JPH0835065A - 真空成膜装置 - Google Patents
真空成膜装置Info
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- JPH0835065A JPH0835065A JP17111994A JP17111994A JPH0835065A JP H0835065 A JPH0835065 A JP H0835065A JP 17111994 A JP17111994 A JP 17111994A JP 17111994 A JP17111994 A JP 17111994A JP H0835065 A JPH0835065 A JP H0835065A
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- wafers
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- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims abstract description 14
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 12
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 abstract 6
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 11
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
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- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 パーティクルとなる摩耗粉の発生を抑制する
ことが可能で、しかも、発生した摩耗粉の飛散を防止す
ることができる構成とされた真空成膜装置を提供する。 【構成】 本発明にかかる真空成膜装置は、真空槽１２
内の上部に固定支持された第１斜交傘歯車１と、この第
１斜交傘歯車１と噛みあって惑星運動を行う第２斜交傘
歯車２と、駆動軸３に固定支持されて回転駆動される覆
い板４とを備えており、この覆い板４は第２斜交傘歯車
２の回転軸５を回転自在に支持し、かつ、第１及び第２
斜交傘歯車１，２の全体を下側から覆って取り囲むもの
である一方、この覆い板４の下側にまで突出した回転軸
５の下端には基板ホルダー１１が取り付けられているこ
とを特徴とするものである。
ことが可能で、しかも、発生した摩耗粉の飛散を防止す
ることができる構成とされた真空成膜装置を提供する。 【構成】 本発明にかかる真空成膜装置は、真空槽１２
内の上部に固定支持された第１斜交傘歯車１と、この第
１斜交傘歯車１と噛みあって惑星運動を行う第２斜交傘
歯車２と、駆動軸３に固定支持されて回転駆動される覆
い板４とを備えており、この覆い板４は第２斜交傘歯車
２の回転軸５を回転自在に支持し、かつ、第１及び第２
斜交傘歯車１，２の全体を下側から覆って取り囲むもの
である一方、この覆い板４の下側にまで突出した回転軸
５の下端には基板ホルダー１１が取り付けられているこ
とを特徴とするものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は真空成膜装置にかかり、
詳しくは、半導体などのウェハを支持した基板ホルダー
が惑星（プラネタリー）運動を行う構成とされた真空成
膜装置に関する。
詳しくは、半導体などのウェハを支持した基板ホルダー
が惑星（プラネタリー）運動を行う構成とされた真空成
膜装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、この種の真空成膜装置として
は真空蒸着装置やスパッタリング装置などが一般的であ
り、その一例としては図２で示すような構成とされてプ
ラネタリー型といわれる真空蒸着装置がある。すなわ
ち、この真空蒸着装置は、成膜処理すべき半導体などの
ウェハＷを下向きとして支持した基板ホルダー１１が惑
星運動を行う構成とされたものであり、高真空に排気さ
れる真空槽１２内の上部には固定支持されたうえで回転
駆動される支持ホルダー１３が配置される一方、真空槽
１２内の下部には蒸発源１４が載置されている。そし
て、この際における支持ホルダー１３は公転駆動用フッ
ク１５を介したうえで真空槽１２外に設置された回転駆
動源であるモーター１６と連結されており、公転駆動用
フック１５は支持ホルダー１３の偏心位置に対して固定
されている。なお、図中の符号１７は、真空封止軸受
（フィードスルー）を示している。
は真空蒸着装置やスパッタリング装置などが一般的であ
り、その一例としては図２で示すような構成とされてプ
ラネタリー型といわれる真空蒸着装置がある。すなわ
ち、この真空蒸着装置は、成膜処理すべき半導体などの
ウェハＷを下向きとして支持した基板ホルダー１１が惑
星運動を行う構成とされたものであり、高真空に排気さ
れる真空槽１２内の上部には固定支持されたうえで回転
駆動される支持ホルダー１３が配置される一方、真空槽
１２内の下部には蒸発源１４が載置されている。そし
て、この際における支持ホルダー１３は公転駆動用フッ
ク１５を介したうえで真空槽１２外に設置された回転駆
動源であるモーター１６と連結されており、公転駆動用
フック１５は支持ホルダー１３の偏心位置に対して固定
されている。なお、図中の符号１７は、真空封止軸受
（フィードスルー）を示している。
【０００３】また、基板ホルダー１１のそれぞれは支持
ホルダー１３の回転方向に沿って離間する所定位置ごと
に配置されたものであり、各基板ホルダー１１の回転軸
１８それぞれは支持ホルダー１３から延出された軸受部
１９によって回転自在に支持されている。さらに、軸受
部１９のそれぞれを貫通して上向きに突出した各基板ホ
ルダー１１の回転軸１８それぞれの上端には自転用ホイ
ール２０が取り付けられており、これらの自転用ホイー
ル２０は真空槽１２の内周面上に設置された円環形状の
レール２１上を滑りながら摩擦抵抗の作用でもって自転
させられるようになっている。そこで、この真空蒸着装
置を構成する基板ホルダー１１は支持ホルダー１３の回
転駆動に伴って回転軸１８が公転させられ、また、この
回転軸１８の公転に伴って自転用ホイール２０がレール
２１上を自転する結果として惑星運動を行うことにな
る。
ホルダー１３の回転方向に沿って離間する所定位置ごと
に配置されたものであり、各基板ホルダー１１の回転軸
１８それぞれは支持ホルダー１３から延出された軸受部
１９によって回転自在に支持されている。さらに、軸受
部１９のそれぞれを貫通して上向きに突出した各基板ホ
ルダー１１の回転軸１８それぞれの上端には自転用ホイ
ール２０が取り付けられており、これらの自転用ホイー
ル２０は真空槽１２の内周面上に設置された円環形状の
レール２１上を滑りながら摩擦抵抗の作用でもって自転
させられるようになっている。そこで、この真空蒸着装
置を構成する基板ホルダー１１は支持ホルダー１３の回
転駆動に伴って回転軸１８が公転させられ、また、この
回転軸１８の公転に伴って自転用ホイール２０がレール
２１上を自転する結果として惑星運動を行うことにな
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記従来例
にかかる真空蒸着装置では、真空槽１２内において基板
ホルダー１１が公転させられるのに従って自転用ホイー
ル２０がレール２１上を滑りながら自転する構成を採用
しているため、これら自転用ホイール２０及びレール２
１間における摩耗粉の発生が避けられないことになって
いた。そして、発生した摩耗粉が自転用ホイール２０の
自転に伴って粉砕されたうえで飛散したり、自転用ホイ
ール２０に付着して運ばれている途中で落下したりする
ことが起こる結果、これらの摩耗粉がいわゆるパーティ
クルとなって純度の高い堆積膜の形成を阻害するという
不都合が生じていた。
にかかる真空蒸着装置では、真空槽１２内において基板
ホルダー１１が公転させられるのに従って自転用ホイー
ル２０がレール２１上を滑りながら自転する構成を採用
しているため、これら自転用ホイール２０及びレール２
１間における摩耗粉の発生が避けられないことになって
いた。そして、発生した摩耗粉が自転用ホイール２０の
自転に伴って粉砕されたうえで飛散したり、自転用ホイ
ール２０に付着して運ばれている途中で落下したりする
ことが起こる結果、これらの摩耗粉がいわゆるパーティ
クルとなって純度の高い堆積膜の形成を阻害するという
不都合が生じていた。
【０００５】本発明は、このような不都合に鑑みて創案
されたものであって、パーティクルとなる摩耗粉の発生
を抑制することが可能で、しかも、発生した摩耗粉の飛
散を防止することができる構成とされた真空成膜装置の
提供を目的としている。
されたものであって、パーティクルとなる摩耗粉の発生
を抑制することが可能で、しかも、発生した摩耗粉の飛
散を防止することができる構成とされた真空成膜装置の
提供を目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明にかかる真空成膜
装置は、このような目的を達成するため、真空槽内の上
部に固定支持された第１斜交傘歯車と、この第１斜交傘
歯車と噛みあって惑星運動を行う第２斜交傘歯車と、駆
動軸に固定支持されて回転駆動される覆い板とを備えて
おり、この覆い板は第２斜交傘歯車の回転軸を回転自在
に支持し、かつ、第１及び第２斜交傘歯車の全体を下側
から覆って取り囲むものである一方、この覆い板の下側
にまで突出した回転軸の下端には基板ホルダーが取り付
けられていることを特徴とするものである。
装置は、このような目的を達成するため、真空槽内の上
部に固定支持された第１斜交傘歯車と、この第１斜交傘
歯車と噛みあって惑星運動を行う第２斜交傘歯車と、駆
動軸に固定支持されて回転駆動される覆い板とを備えて
おり、この覆い板は第２斜交傘歯車の回転軸を回転自在
に支持し、かつ、第１及び第２斜交傘歯車の全体を下側
から覆って取り囲むものである一方、この覆い板の下側
にまで突出した回転軸の下端には基板ホルダーが取り付
けられていることを特徴とするものである。
【０００７】
【作用】上記構成によれば、基板ホルダーの惑星運動は
第１斜交傘歯車と第２斜交傘歯車との噛みあいによって
実現されることになり、これら斜交傘歯車同士の噛みあ
いによって発生する摩耗粉はごく微量となる。そして、
発生したうえで落下してきた摩耗粉は両斜交傘歯車より
も下側に設けられた覆い板でもって受け止められること
になり、真空槽内には飛散しないことになる。
第１斜交傘歯車と第２斜交傘歯車との噛みあいによって
実現されることになり、これら斜交傘歯車同士の噛みあ
いによって発生する摩耗粉はごく微量となる。そして、
発生したうえで落下してきた摩耗粉は両斜交傘歯車より
も下側に設けられた覆い板でもって受け止められること
になり、真空槽内には飛散しないことになる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
【０００９】図１は本発明にかかる真空成膜装置の一例
である真空蒸着装置を簡略化して示す断面図であり、こ
の図１において従来例を示す図２と互いに同一となる部
品、部分には同一符号を付し、ここでの詳しい説明は省
略する。
である真空蒸着装置を簡略化して示す断面図であり、こ
の図１において従来例を示す図２と互いに同一となる部
品、部分には同一符号を付し、ここでの詳しい説明は省
略する。
【００１０】本実施例にかかる真空蒸着装置は、成膜処
理すべき半導体などのウェハＷを下向きとして支持した
基板ホルダー１１が従来例同様の惑星運動を行うことか
らプラネタリー型といわれるものであり、高真空にまで
排気される真空槽１２を備えるとともに、この真空槽１
２内の上部位置に水平状として固定支持された単一個の
第１斜交傘歯車１と、この第１斜交傘歯車１と噛みあっ
て惑星運動を行う複数個、例えば、３個程度の第２斜交
傘歯車２とを具備することによって構成されている。そ
して、この固定支持された第１斜交傘歯車１の図心位置
には駆動軸３が真空封止軸受１７を介したうえで配設さ
れており、この駆動軸３は真空槽１２外に設置された回
転駆動源であるモーター１６と連結されている。さら
に、この駆動軸３の下端には薄い金属板などを用いて形
成された覆い板（プラネタリードーム）４が固定支持さ
れており、この覆い板４は駆動軸３によって回転駆動さ
れるようになっている。
理すべき半導体などのウェハＷを下向きとして支持した
基板ホルダー１１が従来例同様の惑星運動を行うことか
らプラネタリー型といわれるものであり、高真空にまで
排気される真空槽１２を備えるとともに、この真空槽１
２内の上部位置に水平状として固定支持された単一個の
第１斜交傘歯車１と、この第１斜交傘歯車１と噛みあっ
て惑星運動を行う複数個、例えば、３個程度の第２斜交
傘歯車２とを具備することによって構成されている。そ
して、この固定支持された第１斜交傘歯車１の図心位置
には駆動軸３が真空封止軸受１７を介したうえで配設さ
れており、この駆動軸３は真空槽１２外に設置された回
転駆動源であるモーター１６と連結されている。さら
に、この駆動軸３の下端には薄い金属板などを用いて形
成された覆い板（プラネタリードーム）４が固定支持さ
れており、この覆い板４は駆動軸３によって回転駆動さ
れるようになっている。
【００１１】また、この覆い板４は第１及び第２斜交傘
歯車１，２の全体を下側から覆ったうえで取り囲む形
状、すなわち、第１及び第２斜交傘歯車１，２の斜交状
態に対応し、かつ、周縁部のみが上向きに屈曲形成され
た円錐皿形の断面形状を有するものとなっている。そし
て、駆動軸３に従って回転駆動される覆い板４の回転方
向に沿う等間隔位置ごとには第２斜交傘歯車２の回転軸
５を回転自在に支持する軸受部６が配置されている。さ
らにまた、覆い板４に設けられた各軸受部６によって支
持された第２斜交傘歯車２それぞれの回転軸５は覆い板
４の下側にまで突出しており、この覆い板４を貫通した
うえで下向きに突出した各回転軸５の下端には基板ホル
ダー１１、すなわち、成膜処理すべきウェハＷを下向き
として支持した基板ホルダー１１が着脱自在として取り
付けられている。
歯車１，２の全体を下側から覆ったうえで取り囲む形
状、すなわち、第１及び第２斜交傘歯車１，２の斜交状
態に対応し、かつ、周縁部のみが上向きに屈曲形成され
た円錐皿形の断面形状を有するものとなっている。そし
て、駆動軸３に従って回転駆動される覆い板４の回転方
向に沿う等間隔位置ごとには第２斜交傘歯車２の回転軸
５を回転自在に支持する軸受部６が配置されている。さ
らにまた、覆い板４に設けられた各軸受部６によって支
持された第２斜交傘歯車２それぞれの回転軸５は覆い板
４の下側にまで突出しており、この覆い板４を貫通した
うえで下向きに突出した各回転軸５の下端には基板ホル
ダー１１、すなわち、成膜処理すべきウェハＷを下向き
として支持した基板ホルダー１１が着脱自在として取り
付けられている。
【００１２】そこで、この真空蒸着装置を構成する基板
ホルダー１１は、駆動軸３によって覆い板４が回転駆動
され、かつ、軸受部６を介して第２斜交傘歯車２が公転
させられる一方、第１斜交傘歯車１と噛みあって第２斜
交傘歯車２が自転する結果として惑星運動を行っている
ことになる。そして、これら第１及び第２斜交傘歯車
１，２は噛みあうことによっての動力伝達を行ってお
り、本実施例における基板ホルダー１１は従来例のよう
な滑りに基づく自転を行っていないから、自転に伴う摩
耗粉の発生は大幅に減少してごく微量となる。また、発
生した摩耗粉が落下したとしても、落下してきた摩耗粉
は第１及び第２斜交傘歯車１，２よりも下側に設けられ
た覆い板４でもって受け止められることになり、真空槽
１２内には飛散しないことになる。なお、本実施例にお
いては、真空成膜装置が真空蒸着装置であるとして説明
したが、これに限られることはなく、高周波スパッタリ
ング装置、マグネトロンスパッタリング装置、直流スパ
ッタリング装置、電子ビーム蒸着装置、抵抗加熱蒸着装
置などのような真空成膜装置に対しても本発明の適用が
可能であることは勿論である。
ホルダー１１は、駆動軸３によって覆い板４が回転駆動
され、かつ、軸受部６を介して第２斜交傘歯車２が公転
させられる一方、第１斜交傘歯車１と噛みあって第２斜
交傘歯車２が自転する結果として惑星運動を行っている
ことになる。そして、これら第１及び第２斜交傘歯車
１，２は噛みあうことによっての動力伝達を行ってお
り、本実施例における基板ホルダー１１は従来例のよう
な滑りに基づく自転を行っていないから、自転に伴う摩
耗粉の発生は大幅に減少してごく微量となる。また、発
生した摩耗粉が落下したとしても、落下してきた摩耗粉
は第１及び第２斜交傘歯車１，２よりも下側に設けられ
た覆い板４でもって受け止められることになり、真空槽
１２内には飛散しないことになる。なお、本実施例にお
いては、真空成膜装置が真空蒸着装置であるとして説明
したが、これに限られることはなく、高周波スパッタリ
ング装置、マグネトロンスパッタリング装置、直流スパ
ッタリング装置、電子ビーム蒸着装置、抵抗加熱蒸着装
置などのような真空成膜装置に対しても本発明の適用が
可能であることは勿論である。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明にかかる真
空成膜装置における基板ホルダーの惑星運動は第１斜交
傘歯車と第２斜交傘歯車との噛みあいによって実現され
ることになり、これら斜交傘歯車同士の噛みあいによっ
て発生する摩耗粉はごく微量となる。そして、発生した
うえで落下してきた摩耗粉は両斜交傘歯車よりも下側に
設けられた覆い板でもって受け止められることになり、
真空槽内には飛散しないことになる。その結果、本発明
によれば、パーティクルとなる摩耗粉の発生を抑制する
ことが可能となるばかりか、発生した摩耗粉の飛散を防
止することができるという効果が得られる。
空成膜装置における基板ホルダーの惑星運動は第１斜交
傘歯車と第２斜交傘歯車との噛みあいによって実現され
ることになり、これら斜交傘歯車同士の噛みあいによっ
て発生する摩耗粉はごく微量となる。そして、発生した
うえで落下してきた摩耗粉は両斜交傘歯車よりも下側に
設けられた覆い板でもって受け止められることになり、
真空槽内には飛散しないことになる。その結果、本発明
によれば、パーティクルとなる摩耗粉の発生を抑制する
ことが可能となるばかりか、発生した摩耗粉の飛散を防
止することができるという効果が得られる。
【図１】本実施例にかかる真空蒸着装置を簡略化して示
す断面図である。
す断面図である。
【図２】従来例にかかる真空蒸着装置を簡略化して示す
断面図である。
断面図である。
１ 第１斜交傘歯車 ２ 第２斜交傘歯車 ３ 駆動軸 ４ 覆い板 ５ 第２斜交傘歯車の回転軸 １１ 基板ホルダー １２ 真空槽
Claims (1)
- 【請求項１】 真空槽（１２）内の上部に固定支持され
た第１斜交傘歯車（１）と、この第１斜交傘歯車（１）
と噛みあって惑星運動を行う第２斜交傘歯車（２）と、
駆動軸（３）に固定支持されて回転駆動される覆い板
（４）とを備えており、この覆い板（４）は第２斜交傘
歯車（２）の回転軸（５）を回転自在に支持し、かつ、
第１及び第２斜交傘歯車（１，２）の全体を下側から覆
って取り囲むものである一方、この覆い板（４）の下側
にまで突出した回転軸（５）の下端には基板ホルダー
（１１）が取り付けられていることを特徴とする真空成
膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17111994A JPH0835065A (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 真空成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17111994A JPH0835065A (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 真空成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0835065A true JPH0835065A (ja) | 1996-02-06 |
Family
ID=15917339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17111994A Pending JPH0835065A (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 真空成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0835065A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006001095A1 (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-05 | Showa Shinku Co., Ltd. | 基板ドーム回転機構 |
| CN100338256C (zh) * | 2004-08-13 | 2007-09-19 | 精碟科技股份有限公司 | 彩色鼓轮滤光片的镀膜设备 |
| CN100415928C (zh) * | 2004-10-29 | 2008-09-03 | 精碟科技股份有限公司 | 镀膜设备 |
| KR20160090017A (ko) * | 2015-01-21 | 2016-07-29 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자 및 이를 제조하는 전자 빔 증착 장치 |
| KR20160149495A (ko) * | 2015-06-18 | 2016-12-28 | 엘지이노텍 주식회사 | 기판 지지유닛 및 이를 포함하는 기판 처리장치 |
| CN112453454A (zh) * | 2020-12-12 | 2021-03-09 | 廖伟华 | 一种开口式三爪自定心卡盘 |
| CN117758221A (zh) * | 2023-12-26 | 2024-03-26 | 皓晶控股集团股份有限公司 | 一种真空玻璃镀膜设备及工艺 |
-
1994
- 1994-07-22 JP JP17111994A patent/JPH0835065A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006001095A1 (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-05 | Showa Shinku Co., Ltd. | 基板ドーム回転機構 |
| KR100855174B1 (ko) * | 2004-06-25 | 2008-08-29 | 가부시키가이샤 쇼와 신쿠 | 기판 돔을 포함하는 진공 장치, 그 조립 및 분해 방법, 및 기판 돔을 포함하는 진공장치에서의 성막 방법 |
| CN100338256C (zh) * | 2004-08-13 | 2007-09-19 | 精碟科技股份有限公司 | 彩色鼓轮滤光片的镀膜设备 |
| CN100415928C (zh) * | 2004-10-29 | 2008-09-03 | 精碟科技股份有限公司 | 镀膜设备 |
| KR20160090017A (ko) * | 2015-01-21 | 2016-07-29 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자 및 이를 제조하는 전자 빔 증착 장치 |
| KR20160149495A (ko) * | 2015-06-18 | 2016-12-28 | 엘지이노텍 주식회사 | 기판 지지유닛 및 이를 포함하는 기판 처리장치 |
| CN112453454A (zh) * | 2020-12-12 | 2021-03-09 | 廖伟华 | 一种开口式三爪自定心卡盘 |
| CN117758221A (zh) * | 2023-12-26 | 2024-03-26 | 皓晶控股集团股份有限公司 | 一种真空玻璃镀膜设备及工艺 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060509 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20060912 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |