JPH0833996B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体の製造方法

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JPH0833996B2 JP1249541A JP24954189A JPH0833996B2 JP H0833996 B2 JPH0833996 B2 JP H0833996B2 JP 1249541 A JP1249541 A JP 1249541A JP 24954189 A JP24954189 A JP 24954189A JP H0833996 B2 JPH0833996 B2 JP H0833996B2
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体に関し、特
に、磁性層形成後に実用性能向上のため設ける保護層お
よび滑剤層の効果を最大限に生かし得る磁気記録媒体の
製造方法に関するものである。
従来の技術 Co,Ni,Feまたはそれらを主成分とする合金を、真空蒸
着法,スパッタリング法,イオンプレーティング等の真
空中での成膜法により、ポリイミドフィルム等の高分子
フィルムや非磁性金属等からなる基板上に形成した強磁
性金属薄膜型磁気記録媒体は、従来の塗布型磁気記録媒
体に比して記録密度を飛躍的に向上させることが可能で
ある。
ところで、この高記録密度化のための条件としては、
記録再生欠陥を極力減少させるとともに、磁気ヘッド,
磁気記録媒体間のスペーシングロスを極力減少せしめる
ことが重要である。また磁気記録としては耐久性をも兼
ね備えていることが必要である。従来これらの条件を満
たすために、磁性層形成後に保護層を形成し、さらにト
ップコート層として滑剤層を設けることが知られてい
る。
第5図は従来のプラズマCVD法による保護層と湿式塗
布法による滑剤層を形成した磁気記録媒体の断面を示
し、1は基板、2は真空中成膜法により形成された強磁
性体金属薄膜層、3はバックコーティング層、4はプラ
ズマCVD法により形成された保護層、6は湿式塗布法に
より形成された滑剤層である。
以下、上述した従来の磁気記録媒体の製造方法につい
て説明する。(例えば特願昭62-324603号、特願昭63−7
1953号参照)。
非磁性基板上に強磁性金属薄膜層が形成された磁気記
録媒体は、プラズマCVD装置に装着され、反応ガス,プ
ラズマ発生用ノズル,電極,電源等の装置構成要素によ
り保護層4としてダイヤモンド状炭素膜が形成される、
上記方法によりダイヤモンド状炭素膜4の形成された磁
気記録媒体は、プラズマCVD装置よりいったん装脱され
滑剤層のみが形成される。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、上記従来の方法では、ダイヤモンド状
炭素膜4と滑剤層6との結合力が弱く、ビデオテープレ
コーダでの再生時に滑剤層6が、ヘッド等によりかき取
られ、滑剤としての機能が低下し、出力変動を起こすの
みならず、ヘッドの目づまりをも発生させ、磁気記録媒
体として重大な欠陥を有することになる。
本発明は上記課題に鑑み、ダイヤモンド状炭素膜形成
後の滑剤層形成時に強固に結合し、滑剤としての機能を
最大限に発揮させるため、保護層形成後に滑剤との結合
力を強固にさせるための処理をすることにより、ビデオ
テープレコーダでのヘッドによる掻き取りを低減させ、
出力変動、ヘッド目づまりの大幅に低減した磁気記録媒
体を提供しようとするものである。
課題を解決するための手段 上記課題を解決するため本発明の磁気記録媒体の製造
方法は、非磁性基板上に強磁性金属薄膜層を形成し、そ
の上にダイヤモンド状炭素膜を形成した磁気記録媒体を
一定方向に走行させつつ、真空中処理法により、前記ダ
イヤモンド状炭素膜上に酸化層を形成し、さらに同一真
空槽内において前記酸化層上に真空蒸着法により滑剤層
を形成することを特徴とする。
また酸化層を形成する方法が、酸素あるいは酸素を含
む材料を反応ガスとして、前記反応ガスとプラズマの拡
散を防止するノズルを設けたプラズマ放電法を用いるこ
と、あるいは反応ガスと熱源からの放射熱の拡散を防止
するノズルを設け、前記ノズル内に設けたハロゲンラン
プあるいは赤外線ヒータを用いることを特徴とする。
さらには、滑剤層を形成する方法が、滑剤蒸気の拡散
を防止する防着板を設けること、酸化層および滑剤層の
形成を磁気記録媒体を支持する同一のローラ上で行うこ
と、および滑剤層に用いる滑剤が官能基を有することを
特徴とする。
作用 本発明によればプラズマCVD法よりダイヤモンド状炭
素膜を形成した磁気記録媒体に真空中処理法で、ダイヤ
モンド状炭素膜上に酸化層を形成するときに、プラズマ
発生領域あるいは熱源周囲に設けたノズルにより、反応
ガスおよびプラズマあるいは熱の拡散による磁気記録媒
体表面の再汚染防止することができる。さらに前工程の
ダイヤモンド状炭素膜形成時にその表面に付着した汚染
物および一旦大気にさらされたときに水分を始めとする
吸着物は、酸化層形成時の初期表面スパッタリング時あ
るいは熱源による加熱でアウトガスとして放出され、ダ
イヤモンド状炭素膜の表面が清浄活性化される。続いて
プラズマあるいは熱により、イオン化あるいは活性化さ
れた酸素原子がダイヤモンド状炭素膜の表面近傍の炭素
あるいは水素と結合し極めて活性な酸化層を形成するこ
とができる。
また形成された酸化層は、表面が活性な状態で直後の
滑剤層を形成する蒸着装置に達するため、この酸化層を
介して保護層と滑剤層との化学結合が容易に進行し、極
めて強固な滑剤層が形成される。さらに過剰な滑剤のク
ラスター化した蒸気が拡散するのを、防着板により防止
するため、磁気記録媒体表面に付着することもない。
従って、ビデオテープレコーダでの記録再生時のヘッ
ドによる掻き取りが低減され、出力変動およびヘッド目
づまりが防止される。
実施例 以下本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。
実施例1 第1図は本発明の一実施例における装置構成の概要を
示す。本実施例で製造する磁気記録媒体20の基本構造を
第3図に示す。3〜20μmのポリエステルフィルム(PE
Tフィルム)を基板1とし、表面に0.1〜0.2μmのCo−N
i合金の斜方蒸着により強磁性金属薄膜層2を形成し、
走行性改善のため裏面に樹脂とカーボンの混合体からな
るバックコーティング層3を形成した磁気記録媒体20で
あり、前記強磁性金属薄膜層2上に、ダイヤモンド状炭
素膜4、さらに酸化層5および滑剤層6が形成される。
第1図において20aは酸化層5および滑剤層6形成前
のダイヤモンド状炭素膜を形成した磁気記録媒体であ
り、繰り出しローラ21に巻かれるとともにこの繰り出し
ローラ21からその張力が500mm幅換算で0.5〜20Kgfに制
御され送り出されている。22,24はパスローラであり磁
気記録媒体20と密着して回転する、23はメインローラで
あり、表面に誘電体被膜が設けられている。またメイン
ローラ23はその本体へバイアス電源30よりDC−0.05〜−
3KVの電圧が印加される一方、磁気記録媒体20を一定速
度(0.1〜200m/分)で搬送するよう回転数が制御されて
いる。25は酸化層5および滑剤層6形成後の磁気記録媒
体20bを連続的に巻き取るローラであり張力は500mm幅換
算で0.5〜20kgfに制御され、テーパ張力の制御も可能で
ある。26は酸化層5形成用ノズルで、反応ガスおよびプ
ラズマが真空槽内に拡散するのを防止している。27はプ
ラズマ発生用電極でありプラズマ発生用電源28と接続さ
れている。このプラズマ発生用電源28はDC,AC,RFあるい
はそれらの重畳で実効値0.05〜7KVの電圧が印加でき
る。29はガス導入口であり、ここから酸化層5形成用の
O2,エアー,CO2,CHとOを含むガス等が、0.3〜0.001To
rrの分圧で導入される。30はバイアス電源でありDC−0.
05〜−3KVの電圧が印加できる。
また31は蒸発源であり脂肪酸,脂肪酸エステル,脂肪
酸アミド等が充填されている。32は蒸発源31の滑剤を蒸
発させるための加熱装置であり蒸発源の温度を検出する
ことによりその加熱強度が制御されている。33は防着板
であり滑剤の蒸発粒子が飛散し、真空槽内の磁気記録媒
体20およびそれを搬送するための構成部品の汚染するの
を防止している。34は蒸発レートモニタであり滑剤粒子
の蒸発量を検出し蒸発源の温度を制御している。35はシ
ャッタであり、所定の蒸発速度に到達してから開放され
磁気記録媒体20の酸化層5上に滑剤の蒸着が開始され
る。
以上のように構成された本発明の磁気記録媒体の製造
方法について第1図を用いてその動作を説明する。
酸化層5及び滑剤層6形成前の磁気記録媒体20aはバ
イアス電源30より電圧が印加されたメインローラ23に強
磁性金属薄膜層2の背面において密着し、繰り出しロー
ラ21から巻き取りローラ25に向けて連続的に搬送されて
いる。一方酸化層5形成用のプラズマのイオン電流は、
ガス導入口29からの反応ガスとプラズマ用電源28からの
印加電圧により、電極27から発生し磁気記録媒体20aの
ダイヤモンド状炭素膜4に到達し、酸化層形成用ノズル
26の対向位置するダイヤモンド状炭素膜4上に酸化層5
が形成される。このとき初期のスパッタリング現象によ
るクリーニング作用により保護層4上の表面汚染物質が
除去される。さらにガス導入口29からの反応ガスがプラ
ズマ放電により分解活性化された酸素イオン、酸素ラジ
カル等が、ダイヤモンド状炭素膜4の炭素あるいは水素
と結合して清浄で活性な酸化層5が形成される。この酸
化層5が形成された磁気記録媒体20は活性な酸化表面の
状態で滑剤蒸着域へ搬送され、直後に滑剤層6が形成さ
れる。この滑剤層6形成用滑剤は蒸発源31に充填されて
おり、加熱装置32によって加熱溶融され、蒸発レートモ
ニタ34により規定の蒸発レートに達したことを検出し、
シャッタ35が開放されダイヤモンド状炭素膜4上に酸化
層5を形成した直後に滑剤層6が形成される。滑剤層6
を形成時に、防着板33により過剰なクラスター化した滑
剤蒸気が磁気記録媒体の表面に再付着するを防止し、極
めて清浄な滑剤層を形成できる。
以上のようにダイヤモンド状炭素膜4上に酸化層5を
形成した直後に滑剤層を形成することにより、ダイヤモ
ンド状炭素膜4形成時や形成後の保管時に表面に付着し
た汚染物質が除去されクリーンな表面となるとともに活
性な酸化層5上に滑剤層6が形成されるため、滑剤層6
形成時に強固な化学結合が進行し強固でかつ清浄な滑剤
層6を形成することが可能となる。また磁気記録媒体20
としては、記録再生欠陥としてのヘッド目づまりが著し
く減少する。
実施例2 つぎに、酸化層5を形成する真空中処理法として、ハ
ロゲンランプあるいは赤外線ヒータの熱源を用いる第2
の実施例について、第2図を参照しながら説明する。
第2図に示した本実施例の製造方法の装置構成が第1
実施例と異なるのは、酸化層5形成用の真空中処理装置
として、熱源により酸化層5を形成するため、上述のプ
ラズマ発生用電極27の代わりに、ハロゲンランプ,赤外
線ヒータ等の熱源40とその熱を集束する反射板41を設け
た点である。他の構成は、実施例1と同一であるから、
対応する各構成要素に同一符号を付する止どめ、詳細な
説明については省略する。
以下、本実施例の製造方法につき動作とともに説明す
る。
酸化層5及び滑剤層6形成前のダイヤモンド状炭素膜
4を形成した磁気記録媒体20aは繰り出しローラ21から
繰り出され、メインローラ23に密着して搬送される。前
記磁気記録媒体20aが酸化層5形成域、酸化層形成用プ
ラズマノズル26および熱源40,反射板41と対向する位置
に達すると、ガス導入口29より導入されたガスとともに
ハロゲンランプ等の熱源40と反射板41により加熱されダ
イヤモンド状炭素膜4面上に熱による安定した酸化層5
を形成することができる。この時、反応ガスおよび熱の
拡散による磁気記録媒体20の表面を再汚染することなく
清浄な酸化層を形成することができる。この酸化層5が
形成された磁気記録媒体20は滑剤層6形成域に搬送さ
れ、第1実施例と全く同様の方法により滑剤層6が形成
される。本実施例の場合、保護層4に全くダメージを与
えることなく酸化層が形成できるため、特にスチル耐久
性に対する効果が大きい。
次に前述した実施例の効果について第1表および第4
図を用いて説明する。
第1表および第4図に、本発明の第1,2実施例及び従
来例の方法により作成した磁気記録媒体10,20につき、
ビデオテープレコーダを用いて記録再生したときのヘッ
ド目づまり,ヘッド汚染度合およびスチル寿命について
示したものである。
このとき用いた磁気記録媒体10,20の保護膜4はビッ
カース硬度約2500Kg/mm2,厚さ約100Åのダイヤモンド
状炭素膜である。また第1実施例の酸化層5は、O2ガス
を原料とし約0.1Torrの分圧,AC50KHz約100Wの電力で厚
さ約10Å形成されている。第2実施例ではO2を原料とし
約1Torrの分圧で保護膜4の表面温度が約150℃になるよ
うに、加熱装置32の電力を調整し、厚さ10Å形成してい
る。
なお、ヘッド目づまりおよびヘッド汚染度合の具体的
測定条件として、90分程度の長さで8mm幅の磁気記録媒
体10,20を14mm/秒で走行させ相対速度3.8m/秒、トラッ
クピッチ約20μmで映像信号を突出が約30μmのヘッド
を2対搭載した径40mmの回転シリンダ型ビデオテープレ
コーダで記録し、約200時間再生したときのデータを示
すものである。またヘッド目づまり時間とはある有限な
時間再生出力が6dB低下した積算時間のことであり、ヘ
ッド汚染度合とは、ヘッド表面あるいは周辺に磁気記録
媒体より欠落した滑剤層6、バックコーティング層3等
が付着滞留した量を指数化したものである。
さらにスチル寿命測定の条件としては、前述のビデオ
テープレコーダを用いて記録し、通常走行時の張力の約
3倍の荷重を負荷し測定したもので、寿命は磁気記録媒
体10,20の強磁性薄膜金属層2まで傷が入り出力が全く
出なくなった時点とした。
第1表は従来例の方法と実施例1および実施例2につ
いて効果の特徴を示す表であり、ヘッド目づまりおよび
ヘッド汚染度合については実施例1,実施例2とも大幅な
改善が認められる。またスチル寿命については実施例2
の方がその効果が大きい。
第4図はヘッド目づまりの積算時間を示す図であり、
100時間以上走行後のヘッド目づまりは大巾に低減して
おり(1/20以下)実施例1,実施例2とも実用限界を余裕
をもってクリアできることが確認された。また従来例の
方法により作成された磁気記録媒体はヘッド目づまりが
増加する付近から出力変動が発生し、走行回数の増加と
もにその振幅も増大する。
以上の結果よりダイヤモンド状炭素膜4上に真空中処
理法にて酸化層5を形成、その直後に滑剤層6を形成す
ることにより、ダイヤモンド状炭素膜4上の汚染物が除
去され活性でクリーンな酸化層5が得られ、滑剤層6と
強固な化学結合が得られることになり、保護層4と滑剤
層6の相乗効果が顕著に現われ、くり返し走行で滑剤が
掻き取られることなく、安定した走行が得られるととも
にスチル耐久性も向上するものと考えられる。
なお実施例1および実施例2とも1個のローラに対応
する位置に、酸化層形成装置および滑剤層形成装置を配
設した場合について説明したが、両者ともローラを使用
しない場合およびローラを2個使用した場合についても
同様の結果が得られた。
またローラを使用した方が、ローラへの密着により、
熱負けによる欠陥、特に金属薄膜型磁気記録媒体におい
ては、薄膜自体にクラックが発生するのを防止すること
ができる。
発明の効果 以上のように本発明によれば、磁気記録媒体の金属薄
膜層およびダイヤモンド状炭素膜形成後に酸化層を形成
し、その直後に滑剤層を形成することにより、滑剤層形
成時に、クリーンな表面と活性な酸化層により滑剤自体
が強固に化学結合することになり、ビデオテープレコー
ダでの記録再生においては、ヘッド目づまりの大幅に低
減と、スチル寿命が向上し、余裕をもって実用に耐え得
る磁気記録媒体となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例1として、ダイヤモンド状炭素
膜上にプラズマ放電法により酸化層を形成する場合の製
造方法を示す概略図、第2図は本発明の実施例2として
ハロゲンランプ等の熱源を用いた場合の製造方法を示す
概略図、第3図は実施例1および実施例2における方法
で作製した磁気記録媒体の構成を示す構成図、第4図は
実施例1および実施例2における方法で作製した磁気記
録媒体と従来例の方法で作成した磁気記録媒体とのヘッ
ド目づまりの比較図、第5図は従来例の方法で作成した
磁気記録媒体の構成図である。 20……磁気記録媒体、21……繰り出しローラ、22……パ
スローラ、23……メインローラ、24……パスローラ、25
……巻取りローラ、26……酸化層形成用プラズマノズ
ル、27……電極、28……プラズマ用電源、29……ガス導
入口、31……蒸発源、32……加熱装置、40……酸化層形
成用熱源、41……酸化層形成用熱反射板。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】非磁性基板上に強磁性金属薄膜層を形成
    し、その上にダイヤモンド状炭素膜を形成した磁気記録
    媒体を一定方向に走行させつつ、真空中処理法により、
    前記ダイヤモンド状炭素膜上に酸化層を形成し、さらに
    同一真空槽内において前記酸化層上に滑剤蒸気の拡散を
    防止する防着板を設けた真空蒸着法により滑剤層を形成
    することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
  2. 【請求項2】酸化層を形成する方法が、酸素あるいは酸
    素を含む材料を反応ガスとして、前記反応ガスとプラズ
    マの拡散を防止するノズルを設けたプラズマ放電法を用
    いることを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体の製
    造方法。
  3. 【請求項3】酸化層を形成する方法が、酸素あるいは酸
    素を含む材料を反応ガスとし、前記反応ガスと熱源から
    の放射熱の拡散を防止するノズルを設け、前記ノズル内
    に設けたハロゲンランプあるいは赤外線ヒータを用いる
    ことを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体の製造方
    法。
  4. 【請求項4】酸化層および滑剤層の形成を磁気記録媒体
    を支持する同一のローラ上で行うことを特徴とする請求
    項1記載の磁気記録媒体の製造方法。
  5. 【請求項5】滑剤層に用いる滑剤が官能基を有すること
    を特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体の製造方法。
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