，ジグリコールジメチルエーテル，テトラヒ
ドロフラン，ジオキサンなど），ケトン（例えば，アセ
トン，メチルエチルケトン，メチルイソプロピルケトン
など），エステル（例えば，酢酸エチルエステルな
ど），ニトリル（例えば，アセトニトリル，プロピオニ
トリルなど），アミド（例えば，ジメチルホルムアミ
ド，ジメチルアセトアミド，ヘキサメチルリン酸トリア
ミドなど），アルコール（例えば，メチルアルコール，
エチルアルコール，プロピルアルコール，イソプロピル
アルコールなど），ピリジン，ジメチルスルホオキシド
などが用いられる。セミカルバゾン誘導体（II）を閉環
反応により２−置換−１,２,４−トリアジン−３−オン
誘導体に変換する反応では反応を円滑に進行させる目的
で酸類を加えてもよく，この目的に使用される酸類とし
ては例えばトリクロル酢酸，トリフルオロ酢酸，ｐ−ト
ルエンスルホン酸，メタンスルホン酸，硫酸，塩酸，リ
ン酸，ポリリン酸及びルイス酸（例えばトリフルオルボ
ラン エーテレイト）などがある。酸類の使用量は出発
原料に対し、０.１〜５倍モル，好ましくは０.５〜２倍
モルが適当である。

【００１８】本発明製造法において、上記反応ａ)で得
られた反応混合物からセミカルバゾン誘導体(II)を単離
する事なく、該反応混合物をそのまま閉環反応に付すこ
とによっても、目的の１,２,４-トリアジン-３-オン誘
導体(III)を高収率で得ることが可能であり、このよう
な一連工程(ワンポット反応)は目的化合物(III)の工業
的製造を図るうえで、好ましく採用される。上記の反応
工程により得られた１,２,４−トリアジン−３−オン誘
導体（III−ａ）は、それ自体農薬、抗寄生虫薬等とし
て有用に用いうるが、さらに常法に従い酸化、チオール
化、還元、置換等の反応に付すことにより、１,２,４−
トリアジン−３,５−ジオン誘導体、１,２,４−トリア
ジン−３−オキソ−５−チオン誘導体、１,２,４-トリ
アジン−３−オン−５−アミノ誘導体、ヘキサヒドロ−
１,２,４−トリアジン−３−オン誘導体など種々のトリ
アジン誘導体を簡便かつ高収率で得ることができる。そ
の一例として、例えば上記反応工程で合成した２−置換
−１,２,４−トリアジン−３−オン誘導体を出発原料と
して、通常の酸化反応により２−置換１,２,４−トリア
ジン−３,５−ジオン誘導体を高収率で製造する事がで
きる。この酸化反応工程としては，例えば新実験化学講
座１５巻のＩ＆II（日本化学会編，丸善株式会社，１９
７６年）に記載の酸化剤及び方法により実施することが
できる。

【００１９】上記本発明の製造法により製造された１,
３,４−トリアジン誘導体（III）のうちでも、特に有用
なものとして次の化合物を挙げることができる。

【化１４】 〔式中、Ｒ^aはアシル，スルファモイル，アルキル置換
スルファモイル，カルバモイル，アルキル置換カルバモ
イル，カルボキシル，アルコキシカルボニル，アルキ
ル，α−ヒドロキシ置換アルキル，α−メトキシ置換ア
ルキル，アセトキシ置換アルキル又はアルキル置換アミ
ノを、Ｘ′はメチレン又はカルボニルを示す〕表わされ
る１,２,４−トリアジン−３−オン誘導体。Ｒ^aで表わ
されるアシルは、たとえばアセチル，エチルカルボニ
ル，イソプロピルカルボニル，トリフルオロメチルカル
ボニルなどのＣ_1-4アルカノイル又はベンゾイルを、ア
ルキル置換スルファモイルのアルキルとしては、メチ
ル，エチル，イソプロピルなどのＣ_1-4アルキル基を、
アルキル置換カルバモイルのアルキルとしては、メチ
ル，エチル，ジメチルなどのＣ_1-4アルキル基を、アル
コキシカルボニルのアルコキシとしては、メトキシ，エ
トキシ，フェニルオキシなどのＣ_1-6のアルコキシを、
アルキルとしては、メチル，エチル，イソプロピルなど
のＣ_1-4アルキルを、α−ヒドロキシ置換アルキル，α
−メトキシ置換アルキル，アセトキシ置換アルキルのア
ルキルとしてはＣ_1-3のアルキルを、またアルキル基置
換アミノのアルキルとしてはメチル，エチルなどのＣ
_1-4のアルキルを意味する。

【００２０】上記誘導体（III′）のうち、とりわけ２
−〔４−（４−アセチルベンジル）−３,５−ジクロロ
フェニル〕−４,５−ジヒドロ−１,２,４−トリアジン
−３(２Ｈ)−オン及び２−｛３,５−ジクロル−４−
〔４−（１−ヒドロキシエチル）ベンジル〕フェニル｝
−４,５−ジヒドロ−１,２,４−トリアジン−３(２Ｈ)
−オンが好ましい。誘導体（III′）は、先進国におけ
る養鶏形態が現状のスタイル（超過密状態での飼育）を
変えられない状況下では、コクシジウム症を未然に防ぐ
薬剤として有用である。薬剤を適用されるニワトリが食
用であることより薬剤の食肉中での残留はあってはなら
ない。更に、コクシジウム症が難防除であることによ
り、薬剤残留の少ない安全且効果の優れた新規薬剤を開
発することは非常に難しく、結果的に現在流通している
コクシジウム剤の種類は限定されて，連用による交差耐
性等の問題を生じている。本発明の製造法によれば、こ
のような問題を解決した安全かつ高活性な新規化合物が
提供される。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下に、実施例及び参考例を挙げ
てさらに本発明を具体的に説明するが、これらが本発明
の範囲を限定するものではない。 参考例１ α-(3,4-ジクロロフェニル)-α-(2,6-ジクロ
ロ-4-ニトロフェニル)アセトニトリルの合成 3,4-ジクロロベンジルシアナイド６.１５g，4-ブロモ-
3,5-ジクロロニトロベンゼン８.１３gおよび苛性ソーダ
１.５０gを２０％含水ＤＭＳＯ １５０mlに加え、６０
〜７０℃ で１時間反応した。反応終了後、ＤＭＳＯを
除きトルエン５０mlに溶解し、水洗乾燥後濃縮した。残
渣にエチルアルコールを加えて結晶化させて題記化合物
７.６g（収率６７％）を製造した。 融点 １７１〜１７２℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ₃)；6.21(s,1H),7.13-7.52(m,3
H),8.29(s,2H) 参考例２ 3,5-ジクロロ-4-(3,4-ジクロロ-α-シアノベ
ンジル)アニリンの合成 α-(3,4-ジクロロフェニル)-α-(2,6-ジクロロ-4-ニト
ロフェニル)アセトニトリル７.６g及びラネーニッケル
０.８g(５０％)をメタノール１００mlに溶かし，３倍モ
ルの水素ガスで還元した。反応液は不溶物を除去後、濃
縮し題記化合物６.６g（収率９５％）を製造した。 融点 １９１〜１９４℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ₃)；3.97(br,2H),5.98(s,1H),6.6
7(s,2H),7.12-7.47(m,3H)

【００２２】参考例３ 3,5-ジクロロ-4-(3,4-ジクロロ
-α-シアノベンジル)フェニルヒドラジンの合成 3,5-ジクロロ-4-(3,4-ジクロロ-α-シアノベンジル)ア
ニリン３.０gを酢酸４０mlに溶解し、ついで３５％塩酸
３mlを加えた。１０〜１２℃に冷却しながら９８.５％
亜硝酸ナトリウム０.８gを３mlの水に溶解して滴下し
た。反応液は同条件で４０分間撹拌後、塩化第一スズ
７.０gを１０mlの３５％塩酸に溶かして加えた。反応液
は氷水に加えてアルカリ性にした後、酢酸エチルエステ
ル２００mlで抽出し、水で洗浄後無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、濃縮して題記化合物３.０g（収率９６％）を
製造した。 融点 １８３〜１８５℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＤＭＳＯ-d₆)；4.26(br,2H),6.25(s,1H),
6.87(s,2H),7.11-7.72(m,4H) 参考例４ 1-〔3,5-ジクロロ-4-(3,4-ジクロロ-α-シア
ノベンジル)フェニル〕-2-ベンジリデンヒドラジン・酢
酸エチルエステルの合成 3,5-ジクロロ-4-(3,4-ジクロロ-α-シアノベンジル)フ
ェニルヒドラジン３.０gを５０mlの酢酸エチルエステル
に溶解し、等モルのベンズアルデヒドを加えて室温下３
時間撹拌した。反応液は無水硫酸マグネシウムで脱水
後、濃縮して題記化合物２.６g（収率６８％）を製造し
た。 融点 ７５〜９０℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ₃)；1.25(t,3H),2.04(s,3H),4.12
(q,2H),6.03(s,1H),7.13(s,2H),7.24-7.81(m,10H)

【００２３】参考例５ α-(4-クロロフェニル)-α-(2,
6-ジクロロ-4-ニトロフェニル)メタンの合成 ４-クロロフェニル酢酸メチルエステル１.９g，4-ブロ
モ-3,5-ジクロロニトロベンゼン２.７gおよび苛性ソー
ダ０.５gを２０％含水ＤＭＳＯ ５０mlに加え、６０〜
７０℃で１時間ついで１３０〜１３５℃で８時間反応し
た。反応終了後、ＤＭＳＯを除きトルエン５０mlに溶解
し、水洗乾燥後濃縮した。得られた残渣にエチルアルコ
ールを加えて結晶化させて題記化合物２.９g（収率９１
％）を製造した。 融点 ８０〜８１℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ₃)；4.36(s,2H),7.17(q,4H),8.20
(s,2H) 参考例６ α-(4-クロロフェニル)-α-(2,6-ジクロロ-4
-アミノフェニル)メタンの合成 α-(4-クロロフェニル)-α-(2,6-ジクロロ-4-ニトロフ
ェニル)メタン１.６g及びラネーニッケル０.２g(５０
％）をメタノール３０mlに溶かし、３倍モルの水素ガス
で還元した。反応液は不溶物を除去後、濃縮し題記化合
物１.４g（収率９５％）を製造した。 融点 １４１〜１４２℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ₃)；3.72(br,2H),4.14(s,2H),6.6
5(s,2H),6.95-7.44(m,4H)

【００２４】参考例７ α-(4-クロロフェニル)-α-(2,
6-ジクロロ-4-ヒドラジノフェニル)メタンの合成 α-(4-クロロフェニル)-α-(2,6-ジクロロ-4-アミノフ
ェニル)メタン１.５gを酢酸２０mlに溶解し、ついで３
５％塩酸３mlを加えた。１０〜１２℃に冷却しながら９
８.５％亜硝酸ナトリウム０.４gを１mlの水に溶解して
滴下した。反応液を同条件で４０分間撹拌後、塩化第一
スズ４.０gを４mlの３５％塩酸に溶かして加えた。反応
液は氷水に加えてアルカリ性にした後、酢酸エチルエス
テル５０mlで抽出し、水で洗浄後無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、濃縮して題記化合物１.５g（収率９５％）を
製造した。 融点 １２９〜１３０℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ₃)；3.57(br,2H),4.17(s,2H),5.2
3(br,1H),6.83(s,2H),7.03-7.27(q,4H) 参考例８ α-(4-クロロフェニル)-α-(2,6-ジクロロ-4
-ベンジリデンヒドラジノフェニル)メタンの合成 α-(4-クロロフェニル)-α-(2,6-ジクロロ-4-ヒドラジ
ノフェニル)メタン０.７gを５０mlのジクロロメタンに
溶解し、等モルのベンズアルデヒドを加えて室温下３時
間撹拌した。反応液は無水硫酸マグネシウムで脱水後、
濃縮して題記化合物０.８９g（収率９８％）を製造し
た。 融点 １４９〜１５０℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）；4.20(s,2H),7.09-7.68(m,1
3H)

【００２５】参考例９ ベンズアルデヒド 4-(4-クロロ
-α-シアノベンジル)-3,5-ジクロロフェニルヒドラゾン
の合成 4-(4-クロロ-α-シアノベンジル)-3,5-ジクロロフェニ
ルヒドラジン３.２６gを酢酸エチルエステル３０mlに溶
かし、等モルのベンズアルデヒド及び３倍モルの無水硫
酸マグネシウムを加えて室温で１時間反応した。反応終
了後、不溶物を除き濃縮し、アセトニトリルより再結晶
し、３.３g（収率７９.７％）の題記化合物無色結晶を
得た。 融点 １６２〜１６３℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ₃)；6.05(s,1H),7.09(s,2H),7.30
(s,4H),7.30-8.00(m,7H) 参考例１０ 4-(4-アセチルベンジル)-3,5-ジクロロア
ニリンの製造 4-(4-アセチルベンジル)-3,5-ジクロロニトロベンゼン
１.１gを酢酸エチル１１mlに溶解し塩化第一スズ・２Ｈ
₂Ｏ ３.８gを加えて４０〜５０℃で１時間反応する。反
応終了後、反応液を氷水１００ml中に注ぎ、１５０mlの
酢酸エチルで抽出。抽出液は水、アンモニア水，水で順
次洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥する。酢酸エチル
溶液を濃縮し、結晶１.０gを得る。収率１００％ 融点 ９７〜９８℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ₃)；2.55(s,3H),3.75(br,2H),4.2
4(s,2H),6.67(s,2H),7.25(d,2H),7.85(d,2H)

【００２６】参考例１１ 2-〔4-(4-アセチルベンジル)
-3,5-ジクロロフェニル〕-1-ベンジリデンヒドラジンの
製造 4-(4-アセチルベンジル)-3,5-ジクロロアニリン１.０g
を酢酸１０mlに溶解する。この液に conc ＨＣｌ １.
０mlを加えた。この反応液に８〜１０℃で撹拌しなが
ら、亜硝酸ソーダ０.３gを水１.０mlに溶かした液を滴
下する。滴下終了後、８〜１０℃で１時間撹拌し、塩化
第一スズ・２Ｈ₂Ｏ ２.０gを conc ＨＣl２.０mlに溶
解した液を加えて、２０〜２５℃で更に３時間反応し
た。反応液にクロロホルム２０mlと水２０mlを加えて５
〜１０℃に冷却し、ベンズアルデヒド０.３６gを加えて
３０分間反応した。反応終了後、クロロホルム２０mlで
抽出し、抽出液を水洗、飽和重曹水で洗浄ののち、乾燥
（無水硫酸マグネシウム）する。クロロホルムを濃縮
し、題記目的物を無色結晶として０.８８g（収率６５．
９％）を得た。 融点 １３７〜１３９℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ₃)；2.56(s,3H),4.29(s,2H),7.11
-7.90(m,13H)

【００２７】

【実施例】

実施例１ 1-ベンジリデン-2-〔4-(4-クロロベンジル)-
3,5-ジクロロフェニル〕-4-(2,2-ジエトキシエチル)-セ
ミカルバジドの合成 α-(4-クロロフェニル)-α-(2,6-ジクロロ-4-ベンジリ
デンヒドラジノフェニル)メタン０.５gを５mlのアセト
ニトリルに溶かし、2,2-ジエトキシエチルイソシアネー
ト０.３g及びＤＢＵ ０.０１５gを加えた。反応液は室
温で１時間撹拌した後，冷却して析出した題記化合物の
結晶をろ取し題記目的物０.６５g（収率９７％）を得
た。 融点 １３８〜１３９℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ₃)：1.27(t,6H),3.46-3.90(m,6
H),4.33(s,2H),6.92-7.63(m,13H) 実施例２ 1-ベンジリデンー2-〔4-(4-クロロ-α-シア
ノベンジル)-3,5-ジクロロフェニル〕-4-(2,2-ジメトキ
シエチル)セミカルバジドの合成 ベンズアルデヒド 4-(4-クロロ−α−シアノベンジル)-
3,5-ジクロロフェニルヒドラゾン ３.２gを２０mlのア
セトニトリルに懸濁し、2,2-ジメトキシエチルイソシア
ネート１.５g及びＤＢＵ ２０mgを加えた。室温下で１
時間反応後、析出結晶をろ取しノルマルヘキサンで洗浄
後乾燥した。３.７g（収率８７.８％）の題記化合物無
色結晶を得た。 融点 １９０〜１９１℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ₃)；3.46(s,6H),3.53(t,2H),4.50
(t,1H),6.21(s,1H),6.80-7.10(m,1H),7.20-7.70(m,12H)

【００２８】実施例３ 2-〔4-(4-アセチルベンジル)-
3,5-ジクロロフェニル〕-1-ベンジリデン-4-(2,2-ジメ
トキシエチル)セミカルバジドの製造 2-〔4-(4-アセチルベンジル)-3,5-ジクロロフェニル〕-
1-ベンジリデンヒドラジン０.８gとジメトキシエチルイ
ソシアネイト０.４gをアセトニトリル８mlにとかし、Ｄ
ＢＵ １５mgを加えて２０〜２５℃で２時間反応した。
反応液は氷水３０mlに注ぎ込み、酢酸エチル３０mlで抽
出し水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エ
チル層は濃縮し、残渣をクロマト精製した。（キーセル
ゲル（商品名）メルク製，ヘキサン；酢酸エチル＝１：
１） 収量０.７３g（収率６９.２％）油状物¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ₃)；2.58(s,3H),3.47(s,6H),3.53
(t,2H),4.15(t,1H),4.43(s,2H),6.90-7.90(m,13H)

【００２９】実施例４ 実施例１〜３記載の製造法に準じて製造した化合物及び
その物理恒数を〔表１〕に示した。

【表１】

【００３０】実施例５ 2-〔3,5-ジクロロ-4-(4-クロロ
ベンジル)フェニル〕-4,5-ジヒドロ-1,2,4-トリアジン-
3(2H)-オンの合成 1-ベンジリデン-2-〔4-(4-クロロベンジル)-3,5-ジクロ
ロフェニル〕-4-(2,2-ジエトキシエチル)-セミカルバジ
ド０.４gをアセトニトリル５mlに溶解し、一滴の３５％
塩酸を加えて、室温下１時間撹拌した。得られた反応液
を冷却後、析出した題記化合物の結晶をろ取し題記目的
物０.２７g（収率９５％）を得た。 融点 １９９〜２００℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ₃)：4.05(t,2H),4.25(s,2H),6.50
(br,1H),7.05(t,1H),7.19(s,4H),7.60(s,2H) 実施例６ 2-〔4-(4-アセチルベンジル)-3,5-ジクロロ
フェニル〕-4,5-ジヒドロ-1,2,4-トリアジン-3(2H)-オ
ンの製造 2-〔4-(4-アセチルベンジル)-3,5-ジクロロフェニル〕-
1-ベンジリデン-4-(2,2-ジメトキシエチル)セミカルバ
ジド０.７gを酢酸エチル７mlにとかし、conc ＨＣl
０.２７gを加えて２０〜２５℃で１時間反応した。反応
液は水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮する。
残渣はクロマト精製する。（メルクシリカゲル６０；ヘ
キサン：酢酸エチル＝１：３）収量０.２４g（収率４
７.７％） 融点 １８９〜１９０℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ₃)：2.56(s,3H),4.14(t,2H),4.35
(s,2H),5.60(br,1H),7.11(m,1H),7.28(d,2H),7.62(s,2
H),7.85(d,2H)

【００３１】実施例７ 実施例５及び６記載の製造方法に準じて製造した化合物
及びその物理恒数を〔表２〕に示した。

【表２】

【００３２】実施例８ 2-〔4-(4-クロロベンジル)-3,5
-ジクロロフェニル〕-1,2,4-トリアジン-3,5(2H,4H)-ジ
オンの合成 2-〔4-(4-クロロベンジル)-3,5-ジクロロフェニル〕-4,
5-ジヒドロ-1,2,4-トリアジン-3(2H)-オン ０.２g及び
過酸化水素(３０％)０.２mlを酢酸２mlに溶解し,１００
〜１１０℃で３時間反応し、２０mlの水を加えて析出し
た題記化合物結晶をろ取した。収量０.１８g（収率８５
％） 融点 １７５〜１７６℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＤＭＳＯ-d₆)：4.30(s,2H),7.25(q,4H),7.
70(s,1H),7.74(s,2H),12.46(br,1H)

【００３３】実施例９ 実施例８記載の製造方法に準じて製造した化合物及びそ
の物理恒数を〔表３〕に示した。

【表３】

【００３４】実施例１０ 2-〔4-(4-クロロ-α-シアノ
ベンジル)-3,5-ジクロロフェニル〕-4,5-ジヒドロ-1,2,
4-トリアジン-3(2H)-オンの製造 実施例２で製造した1-ベンジリデンー2-〔4-(4-クロロ-
α-シアノベンジル)-3,5-ジクロロフェニル〕-4-(2,2-
ジメトキシエチル)セミカルバジド３.５gをアセトニト
リル３０mlに懸濁させ、３５％塩酸０.７gを加えて、室
温下で１時間反応する。反応終了後,０〜１０℃で半時
間冷却し析出結晶をろ取した。２.３g（収率９１.１
％）の題記化合物無色結晶を得た。 融点 １６６〜１６７℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ₃)；4.09(t,2H),6.11(s,1H),6.52
(br,1H),7.12(t,1H),7.30(s,4H),7.70(s,2H) 実施例１１ 2-〔4-(4-クロロ-α-シアノベンジル)-3,5
-ジクロロフェニル〕-1,2,4-トリアジン-3,5(2H,4H)-ジ
オンの製造 実施例１０で製造した2-〔4-(4-クロロ-α-シアノベン
ジル)-3,5-ジクロロフェニル〕-4,5-ジヒドロ-1,2,4-ト
リアジン-3(2H)-オン２.０gを酢酸２０mlに溶解し、３
０％過酸化水素３倍モルを加えて１００℃で３時間反応
した。反応終了後、氷水に明けて析出結晶をろ取した。
１.８g（収率８６.９％）の題記化合物無色結晶を得
た。 融点 ２９０〜２９２℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＤＭＳＯ-d₆)；6.53(s,1H),7.40(q,4H),7.
72(s,1H),7.85(s,2H),12.50(s,1H)

【００３５】実施例１２ 2-〔4-(4-クロロベンジル)-
3,5-ジクロロフェニル〕-1,2,4-トリアジン-3(2H)-オキ
ソ-5(4H)-チオンの合成 2-〔4-(4-クロロベンジル)-3,5-ジクロロフェニル〕-1,
2,4-トリアジン-3,5(2H,4H)-ジオン１.９gをトルエン５
０mlに懸濁し、室温下２,４−ビス（４−メトキシフェ
ニル）−１,３−ジチア−２,４−ジホスフェタン−２,
４−ジサルファイド１.２gを加えて１時間撹拌、還流し
た。反応終了後、不溶物を除き、濃縮して析出した結晶
を濾取、エーテルで洗浄。収量１.８g（収率９０.９
％） 融点 １７３〜１７５℃

【００３６】実施例１３ 実施例１２記載の製造方法に準じて製造した化合物及び
その物理恒数を〔表４〕に示した。

【表４】

【００３７】実施例１４ 2-〔4-(4-クロロベンジル)-
3,5-ジクロロフェニル〕-ヘキサヒドロ-1,2,4-トリアジ
ン-3,5(2H,4H)-ジオンの合成 2-〔4-(4-クロロベンジル)-3,5-ジクロロフェニル〕-1,
2,4-トリアジン-3,5(2H,4H)-ジオン２.３gを酢酸１００
mlに加えて、煮沸還流下亜鉛末３.１gを少量ずつ１０分
間で加えた。反応液は更に２時間撹拌、還流した後不溶
物を熱時濾去し、濾液を濃縮。残渣に氷水２０mlを加え
て、水洗後、少量のメタノールで洗浄した後乾燥した。
収量２.１g（収率９１.１％） 実施例１５ 実施例１４記載の製造方法に準じて製造した化合物及び
その物理恒数を〔表５〕に示した。

【表５】

【００３８】実施例１６ 2-｛4-〔4-(1-ヒドロキシエ
チル)ベンジル〕-3,5-ジクロロフェニル｝-4,5-ジヒド
ロ-1,2,4-トリアジン-3(2H)-オンの合成 2-〔4-(4-アセチルベンジル)-3,5-ジクロロフェニル〕-
4,5-ジヒドロ-1,2,4-トリアジン-3(2H)-オン０.１５gを
エタノール１.５mlに懸濁し氷冷下、水素化ホウ素ナト
リウム１００mgを加えた。室温下で１時間反応後、氷水
１０mlに注加し、酢酸エチル１０mlで抽出した。抽出液
は硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチル層は、濃縮
し残渣をクロマト精製した。（メルクシリカゲル６０；
ｎ−ヘキサン−アセトン＝１：１）無色結晶として０.
１３g（収率８６.２％）の題記化合物を得た。 融点 １１９〜１２０℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣl₃)；1.52(d,3H),2.58(br,1H),4.12
(m,2H),4.29(s,2H),4.81-4.96(m,1H),5.29(br,1H),7.05
-7.33(m,5H),7.59(s,2H) 実施例１７ 2-｛4-〔4-(1-ヒドロキシプロピル)ベンジ
ル〕-3,5-ジクロロフェニル｝-4,5-ジヒドロ-1,2,4-ト
リアジン-3(2H)-オンの合成 実施例１６と同様の操作により収率７３.２％で題記化
合物を得た。 融点 １４８〜１４９℃¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣl₃)；0.89(t,3H),1.57-1.84(m,2H),
2.56(br,1H),4.11(m,2H),4.29(s,2H),4.54(m,1H),5.56
(br,1H),7.05-7.20(m,5H),7.59(s,2H)

【００３９】実施例１８ 2-〔4-(4-クロロベンジル)-
3,5-ジクロロフェニル〕-1,2,4-トリアジン-3,5(2H,4H)
-ジオンの合成 2-〔4-(4-クロロベンジル)-3,5-ジクロロフェニル〕-4,
5-ジヒドロ-1,2,4-トリアジン-3(2H)-オン２.６gをテト
ラヒドロフラン３０mlに溶解し、クロロクロム酸ピリジ
ニウム４.５gを加え、室温下一夜撹拌した。反応終了後
不溶物を濾去し、濾液を濃縮した。残渣をクロマト精製
した。（メルクシリカゲル６０；クロロホルム−エタノ
ール＝２０：１）無色結晶として２.２g（収率８１.５
％）の題記化合物を得た。 融点 １７５〜１７６℃

【００４０】

【発明の効果】本発明製造法は除草剤、抗寄生生物剤等
として有用な種々の２-置換-１,２,４−トリアジン−３
-オン誘導体を簡便かつ高収率で製造することができ、
これら化合物の工業的規模での有利な製造を可能にし、
医薬、動物薬（特にコクシジウム症予防薬）、農薬など
として有用なトリアジン誘導体を安価に市場に提供す
る。本発明の化合物は、動物薬として用いた場合強い抗
コクシジウム作用を示すうえに、体内残留性が低いとい
う優れた特徴を有している。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 401/10 ２５３ Ｃ０７Ｄ 401/10 ２５３ 409/10 ２５３ 409/10 ２５３ // Ａ６１Ｋ 31/175 Ａ６１Ｋ 31/175 31/53 ＡＥＢ 31/53 ＡＥＢ

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】式 【化１】 〔式中、Ｒ¹は置換されていてもよい炭化水素残基を、
   Ｒ²およびＲ³は水素、置換されていてもよい炭化水素残
   基あるいは電子吸引基を、Ｒ⁴はアルキル基を示す。〕で
   表わされるセミカルバゾン誘導体を閉環反応させること
   を特徴とする式、 【化２】 〔式中、Ｒ¹は前記と同意義を、Ｘはカルボニル基、チ
   オカルボニル基、置換されていてもよいメチレン基を、
   破線は二重結合を形成していてもよいことをそれぞれ示
   す。〕で表わされる１,２,４−トリアジン−３−オン誘
   導体の製造法。
2. 【請求項２】式 【化３】 〔式中、Ｒ¹は置換されていてもよい炭化水素残基を、
   Ｒ²およびＲ³は水素、置換されていてもよい炭化水素残
   基あるいは電子吸引基を示す。〕で表されるヒドラゾン
   誘導体と式：(Ｒ⁴Ｏ)₂ＣＨＣＨ₂ＮＣＯ〔式中、Ｒ⁴はア
   ルキル基を示す。〕で表わされるジアルコキシエチルイ
   ソシアネートとを反応させて、請求項１記載のセミカル
   バゾン誘導体を得、該セミカルバゾン誘導体を閉環反応
   させる請求項１記載の１,２,４−トリアジン−３−オン
   誘導体の製造法。
3. 【請求項３】１,２,４−トリアジン−３−オン誘導体を
   得る請求項１記載の製造法。
4. 【請求項４】１,２,４−トリアジン−３,５−ジオン誘
   導体を得る請求項１記載の製造法。
5. 【請求項５】ヘキサヒドロ−１,２,４−トリアジン−３
   −オン誘導体を得る請求項１記載の製造法。
6. 【請求項６】２−〔４−（４−アセチルベンジル）−
   ３,５−ジクロロフェニル〕−４,５−ジヒドロ−１,２,
   ４−トリアジン−３(２Ｈ)−オンを得る請求項１記載の
   製造法。
7. 【請求項７】２−｛３,５−ジクロロ−４−〔４−（１
   −ヒドロキシエチル）−ベンジル〕フェニル｝−４,５
   −ジヒドロ−１,２,４−トリアジン−３(２Ｈ)−オンを
   得る請求項１記載の製造法。
8. 【請求項８】式 【化４】 〔式中、Ｒ¹は置換されていてもよい炭化水素残基を、
   Ｒ²およびＲ³は水素、置換されていてもよい炭化水素残
   基あるいは電子吸引基を、Ｒ⁴はアルキル基を示す。〕で
   表わされるセミカルバゾン誘導体。
9. 【請求項９】Ｒ¹が式： 【化５】 〔式中、Ｒ^aはアシル，置換していてもよいスルファモ
   イル，置換していてもよいカルバモイル，カルボキシ，
   アルコキシカルボニル，置換していてもよいアルキル，
   置換していてもよいアミノ基を、Ａは−ＣＨ−又は窒素
   原子を、Ｙ′はメチレン，シアノメチレン，カルボニ
   ル，ヒドロキシメチレン，硫黄原子，スルフィニル，ス
   ルフォニルまたは酸素原子を、Ｈal はハロゲンを、ま
   たＲ^bは水素原子，ハロゲン，又は低級アルキルを示
   す〕で表わされる請求項８記載のセミカルバゾン誘導
   体。
10. 【請求項１０】Ｒ¹が式 【化６】 〔式中、Ｒ^aはアシル，置換していてもよいスルファモ
    イル，置換していてもよいカルバモイル，カルボキシ，
    アルコキシカルボニル，置換していてもよいアルキル，
    置換していてもよいアミノ基を、Ａは−ＣＨ−又は窒素
    原子を、Ｙ′はメチレン，シアノメチレン，カルボニ
    ル，ヒドロキシメチレン，硫黄原子，スルフィニル，ス
    ルフオニルまたは酸素原子を、Ｈal はハロゲンを、ま
    たＲ^bは水素原子，ハロゲン，又は低級アルキルを示
    す〕で表わされる請求項１記載の製造法。
11. 【請求項１１】Ｒ¹が式 【化７】 〔式中、Ｒ^aはアシル，置換していてもよいスルファモ
    イル，置換していてもよいカルバモイル，カルボキシ，
    アルコキシカルボニル，置換していてもよいアルキル，
    置換していてもよいアミノ基を、Ａは−ＣＨ−又は窒素
    原子を、Ｙ′はメチレン，シアノメチレン，カルボニ
    ル，ヒドロキシメチレン，硫黄原子，スルフィニル，ス
    ルフオニルまたは酸素原子を、Ｈal はハロゲンを、ま
    たＲ^bは水素原子，ハロゲン，又は低級アルキルを示
    す〕で表わされる請求項２記載の製造法。
12. 【請求項１２】式 【化８】 〔式中、Ｒ^aはアシル，置換していてもよいスルファモ
    イル，置換していてもよいカルバモイル，カルボキシ
    ル，アルコキシカルボニル，置換していてもよいアルキ
    ル，置換していてもよいアミノ基を、Ｘ′はメチレン又
    はカルボニルを示す〕で表わされる１,２,４−トリアジ
    ン−３−オン誘導体。
13. 【請求項１３】２−〔４−（４−アセチルベンジル）−
    ３,５−ジクロロフェニル〕−４,５−ジヒドロ−１,２,
    ４−トリアジン−３(２Ｈ)−オンである請求項１２記載
    の誘導体。
14. 【請求項１４】２−｛３,５−ジクロロ−４−〔４−
    （１−ヒドロキシエチル）−ベンジル〕フェニル｝−
    ４,５−ジヒドロ−１,２,４−トリアジン−３(２Ｈ)−
    オンである請求項１２記載の誘導体。