JPH0836141A - 水平解像度を改善するｄｍｄ構造 - Google Patents
水平解像度を改善するｄｍｄ構造Info
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- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N5/00—Details of television systems
- H04N5/74—Projection arrangements for image reproduction, e.g. using eidophor
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- G—PHYSICS
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- G02B26/0841—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD the reflecting element being moved or deformed by electrostatic means
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ディスプレイ装置の変調器の効率を落とすこ
となく有効解像度を増加させる、効果的な空間光変調器
のアレー構造を提供する。 【構成】 ディスプレイ装置の有効水平解像度を増加さ
せる方法と装置。本発明の一実施態様は、アレー内の交
互の行を千鳥にすることによりディジタルマイクロミラ
ー要素の基本アレーを形成する。本発明の第２の実施態
様では、順序画素アレー（５７）を、ＳＬＭ要素（５
９、６１、６３、６５）をグループ化して画素ブロック
（５８）にすることにより基本画素アレーに変換する。
画素ブロック内の全ての要素は同時に制御され、その画
素ブロックは単一画素のように動作する。画素ブロック
の行（６７）と（６９）は補い合って、基本画素アレー
にしばしば発生する効率の低下を起こすことなく、画素
の基本アレーの効果を与える。
となく有効解像度を増加させる、効果的な空間光変調器
のアレー構造を提供する。 【構成】 ディスプレイ装置の有効水平解像度を増加さ
せる方法と装置。本発明の一実施態様は、アレー内の交
互の行を千鳥にすることによりディジタルマイクロミラ
ー要素の基本アレーを形成する。本発明の第２の実施態
様では、順序画素アレー（５７）を、ＳＬＭ要素（５
９、６１、６３、６５）をグループ化して画素ブロック
（５８）にすることにより基本画素アレーに変換する。
画素ブロック内の全ての要素は同時に制御され、その画
素ブロックは単一画素のように動作する。画素ブロック
の行（６７）と（６９）は補い合って、基本画素アレー
にしばしば発生する効率の低下を起こすことなく、画素
の基本アレーの効果を与える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、１９９０年９月１１日
発行の米国特許第４，９５６，６１９号、および１９９
１年１０月２９日発行の米国特許第５，０６１，０４９
号、に関する。
発行の米国特許第４，９５６，６１９号、および１９９
１年１０月２９日発行の米国特許第５，０６１，０４９
号、に関する。
【０００２】本発明は投写ディスプレイ装置の分野に関
し、より詳しくは、ディジタル空間光変調器投写ディス
プレイ装置に関する。
し、より詳しくは、ディジタル空間光変調器投写ディス
プレイ装置に関する。
【０００３】
【従来の技術】空間光変調器（ＳＬＭ）は投写ディスプ
レイ装置で映像を生成するのに用いられる。ディスプレ
イ装置の重要な機能の一つの測度は解像度である。解像
度は垂直および水平の単位長さ当たりの線で計られる。
テレビジョンや他のビデオ信号の信号形式のため、垂直
解像度はビデオ源から送信される線の数に等しい。水平
解像度はより主観的な測度である。ビデオ信号をディジ
タル化して表示すると、水平解像度はビデオ映像の各線
上に表示することのできるディジタル化されたビデオサ
ンプル数で決まる。
レイ装置で映像を生成するのに用いられる。ディスプレ
イ装置の重要な機能の一つの測度は解像度である。解像
度は垂直および水平の単位長さ当たりの線で計られる。
テレビジョンや他のビデオ信号の信号形式のため、垂直
解像度はビデオ源から送信される線の数に等しい。水平
解像度はより主観的な測度である。ビデオ信号をディジ
タル化して表示すると、水平解像度はビデオ映像の各線
上に表示することのできるディジタル化されたビデオサ
ンプル数で決まる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】水平解像度の仕様は、
有効なまたは有用な解像度の問題があるため一層複雑に
なる。ディスプレイ装置の最大水平解像度を用いて映像
を表示すると、視覚的に乱れたものになる。ディスプレ
イの最大水平解像度を必要とする垂直縞を持つ映像が水
平に動いて画素との配列が変化すると、表示される映像
は非常に速く変化するように見える。これはビデオ信号
とビデオサンプリングの間の位相シフトにより起こる。
有効なまたは有用な解像度の問題があるため一層複雑に
なる。ディスプレイ装置の最大水平解像度を用いて映像
を表示すると、視覚的に乱れたものになる。ディスプレ
イの最大水平解像度を必要とする垂直縞を持つ映像が水
平に動いて画素との配列が変化すると、表示される映像
は非常に速く変化するように見える。これはビデオ信号
とビデオサンプリングの間の位相シフトにより起こる。
【０００５】例えば図１および図２に示すように、三角
波ビデオ信号がディスプレイの水平解像度能力における
垂直の黒と白の縞の映像を表し、映像をＸ軸上の印で示
す点でサンプリングする場合、表示される映像の各行は
図２に示すように交互に黒と白の画素になる。図３に示
すように、入力ビデオ信号の位相が変わって２分の１画
素だけ水平に動いた映像を表示すると、得られる映像は
図４に示すように全行が灰色の画素になる。この映像が
連続して動くと、人の目に見えるのは動く縞のフィール
ドではなく、コントラストの高い縞と灰色が交互に現れ
るスクリーンである。この問題をなくすためには、ビデ
オ信号をフィルタリングして高周波成分を除いてよい。
フィルタは通常、ディスプレイスクリーンの最大能力の
７０％までの水平解像度を持つ信号を通すよう設計され
る。この方法は水平解像度の高い映像の表示に関連する
問題を除くことはできるが、水平解像度の高い信号成分
を除くので映像の解像度は下がる。
波ビデオ信号がディスプレイの水平解像度能力における
垂直の黒と白の縞の映像を表し、映像をＸ軸上の印で示
す点でサンプリングする場合、表示される映像の各行は
図２に示すように交互に黒と白の画素になる。図３に示
すように、入力ビデオ信号の位相が変わって２分の１画
素だけ水平に動いた映像を表示すると、得られる映像は
図４に示すように全行が灰色の画素になる。この映像が
連続して動くと、人の目に見えるのは動く縞のフィール
ドではなく、コントラストの高い縞と灰色が交互に現れ
るスクリーンである。この問題をなくすためには、ビデ
オ信号をフィルタリングして高周波成分を除いてよい。
フィルタは通常、ディスプレイスクリーンの最大能力の
７０％までの水平解像度を持つ信号を通すよう設計され
る。この方法は水平解像度の高い映像の表示に関連する
問題を除くことはできるが、水平解像度の高い信号成分
を除くので映像の解像度は下がる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、変調器
の効率を落とすことなくディスプレイの有効解像度を増
加させる、効果的なＳＬＭアレー構造を提供することで
ある。本発明の一実施態様では、ＳＬＭの行を基本にし
て基本アレー（ｃａｒｄｉｎａｌ ａｒｒａｙ）を形成
する。本発明の別の実施態様では、順序アレーからのＳ
ＬＭ要素をグループ化して、基本形式で画の要素を作
る。グループ化するには、ＳＬＭ要素の制御信号を物理
的に接続するか、各要素について独立の制御手段を用い
てＳＬＭ要素を同時に操作することにより行う。順序画
素を基本グループにすることにより、基本アレーを用い
る場合に起こるいくつかのＳＬＭ方式の効率の問題を回
避する。
の効率を落とすことなくディスプレイの有効解像度を増
加させる、効果的なＳＬＭアレー構造を提供することで
ある。本発明の一実施態様では、ＳＬＭの行を基本にし
て基本アレー（ｃａｒｄｉｎａｌ ａｒｒａｙ）を形成
する。本発明の別の実施態様では、順序アレーからのＳ
ＬＭ要素をグループ化して、基本形式で画の要素を作
る。グループ化するには、ＳＬＭ要素の制御信号を物理
的に接続するか、各要素について独立の制御手段を用い
てＳＬＭ要素を同時に操作することにより行う。順序画
素を基本グループにすることにより、基本アレーを用い
る場合に起こるいくつかのＳＬＭ方式の効率の問題を回
避する。
【０００７】本発明の別の利点は、画素のアドレスに冗
長を許すことである。本発明の更に別の利点は、ディス
プレイの明るさを増すことである。
長を許すことである。本発明の更に別の利点は、ディス
プレイの明るさを増すことである。
【０００８】
【実施例】図２は、順序形式で配列された正方形画素か
ら成る面積アレー２０を示す。順序形式とは、画素の行
が隣接する行の真下に配列されるものをいう。例えば、
画素２２は画素２４の真下にあり、画素２６の真上にあ
る。図６は千鳥形式に配列した正方形画素から成る面積
アレー２８を示す。千鳥形式では画素３０は上の行の画
素３２と３４の間にあり、下の行の画素３６と３８の間
にある。基本形式やれんが形式は千鳥形式の別の言い方
である。基本アレーは、順序アレーにより生成される図
のゆがみ（ａｒｔｉｆａｃｔｓ）をいくらか減らす高解
像度信号を表示するのに用いられる。
ら成る面積アレー２０を示す。順序形式とは、画素の行
が隣接する行の真下に配列されるものをいう。例えば、
画素２２は画素２４の真下にあり、画素２６の真上にあ
る。図６は千鳥形式に配列した正方形画素から成る面積
アレー２８を示す。千鳥形式では画素３０は上の行の画
素３２と３４の間にあり、下の行の画素３６と３８の間
にある。基本形式やれんが形式は千鳥形式の別の言い方
である。基本アレーは、順序アレーにより生成される図
のゆがみ（ａｒｔｉｆａｃｔｓ）をいくらか減らす高解
像度信号を表示するのに用いられる。
【０００９】図５および図６は、千鳥にした画素を用い
た図１および図２の高解像度縞の例を示す。図６の奇数
行は、図５のＸ軸の上側の印で示す時刻にサンプリング
したデータを表示する。この場合、全ての奇数行は黒と
白の画素が交互になる。全ての偶数行は、図５のＸ軸の
下側の印で示す時刻にサンプリングしたデータを表示す
る。この場合は、全ての偶数行は灰色になる。人の目に
は、灰色を背景に縞の表示を総合した、ダイナミックレ
ンジの小さい縞が見える。図７および図８に示すよう
に、映像の配列がシフトすると一つ置きの灰色の行は縞
を表示し始め、縞の行は灰色を表示し始める。人の目に
はやはり灰色を背景に縞があるように見える。映像がデ
ィスプレイ上を動くにつれて、ダイナミックレンジは小
さいが目的とする映像が見える。
た図１および図２の高解像度縞の例を示す。図６の奇数
行は、図５のＸ軸の上側の印で示す時刻にサンプリング
したデータを表示する。この場合、全ての奇数行は黒と
白の画素が交互になる。全ての偶数行は、図５のＸ軸の
下側の印で示す時刻にサンプリングしたデータを表示す
る。この場合は、全ての偶数行は灰色になる。人の目に
は、灰色を背景に縞の表示を総合した、ダイナミックレ
ンジの小さい縞が見える。図７および図８に示すよう
に、映像の配列がシフトすると一つ置きの灰色の行は縞
を表示し始め、縞の行は灰色を表示し始める。人の目に
はやはり灰色を背景に縞があるように見える。映像がデ
ィスプレイ上を動くにつれて、ダイナミックレンジは小
さいが目的とする映像が見える。
【００１０】千鳥にした画素により、信号のフィルタリ
ングによる水平解像度の損失を生じることなく高解像度
のビデオ映像を表示することができるが、千鳥にした画
素はディスプレイの垂直解像度を落とす場合がある。一
般に水平解像度の方が垂直解像度より重要なので、垂直
解像度と水平解像度を妥協させることが望ましいことが
多い。妥協させる垂直解像度の量は、用いるサンプリン
グと映像処理アルゴリズムによる。
ングによる水平解像度の損失を生じることなく高解像度
のビデオ映像を表示することができるが、千鳥にした画
素はディスプレイの垂直解像度を落とす場合がある。一
般に水平解像度の方が垂直解像度より重要なので、垂直
解像度と水平解像度を妥協させることが望ましいことが
多い。妥協させる垂直解像度の量は、用いるサンプリン
グと映像処理アルゴリズムによる。
【００１１】図９、１０、１１、１２は、垂直パターン
を強くして映像を表示したときに発生する図のゆがみ
（ａｒｔｉｆａｃｔｓ）である。各図の垂直のバーは、
上から下に進むに従ってより細くて密になる。バーを圧
縮するに従って、バーを表示するのに必要な水平解像度
は次第に高くなる。図９および図１０では、バーは順序
画素アレーを用いて表示されている。図１０は図９の映
像の位相をシフトしたものを示す。この位相シフトは図
２と図４の位相シフトと同様である。図１１および図１
２は図９および図１０と同じ映像と位相シフトである
が、図１１および図１２は表示画素の基本アレーを用い
ている点が異なる。図９から図１２を見ると、高水平解
像度で映像を表示する場合に、基本アレーを用いると生
成される図のゆがみがいくらか減ることが分かる。
を強くして映像を表示したときに発生する図のゆがみ
（ａｒｔｉｆａｃｔｓ）である。各図の垂直のバーは、
上から下に進むに従ってより細くて密になる。バーを圧
縮するに従って、バーを表示するのに必要な水平解像度
は次第に高くなる。図９および図１０では、バーは順序
画素アレーを用いて表示されている。図１０は図９の映
像の位相をシフトしたものを示す。この位相シフトは図
２と図４の位相シフトと同様である。図１１および図１
２は図９および図１０と同じ映像と位相シフトである
が、図１１および図１２は表示画素の基本アレーを用い
ている点が異なる。図９から図１２を見ると、高水平解
像度で映像を表示する場合に、基本アレーを用いると生
成される図のゆがみがいくらか減ることが分かる。
【００１２】現在ディジタルマイクロミラー装置（ＤＭ
Ｄ）を作るには少なくとも４つの構造が用いられてい
る。すなわち、ねじりビーム、片持ちビーム、たわみビ
ーム、隠れヒンジねじりビームである。隠れヒンジねじ
りビームＤＭＤについては、米国特許第５，０８３，８
５７号、「多レベル変形可能ミラー装置」、１９９２年
１月２８日発行、に開示されているので、参考のために
ここに示す。開示された発明の一実施態様の隠れヒンジ
ねじりビームＤＭＤの基本アレーを図１４に示す。
Ｄ）を作るには少なくとも４つの構造が用いられてい
る。すなわち、ねじりビーム、片持ちビーム、たわみビ
ーム、隠れヒンジねじりビームである。隠れヒンジねじ
りビームＤＭＤについては、米国特許第５，０８３，８
５７号、「多レベル変形可能ミラー装置」、１９９２年
１月２８日発行、に開示されているので、参考のために
ここに示す。開示された発明の一実施態様の隠れヒンジ
ねじりビームＤＭＤの基本アレーを図１４に示す。
【００１３】千鳥にした画素は空間光変調器の全ての型
でうまく作動するわけではない。例えばねじりビームＤ
ＭＤを用いるディスプレイでは、ミラーを支持する機械
的構造のために千鳥にした画素を用いると効率が悪くな
る。本発明の一実施態様ではねじりビームＤＭＤが用い
られる。どの空間光変調器を用いてもよいが、説明の便
宜上ねじりビームＤＭＤに焦点を当てる。図１４はねじ
りビームＤＭＤアレー４０の部分平面図である。各ねじ
りビームＤＭＤ要素は、エアギャップの上に２個のねじ
りヒンジ４４と４６で支持されるミラー４２から成る。
各ヒンジは支持構造に取り付けられている。この場合支
持構造は支持柱４８にメタライズしたアレーである。ア
レーの端を除いては、２個のＤＭＤ要素からのねじりヒ
ンジが各支持柱４８を共有する。
でうまく作動するわけではない。例えばねじりビームＤ
ＭＤを用いるディスプレイでは、ミラーを支持する機械
的構造のために千鳥にした画素を用いると効率が悪くな
る。本発明の一実施態様ではねじりビームＤＭＤが用い
られる。どの空間光変調器を用いてもよいが、説明の便
宜上ねじりビームＤＭＤに焦点を当てる。図１４はねじ
りビームＤＭＤアレー４０の部分平面図である。各ねじ
りビームＤＭＤ要素は、エアギャップの上に２個のねじ
りヒンジ４４と４６で支持されるミラー４２から成る。
各ヒンジは支持構造に取り付けられている。この場合支
持構造は支持柱４８にメタライズしたアレーである。ア
レーの端を除いては、２個のＤＭＤ要素からのねじりヒ
ンジが各支持柱４８を共有する。
【００１４】図１５は図１４のアレーの各要素からヒン
ジとミラーを取り除いて下の電極を示す、ねじりビーム
ＤＭＤアレーの一部である。１対のアドレス電極５０と
５２が、ヒンジの軸を中心にして各ミラーの下に形成さ
れる。１対はアドレス電極４４と４６である。バイアス
バスも、ＤＭＤミラーの下の金属層上にパターン化され
ている。バイアスバスはミラーに電気的に接続され、Ｄ
ＭＤの動作中にバイアス電圧を全てのミラーまたはミラ
ー群に供給するのに用いられる。またこのバイアスバス
は、２つの着地点５４と５６を形成する。
ジとミラーを取り除いて下の電極を示す、ねじりビーム
ＤＭＤアレーの一部である。１対のアドレス電極５０と
５２が、ヒンジの軸を中心にして各ミラーの下に形成さ
れる。１対はアドレス電極４４と４６である。バイアス
バスも、ＤＭＤミラーの下の金属層上にパターン化され
ている。バイアスバスはミラーに電気的に接続され、Ｄ
ＭＤの動作中にバイアス電圧を全てのミラーまたはミラ
ー群に供給するのに用いられる。またこのバイアスバス
は、２つの着地点５４と５６を形成する。
【００１５】表示データは、アドレス電極に接続されて
いるメモリセルに書き込まれる。表示データに従って、
メモリセルはアドレス電極の１つに電圧を加える。この
電圧により電気力が発生し、その上に吊されたミラーを
引きつける。またバイアスをミラーに加えて引力を増
す。アドレス電極とミラーの間の引力により、ミラー４
２はヒンジ軸の回りに回転する。引力が十分大きけれ
ば、ミラーは回転して着地点５４と５６のどちらかに先
端が触れる。ある光学システムではＤＭＤは画素の面積
アレーとして形成され、ＯＮになる画素はヒンジ軸の片
側に回転し、ＯＦＦになる画素は反対側に回転する。こ
のような装置の詳細については、共にテキサス・インス
ツルメンツ社に譲渡された米国特許第４，９５６，６１
９号、「空間光変調器」、および米国特許第５，０６
１，０４９号、「空間光変調器および方法」、に記述さ
れているので、参考のためにここに示す。
いるメモリセルに書き込まれる。表示データに従って、
メモリセルはアドレス電極の１つに電圧を加える。この
電圧により電気力が発生し、その上に吊されたミラーを
引きつける。またバイアスをミラーに加えて引力を増
す。アドレス電極とミラーの間の引力により、ミラー４
２はヒンジ軸の回りに回転する。引力が十分大きけれ
ば、ミラーは回転して着地点５４と５６のどちらかに先
端が触れる。ある光学システムではＤＭＤは画素の面積
アレーとして形成され、ＯＮになる画素はヒンジ軸の片
側に回転し、ＯＦＦになる画素は反対側に回転する。こ
のような装置の詳細については、共にテキサス・インス
ツルメンツ社に譲渡された米国特許第４，９５６，６１
９号、「空間光変調器」、および米国特許第５，０６
１，０４９号、「空間光変調器および方法」、に記述さ
れているので、参考のためにここに示す。
【００１６】図１６は、図６および図８に示した千鳥に
した画素を用いたねじりビームＤＭＤの面積アレー画素
の平面図を示す。画素の１つ置きの行がシフトして基本
アレーを形成する場合は、隣接する画素は支持柱を共有
しない。追加の支持柱が必要なので、使用可能なミラー
領域が減少する。使用可能なミラー領域が減少するだけ
でなく、追加した支持柱が光を反射することにより、生
成される映像のコントラストの割合が減少する。実際に
はミラー領域の減少は約２０％で、これに比例してディ
スプレイ装置の効率は落ちる。
した画素を用いたねじりビームＤＭＤの面積アレー画素
の平面図を示す。画素の１つ置きの行がシフトして基本
アレーを形成する場合は、隣接する画素は支持柱を共有
しない。追加の支持柱が必要なので、使用可能なミラー
領域が減少する。使用可能なミラー領域が減少するだけ
でなく、追加した支持柱が光を反射することにより、生
成される映像のコントラストの割合が減少する。実際に
はミラー領域の減少は約２０％で、これに比例してディ
スプレイ装置の効率は落ちる。
【００１７】本発明は、千鳥にした画素により生じる上
述の効率減少の問題に対処する明らかに最初の解決であ
る。図１７に示すように、本発明の一実施態様では２次
元の各面積アレーの変調器要素の数が２倍になってい
る。各要素をグループ化して、図１７の破線で示しよう
に４変調器要素を含むサブアレーすなわち画素ブロック
５８、６０、６２、６４を形成する。「画素ブロック」
という語を用いたのは、通常は「画素」という語が個々
に制御できる最小の図の要素として定義されるからであ
り、画素ブロック内では各変調器要素は同時に動作する
が、本発明の各種の実施態様では、画素ブロック内の個
々の変調器要素を別個に制御することができる。画素ブ
ロックは行に配列され、１つの行の画素ブロックは上の
行と下の行の各隣接画素ブロックの中央に設けられる。
これにより、上に述べた効率の低下を生じることなく千
鳥にした画素を作成することができる。
述の効率減少の問題に対処する明らかに最初の解決であ
る。図１７に示すように、本発明の一実施態様では２次
元の各面積アレーの変調器要素の数が２倍になってい
る。各要素をグループ化して、図１７の破線で示しよう
に４変調器要素を含むサブアレーすなわち画素ブロック
５８、６０、６２、６４を形成する。「画素ブロック」
という語を用いたのは、通常は「画素」という語が個々
に制御できる最小の図の要素として定義されるからであ
り、画素ブロック内では各変調器要素は同時に動作する
が、本発明の各種の実施態様では、画素ブロック内の個
々の変調器要素を別個に制御することができる。画素ブ
ロックは行に配列され、１つの行の画素ブロックは上の
行と下の行の各隣接画素ブロックの中央に設けられる。
これにより、上に述べた効率の低下を生じることなく千
鳥にした画素を作成することができる。
【００１８】本発明の上記の実施態様では各画素に変調
器要素の２ｘ２アレーを用いたが、本発明の各種の実施
態様では変調器要素のいろいろの数および配列を用いる
ことができる。例えば各画素は変調器要素の１ｘ２、２
ｘ３、３ｘ２、３ｘ３または任意の大きさのアレーを備
えることができる。制約があるとすれば、変調器の物理
的な寸法の制限だけである。
器要素の２ｘ２アレーを用いたが、本発明の各種の実施
態様では変調器要素のいろいろの数および配列を用いる
ことができる。例えば各画素は変調器要素の１ｘ２、２
ｘ３、３ｘ２、３ｘ３または任意の大きさのアレーを備
えることができる。制約があるとすれば、変調器の物理
的な寸法の制限だけである。
【００１９】本発明は、各変調器要素を同じ制御信号に
接続して１グループ内の各要素に同時に書き込みまた共
通のデータを受けるか、または各要素への共通のデータ
を個々に書き込むことにより実現してよい。
接続して１グループ内の各要素に同時に書き込みまた共
通のデータを受けるか、または各要素への共通のデータ
を個々に書き込むことにより実現してよい。
【００２０】変調器アレー内の要素の数を増やしたの
で、アレーの設計者はより小さな要素を用いることによ
りアレーを同じ寸法に保つか、または同じ寸法の要素を
用いることによりアレーの寸法を大きくするかを選んで
よい。各変調器方式の妥協によって要素とアレーの寸法
が影響される。ディジタルマイクロミラー装置では、動
作するミラーの角偏向はミラーの寸法とエアギャップの
厚さにより決まる。またミラーの寸法は、エアギャップ
からフォトレジストをエッチングにより除く必要によっ
ても制限される。これらの制約があるため、各ミラーの
最大寸法が制限される。ミラーの最小寸法は、ミラーの
下のアドレシングおよび着地用の電極を作る必要性によ
って制限される。
で、アレーの設計者はより小さな要素を用いることによ
りアレーを同じ寸法に保つか、または同じ寸法の要素を
用いることによりアレーの寸法を大きくするかを選んで
よい。各変調器方式の妥協によって要素とアレーの寸法
が影響される。ディジタルマイクロミラー装置では、動
作するミラーの角偏向はミラーの寸法とエアギャップの
厚さにより決まる。またミラーの寸法は、エアギャップ
からフォトレジストをエッチングにより除く必要によっ
ても制限される。これらの制約があるため、各ミラーの
最大寸法が制限される。ミラーの最小寸法は、ミラーの
下のアドレシングおよび着地用の電極を作る必要性によ
って制限される。
【００２１】アレーの寸法を大きくすることによって得
られる別の利点は映像の明るさが増すことである。一般
にディジタルマイクロミラー装置要素は寸法が小さくま
た一般にビデオ信号は解像度が有限なので、ＤＭＤアレ
ーは一般に非常に小さい。１個以上の変調器要素をグル
ープ化して画素ブロックにすることにより各画素の寸法
が大きくなるので、ＤＭＤの寸法が大きくなる。このよ
うに寸法が大きくなることにより、より効率のよい光学
装置を用いることができ、また映像の表示はより明るく
なる。
られる別の利点は映像の明るさが増すことである。一般
にディジタルマイクロミラー装置要素は寸法が小さくま
た一般にビデオ信号は解像度が有限なので、ＤＭＤアレ
ーは一般に非常に小さい。１個以上の変調器要素をグル
ープ化して画素ブロックにすることにより各画素の寸法
が大きくなるので、ＤＭＤの寸法が大きくなる。このよ
うに寸法が大きくなることにより、より効率のよい光学
装置を用いることができ、また映像の表示はより明るく
なる。
【００２２】本発明の別の利点は、要素の寸法を大きく
することを必要とせずに冗長なアドレシング回路を作れ
ることである。画素ブロック内の変調器要素を電気的に
接続した場合は、各画素ブロックのアドレス回路は１つ
だけ作らなければならない。実際は、各画素ブロックに
は第２のアドレス回路を作るだけの十分な余地があるこ
とが多い。第２アドレス回路でバックアップを形成し、
ダイのテスト中に第１アドレス回路にエラーがあったと
きに選択することができる。
することを必要とせずに冗長なアドレシング回路を作れ
ることである。画素ブロック内の変調器要素を電気的に
接続した場合は、各画素ブロックのアドレス回路は１つ
だけ作らなければならない。実際は、各画素ブロックに
は第２のアドレス回路を作るだけの十分な余地があるこ
とが多い。第２アドレス回路でバックアップを形成し、
ダイのテスト中に第１アドレス回路にエラーがあったと
きに選択することができる。
【００２３】図１８は冗長アドレシング方式の一実施態
様の略図を示す。図１８に示すように、画素ブロック内
の４ＤＭＤ要素５９、６１、６３、６５を全て電気的に
接続する。２つのメモリセル７４と７６のどちらかをマ
ルチプレクサ７８で選択して４ＤＭＤ要素をバイアスす
るのに用いる。欠陥によりメモリセル７４が故障する
と、マルチプレクサ７８はメモリセル７６を選ぶことが
できる。マルチプレクサ７８の代わりに、両メモリセル
の出力をＤＭＤ要素に単に接続して、デバイスのテスト
中に出力の一方を遮断（ｆｕｓｅ）させる。ある欠陥に
より故障を生じて、図１８に示す冗長アドレス回路が使
用できなくなることがある。このような故障に対処する
ため、集積回路メモリ製作などの他の分野で知られる多
くの方法を用いることができる。１つの方法はパストラ
ンジスタを用いて故障したトランジスタを分離すること
である。一般にこのような方式は、装置が複雑になって
故障の確率が増えることと故障を乗り越える能力との妥
協になる。
様の略図を示す。図１８に示すように、画素ブロック内
の４ＤＭＤ要素５９、６１、６３、６５を全て電気的に
接続する。２つのメモリセル７４と７６のどちらかをマ
ルチプレクサ７８で選択して４ＤＭＤ要素をバイアスす
るのに用いる。欠陥によりメモリセル７４が故障する
と、マルチプレクサ７８はメモリセル７６を選ぶことが
できる。マルチプレクサ７８の代わりに、両メモリセル
の出力をＤＭＤ要素に単に接続して、デバイスのテスト
中に出力の一方を遮断（ｆｕｓｅ）させる。ある欠陥に
より故障を生じて、図１８に示す冗長アドレス回路が使
用できなくなることがある。このような故障に対処する
ため、集積回路メモリ製作などの他の分野で知られる多
くの方法を用いることができる。１つの方法はパストラ
ンジスタを用いて故障したトランジスタを分離すること
である。一般にこのような方式は、装置が複雑になって
故障の確率が増えることと故障を乗り越える能力との妥
協になる。
【００２４】千鳥にした画素の代表的な応用は、図１９
に示すテレビジョン・ディスプレイ装置である。図１９
では、合成ビデオ信号が信号８０として入力される。デ
コーダ８２が合成ビデオ信号を変換し、アナログ・ディ
ジタル変換器（Ａ／Ｄ）８４でサンプリングしディジタ
ル化する。ディジタル化されたビデオ信号をビデオプロ
セッサ８６に入力し、ここで順次走査変換などの各種デ
ータ処理を行う。タイミング制御器８８がＡ／Ｄ８４と
ビデオプロセッサ８６の動作を同期化させる。ＤＭＤフ
ォーマッタ９０がデータを再書式化してＤＭＤが必要と
する入力書式に合致させ、ＤＭＤ９４の表示準備が整う
までフレームメモリ９２が再書式化されたデータを記憶
する。光源９６からの光の焦点を光学装置９８によりＤ
ＭＤ９４の上に台わせる。光はＤＭＤ９４の反射面で反
射して、投写光学装置１００によりディスプレイスクリ
ーン１０２の上に焦点を合わせると、映像が見える。
に示すテレビジョン・ディスプレイ装置である。図１９
では、合成ビデオ信号が信号８０として入力される。デ
コーダ８２が合成ビデオ信号を変換し、アナログ・ディ
ジタル変換器（Ａ／Ｄ）８４でサンプリングしディジタ
ル化する。ディジタル化されたビデオ信号をビデオプロ
セッサ８６に入力し、ここで順次走査変換などの各種デ
ータ処理を行う。タイミング制御器８８がＡ／Ｄ８４と
ビデオプロセッサ８６の動作を同期化させる。ＤＭＤフ
ォーマッタ９０がデータを再書式化してＤＭＤが必要と
する入力書式に合致させ、ＤＭＤ９４の表示準備が整う
までフレームメモリ９２が再書式化されたデータを記憶
する。光源９６からの光の焦点を光学装置９８によりＤ
ＭＤ９４の上に台わせる。光はＤＭＤ９４の反射面で反
射して、投写光学装置１００によりディスプレイスクリ
ーン１０２の上に焦点を合わせると、映像が見える。
【００２５】ビデオプロセッサ８６が行う機能に従っ
て、選択されたディスプレイ形式に関わらず、入力ビデ
オ源は各種の映像書式の任意の１つでよい。例えば、入
力ビデオデータはフレーム率が６０Ｈｚで各フレームが
６４０画素の２４０行から成るものでよい。１つ置きの
フレームはそれぞれ偶数または奇数の線情報だけを含ん
でよい。ビデオプロセッサはこの映像データを、フレー
ム率が６０Ｈｚで各フレームが６４０画素の２４０行か
ら成りかつ各フレームが奇数行と偶数行の情報を持つ、
データストリームに変換する。必要な映像変換を行うの
に用いることのできるアルゴリズムがいくつかある。た
だし、出力映像が千鳥にした画素を用いる場合は、１つ
置きの行のサンプリングをタイミング制御器８８によっ
て変更しなければならない。またはビデオプロセッサは
ビデオデータを処理しながら画素の千鳥にした行を補償
しなければならない。
て、選択されたディスプレイ形式に関わらず、入力ビデ
オ源は各種の映像書式の任意の１つでよい。例えば、入
力ビデオデータはフレーム率が６０Ｈｚで各フレームが
６４０画素の２４０行から成るものでよい。１つ置きの
フレームはそれぞれ偶数または奇数の線情報だけを含ん
でよい。ビデオプロセッサはこの映像データを、フレー
ム率が６０Ｈｚで各フレームが６４０画素の２４０行か
ら成りかつ各フレームが奇数行と偶数行の情報を持つ、
データストリームに変換する。必要な映像変換を行うの
に用いることのできるアルゴリズムがいくつかある。た
だし、出力映像が千鳥にした画素を用いる場合は、１つ
置きの行のサンプリングをタイミング制御器８８によっ
て変更しなければならない。またはビデオプロセッサは
ビデオデータを処理しながら画素の千鳥にした行を補償
しなければならない。
【００２６】千鳥にした画素により水平解像度の効率を
上げる方法と構造について特定の実施態様を説明した
が、特許請求の範囲の規定を除いては、これらの特定の
例は本発明の範囲を制限するものではない。更に、ある
特定の実施態様に関連して本発明を説明したが、この技
術に精通した人には更に変更が可能であることは自明で
あり、このような変更は全て特許請求の範囲に入るもの
である。
上げる方法と構造について特定の実施態様を説明した
が、特許請求の範囲の規定を除いては、これらの特定の
例は本発明の範囲を制限するものではない。更に、ある
特定の実施態様に関連して本発明を説明したが、この技
術に精通した人には更に変更が可能であることは自明で
あり、このような変更は全て特許請求の範囲に入るもの
である。
【００２７】以上の説明に関して更に以下の項を開示す
る。 （１） 空間光変調器を制御する方法であって、 ａ． 空間光変調器要素のアレーをサブアレーにグルー
プ化し、 ｂ． 前記サブアレーを水平な行に並べて、前記１つの
サブアレーを前記水平な行のすぐ上と下の行の２つの隣
接するサブアレーの間に設け、 ｃ． 前記サブアレー内の前記各変調器要素を、前記変
調器要素が同時に動作するように制御する、 ことを含む方法。
る。 （１） 空間光変調器を制御する方法であって、 ａ． 空間光変調器要素のアレーをサブアレーにグルー
プ化し、 ｂ． 前記サブアレーを水平な行に並べて、前記１つの
サブアレーを前記水平な行のすぐ上と下の行の２つの隣
接するサブアレーの間に設け、 ｃ． 前記サブアレー内の前記各変調器要素を、前記変
調器要素が同時に動作するように制御する、 ことを含む方法。
【００２８】（２） 前記空間光変調器要素は個々にア
ドレスできる、第１項記載の方法。 （３） 前記空間光変調器要素はサブアレーとしてアド
レスされる、第１項記載の方法。 （４） 前記サブアレーは、大部分が正方形形式の要素
を備える、第１項記載の方法。 （５） 前記サブアレーは２ｘ２マトリックスに配列し
た４変調器要素から成る、第１項記載の方法。
ドレスできる、第１項記載の方法。 （３） 前記空間光変調器要素はサブアレーとしてアド
レスされる、第１項記載の方法。 （４） 前記サブアレーは、大部分が正方形形式の要素
を備える、第１項記載の方法。 （５） 前記サブアレーは２ｘ２マトリックスに配列し
た４変調器要素から成る、第１項記載の方法。
【００２９】（６） 前記空間光変調器要素はディジタ
ルマイクロミラー装置である、第１項記載の方法。 （７） 前記空間光変調器要素はねじれビーム・ディジ
タルマイクロミラー装置である、第１項記載の方法。 （８） 前記アドレシング回路は冗長である、第１項記
載の方法。
ルマイクロミラー装置である、第１項記載の方法。 （７） 前記空間光変調器要素はねじれビーム・ディジ
タルマイクロミラー装置である、第１項記載の方法。 （８） 前記アドレシング回路は冗長である、第１項記
載の方法。
【００３０】（９） 空間光変調器であって、 ａ． 空間光変調器要素のアレーと、 ｂ． 前記要素を制御して前記要素のサブアレーを同時
に動作させる制御回路とを備え、前記サブアレーを千鳥
にした水平な行に配置し、各サブアレーを隣接する行の
２つの隣接サブアレーの間に水平に設ける、 空間光変調器。
に動作させる制御回路とを備え、前記サブアレーを千鳥
にした水平な行に配置し、各サブアレーを隣接する行の
２つの隣接サブアレーの間に水平に設ける、 空間光変調器。
【００３１】（１０） 前記サブアレーは、大部分が正
方形形式の要素を備える、第９項記載の変調器。 （１１） 前記サブアレーは２ｘ２マトリックスに配列
した４変調器要素から成る、第９項記載の変調器。 （１２） 前記要素はディジタルマイクロミラー装置で
ある、第９項記載の変調器。 （１３） 前記要素はねじれビーム・ディジタルマイク
ロミラー装置である、第９項記載の変調器。 （１４） 各サブアレーについて２つ以上の前記制御回
路が製作される、第９項記載の変調器。
方形形式の要素を備える、第９項記載の変調器。 （１１） 前記サブアレーは２ｘ２マトリックスに配列
した４変調器要素から成る、第９項記載の変調器。 （１２） 前記要素はディジタルマイクロミラー装置で
ある、第９項記載の変調器。 （１３） 前記要素はねじれビーム・ディジタルマイク
ロミラー装置である、第９項記載の変調器。 （１４） 各サブアレーについて２つ以上の前記制御回
路が製作される、第９項記載の変調器。
【００３２】（１５） ディジタルマイクロミラー装置
であって、ディジタルマイクロミラー要素のアレーであ
って、前記各要素は少なくとも１つのアドレス電極の上
に吊された偏向可能なミラーを備え、電圧バイアス信号
を前記少なくとも１つのアドレス電極に加えると前記偏
向可能ミラーは前記少なくとも１つのアドレス電極に向
かって偏向する、ディジタルマイクロミラー要素のアレ
ーと、前記ディジタルマイクロミラー要素の少なくとも
３つの千鳥にした水平な行を備える前記アレーであっ
て、前記各ディジタルマイクロミラー要素は隣接する行
の２つの隣接するディジタルマイクロミラー要素の間に
水平に設けられる、前記アレーと、を備えるディジタル
マイクロミラー装置。 （１６） 前記ディジタルマイクロミラー要素はねじれ
ビーム・ディジタルマイクロミラー要素である、第１５
項記載の装置。
であって、ディジタルマイクロミラー要素のアレーであ
って、前記各要素は少なくとも１つのアドレス電極の上
に吊された偏向可能なミラーを備え、電圧バイアス信号
を前記少なくとも１つのアドレス電極に加えると前記偏
向可能ミラーは前記少なくとも１つのアドレス電極に向
かって偏向する、ディジタルマイクロミラー要素のアレ
ーと、前記ディジタルマイクロミラー要素の少なくとも
３つの千鳥にした水平な行を備える前記アレーであっ
て、前記各ディジタルマイクロミラー要素は隣接する行
の２つの隣接するディジタルマイクロミラー要素の間に
水平に設けられる、前記アレーと、を備えるディジタル
マイクロミラー装置。 （１６） 前記ディジタルマイクロミラー要素はねじれ
ビーム・ディジタルマイクロミラー要素である、第１５
項記載の装置。
【００３３】（１７） ビデオディスプレイ装置であっ
て、光のビームを発生する光源と、入力合成ビデオ信号
を変換してアナログ・ベースバンドビデオ信号を出力す
るデコーダと、前記アナログ・ベースバンドビデオ信号
をサンプリングして前記アナログ・ベースバンドビデオ
信号のディジタル表現を出力するアナログ・ディジタル
変換器と、前記ディジタル表現を受けてディジタル表示
データを出力するビデオフォーマッタと、前記ディジタ
ル表示データと前記光のビームを受けて、前記ディジタ
ル表示データに依存する、映像を運ぶ光のビームを発生
するディジタルマイクロミラー装置とを備え、前記ディ
ジタル・マイクロミラー装置はディジタルマイクロミラ
ー要素の少なくとも３行を持つアレーを備え、前記各デ
ィジタルマイクロミラー要素は隣接する行の２つの隣接
するディジタルマイクロミラー要素の間に水平に設けら
れる、ビデオディスプレイ装置。
て、光のビームを発生する光源と、入力合成ビデオ信号
を変換してアナログ・ベースバンドビデオ信号を出力す
るデコーダと、前記アナログ・ベースバンドビデオ信号
をサンプリングして前記アナログ・ベースバンドビデオ
信号のディジタル表現を出力するアナログ・ディジタル
変換器と、前記ディジタル表現を受けてディジタル表示
データを出力するビデオフォーマッタと、前記ディジタ
ル表示データと前記光のビームを受けて、前記ディジタ
ル表示データに依存する、映像を運ぶ光のビームを発生
するディジタルマイクロミラー装置とを備え、前記ディ
ジタル・マイクロミラー装置はディジタルマイクロミラ
ー要素の少なくとも３行を持つアレーを備え、前記各デ
ィジタルマイクロミラー要素は隣接する行の２つの隣接
するディジタルマイクロミラー要素の間に水平に設けら
れる、ビデオディスプレイ装置。
【００３４】（１８） 前記ビデオフォーマッタはビデ
オプロセッサとＤＭＤフォーマッタを備え、前記ビデオ
プロセッサは前記アナログ・ベースバンドビデオ信号の
前記ディジタル表現を受けて変更されたディジタルビデ
オ信号を出力し、前記ＤＭＤフォーマッタは前記変更さ
れたディジタルビデオ信号を受けて前記ディジタル表示
データを出力する、第１７項記載のディスプレイ装置。 （１９） 前記ディジタル表示データを前記ディジタル
マイクロミラー装置により表示する前に、前記ビデオフ
ォーマッタからの前記ディジタル表示データを記憶する
フレームメモリを更に備える、第１７項記載のディスプ
レイ装置。 （２０） 前記ディジタルマイクロミラー装置はねじれ
ビーム・ディジタルマイクロミラー装置である、第１７
項記載のディスプレイ装置。
オプロセッサとＤＭＤフォーマッタを備え、前記ビデオ
プロセッサは前記アナログ・ベースバンドビデオ信号の
前記ディジタル表現を受けて変更されたディジタルビデ
オ信号を出力し、前記ＤＭＤフォーマッタは前記変更さ
れたディジタルビデオ信号を受けて前記ディジタル表示
データを出力する、第１７項記載のディスプレイ装置。 （１９） 前記ディジタル表示データを前記ディジタル
マイクロミラー装置により表示する前に、前記ビデオフ
ォーマッタからの前記ディジタル表示データを記憶する
フレームメモリを更に備える、第１７項記載のディスプ
レイ装置。 （２０） 前記ディジタルマイクロミラー装置はねじれ
ビーム・ディジタルマイクロミラー装置である、第１７
項記載のディスプレイ装置。
【００３５】（２１） ディスプレイ装置の有効水平解
像度を増加させる方法と装置。本発明の一実施態様は、
アレー内の交互の行を千鳥にすることによりディジタル
マイクロミラー要素の基本アレーを形成する。本発明の
第２の実施態様では、順序画素アレー５７を、ＳＬＭ要
素５９、６１、６３、６５をグループ化して画素ブロッ
ク５８にすることにより基本画素アレーに変換する。画
素ブロック内の全ての要素は同時に制御され、その画素
ブロックは単一画素のように動作する。画素ブロックの
行６７と６９は補い合って、基本画素アレーにしばしば
発生する効率の低下を起こすことなく、画素の基本アレ
ーの効果を与える。
像度を増加させる方法と装置。本発明の一実施態様は、
アレー内の交互の行を千鳥にすることによりディジタル
マイクロミラー要素の基本アレーを形成する。本発明の
第２の実施態様では、順序画素アレー５７を、ＳＬＭ要
素５９、６１、６３、６５をグループ化して画素ブロッ
ク５８にすることにより基本画素アレーに変換する。画
素ブロック内の全ての要素は同時に制御され、その画素
ブロックは単一画素のように動作する。画素ブロックの
行６７と６９は補い合って、基本画素アレーにしばしば
発生する効率の低下を起こすことなく、画素の基本アレ
ーの効果を与える。
【図１】三角波ビデオ信号を示す波形。
【図２】交互に明と暗の縞を示す図の要素の順序アレー
の平面図。
の平面図。
【図３】三角波ビデオ信号を示す波形。
【図４】灰色フィールドを表示する図の要素の順序アレ
ーの平面図。
ーの平面図。
【図５】三角波ビデオ信号を示す波形。
【図６】明と暗の要素の行と灰色の要素の行を交互に表
示する図の要素の基本アレーの平面図。
示する図の要素の基本アレーの平面図。
【図７】三角波ビデオ信号を示す波形。
【図８】灰色の要素の行と明と暗の要素の行とを交互に
表示する図の要素の基本アレーの平面図。
表示する図の要素の基本アレーの平面図。
【図９】画素の順序アレーを用いた第１相の垂直バーの
表示。
表示。
【図１０】画素の順序アレーを用いた第２相の垂直バー
の表示。
の表示。
【図１１】画素の基本アレーを用いた第１相の垂直バー
の表示。
の表示。
【図１２】画素の基本アレーを用いた第２相の垂直バー
の表示。
の表示。
【図１３】隠れヒンジねじりビーム・ディジタルマイク
ロミラー装置の基本アレーの一部の平面図。
ロミラー装置の基本アレーの一部の平面図。
【図１４】ディジタル・マイクロミラー装置の順序アレ
ーの平面図。
ーの平面図。
【図１５】ミラーとヒンジを取り除いて下の電極を示
す、ディジタルマイクロミラー装置の順序アレーの平面
図。
す、ディジタルマイクロミラー装置の順序アレーの平面
図。
【図１６】ディジタルマイクロミラー装置の基本すなわ
ち千鳥にしたアレーの平面図。
ち千鳥にしたアレーの平面図。
【図１７】千鳥にしたグループを備えるディジタルマイ
クロミラー装置の順序アレーの平面図。
クロミラー装置の順序アレーの平面図。
【図１８】冗長アドレシングの一方式の略図
【図１９】ＤＭＤに基づくテレビジョンディスプレイ装
置の一実施態様のブロック図。
置の一実施態様のブロック図。
２０ 面積アレー ２２，２４，２６ 画素 ３０，３２，３４，３６，３８ 画素 ４０ ねじりビームＤＭＤア
レー ４２ ミラー ４４，４６ ねじりヒンジ ４８ 支持柱 ５０，５２ アドレス電極 ５４，５６ 着地点 ５７ 順序画素アレー ５８、６０，６２，６４ 画素ブロック ５９，６１，６３，６５ ＤＭＤ要素 ６７、６９ 画素ブロックの行 ７４，７６ メモリセル ７８ マルチプレクサ ８０ 合成ビデオ信号 ８２ デコーダ ８４ Ａ／Ｄ変換器 ８６ ビデオプロセッサ ８８ タイミング制御器 ９０ ＤＭＤフォーマッタ ９２ フレームメモリ ９４ ＤＭＤ ９６ 光源 ９８ 光学装置 １００ 投写光学装置 １０２ ディスプレイスクリー
ン
レー ４２ ミラー ４４，４６ ねじりヒンジ ４８ 支持柱 ５０，５２ アドレス電極 ５４，５６ 着地点 ５７ 順序画素アレー ５８、６０，６２，６４ 画素ブロック ５９，６１，６３，６５ ＤＭＤ要素 ６７、６９ 画素ブロックの行 ７４，７６ メモリセル ７８ マルチプレクサ ８０ 合成ビデオ信号 ８２ デコーダ ８４ Ａ／Ｄ変換器 ８６ ビデオプロセッサ ８８ タイミング制御器 ９０ ＤＭＤフォーマッタ ９２ フレームメモリ ９４ ＤＭＤ ９６ 光源 ９８ 光学装置 １００ 投写光学装置 １０２ ディスプレイスクリー
ン
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成７年４月４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 水平解像度を改善するＤＭＤ構造
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、１９９０年９月１１日
発行の米国特許第４，９５６，６１９号、および１９９
１年１０月２９日発行の米国特許第５，０６１，０４９
号、に関する。
発行の米国特許第４，９５６，６１９号、および１９９
１年１０月２９日発行の米国特許第５，０６１，０４９
号、に関する。
【０００２】本発明は投写ディスプレイ装置の分野に関
し、より詳しくは、ディジタル空間光変調器投写ディス
プレイ装置に関する。
し、より詳しくは、ディジタル空間光変調器投写ディス
プレイ装置に関する。
【０００３】
【従来の技術】空間光変調器（ＳＬＭ）は投写ディスプ
レイ装置で映像を生成するのに用いられる。ディスプレ
イ装置の重要な機能の一つの測度は解像度である。解像
度は垂直および水平の単位長さ当たりの線で計られる。
テレビジョンや他のビデオ信号の信号形式のため、垂直
解像度はビデオ源から送信される線の数に等しい。水平
解像度はより主観的な測度である。ビデオ信号をディジ
タル化して表示すると、水平解像度はビデオ映像の各線
上に表示することのできるディジタル化されたビデオサ
ンプル数で決まる。
レイ装置で映像を生成するのに用いられる。ディスプレ
イ装置の重要な機能の一つの測度は解像度である。解像
度は垂直および水平の単位長さ当たりの線で計られる。
テレビジョンや他のビデオ信号の信号形式のため、垂直
解像度はビデオ源から送信される線の数に等しい。水平
解像度はより主観的な測度である。ビデオ信号をディジ
タル化して表示すると、水平解像度はビデオ映像の各線
上に表示することのできるディジタル化されたビデオサ
ンプル数で決まる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】水平解像度の仕様は、
有効なまたは有用な解像度の問題があるため一層複雑に
なる。ディスプレイ装置の最大水平解像度を用いて映像
を表示すると、視覚的に乱れたものになる。ディスプレ
イの最大水平解像度を必要とする垂直縞を持つ映像が水
平に動いて画素との配列が変化すると、表示される映像
は非常に速く変化するように見える。これはビデオ信号
とビデオサンプリングの間の位相シフトにより起こる。
有効なまたは有用な解像度の問題があるため一層複雑に
なる。ディスプレイ装置の最大水平解像度を用いて映像
を表示すると、視覚的に乱れたものになる。ディスプレ
イの最大水平解像度を必要とする垂直縞を持つ映像が水
平に動いて画素との配列が変化すると、表示される映像
は非常に速く変化するように見える。これはビデオ信号
とビデオサンプリングの間の位相シフトにより起こる。
【０００５】例えば図１および図２に示すように、三角
波ビデオ信号がディスプレイの水平解像度能力における
垂直の黒と白の縞の映像を表し、映像をＸ軸上の印で示
す点でサンプリングする場合、表示される映像の各行は
図２に示すように交互に黒と白の画素になる。図３に示
すように、入力ビデオ信号の位相が変わって２分の１画
素だけ水平に動いた映像を表示すると、得られる映像は
図４に示すように全行が灰色の画素になる。この映像が
連続して動くと、人の目に見えるのは動く縞のフィール
ドではなく、コントラストの高い縞と灰色が交互に現れ
るスクリーンである。この問題をなくすためには、ビデ
オ信号をフィルタリングして高周波成分を除いてよい。
フィルタは通常、ディスプレイスクリーンの最大能力の
７０％までの水平解像度を持つ信号を通すよう設計され
る。この方法は水平解像度の高い映像の表示に関連する
問題を除くことはできるが、水平解像度の高い信号成分
を除くので映像の解像度は下がる。
波ビデオ信号がディスプレイの水平解像度能力における
垂直の黒と白の縞の映像を表し、映像をＸ軸上の印で示
す点でサンプリングする場合、表示される映像の各行は
図２に示すように交互に黒と白の画素になる。図３に示
すように、入力ビデオ信号の位相が変わって２分の１画
素だけ水平に動いた映像を表示すると、得られる映像は
図４に示すように全行が灰色の画素になる。この映像が
連続して動くと、人の目に見えるのは動く縞のフィール
ドではなく、コントラストの高い縞と灰色が交互に現れ
るスクリーンである。この問題をなくすためには、ビデ
オ信号をフィルタリングして高周波成分を除いてよい。
フィルタは通常、ディスプレイスクリーンの最大能力の
７０％までの水平解像度を持つ信号を通すよう設計され
る。この方法は水平解像度の高い映像の表示に関連する
問題を除くことはできるが、水平解像度の高い信号成分
を除くので映像の解像度は下がる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、変調器
の効率を落とすことなくディスプレイの有効解像度を増
加させる、効果的なＳＬＭアレー構造を提供することで
ある。本発明の一実施態様では、ＳＬＭの行を基本にし
て基本アレー（ｃａｒｄｉｎａｌ ａｒｒａｙ）を形成
する。本発明の別の実施態様では、順序アレーからのＳ
ＬＭ要素をグループ化して、基本形式で画の要素を作
る。グループ化するには、ＳＬＭ要素の制御信号を物理
的に接続するか、各要素について独立の制御手段を用い
てＳＬＭ要素を同時に操作することにより行う。順序画
素を基本グループにすることにより、基本アレーを用い
る場合に起こるいくつかのＳＬＭ方式の効率の問題を回
避する。
の効率を落とすことなくディスプレイの有効解像度を増
加させる、効果的なＳＬＭアレー構造を提供することで
ある。本発明の一実施態様では、ＳＬＭの行を基本にし
て基本アレー（ｃａｒｄｉｎａｌ ａｒｒａｙ）を形成
する。本発明の別の実施態様では、順序アレーからのＳ
ＬＭ要素をグループ化して、基本形式で画の要素を作
る。グループ化するには、ＳＬＭ要素の制御信号を物理
的に接続するか、各要素について独立の制御手段を用い
てＳＬＭ要素を同時に操作することにより行う。順序画
素を基本グループにすることにより、基本アレーを用い
る場合に起こるいくつかのＳＬＭ方式の効率の問題を回
避する。
【０００７】本発明の別の利点は、画素のアドレスに冗
長を許すことである。本発明の更に別の利点は、ディス
プレイの明るさを増すことである。
長を許すことである。本発明の更に別の利点は、ディス
プレイの明るさを増すことである。
【０００８】
【実施例】図２は、順序形式で配列された正方形画素か
ら成る面積アレー２０を示す。順序形式とは、画素の行
が隣接する行の真下に配列されるものをいう。例えば、
画素２２は画素２４の真下にあり、画素２６の真上にあ
る。図６は千鳥形式に配列した正方形画素から成る面積
アレー２８を示す。千鳥形式では画素３０は上の行の画
素３２と３４の間にあり、下の行の画素３６と３８の間
にある。基本形式やれんが形式は千鳥形式の別の言い方
である。基本アレーは、順序アレーにより生成される図
のゆがみ（ａｒｔｉｆａｃｔｓ）をいくらか減らす高解
像度信号を表示するのに用いられる。
ら成る面積アレー２０を示す。順序形式とは、画素の行
が隣接する行の真下に配列されるものをいう。例えば、
画素２２は画素２４の真下にあり、画素２６の真上にあ
る。図６は千鳥形式に配列した正方形画素から成る面積
アレー２８を示す。千鳥形式では画素３０は上の行の画
素３２と３４の間にあり、下の行の画素３６と３８の間
にある。基本形式やれんが形式は千鳥形式の別の言い方
である。基本アレーは、順序アレーにより生成される図
のゆがみ（ａｒｔｉｆａｃｔｓ）をいくらか減らす高解
像度信号を表示するのに用いられる。
【０００９】図５および図６は、千鳥にした画素を用い
た図１および図２の高解像度縞の例を示す。図６の奇数
行は、図５のＸ軸の上側の印で示す時刻にサンプリング
したデータを表示する。この場合、全ての奇数行は黒と
白の画素が交互になる。全ての偶数行は、図５のＸ軸の
下側の印で示す時刻にサンプリングしたデータを表示す
る。この場合は、全ての偶数行は灰色になる。人の目に
は、灰色を背景に縞の表示を総合した、ダイナミックレ
ンジの小さい縞が見える。図７および図８に示すよう
に、映像の配列がシフトすると一つ置きの灰色の行は縞
を表示し始め、縞の行は灰色を表示し始める。人の目に
はやはり灰色を背景に縞があるように見える。映像がデ
ィスプレイ上を動くにつれて、ダイナミックレンジは小
さいが目的とする映像が見える。
た図１および図２の高解像度縞の例を示す。図６の奇数
行は、図５のＸ軸の上側の印で示す時刻にサンプリング
したデータを表示する。この場合、全ての奇数行は黒と
白の画素が交互になる。全ての偶数行は、図５のＸ軸の
下側の印で示す時刻にサンプリングしたデータを表示す
る。この場合は、全ての偶数行は灰色になる。人の目に
は、灰色を背景に縞の表示を総合した、ダイナミックレ
ンジの小さい縞が見える。図７および図８に示すよう
に、映像の配列がシフトすると一つ置きの灰色の行は縞
を表示し始め、縞の行は灰色を表示し始める。人の目に
はやはり灰色を背景に縞があるように見える。映像がデ
ィスプレイ上を動くにつれて、ダイナミックレンジは小
さいが目的とする映像が見える。
【００１０】千鳥にした画素により、信号のフィルタリ
ングによる水平解像度の損失を生じることなく高解像度
のビデオ映像を表示することができるが、千鳥にした画
素はディスプレイの垂直解像度を落とす場合がある。一
般に水平解像度の方が垂直解像度より重要なので、垂直
解像度と水平解像度を妥協させることが望ましいことが
多い。妥協させる垂直解像度の量は、用いるサンプリン
グと映像処理アルゴリズムによる。
ングによる水平解像度の損失を生じることなく高解像度
のビデオ映像を表示することができるが、千鳥にした画
素はディスプレイの垂直解像度を落とす場合がある。一
般に水平解像度の方が垂直解像度より重要なので、垂直
解像度と水平解像度を妥協させることが望ましいことが
多い。妥協させる垂直解像度の量は、用いるサンプリン
グと映像処理アルゴリズムによる。
【００１１】図９、１０、１１、１２は、垂直パターン
を強くして映像を表示したときに発生する図のゆがみ
（ａｒｔｉｆａｃｔｓ）である。各図の垂直のバーは、
上から下に進むに従ってより細くて密になる。バーを圧
縮するに従って、バーを表示するのに必要な水平解像度
は次第に高くなる。図９および図１０では、バーは順序
画素アレーを用いて表示されている。図１０は図９の映
像の位相をシフトしたものを示す。この位相シフトは図
２と図４の位相シフトと同様である。図１１および図１
２は図９および図１０と同じ映像と位相シフトである
が、図１１および図１２は表示画素の基本アレーを用い
ている点が異なる。図９から図１２を見ると、高水平解
像度で映像を表示する場合に、基本アレーを用いると生
成される図のゆがみがいくらか減ることが分かる。
を強くして映像を表示したときに発生する図のゆがみ
（ａｒｔｉｆａｃｔｓ）である。各図の垂直のバーは、
上から下に進むに従ってより細くて密になる。バーを圧
縮するに従って、バーを表示するのに必要な水平解像度
は次第に高くなる。図９および図１０では、バーは順序
画素アレーを用いて表示されている。図１０は図９の映
像の位相をシフトしたものを示す。この位相シフトは図
２と図４の位相シフトと同様である。図１１および図１
２は図９および図１０と同じ映像と位相シフトである
が、図１１および図１２は表示画素の基本アレーを用い
ている点が異なる。図９から図１２を見ると、高水平解
像度で映像を表示する場合に、基本アレーを用いると生
成される図のゆがみがいくらか減ることが分かる。
【００１２】現在ディジタルマイクロミラー装置（ＤＭ
Ｄ）を作るには少なくとも４つの構造が用いられてい
る。すなわち、ねじりビーム、片持ちビーム、たわみビ
ーム、隠れヒンジねじりビームである。隠れヒンジねじ
りビームＤＭＤについては、米国特許第５，０８３，８
５７号、「多レベル変形可能ミラー装置」、１９９２年
１月２８日発行、に開示されているので、参考のために
ここに示す。開示された発明の一実施態様の隠れヒンジ
ねじりビームＤＭＤの基本アレーを図１４に示す。
Ｄ）を作るには少なくとも４つの構造が用いられてい
る。すなわち、ねじりビーム、片持ちビーム、たわみビ
ーム、隠れヒンジねじりビームである。隠れヒンジねじ
りビームＤＭＤについては、米国特許第５，０８３，８
５７号、「多レベル変形可能ミラー装置」、１９９２年
１月２８日発行、に開示されているので、参考のために
ここに示す。開示された発明の一実施態様の隠れヒンジ
ねじりビームＤＭＤの基本アレーを図１４に示す。
【００１３】千鳥にした画素は空間光変調器の全ての型
でうまく作動するわけではない。例えばねじりビームＤ
ＭＤを用いるディスプレイでは、ミラーを支持する機械
的構造のために，千鳥にした画素を用いると効率が悪く
なる。本発明の一実施態様ではねじりビームＤＭＤが用
いられる。どの空間光変調器を用いてもよいが、説明の
便宜上ねじりビームＤＭＤに焦点を当てる。図１４はね
じりビームＤＭＤアレー４０の部分平面図である。各ね
じりビームＤＭＤ要素は、エアギャップの上に２個のね
じりヒンジ４４と４６で支持されるミラー４２から成
る。各ヒンジは支持構造に取り付けられている。この場
合支持構造は支持柱４８にメタライズしたアレーであ
る。アレーの端を除いては、２個のＤＭＤ要素からのね
じりヒンジが各支持柱４８を共有する。
でうまく作動するわけではない。例えばねじりビームＤ
ＭＤを用いるディスプレイでは、ミラーを支持する機械
的構造のために，千鳥にした画素を用いると効率が悪く
なる。本発明の一実施態様ではねじりビームＤＭＤが用
いられる。どの空間光変調器を用いてもよいが、説明の
便宜上ねじりビームＤＭＤに焦点を当てる。図１４はね
じりビームＤＭＤアレー４０の部分平面図である。各ね
じりビームＤＭＤ要素は、エアギャップの上に２個のね
じりヒンジ４４と４６で支持されるミラー４２から成
る。各ヒンジは支持構造に取り付けられている。この場
合支持構造は支持柱４８にメタライズしたアレーであ
る。アレーの端を除いては、２個のＤＭＤ要素からのね
じりヒンジが各支持柱４８を共有する。
【００１４】図１５は図１４のアレーの各要素からヒン
ジとミラーを取り除いて下の電極を示す、ねじりビーム
ＤＭＤアレーの一部である。１対のアドレス電極５０と
５２が、ヒンジの軸を中心にして各ミラーの下に形成さ
れる。１対はアドレス電極４４と４６である。バイアス
バスも、ＤＭＤミラーの下の金属層上にパターン化され
ている。バイアスバスはミラーに電気的に接続され、Ｄ
ＭＤの動作中にバイアス電圧を全てのミラーまたはミラ
ー群に供給するのに用いられる。またこのバイアスバス
は、２つの着地点５４と５６を形成する。
ジとミラーを取り除いて下の電極を示す、ねじりビーム
ＤＭＤアレーの一部である。１対のアドレス電極５０と
５２が、ヒンジの軸を中心にして各ミラーの下に形成さ
れる。１対はアドレス電極４４と４６である。バイアス
バスも、ＤＭＤミラーの下の金属層上にパターン化され
ている。バイアスバスはミラーに電気的に接続され、Ｄ
ＭＤの動作中にバイアス電圧を全てのミラーまたはミラ
ー群に供給するのに用いられる。またこのバイアスバス
は、２つの着地点５４と５６を形成する。
【００１５】表示データは、アドレス電極に接続されて
いるメモリセルに書き込まれる。表示データに従って、
メモリセルはアドレス電極の１つに電圧を加える。この
電圧により電気力が発生し、その上に吊されたミラーを
引きつける。またバイアスをミラーに加えて引力を増
す。アドレス電極とミラーの間の引力により、ミラー４
２はヒンジ軸の回りに回転する。引力が十分大きけれ
ば、ミラーは回転して着地点５４と５６のどちらかに先
端が触れる。ある光学システムではＤＭＤは画素の面積
アレーとして形成され、ＯＮになる画素はヒンジ軸の片
側に回転し、ＯＦＦになる画素は反対側に回転する。こ
のような装置の詳細については、共にテキサス・インス
ツルメンツ社に譲渡された米国特許第４，９５６，６１
９号、「空間光変調器」、および米国特許第５，０６
１，０４９号、「空間光変調器および方法」、に記述さ
れているので、参考のためにここに示す。
いるメモリセルに書き込まれる。表示データに従って、
メモリセルはアドレス電極の１つに電圧を加える。この
電圧により電気力が発生し、その上に吊されたミラーを
引きつける。またバイアスをミラーに加えて引力を増
す。アドレス電極とミラーの間の引力により、ミラー４
２はヒンジ軸の回りに回転する。引力が十分大きけれ
ば、ミラーは回転して着地点５４と５６のどちらかに先
端が触れる。ある光学システムではＤＭＤは画素の面積
アレーとして形成され、ＯＮになる画素はヒンジ軸の片
側に回転し、ＯＦＦになる画素は反対側に回転する。こ
のような装置の詳細については、共にテキサス・インス
ツルメンツ社に譲渡された米国特許第４，９５６，６１
９号、「空間光変調器」、および米国特許第５，０６
１，０４９号、「空間光変調器および方法」、に記述さ
れているので、参考のためにここに示す。
【００１６】図１６は、図６および図８に示した千鳥に
した画素を用いたねじりビームＤＭＤの面積アレー画素
の平面図を示す。画素の１つ置きの行がシフトして基本
アレーを形成する場合は、隣接する画素は支持柱を共有
しない。追加の支持柱が必要なので、使用可能なミラー
領域が減少する。使用可能なミラー領域が減少するだけ
でなく、追加した支持柱が光を反射することにより、生
成される映像のコントラストの割合が減少する。実際に
はミラー領域の減少は約２０％で、これに比例してディ
スプレイ装置の効率は落ちる。
した画素を用いたねじりビームＤＭＤの面積アレー画素
の平面図を示す。画素の１つ置きの行がシフトして基本
アレーを形成する場合は、隣接する画素は支持柱を共有
しない。追加の支持柱が必要なので、使用可能なミラー
領域が減少する。使用可能なミラー領域が減少するだけ
でなく、追加した支持柱が光を反射することにより、生
成される映像のコントラストの割合が減少する。実際に
はミラー領域の減少は約２０％で、これに比例してディ
スプレイ装置の効率は落ちる。
【００１７】本発明は、千鳥にした画素により生じる上
述の効率減少の問題に対処する明らかに最初の解決であ
る。図１７に示すように、本発明の一実施態様では２次
元の各面積アレーの変調器要素の数が２倍になってい
る。各要素をグループ化して、図１７の破線で示しよう
に４変調器要素を含むサブアレーすなわち画素ブロック
５８、６０、６２、６４を形成する。「画素ブロック」
という語を用いたのは、通常は「画素」という語が個々
に制御できる最小の図の要素として定義されるからであ
り、画素ブロック内では各変調器要素は同時に動作する
が、本発明の各種の実施態様では、画素ブロック内の個
々の変調器要素を別個に制御することができる。画素ブ
ロックは行に配列され、１つの行の画素ブロックは上の
行と下の行の各隣接画素ブロックの中央に設けられる。
これにより、上に述べた効率の低下を生じることなく千
鳥にした画素を作成することができる。
述の効率減少の問題に対処する明らかに最初の解決であ
る。図１７に示すように、本発明の一実施態様では２次
元の各面積アレーの変調器要素の数が２倍になってい
る。各要素をグループ化して、図１７の破線で示しよう
に４変調器要素を含むサブアレーすなわち画素ブロック
５８、６０、６２、６４を形成する。「画素ブロック」
という語を用いたのは、通常は「画素」という語が個々
に制御できる最小の図の要素として定義されるからであ
り、画素ブロック内では各変調器要素は同時に動作する
が、本発明の各種の実施態様では、画素ブロック内の個
々の変調器要素を別個に制御することができる。画素ブ
ロックは行に配列され、１つの行の画素ブロックは上の
行と下の行の各隣接画素ブロックの中央に設けられる。
これにより、上に述べた効率の低下を生じることなく千
鳥にした画素を作成することができる。
【００１８】本発明の上記の実施態様では各画素に変調
器要素の２ｘ２アレーを用いたが、本発明の各種の実施
態様では変調器要素のいろいろの数および配列を用いる
ことができる。例えば各画素は変調器要素の１ｘ２、２
ｘ３、３ｘ２、３ｘ３または任意の大きさのアレーを備
えることができる。制約があるとすれば、変調器の物理
的な寸法の制限だけである。
器要素の２ｘ２アレーを用いたが、本発明の各種の実施
態様では変調器要素のいろいろの数および配列を用いる
ことができる。例えば各画素は変調器要素の１ｘ２、２
ｘ３、３ｘ２、３ｘ３または任意の大きさのアレーを備
えることができる。制約があるとすれば、変調器の物理
的な寸法の制限だけである。
【００１９】本発明は、各変調器要素を同じ制御信号に
接続して１グループ内の各要素に同時に書き込みまた共
通のデータを受けるか、または各要素への共通のデータ
を個々に書き込むことにより実現してよい。
接続して１グループ内の各要素に同時に書き込みまた共
通のデータを受けるか、または各要素への共通のデータ
を個々に書き込むことにより実現してよい。
【００２０】変調器アレー内の要素の数を増やしたの
で、アレーの設計者はより小さな要素を用いることによ
りアレーを同じ寸法に保つか、または同じ寸法の要素を
用いることによりアレーの寸法を大きくするかを選んで
よい。各変調器方式の妥協によって要素とアレーの寸法
が影響される。ディジタルマイクロミラー装置では、動
作するミラーの角偏向はミラーの寸法とエアギャップの
厚さにより決まる。またミラーの寸法は、エアギャップ
からフォトレジストをエッチングにより除く必要によっ
ても制限される。これらの制約があるため、各ミラーの
最大寸法が制限される。ミラーの最小寸法は、ミラーの
下のアドレシングおよび着地用の電極を作る必要性によ
って制限される。
で、アレーの設計者はより小さな要素を用いることによ
りアレーを同じ寸法に保つか、または同じ寸法の要素を
用いることによりアレーの寸法を大きくするかを選んで
よい。各変調器方式の妥協によって要素とアレーの寸法
が影響される。ディジタルマイクロミラー装置では、動
作するミラーの角偏向はミラーの寸法とエアギャップの
厚さにより決まる。またミラーの寸法は、エアギャップ
からフォトレジストをエッチングにより除く必要によっ
ても制限される。これらの制約があるため、各ミラーの
最大寸法が制限される。ミラーの最小寸法は、ミラーの
下のアドレシングおよび着地用の電極を作る必要性によ
って制限される。
【００２１】アレーの寸法を大きくすることによって得
られる別の利点は映像の明るさが増すことである。一般
にディジタルマイクロミラー装置要素は寸法が小さくま
た一般にビデオ信号は解像度が有限なので、ＤＭＤアレ
ーは一般に非常に小さい。１個以上の変調器要素をグル
ープ化して画素ブロックにすることにより各画素の寸法
が大きくなるので、ＤＭＤの寸法が大きくなる。このよ
うに寸法が大きくなることにより、より効率のよい光学
装置を用いることができ、また映像の表示はより明るく
なる。
られる別の利点は映像の明るさが増すことである。一般
にディジタルマイクロミラー装置要素は寸法が小さくま
た一般にビデオ信号は解像度が有限なので、ＤＭＤアレ
ーは一般に非常に小さい。１個以上の変調器要素をグル
ープ化して画素ブロックにすることにより各画素の寸法
が大きくなるので、ＤＭＤの寸法が大きくなる。このよ
うに寸法が大きくなることにより、より効率のよい光学
装置を用いることができ、また映像の表示はより明るく
なる。
【００２２】本発明の別の利点は、要素の寸法を大きく
することを必要とせずに冗長なアドレシング回路を作れ
ることである。画素ブロック内の変調器要素を電気的に
接続した場合は、各画素ブロックのアドレス回路は１つ
だけ作らなければならない。実際は、各画素ブロックに
は第２のアドレス回路を作るだけの十分な余地があるこ
とが多い。第２アドレス回路でバックアップを形成し、
ダイのテスト中に第１アドレス回路にエラーがあったと
きに選択することができる。
することを必要とせずに冗長なアドレシング回路を作れ
ることである。画素ブロック内の変調器要素を電気的に
接続した場合は、各画素ブロックのアドレス回路は１つ
だけ作らなければならない。実際は、各画素ブロックに
は第２のアドレス回路を作るだけの十分な余地があるこ
とが多い。第２アドレス回路でバックアップを形成し、
ダイのテスト中に第１アドレス回路にエラーがあったと
きに選択することができる。
【００２３】図１８は冗長アドレシング方式の一実施態
様の略図を示す。図１８に示すように、画素ブロック内
の４ＤＭＤ要素５９、６１、６３、６５を全て電気的に
接続する。２つのメモリセル７４と７６のどちらかをマ
ルチプレクサ７８で選択して４ＤＭＤ要素をバイアスす
るのに用いる。欠陥によりメモリセル７４が故障する
と、マルチプレクサ７８はメモリセル７６を選ぶことが
できる。マルチプレクサ７８の代わりに、両メモリセル
の出力をＤＭＤ要素に単に接続して、デバイスのテスト
中に出力の一方を遮断（ｆｕｓｅ）させる。ある欠陥に
より故障を生じて、図１８に示す冗長アドレス回路が使
用できなくなることがある。このような故障に対処する
ため、集積回路メモリ製作などの他の分野で知られる多
くの方法を用いることができる。１つの方法はパストラ
ンジスタを用いて故障したトランジスタを分離すること
である。一般にこのような方式は、装置が複雑になって
故障の確率が増えることと故障を乗り越える能力との妥
協になる。
様の略図を示す。図１８に示すように、画素ブロック内
の４ＤＭＤ要素５９、６１、６３、６５を全て電気的に
接続する。２つのメモリセル７４と７６のどちらかをマ
ルチプレクサ７８で選択して４ＤＭＤ要素をバイアスす
るのに用いる。欠陥によりメモリセル７４が故障する
と、マルチプレクサ７８はメモリセル７６を選ぶことが
できる。マルチプレクサ７８の代わりに、両メモリセル
の出力をＤＭＤ要素に単に接続して、デバイスのテスト
中に出力の一方を遮断（ｆｕｓｅ）させる。ある欠陥に
より故障を生じて、図１８に示す冗長アドレス回路が使
用できなくなることがある。このような故障に対処する
ため、集積回路メモリ製作などの他の分野で知られる多
くの方法を用いることができる。１つの方法はパストラ
ンジスタを用いて故障したトランジスタを分離すること
である。一般にこのような方式は、装置が複雑になって
故障の確率が増えることと故障を乗り越える能力との妥
協になる。
【００２４】千鳥にした画素の代表的な応用は、図１９
に示すテレビジョン・ディスプレイ装置である。図１９
では、合成ビデオ信号が信号８０として入力される。デ
コーダ８２が合成ビデオ信号を変換し、アナログ・ディ
ジタル変換器（Ａ／Ｄ）８４でサンプリングしディジタ
ル化する。ディジタル化されたビデオ信号をビデオプロ
セッサ８６に入力し、ここで順次走査変換などの各種デ
ータ処理を行う。タイミング制御器８８がＡ／Ｄ８４と
ビデオプロセッサ８６の動作を同期化させる。ＤＭＤフ
ォーマッタ９０がデータを再書式化してＤＭＤが必要と
する入力書式に合致させ、ＤＭＤ９４の表示準備が整う
までフレームメモリ９２が再書式化されたデータを記憶
する。光源９６からの光の焦点を光学装置９８によりＤ
ＭＤ９４の上に合わせる。光はＤＭＤ９４の反射面で反
射して、投写光学装置１００によりディスプレイスクリ
ーン１０２の上に焦点を合わせると、映像が見える。
に示すテレビジョン・ディスプレイ装置である。図１９
では、合成ビデオ信号が信号８０として入力される。デ
コーダ８２が合成ビデオ信号を変換し、アナログ・ディ
ジタル変換器（Ａ／Ｄ）８４でサンプリングしディジタ
ル化する。ディジタル化されたビデオ信号をビデオプロ
セッサ８６に入力し、ここで順次走査変換などの各種デ
ータ処理を行う。タイミング制御器８８がＡ／Ｄ８４と
ビデオプロセッサ８６の動作を同期化させる。ＤＭＤフ
ォーマッタ９０がデータを再書式化してＤＭＤが必要と
する入力書式に合致させ、ＤＭＤ９４の表示準備が整う
までフレームメモリ９２が再書式化されたデータを記憶
する。光源９６からの光の焦点を光学装置９８によりＤ
ＭＤ９４の上に合わせる。光はＤＭＤ９４の反射面で反
射して、投写光学装置１００によりディスプレイスクリ
ーン１０２の上に焦点を合わせると、映像が見える。
【００２５】ビデオプロセッサ８６が行う機能に従っ
て、選択されたディスプレイ形式に関わらず、入力ビデ
オ源は各種の映像書式の任意の１つでよい。例えば、入
力ビデオデータはフレーム率が６０Ｈｚで各フレームが
６４０画素の２４０行から成るものでよい。１つ置きの
フレームはそれぞれ偶数または奇数の線情報だけを含ん
でよい。ビデオプロセッサはこの映像データを、フレー
ム率が６０Ｈｚで各フレームが６４０画素の２４０行か
ら成りかつ各フレームが奇数行と偶数行の情報を持つ、
データストリームに変換する。必要な映像変換を行うの
に用いることのできるアルゴリズムがいくつかある。た
だし、出力映像が千鳥にした画素を用いる場合は、１つ
置きの行のサンプリングをタイミング制御器８８によっ
て変更しなければならない。またはビデオプロセッサは
ビデオデータを処理しながら画素の千鳥にした行を補償
しなければならない。
て、選択されたディスプレイ形式に関わらず、入力ビデ
オ源は各種の映像書式の任意の１つでよい。例えば、入
力ビデオデータはフレーム率が６０Ｈｚで各フレームが
６４０画素の２４０行から成るものでよい。１つ置きの
フレームはそれぞれ偶数または奇数の線情報だけを含ん
でよい。ビデオプロセッサはこの映像データを、フレー
ム率が６０Ｈｚで各フレームが６４０画素の２４０行か
ら成りかつ各フレームが奇数行と偶数行の情報を持つ、
データストリームに変換する。必要な映像変換を行うの
に用いることのできるアルゴリズムがいくつかある。た
だし、出力映像が千鳥にした画素を用いる場合は、１つ
置きの行のサンプリングをタイミング制御器８８によっ
て変更しなければならない。またはビデオプロセッサは
ビデオデータを処理しながら画素の千鳥にした行を補償
しなければならない。
【００２６】千鳥にした画素により水平解像度の効率を
上げる方法と構造について特定の実施態様を説明した
が、特許請求の範囲の規定を除いては、これらの特定の
例は本発明の範囲を制限するものではない。更に、ある
特定の実施態様に関連して本発明を説明したが、この技
術に精通した人には更に変更が可能であることは自明で
あり、このような変更は全て特許請求の範囲に入るもの
である。
上げる方法と構造について特定の実施態様を説明した
が、特許請求の範囲の規定を除いては、これらの特定の
例は本発明の範囲を制限するものではない。更に、ある
特定の実施態様に関連して本発明を説明したが、この技
術に精通した人には更に変更が可能であることは自明で
あり、このような変更は全て特許請求の範囲に入るもの
である。
【００２７】以上の説明に関して更に以下の項を開示す
る。 （１） 空間光変調器を制御する方法であって、 ａ． 空間光変調器要素のアレーをサブアレーにグルー
プ化し、 ｂ． 前記サブアレーを水平な行に並べて、前記１つの
サブアレーを前記水平な行のすぐ上と下の行の２つの隣
接するサブアレーの間に設け、 ｃ． 前記サブアレー内の前記各変調器要素を、前記変
調器要素が同時に動作するように制御する、 ことを含む方法。
る。 （１） 空間光変調器を制御する方法であって、 ａ． 空間光変調器要素のアレーをサブアレーにグルー
プ化し、 ｂ． 前記サブアレーを水平な行に並べて、前記１つの
サブアレーを前記水平な行のすぐ上と下の行の２つの隣
接するサブアレーの間に設け、 ｃ． 前記サブアレー内の前記各変調器要素を、前記変
調器要素が同時に動作するように制御する、 ことを含む方法。
【００２８】（２） 前記空間光変調器要素は個々にア
ドレスできる、第１項記載の方法。 （３） 前記空間光変調器要素はサブアレーとしてアド
レスされる、第１項記載の方法。 （４） 前記サブアレーは、大部分が正方形形式の要素
を備える、第１項記載の方法。 （５） 前記サブアレーは２ｘ２マトリックスに配列し
た４変調器要素から成る、第１項記載の方法。
ドレスできる、第１項記載の方法。 （３） 前記空間光変調器要素はサブアレーとしてアド
レスされる、第１項記載の方法。 （４） 前記サブアレーは、大部分が正方形形式の要素
を備える、第１項記載の方法。 （５） 前記サブアレーは２ｘ２マトリックスに配列し
た４変調器要素から成る、第１項記載の方法。
【００２９】（６） 前記空間光変調器要素はディジタ
ルマイクロミラー装置である、第１項記載の方法。 （７） 前記空間光変調器要素はねじれビーム・ディジ
タルマイクロミラー装置である、第１項記載の方法。 （８） 前記アドレシング回路は冗長である、第１項記
載の方法。
ルマイクロミラー装置である、第１項記載の方法。 （７） 前記空間光変調器要素はねじれビーム・ディジ
タルマイクロミラー装置である、第１項記載の方法。 （８） 前記アドレシング回路は冗長である、第１項記
載の方法。
【００３０】（９） 空間光変調器であって、 ａ． 空間光変調器要素のアレーと、 ｂ． 前記要素を制御して前記要素のサブアレーを同時
に動作させる制御回路とを備え、前記サブアレーを千鳥
にした水平な行に配置し、各サブアレーを隣接する行の
２つの隣接サブアレーの間に水平に設ける、 空間光変調器。
に動作させる制御回路とを備え、前記サブアレーを千鳥
にした水平な行に配置し、各サブアレーを隣接する行の
２つの隣接サブアレーの間に水平に設ける、 空間光変調器。
【００３１】（１０） 前記サブアレーは、大部分が正
方形形式の要素を備える、第９項記載の変調器。 （１１） 前記サブアレーは２ｘ２マトリックスに配列
した４変調器要素から成る、第９項記載の変調器。 （１２） 前記要素はディジタルマイクロミラー装置で
ある、第９項記載の変調器。 （１３） 前記要素はねじれビーム・ディジタルマイク
ロミラー装置である、第９項記載の変調器。 （１４） 各サブアレーについて２つ以上の前記制御回
路が製作される、第９項記載の変調器。
方形形式の要素を備える、第９項記載の変調器。 （１１） 前記サブアレーは２ｘ２マトリックスに配列
した４変調器要素から成る、第９項記載の変調器。 （１２） 前記要素はディジタルマイクロミラー装置で
ある、第９項記載の変調器。 （１３） 前記要素はねじれビーム・ディジタルマイク
ロミラー装置である、第９項記載の変調器。 （１４） 各サブアレーについて２つ以上の前記制御回
路が製作される、第９項記載の変調器。
【００３２】（１５） ディジタルマイクロミラー装置
であって、ディジタルマイクロミラー要素のアレーであ
って、前記各要素は少なくとも１つのアドレス電極の上
に吊された偏向可能なミラーを備え、電圧バイアス信号
を前記少なくとも１つのアドレス電極に加えると前記偏
向可能ミラーは前記少なくとも１つのアドレス電極に向
かって偏向する、ディジタルマイクロミラー要素のアレ
ーと、前記ディジタルマイクロミラー要素の少なくとも
３つの千鳥にした水平な行を備える前記アレーであっ
て、前記各ディジタルマイクロミラー要素は隣接する行
の２つの隣接するディジタルマイクロミラー要素の間に
水平に設けられる、前記アレーと、を備えるディジタル
マイクロミラー装置。 （１６） 前記ディジタルマイクロミラー要素はねじれ
ビーム・ディジタルマイクロミラー要素である、第１５
項記載の装置。
であって、ディジタルマイクロミラー要素のアレーであ
って、前記各要素は少なくとも１つのアドレス電極の上
に吊された偏向可能なミラーを備え、電圧バイアス信号
を前記少なくとも１つのアドレス電極に加えると前記偏
向可能ミラーは前記少なくとも１つのアドレス電極に向
かって偏向する、ディジタルマイクロミラー要素のアレ
ーと、前記ディジタルマイクロミラー要素の少なくとも
３つの千鳥にした水平な行を備える前記アレーであっ
て、前記各ディジタルマイクロミラー要素は隣接する行
の２つの隣接するディジタルマイクロミラー要素の間に
水平に設けられる、前記アレーと、を備えるディジタル
マイクロミラー装置。 （１６） 前記ディジタルマイクロミラー要素はねじれ
ビーム・ディジタルマイクロミラー要素である、第１５
項記載の装置。
【００３３】（１７） ビデオディスプレイ装置であっ
て、光のビームを発生する光源と、入力合成ビデオ信号
を変換してアナログ・ベースバンドビデオ信号を出力す
るデコーダと、前記アナログ・ベースバンドビデオ信号
をサンプリングして前記アナログ・ベースバンドビデオ
信号のディジタル表現を出力するアナログ・ディジタル
変換器と、前記ディジタル表現を受けてディジタル表示
データを出力するビデオフォーマッタと、前記ディジタ
ル表示データと前記光のビームを受けて、前記ディジタ
ル表示データに依存する、映像を運ぶ光のビームを発生
するディジタルマイクロミラー装置とを備え、前記ディ
ジタル・マイクロミラー装置はディジタルマイクロミラ
ー要素の少なくとも３行を持つアレーを備え、前記各デ
ィジタルマイクロミラー要素は隣接する行の２つの隣接
するディジタルマイクロミラー要素の間に水平に設けら
れる、ビデオディスプレイ装置。
て、光のビームを発生する光源と、入力合成ビデオ信号
を変換してアナログ・ベースバンドビデオ信号を出力す
るデコーダと、前記アナログ・ベースバンドビデオ信号
をサンプリングして前記アナログ・ベースバンドビデオ
信号のディジタル表現を出力するアナログ・ディジタル
変換器と、前記ディジタル表現を受けてディジタル表示
データを出力するビデオフォーマッタと、前記ディジタ
ル表示データと前記光のビームを受けて、前記ディジタ
ル表示データに依存する、映像を運ぶ光のビームを発生
するディジタルマイクロミラー装置とを備え、前記ディ
ジタル・マイクロミラー装置はディジタルマイクロミラ
ー要素の少なくとも３行を持つアレーを備え、前記各デ
ィジタルマイクロミラー要素は隣接する行の２つの隣接
するディジタルマイクロミラー要素の間に水平に設けら
れる、ビデオディスプレイ装置。
【００３４】（１８） 前記ビデオフォーマッタはビデ
オプロセッサとＤＭＤフォーマッタを備え、前記ビデオ
プロセッサは前記アナログ・ベースバンドビデオ信号の
前記ディジタル表現を受けて変更されたディジタルビデ
オ信号を出力し、前記ＤＭＤフォーマッタは前記変更さ
れたディジタルビデオ信号を受けて前記ディジタル表示
データを出力する、第１７項記載のディスプレイ装置。 （１９） 前記ディジタル表示データを前記ディジタル
マイクロミラー装置により表示する前に、前記ビデオフ
ォーマッタからの前記ディジタル表示データを記憶する
フレームメモリを更に備える、第１７項記載のディスプ
レイ装置。 （２０） 前記ディジタルマイクロミラー装置はねじれ
ビーム・ディジタルマイクロミラー装置である、第１７
項記載のディスプレイ装置。
オプロセッサとＤＭＤフォーマッタを備え、前記ビデオ
プロセッサは前記アナログ・ベースバンドビデオ信号の
前記ディジタル表現を受けて変更されたディジタルビデ
オ信号を出力し、前記ＤＭＤフォーマッタは前記変更さ
れたディジタルビデオ信号を受けて前記ディジタル表示
データを出力する、第１７項記載のディスプレイ装置。 （１９） 前記ディジタル表示データを前記ディジタル
マイクロミラー装置により表示する前に、前記ビデオフ
ォーマッタからの前記ディジタル表示データを記憶する
フレームメモリを更に備える、第１７項記載のディスプ
レイ装置。 （２０） 前記ディジタルマイクロミラー装置はねじれ
ビーム・ディジタルマイクロミラー装置である、第１７
項記載のディスプレイ装置。
【００３５】（２１） ディスプレイ装置の有効水平解
像度を増加させる方法と装置。本発明の一実施態様は、
アレー内の交互の行を千鳥にすることによりディジタル
マイクロミラー要素の基本アレーを形成する。本発明の
第２の実施態様では、順序画素アレー５７を、ＳＬＭ要
素５９、６１、６３、６５をグループ化して画素ブロッ
ク５８にすることにより基本画素アレーに変換する。画
素ブロック内の全ての要素は同時に制御され、その画素
ブロックは単一画素のように動作する。画素ブロックの
行６７と６９は補い合って、基本画素アレーにしばしば
発生する効率の低下を起こすことなく、画素の基本アレ
ーの効果を与える。
像度を増加させる方法と装置。本発明の一実施態様は、
アレー内の交互の行を千鳥にすることによりディジタル
マイクロミラー要素の基本アレーを形成する。本発明の
第２の実施態様では、順序画素アレー５７を、ＳＬＭ要
素５９、６１、６３、６５をグループ化して画素ブロッ
ク５８にすることにより基本画素アレーに変換する。画
素ブロック内の全ての要素は同時に制御され、その画素
ブロックは単一画素のように動作する。画素ブロックの
行６７と６９は補い合って、基本画素アレーにしばしば
発生する効率の低下を起こすことなく、画素の基本アレ
ーの効果を与える。
【図面の簡単な説明】
【図１】三角波ビデオ信号を示す波形。
【図２】交互に明と暗の縞を示す図の要素の順序アレー
の平面図。
の平面図。
【図３】三角波ビデオ信号を示す波形。
【図４】灰色フィールドを表示する図の要素の順序アレ
ーの平面図。
ーの平面図。
【図５】三角波ビデオ信号を示す波形。
【図６】明と暗の要素の行と灰色の要素の行を交互に表
示する図の要素の基本アレーの平面図。
示する図の要素の基本アレーの平面図。
【図７】三角波ビデオ信号を示す波形。
【図８】灰色の要素の行と明と暗の要素の行とを交互に
表示する図の要素の基本アレーの平面図。
表示する図の要素の基本アレーの平面図。
【図９】画素の順序アレーを用いた第１相の垂直バーの
表示。
表示。
【図１０】画素の順序アレーを用いた第２相の垂直バー
の表示。
の表示。
【図１１】画素の基本アレーを用いた第１相の垂直バー
の表示。
の表示。
【図１２】画素の基本アレーを用いた第２相の垂直バー
の表示。
の表示。
【図１３】隠れヒンジねじりビーム・ディジタルマイク
ロミラー装置の基本アレーの一部の平面図。
ロミラー装置の基本アレーの一部の平面図。
【図１４】ディジタル・マイクロミラー装置の順序アレ
ーの平面図。
ーの平面図。
【図１５】ミラーとヒンジを取り除いて下の電極を示
す、ディジタルマイクロミラー装置の順序アレーの平面
図。
す、ディジタルマイクロミラー装置の順序アレーの平面
図。
【図１６】ディジタルマイクロミラー装置の基本すなわ
ち千鳥にしたアレーの平面図。
ち千鳥にしたアレーの平面図。
【図１７】千鳥にしたグループを備えるディジタルマイ
クロミラー装置の順序アレーの平面図。
クロミラー装置の順序アレーの平面図。
【図１８】冗長アドレシングの一方式の略図。
【図１９】ＤＭＤに基づくテレビジョンディスプレイ装
置の一実施態様のブロック図。
置の一実施態様のブロック図。
【符号の説明】 ２０ 面積アレー ２２，２４，２６ 画素 ３０，３２，３４，３６，３８ 画素 ４０ ねじりビームＤＭＤアレー ４２ ミラー ４４，４６ ねじりヒンジ ４８ 支持柱 ５０，５２ アドレス電極 ５４，５６ 着地点 ５７ 順序画素アレー ５８、６０，６２，６４ 画素ブロック ５９，６１，６３，６５ ＤＭＤ要素 ６７、６９ 画素ブロックの行 ７４，７６ メモリセル ７８ マルチプレクサ ８０ 合成ビデオ信号 ８２ デコータ ８４ Ａ／Ｄ変換器 ８６ ビデオプロセッサ ８８ タイミング制御器 ９０ ＤＭＤフォーマッタ ９２ フレームメモリ ９４ ＤＭＤ ９６ 光源 ９８ 光学装置 １００ 投写光学装置 １０２ ディスプレイスクリーン
Claims (2)
- 【請求項１】空間光変調器を制御する方法であって、 ａ． 空間光変調器要素のアレーをサブアレーにグルー
プ化し、 ｂ． 前記サブアレーを水平な行に並べて、前記１つの
サブアレーを前記水平な行のすぐ上と下の行の２つの隣
接するサブアレーの間に設け、 ｃ． 前記サブアレー内の前記各変調器要素を、前記変
調器要素が同時に動作するように制御する、 ことを含む方法。 - 【請求項２】空間光変調器であって、 ａ． 空間光変調器要素のアレーと、 ｂ． 前記要素を制御して前記要素のサブアレーを同時
に動作させる制御回路とを備え、前記サブアレーを千鳥
にした水平な行に配置し、各サブアレーを隣接する行の
２つの隣接サブアレーの間に水平に設ける、 空間光変調器。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US16183293A | 1993-12-03 | 1993-12-03 | |
| US161832 | 1993-12-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0836141A true JPH0836141A (ja) | 1996-02-06 |
| JP3526480B2 JP3526480B2 (ja) | 2004-05-17 |
Family
ID=22582939
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33322394A Expired - Fee Related JP3526480B2 (ja) | 1993-12-03 | 1994-12-05 | 水平解像度を改善するｄｍｄ構造 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6232936B1 (ja) |
| EP (1) | EP0665458B1 (ja) |
| JP (1) | JP3526480B2 (ja) |
| KR (1) | KR950022934A (ja) |
| CN (1) | CN1058123C (ja) |
| CA (1) | CA2137059C (ja) |
| DE (1) | DE69429071T2 (ja) |
| TW (1) | TW283290B (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002236265A (ja) * | 2000-12-01 | 2002-08-23 | Lucent Technol Inc | マイクロエレクトロメカニカルシステム（ｍｅｍｓ）デバイスを動作するドライバおよび方法 |
| JP2006295175A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Asml Netherlands Bv | コントラスト装置のブレーズ部を用いるリソグラフィ装置及び素子製造方法 |
| US7385750B2 (en) | 2003-08-29 | 2008-06-10 | Asml Holding N.V. | Spatial light modulator using an integrated circuit actuator |
| US8921509B2 (en) | 2005-06-13 | 2014-12-30 | Grupo Petrotemex, S.A. De C.V. | Process for removing metal species in the presence of hydrogen and a porous material and polyester polymer containing reduced amounts of metal species |
| US10429637B2 (en) | 2016-05-23 | 2019-10-01 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and electronic device |
Families Citing this family (191)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6674562B1 (en) | 1994-05-05 | 2004-01-06 | Iridigm Display Corporation | Interferometric modulation of radiation |
| US7460291B2 (en) | 1994-05-05 | 2008-12-02 | Idc, Llc | Separable modulator |
| US7297471B1 (en) | 2003-04-15 | 2007-11-20 | Idc, Llc | Method for manufacturing an array of interferometric modulators |
| US6680792B2 (en) * | 1994-05-05 | 2004-01-20 | Iridigm Display Corporation | Interferometric modulation of radiation |
| US7123216B1 (en) | 1994-05-05 | 2006-10-17 | Idc, Llc | Photonic MEMS and structures |
| US7138984B1 (en) | 2001-06-05 | 2006-11-21 | Idc, Llc | Directly laminated touch sensitive screen |
| US8014059B2 (en) | 1994-05-05 | 2011-09-06 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for charge control in a MEMS device |
| US7550794B2 (en) | 2002-09-20 | 2009-06-23 | Idc, Llc | Micromechanical systems device comprising a displaceable electrode and a charge-trapping layer |
| EP0710019A3 (en) * | 1994-10-31 | 1997-03-26 | Texas Instruments Inc | Digital mirror display device for television |
| GB2307814A (en) * | 1995-11-28 | 1997-06-04 | Rank Brimar Ltd | Dmd display system |
| US7471444B2 (en) | 1996-12-19 | 2008-12-30 | Idc, Llc | Interferometric modulation of radiation |
| US8928967B2 (en) | 1998-04-08 | 2015-01-06 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for modulating light |
| US7532377B2 (en) | 1998-04-08 | 2009-05-12 | Idc, Llc | Movable micro-electromechanical device |
| WO1999052006A2 (en) | 1998-04-08 | 1999-10-14 | Etalon, Inc. | Interferometric modulation of radiation |
| WO2003007049A1 (en) | 1999-10-05 | 2003-01-23 | Iridigm Display Corporation | Photonic mems and structures |
| US20030020809A1 (en) * | 2000-03-15 | 2003-01-30 | Gibbon Michael A | Methods and apparatuses for superimposition of images |
| EP1210649B1 (en) * | 2000-03-31 | 2011-03-02 | Imax Corporation | Digital projection equipment and techniques |
| US6962771B1 (en) * | 2000-10-13 | 2005-11-08 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Dual damascene process |
| US6970150B2 (en) * | 2001-03-19 | 2005-11-29 | Texas Instruments Incorporated | Control timing for spatial light modulator |
| US6589625B1 (en) | 2001-08-01 | 2003-07-08 | Iridigm Display Corporation | Hermetic seal and method to create the same |
| US6794119B2 (en) | 2002-02-12 | 2004-09-21 | Iridigm Display Corporation | Method for fabricating a structure for a microelectromechanical systems (MEMS) device |
| US6574033B1 (en) | 2002-02-27 | 2003-06-03 | Iridigm Display Corporation | Microelectromechanical systems device and method for fabricating same |
| KR100451737B1 (ko) * | 2002-05-17 | 2004-10-08 | 엘지전자 주식회사 | Ｄｍｄ 패널 |
| US6947020B2 (en) | 2002-05-23 | 2005-09-20 | Oregonlabs, Llc | Multi-array spatial light modulating devices and methods of fabrication |
| US20030218590A1 (en) * | 2002-05-23 | 2003-11-27 | Kiser David K. | Optics engine having multi-array spatial light modulating device and method of operation |
| US20040004753A1 (en) * | 2002-06-19 | 2004-01-08 | Pan Shaoher X. | Architecture of a reflective spatial light modulator |
| US7781850B2 (en) | 2002-09-20 | 2010-08-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Controlling electromechanical behavior of structures within a microelectromechanical systems device |
| DE10245104B4 (de) * | 2002-09-27 | 2008-08-07 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Projektionsanordnung und Projektionsverfahren |
| US6798560B2 (en) * | 2002-10-11 | 2004-09-28 | Exajoula, Llc | Micromirror systems with open support structures |
| US6825968B2 (en) * | 2002-10-11 | 2004-11-30 | Exajoule, Llc | Micromirror systems with electrodes configured for sequential mirror attraction |
| US6870659B2 (en) * | 2002-10-11 | 2005-03-22 | Exajoule, Llc | Micromirror systems with side-supported mirrors and concealed flexure members |
| US20040109138A1 (en) * | 2002-12-10 | 2004-06-10 | Kiser David K. | Apparatus for generating a number of color light components |
| US20040109139A1 (en) * | 2002-12-10 | 2004-06-10 | Kiser David K. | Apparatus for combining a number of images into a single image |
| US20040108973A1 (en) * | 2002-12-10 | 2004-06-10 | Kiser David K. | Apparatus for generating a number of color light components |
| US20040109140A1 (en) * | 2002-12-10 | 2004-06-10 | Kiser David K. | Apparatus for combining a number of images into a single image |
| TW200413810A (en) | 2003-01-29 | 2004-08-01 | Prime View Int Co Ltd | Light interference display panel and its manufacturing method |
| US7042622B2 (en) * | 2003-10-30 | 2006-05-09 | Reflectivity, Inc | Micromirror and post arrangements on substrates |
| US6906848B2 (en) * | 2003-02-24 | 2005-06-14 | Exajoule, Llc | Micromirror systems with concealed multi-piece hinge structures |
| US6900922B2 (en) * | 2003-02-24 | 2005-05-31 | Exajoule, Llc | Multi-tilt micromirror systems with concealed hinge structures |
| JP2004294756A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Tdk Corp | 空間光変調器及びホログラム記録再生装置 |
| TW594360B (en) | 2003-04-21 | 2004-06-21 | Prime View Int Corp Ltd | A method for fabricating an interference display cell |
| TW570896B (en) | 2003-05-26 | 2004-01-11 | Prime View Int Co Ltd | A method for fabricating an interference display cell |
| CN100378496C (zh) * | 2003-06-02 | 2008-04-02 | 明锐有限公司 | 具有隐藏铰链的高填充率反射式空间光调制器 |
| US7221495B2 (en) | 2003-06-24 | 2007-05-22 | Idc Llc | Thin film precursor stack for MEMS manufacturing |
| GB2403864A (en) * | 2003-07-10 | 2005-01-12 | Ocuity Ltd | Pixel arrangement for an autostereoscopic display |
| TWI231865B (en) | 2003-08-26 | 2005-05-01 | Prime View Int Co Ltd | An interference display cell and fabrication method thereof |
| TW593126B (en) | 2003-09-30 | 2004-06-21 | Prime View Int Co Ltd | A structure of a micro electro mechanical system and manufacturing the same |
| US6888521B1 (en) | 2003-10-30 | 2005-05-03 | Reflectivity, Inc | Integrated driver for use in display systems having micromirrors |
| US20080088651A1 (en) * | 2003-11-01 | 2008-04-17 | Yoshihiro Maeda | Divided mirror pixels for deformable mirror device |
| US7012726B1 (en) | 2003-11-03 | 2006-03-14 | Idc, Llc | MEMS devices with unreleased thin film components |
| US7142346B2 (en) * | 2003-12-09 | 2006-11-28 | Idc, Llc | System and method for addressing a MEMS display |
| US7161728B2 (en) * | 2003-12-09 | 2007-01-09 | Idc, Llc | Area array modulation and lead reduction in interferometric modulators |
| US7532194B2 (en) | 2004-02-03 | 2009-05-12 | Idc, Llc | Driver voltage adjuster |
| US7474454B2 (en) * | 2004-06-18 | 2009-01-06 | Angstrom, Inc. | Programmable micromirror motion control system |
| US7333260B2 (en) * | 2004-08-09 | 2008-02-19 | Stereo Display, Inc. | Two-dimensional image projection system |
| US7119945B2 (en) | 2004-03-03 | 2006-10-10 | Idc, Llc | Altering temporal response of microelectromechanical elements |
| US7706050B2 (en) | 2004-03-05 | 2010-04-27 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Integrated modulator illumination |
| US7060895B2 (en) * | 2004-05-04 | 2006-06-13 | Idc, Llc | Modifying the electro-mechanical behavior of devices |
| US7476327B2 (en) | 2004-05-04 | 2009-01-13 | Idc, Llc | Method of manufacture for microelectromechanical devices |
| US7164520B2 (en) | 2004-05-12 | 2007-01-16 | Idc, Llc | Packaging for an interferometric modulator |
| US7256922B2 (en) | 2004-07-02 | 2007-08-14 | Idc, Llc | Interferometric modulators with thin film transistors |
| WO2006014929A1 (en) | 2004-07-29 | 2006-02-09 | Idc, Llc | System and method for micro-electromechanical operating of an interferometric modulator |
| US7304718B2 (en) * | 2004-08-17 | 2007-12-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7889163B2 (en) | 2004-08-27 | 2011-02-15 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Drive method for MEMS devices |
| US7515147B2 (en) | 2004-08-27 | 2009-04-07 | Idc, Llc | Staggered column drive circuit systems and methods |
| US7560299B2 (en) | 2004-08-27 | 2009-07-14 | Idc, Llc | Systems and methods of actuating MEMS display elements |
| US7499208B2 (en) | 2004-08-27 | 2009-03-03 | Udc, Llc | Current mode display driver circuit realization feature |
| CN101010714B (zh) * | 2004-08-27 | 2010-08-18 | 高通Mems科技公司 | 激活微机电系统显示元件的系统和方法 |
| US7551159B2 (en) | 2004-08-27 | 2009-06-23 | Idc, Llc | System and method of sensing actuation and release voltages of an interferometric modulator |
| US7602375B2 (en) * | 2004-09-27 | 2009-10-13 | Idc, Llc | Method and system for writing data to MEMS display elements |
| US7417783B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-08-26 | Idc, Llc | Mirror and mirror layer for optical modulator and method |
| US7415186B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-08-19 | Idc, Llc | Methods for visually inspecting interferometric modulators for defects |
| US7424198B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-09-09 | Idc, Llc | Method and device for packaging a substrate |
| US7545550B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-06-09 | Idc, Llc | Systems and methods of actuating MEMS display elements |
| US7626581B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-12-01 | Idc, Llc | Device and method for display memory using manipulation of mechanical response |
| US7564612B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-07-21 | Idc, Llc | Photonic MEMS and structures |
| US7630119B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-12-08 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Apparatus and method for reducing slippage between structures in an interferometric modulator |
| US7553684B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-06-30 | Idc, Llc | Method of fabricating interferometric devices using lift-off processing techniques |
| US7532195B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-05-12 | Idc, Llc | Method and system for reducing power consumption in a display |
| US7535466B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-05-19 | Idc, Llc | System with server based control of client device display features |
| US7349136B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-03-25 | Idc, Llc | Method and device for a display having transparent components integrated therein |
| US7692839B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-04-06 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method of providing MEMS device with anti-stiction coating |
| US7321456B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-01-22 | Idc, Llc | Method and device for corner interferometric modulation |
| US7289259B2 (en) | 2004-09-27 | 2007-10-30 | Idc, Llc | Conductive bus structure for interferometric modulator array |
| US7327510B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-02-05 | Idc, Llc | Process for modifying offset voltage characteristics of an interferometric modulator |
| US7373026B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-05-13 | Idc, Llc | MEMS device fabricated on a pre-patterned substrate |
| US7372613B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-05-13 | Idc, Llc | Method and device for multistate interferometric light modulation |
| US7343080B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-03-11 | Idc, Llc | System and method of testing humidity in a sealed MEMS device |
| US7161730B2 (en) | 2004-09-27 | 2007-01-09 | Idc, Llc | System and method for providing thermal compensation for an interferometric modulator display |
| US7405861B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-07-29 | Idc, Llc | Method and device for protecting interferometric modulators from electrostatic discharge |
| US8124434B2 (en) | 2004-09-27 | 2012-02-28 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and system for packaging a display |
| US7936497B2 (en) | 2004-09-27 | 2011-05-03 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | MEMS device having deformable membrane characterized by mechanical persistence |
| CN100439967C (zh) * | 2004-09-27 | 2008-12-03 | Idc公司 | 用于多状态干涉光调制的方法和设备 |
| US7583429B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-09-01 | Idc, Llc | Ornamental display device |
| US7369294B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-05-06 | Idc, Llc | Ornamental display device |
| US7345805B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-03-18 | Idc, Llc | Interferometric modulator array with integrated MEMS electrical switches |
| US7304784B2 (en) | 2004-09-27 | 2007-12-04 | Idc, Llc | Reflective display device having viewable display on both sides |
| US7289256B2 (en) | 2004-09-27 | 2007-10-30 | Idc, Llc | Electrical characterization of interferometric modulators |
| US7893919B2 (en) | 2004-09-27 | 2011-02-22 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Display region architectures |
| US7136213B2 (en) | 2004-09-27 | 2006-11-14 | Idc, Llc | Interferometric modulators having charge persistence |
| US8008736B2 (en) | 2004-09-27 | 2011-08-30 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Analog interferometric modulator device |
| US7527995B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-05-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method of making prestructure for MEMS systems |
| US7701631B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-04-20 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Device having patterned spacers for backplates and method of making the same |
| US7710629B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-05-04 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for display device with reinforcing substance |
| US7259449B2 (en) | 2004-09-27 | 2007-08-21 | Idc, Llc | Method and system for sealing a substrate |
| US7417735B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-08-26 | Idc, Llc | Systems and methods for measuring color and contrast in specular reflective devices |
| US7679627B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-03-16 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Controller and driver features for bi-stable display |
| US7668415B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-02-23 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for providing electronic circuitry on a backplate |
| US7317568B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-01-08 | Idc, Llc | System and method of implementation of interferometric modulators for display mirrors |
| US7359066B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-04-15 | Idc, Llc | Electro-optical measurement of hysteresis in interferometric modulators |
| US7369296B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-05-06 | Idc, Llc | Device and method for modifying actuation voltage thresholds of a deformable membrane in an interferometric modulator |
| US7420725B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-09-02 | Idc, Llc | Device having a conductive light absorbing mask and method for fabricating same |
| US8310441B2 (en) | 2004-09-27 | 2012-11-13 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and system for writing data to MEMS display elements |
| US7808703B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-10-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for implementation of interferometric modulator displays |
| US7492502B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-02-17 | Idc, Llc | Method of fabricating a free-standing microstructure |
| US20060176487A1 (en) | 2004-09-27 | 2006-08-10 | William Cummings | Process control monitors for interferometric modulators |
| US7299681B2 (en) | 2004-09-27 | 2007-11-27 | Idc, Llc | Method and system for detecting leak in electronic devices |
| US7653371B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-01-26 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Selectable capacitance circuit |
| US7813026B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-10-12 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method of reducing color shift in a display |
| US7920135B2 (en) | 2004-09-27 | 2011-04-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and system for driving a bi-stable display |
| US7405924B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-07-29 | Idc, Llc | System and method for protecting microelectromechanical systems array using structurally reinforced back-plate |
| US7586484B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-09-08 | Idc, Llc | Controller and driver features for bi-stable display |
| US7944599B2 (en) | 2004-09-27 | 2011-05-17 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Electromechanical device with optical function separated from mechanical and electrical function |
| US7368803B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-05-06 | Idc, Llc | System and method for protecting microelectromechanical systems array using back-plate with non-flat portion |
| US7684104B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-03-23 | Idc, Llc | MEMS using filler material and method |
| US7719500B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-05-18 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Reflective display pixels arranged in non-rectangular arrays |
| US8878825B2 (en) | 2004-09-27 | 2014-11-04 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for providing a variable refresh rate of an interferometric modulator display |
| US7916103B2 (en) * | 2004-09-27 | 2011-03-29 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for display device with end-of-life phenomena |
| US20060076634A1 (en) | 2004-09-27 | 2006-04-13 | Lauren Palmateer | Method and system for packaging MEMS devices with incorporated getter |
| US7554714B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-06-30 | Idc, Llc | Device and method for manipulation of thermal response in a modulator |
| US7355780B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-04-08 | Idc, Llc | System and method of illuminating interferometric modulators using backlighting |
| US7675669B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-03-09 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and system for driving interferometric modulators |
| US7460246B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-12-02 | Idc, Llc | Method and system for sensing light using interferometric elements |
| US7302157B2 (en) | 2004-09-27 | 2007-11-27 | Idc, Llc | System and method for multi-level brightness in interferometric modulation |
| US7453579B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-11-18 | Idc, Llc | Measurement of the dynamic characteristics of interferometric modulators |
| US7429334B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-09-30 | Idc, Llc | Methods of fabricating interferometric modulators by selectively removing a material |
| US7446927B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-11-04 | Idc, Llc | MEMS switch with set and latch electrodes |
| US7843410B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-11-30 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for electrically programmable display |
| US7130104B2 (en) | 2004-09-27 | 2006-10-31 | Idc, Llc | Methods and devices for inhibiting tilting of a mirror in an interferometric modulator |
| US7310179B2 (en) | 2004-09-27 | 2007-12-18 | Idc, Llc | Method and device for selective adjustment of hysteresis window |
| US7724993B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-05-25 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | MEMS switches with deforming membranes |
| TW200628877A (en) | 2005-02-04 | 2006-08-16 | Prime View Int Co Ltd | Method of manufacturing optical interference type color display |
| CA2607807A1 (en) | 2005-05-05 | 2006-11-16 | Qualcomm Incorporated | Dynamic driver ic and display panel configuration |
| US7920136B2 (en) | 2005-05-05 | 2011-04-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method of driving a MEMS display device |
| US7948457B2 (en) | 2005-05-05 | 2011-05-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Systems and methods of actuating MEMS display elements |
| JP2009503564A (ja) | 2005-07-22 | 2009-01-29 | クアルコム，インコーポレイテッド | Ｍｅｍｓデバイスのための支持構造、およびその方法 |
| US20070041077A1 (en) * | 2005-08-19 | 2007-02-22 | Stereo Display, Inc. | Pocket-sized two-dimensional image projection system |
| US7355779B2 (en) | 2005-09-02 | 2008-04-08 | Idc, Llc | Method and system for driving MEMS display elements |
| US7630114B2 (en) | 2005-10-28 | 2009-12-08 | Idc, Llc | Diffusion barrier layer for MEMS devices |
| US8391630B2 (en) | 2005-12-22 | 2013-03-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for power reduction when decompressing video streams for interferometric modulator displays |
| US7795061B2 (en) | 2005-12-29 | 2010-09-14 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method of creating MEMS device cavities by a non-etching process |
| US7636151B2 (en) | 2006-01-06 | 2009-12-22 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for providing residual stress test structures |
| US7916980B2 (en) | 2006-01-13 | 2011-03-29 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Interconnect structure for MEMS device |
| US7382515B2 (en) | 2006-01-18 | 2008-06-03 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Silicon-rich silicon nitrides as etch stops in MEMS manufacture |
| US8194056B2 (en) | 2006-02-09 | 2012-06-05 | Qualcomm Mems Technologies Inc. | Method and system for writing data to MEMS display elements |
| US7582952B2 (en) | 2006-02-21 | 2009-09-01 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method for providing and removing discharging interconnect for chip-on-glass output leads and structures thereof |
| US7547568B2 (en) | 2006-02-22 | 2009-06-16 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Electrical conditioning of MEMS device and insulating layer thereof |
| US7550810B2 (en) | 2006-02-23 | 2009-06-23 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | MEMS device having a layer movable at asymmetric rates |
| US7450295B2 (en) | 2006-03-02 | 2008-11-11 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Methods for producing MEMS with protective coatings using multi-component sacrificial layers |
| US7643203B2 (en) | 2006-04-10 | 2010-01-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Interferometric optical display system with broadband characteristics |
| US7903047B2 (en) | 2006-04-17 | 2011-03-08 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Mode indicator for interferometric modulator displays |
| US7417784B2 (en) | 2006-04-19 | 2008-08-26 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Microelectromechanical device and method utilizing a porous surface |
| US7711239B2 (en) | 2006-04-19 | 2010-05-04 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Microelectromechanical device and method utilizing nanoparticles |
| US7623287B2 (en) | 2006-04-19 | 2009-11-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Non-planar surface structures and process for microelectromechanical systems |
| US7527996B2 (en) | 2006-04-19 | 2009-05-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Non-planar surface structures and process for microelectromechanical systems |
| US8049713B2 (en) | 2006-04-24 | 2011-11-01 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Power consumption optimized display update |
| US7369292B2 (en) | 2006-05-03 | 2008-05-06 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Electrode and interconnect materials for MEMS devices |
| US7649671B2 (en) | 2006-06-01 | 2010-01-19 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Analog interferometric modulator device with electrostatic actuation and release |
| US7321457B2 (en) | 2006-06-01 | 2008-01-22 | Qualcomm Incorporated | Process and structure for fabrication of MEMS device having isolated edge posts |
| US7405863B2 (en) | 2006-06-01 | 2008-07-29 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Patterning of mechanical layer in MEMS to reduce stresses at supports |
| US7471442B2 (en) | 2006-06-15 | 2008-12-30 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and apparatus for low range bit depth enhancements for MEMS display architectures |
| US7702192B2 (en) | 2006-06-21 | 2010-04-20 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Systems and methods for driving MEMS display |
| US7385744B2 (en) | 2006-06-28 | 2008-06-10 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Support structure for free-standing MEMS device and methods for forming the same |
| US7835061B2 (en) | 2006-06-28 | 2010-11-16 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Support structures for free-standing electromechanical devices |
| US7777715B2 (en) * | 2006-06-29 | 2010-08-17 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Passive circuits for de-multiplexing display inputs |
| US7388704B2 (en) | 2006-06-30 | 2008-06-17 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Determination of interferometric modulator mirror curvature and airgap variation using digital photographs |
| US7527998B2 (en) | 2006-06-30 | 2009-05-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method of manufacturing MEMS devices providing air gap control |
| US7566664B2 (en) | 2006-08-02 | 2009-07-28 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Selective etching of MEMS using gaseous halides and reactive co-etchants |
| US7763546B2 (en) | 2006-08-02 | 2010-07-27 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Methods for reducing surface charges during the manufacture of microelectromechanical systems devices |
| WO2008033441A2 (en) * | 2006-09-12 | 2008-03-20 | Olympus Corporation | Divided mirror pixels for deformable mirror device |
| US7403180B1 (en) * | 2007-01-29 | 2008-07-22 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Hybrid color synthesis for multistate reflective modulator displays |
| US7719752B2 (en) | 2007-05-11 | 2010-05-18 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | MEMS structures, methods of fabricating MEMS components on separate substrates and assembly of same |
| US7847795B2 (en) * | 2007-05-25 | 2010-12-07 | Texas Instruments Incorporated | Method and system for controlling spatial light modulator interface buses |
| US8451298B2 (en) * | 2008-02-13 | 2013-05-28 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Multi-level stochastic dithering with noise mitigation via sequential template averaging |
| US8736590B2 (en) | 2009-03-27 | 2014-05-27 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Low voltage driver scheme for interferometric modulators |
| WO2010141766A1 (en) * | 2009-06-05 | 2010-12-09 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for improving the quality of halftone video using a fixed threshold |
| US8371702B2 (en) * | 2009-09-22 | 2013-02-12 | Christie Digital Systems Usa, Inc. | Method and system for digital light processing projection using pulsed lamps |
| KR20130100232A (ko) | 2010-04-09 | 2013-09-10 | 퀄컴 엠이엠에스 테크놀로지스, 인크. | 전기 기계 디바이스의 기계층 및 그 형성 방법 |
| US9134527B2 (en) | 2011-04-04 | 2015-09-15 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Pixel via and methods of forming the same |
| US8963159B2 (en) | 2011-04-04 | 2015-02-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Pixel via and methods of forming the same |
| CN102608875A (zh) * | 2012-03-27 | 2012-07-25 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 基于修补机台的玻璃基板补刻号方法及玻璃基板补刻号装置 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5061049A (en) | 1984-08-31 | 1991-10-29 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
| US4793699A (en) * | 1985-04-19 | 1988-12-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection apparatus provided with an electro-mechanical transducer element |
| JPS6234460A (ja) * | 1985-08-08 | 1987-02-14 | Canon Inc | 感光フイルムの露光装置 |
| JPS6235323A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Canon Inc | 光走査光学系 |
| US5028939A (en) | 1988-08-23 | 1991-07-02 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator system |
| DE69113150T2 (de) * | 1990-06-29 | 1996-04-04 | Texas Instruments Inc | Deformierbare Spiegelvorrichtung mit aktualisiertem Raster. |
| US5083857A (en) * | 1990-06-29 | 1992-01-28 | Texas Instruments Incorporated | Multi-level deformable mirror device |
| US5151718A (en) * | 1990-12-31 | 1992-09-29 | Texas Instruments Incorporated | System and method for solid state illumination for dmd devices |
| US5146356A (en) | 1991-02-04 | 1992-09-08 | North American Philips Corporation | Active matrix electro-optic display device with close-packed arrangement of diamond-like shaped |
| CA2063744C (en) * | 1991-04-01 | 2002-10-08 | Paul M. Urbanus | Digital micromirror device architecture and timing for use in a pulse-width modulated display system |
| US5240818A (en) * | 1991-07-31 | 1993-08-31 | Texas Instruments Incorporated | Method for manufacturing a color filter for deformable mirror device |
| US5168406A (en) * | 1991-07-31 | 1992-12-01 | Texas Instruments Incorporated | Color deformable mirror device and method for manufacture |
| US5233385A (en) * | 1991-12-18 | 1993-08-03 | Texas Instruments Incorporated | White light enhanced color field sequential projection |
| GB2265064B (en) * | 1992-02-26 | 1995-08-23 | Rank Cintel Ltd | Projection systems |
-
1994
- 1994-11-30 CA CA002137059A patent/CA2137059C/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-12-02 DE DE69429071T patent/DE69429071T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-12-02 EP EP94119065A patent/EP0665458B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-12-03 KR KR1019940032688A patent/KR950022934A/ko not_active Abandoned
- 1994-12-03 CN CN94118044A patent/CN1058123C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1994-12-05 JP JP33322394A patent/JP3526480B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-03-31 US US08/415,101 patent/US6232936B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-16 TW TW084106156A patent/TW283290B/zh active
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002236265A (ja) * | 2000-12-01 | 2002-08-23 | Lucent Technol Inc | マイクロエレクトロメカニカルシステム（ｍｅｍｓ）デバイスを動作するドライバおよび方法 |
| US7385750B2 (en) | 2003-08-29 | 2008-06-10 | Asml Holding N.V. | Spatial light modulator using an integrated circuit actuator |
| US7525718B2 (en) | 2003-08-29 | 2009-04-28 | Asml Holding N.V. | Spatial light modulator using an integrated circuit actuator and method of making and using same |
| JP2006295175A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Asml Netherlands Bv | コントラスト装置のブレーズ部を用いるリソグラフィ装置及び素子製造方法 |
| US8921509B2 (en) | 2005-06-13 | 2014-12-30 | Grupo Petrotemex, S.A. De C.V. | Process for removing metal species in the presence of hydrogen and a porous material and polyester polymer containing reduced amounts of metal species |
| US10429637B2 (en) | 2016-05-23 | 2019-10-01 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and electronic device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| CA2137059A1 (en) | 1995-06-04 |
| EP0665458A2 (en) | 1995-08-02 |
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