JPH08378Y2 - 分子線エピタキシャル装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本考案は、超高真空中での分子線
源の原料状態が観察でき、原料充填時の操作状況をビュ
ーイングポートから観察することを可能にした分子線エ
ピタキシャル装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、このような分野の技術としては、
例えば、以下に示すようなものがあった。図２はかかる
従来の分子線エピタキシャル装置の部分断面図である。
以下、その分子線エピタキシャル装置について図２を参
照しながら説明する。

【０００３】大気中で予備室１内の搬送機構２の先端
に、ソース物質３を入れた容器４を設置し、予備室１内
を真空にした後、ゲートバルブ５を開放する。次に、分
子線源６の真上にあるビューイングポート７で観察しな
がら、搬送機構２により容器４を分子線源６の真上に移
動させ、搬送機構２を回転させて、ソース物質３を分子
線源６に充填する。原料の充填が終了した後、搬送機構
２により容器４を予備室１に戻し、ゲートバルブ５を閉
じることにより、成長室８を大気に開放することなく、
分子線源６にソース物質３を補給することができる。ま
た、上部のビューイングポート７から、分子線源６の様
子を常に観察することができる。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の分子線エピタキシャル装置では、ソース物質３の受
け渡しの時に、上部のビューイングポート７でその操作
状況の観察を行なっているので、長時間観察している
と、ビューイングポート７が曇ってしまい、操作状況が
観察できなくなり、分子線源６のソース物質３の補給が
できなくなるという問題点があった。

【０００５】本考案は、以上述べたソース物質の受け渡
しの際に、上部にある操作状況の観察用のビューイング
ポートが曇ってしまい、分子線源のソース物質の補給が
できなくなるという問題点を除去するために、成長室の
中央にある基板パレットに反射板としてのシリコン基板
を装置し、このシリコン基板を鏡として利用し、受け渡
しする分子線源の位置と対角する位置に操作状況の観察
用のビューイングポートを設け、このビューイングポー
トには直接分子線ビームが当たらないので、ビューイン
グポートの曇りがおさえられ、分子線源のソース物質の
補給をスムーズに行なうことを可能にする分子線エピタ
キシャル装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本考案は、上記目的を達
成するために、分子線エピタキシャル装置において、成
長室の略中央に配置され、シリコン基板を装着した基板
パレットと、前記基板パレットを中心にして一方側に配
置される分子線源と、前記基板パレットを中心にして前
記分子線源とは反対側に配置されるビューイングポート
とを備え、前記基板パレットに装着されたシリコン基板
を反射板となし、前記ビューイングポートにより前記分
子線源を観察するようにしたものである。

【０００７】

【作用】本考案によれば、上記したように、分子線源の
原料充填時に、成長室の中央にある基板パレットに装着
されるシリコン基板を反射板とし、この反射板を鏡とし
て利用し、原料を充填をする分子線源の位置と反対側の
位置に観察用のビューイングポートを設けるようにした
ものである。

【０００８】また、原料充填の操作状況に限らず、分子
線源のソース物質の残量など、分子線源の状況を観察す
ることもできる。

【０００９】

【実施例】以下、本考案の実施例を図面を参照しながら
詳細に説明する。図１は本考案の実施例を示す分子線エ
ピタキシャル装置の断面図である。この装置を用いた、
分子線源の原料充填は以下に示す手順で行なわれる。こ
こで、反射板としてはシリコン（Ｓｉ）基板を用いた。

【００１０】まず、Ｓｉ基板を装着した基板パレット１
１を、成長室１０の中央にある基板パレット１１のホル
ダ１２に搬送しておき、大気中で予備室１３内の搬送機
構１４の先端にソース物質１５を入れた容器１６を設置
し、予備室１３内を真空にした後、ゲートバルブ１７を
開放する。次に、原料充填を行なう分子線源１８の位置
と対角する位置にあるビューイングポート１９から、初
めに搬送しておいたＳｉ基板を装着した基板パレット１
１を観察すると、Ｓｉ基板が鏡となって原料充填を行な
う分子線源１８の状態及び原料充填の操作状況が観察で
きる。

【００１１】また、同様に他の分子線源に対しても、そ
の分子線源の位置と対角する位置にあるビューイングポ
ートからＳｉ基板を装着した基板パレット１１を観察す
ることにより、Ｓｉ基板が鏡となって、分子線のソース
物質の残量など分子線源の状態が観察できる。また、反
射板として凸面の反射板を用いれば、１つのビューイン
グポートから多数の分子線源の状態を観察することも可
能になる。

【００１２】また、本考案は上記実施例に限定されるも
のではなく、本考案の趣旨に基づき種々の変形が可能で
あり、それらを本考案の範囲から排除するものではな
い。

【００１３】

【考案の効果】以上、詳細に説明したように、考案によ
れば、次のような効果を奏することができる。 （１）ビューイングポートには直接、分子線ビームが当
たらないので、ビューイングポートの曇りがおさえら
れ、原料充填の操作状況が常に観察でき、分子線源のソ
ース物質の補給をスムーズに行なうことができる。

【００１４】（２）また、処理毎に反射板としてのシリ
コン基板は交換されるので、常にきれいな反射板を用い
ることができる。原料充填の操作状況を確実にモニタす
ることができる。 （３）更に、原料充填時以外でも、各分子線源のソース
物質の残量など、分子線源の状況を観察することが可能
になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の実施例を示す分子線エピタキシャル装
置の断面図である。

【図２】従来の分子線エピタキシャル装置の部分断面図
である。

【符号の説明】

１０ 成長室 １１ 基板パレット １２ ホルダ １３ 予備室 １４ 搬送機構 １５ ソース物質 １６ 容器 １７ ゲートバルブ １８ 分子線源 １９ ビューイングポート

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】（ａ）成長室の略中央に配置され、シリコ
   ン基板を装着した基板パレットと、 （ｂ）前記基板パレットを中心にして一方側に配置され
   る分子線源と、 （ｃ）前記基板パレットを中心にして前記分子線源とは
   反対側に配置されるビューイングポートとを備え、 （ｄ）前記基板パレットに装着されたシリコン基板を反
   射板となし、前記ビューイングポートにより前記分子線
   源を観察 することを特徴とする分子線エピタキシャル装
   置。
2. 【請求項２】 前記反射板を凸面鏡とすることを特徴と
   する請求項１記載の分子線エピタキシャル装置。