JPH0840953A - トリフルオロメチルベンゼン誘導体および液晶組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】ネマチック液晶表示素子用あるいは強誘電性液
晶表示素子用の組成成分として有用で、かつ、化学的安
定性に優れたトリフルオロメチルベンゼン環を有する新
規な液晶性化合物並びにそれらの液晶性化合物の１種以
上を含有する液晶組成物を提供する。 【構成】一般式 （Ｒ^１はＣ１〜１４のアルキル基あるいはアルコキシア
ルキル基、Ｒ^２はＣ１〜１４のアルキル基を、Ａは を、Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３、Ｌ^４は独立に水素またはフッ素
原子を、Ｙは単結合、 を、Ｚは単結合または−Ｏ−を、Ｘは水素またはフッ素
原子を表す。ただしＸが水素原子の場合Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ
^３、Ｌ^４の中の１つ以上はフッ素原子を表し、Ａがシク
ロヘキサン環を含む構造の場合Ｚは単結合を表し、Ｒ^１
がアルコキシアルキル基の場合Ｙは単結合を表す）のト
リフルオロメチルベンゼン誘導体およびその誘導体の１
種以上を含有する液晶組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【技術分野】本発明は、新規な液晶性化合物ならびにそ
れらの液晶性化合物の少なくとも１種を含有することを
特徴とする液晶組成物に関する。さらに詳しく言えば、
本発明は、ネマチック液晶表示素子用あるいは強誘電性
液晶表示素子用の組成成分として有用で、かつ、化学的
安定性に優れたトリフルオロメチルベンゼン環を有する
新規な液晶性化合物並びにそれらの液晶性化合物の少な
くとも１種を含有することを特徴とする液晶組成物に関
する。

【０００２】

【背景技術】液晶表示素子は、受光型で目が疲れない、
消費電力が少ない、薄型である等の優れた特徴を有して
いるため、従来より、時計、電卓、ワープロ、ポケット
テレビ等に広く用いられており、最近では画面サイズの
大きなもの、あるいは画素数の非常に多いディスプレイ
に応用され、ＣＲＴに替わる表示装置として注目されて
いる。

【０００３】これらの液晶表示装置はネマチック液晶相
の電気光学効果を利用したものが殆どであり、その表示
方式としてはＴＮ型（ねじれネマチック型）、ＤＳＭ型
（動的散乱型）、ＧＨ型（ゲスト−ホスト型）等があ
る。

【０００４】表示素子に要求される特性としては、駆動
温度範囲、しきい値電圧（Ｖ_ｔｈ）、応答時間、視覚特
性およびコントラスト等があり、一品目の液晶化合物の
みでは要求されるそれらの諸特性を満たすことは困難で
あるため、多種の液晶物質を混合し、個々の物質の有す
る特性を生かした液晶組成物を調製することにより、要
求される性能を満たした組成物が得られている。従っ
て、実用に供される液晶組成物を調製するために、個々
に特徴のある種々の液晶化合物が必要であり、例えば、
広い動作温度範囲を得るには広い温度範囲でネマチック
相を有する材料、結晶−ネマチック相転移温度
（Ｔ_ＣＮ）の低い材料あるいはネマチック相−等方性液
体転移温度（Ｔ_ＮＩ）の高い材料等が必要であり、高速
応答には低粘度の材料が、また、低電圧駆動には低しき
い値電圧の材料を使用することが有効とされている。ま
た、視野角やコントラストには目的に応じて屈折率異方
性（△ｎ）の大きな材料や小さな材料が必要となる。ま
た、最近のＴＦＴを用いた駆動方式に使用する液晶には
非常に高い抵抗率の材料が要求されている。

【０００５】一方、ネマチック相ではなく、強誘電性液
晶［主にカイラルスメクチックＣ（カイラルＳｍＣ）
相］を用いた表示装置の研究も活発に行われている。強
誘電性液晶［Ｒ．Ｂ．Ｍｅｙｅｒら；３６Ｌ−６９（１
９７５）］を利用した表示方式［Ｎ．Ａ．Ｃｌａｒｋ
ら；Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓ．ｌｅｔｔ．， ３６，
８９９（１９８０）］は、従来のネマチック液晶方式に
比べて１００〜１，０００倍もの高速応答であること、
及びメモリー性があること等の優れた基本特性を有して
おり、これにより、液晶表示素子の用途拡大が期待され
ている。

【０００６】強誘電性液晶表示素子に用いる液晶組成物
の調製については、現在、種々のスメクチックＣ（Ｓｍ
Ｃ）化合物を混合して得られるＳｍＣ組成物（ＳｍＣホ
スト）に１〜数種の光学活性化合物（カイラルＳｍＣ相
を有している方が好ましいが、有していなくてもよい：
キラルドーパントと称される）を添加し、強誘電性液晶
組成物を作製する方法［Ｌ．Ａ．Ｖｅｒｅｓｅｖ ｅｔ
ａｌ．Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．８
９ ３２７（１９８２），Ｈ．Ｒ．Ｂｒａｎｄｅｔ ａ
ｌ．Ｊ．Ｐｈｙｓｉｑｕｅ４４（Ｌｅｔｔ．）Ｌ−７７
１（１９８３）］が主流となっている。

【０００７】強誘電性液晶における応答時間はτ＝η／
Ｅ・Ｐｓ（τは応答時間、ηは粘性、Ｅは電界、Ｐｓは
自発分極）で表され、Ｐｓを大、ηを低くすればτを短
くすることができる。しかし、実用的には応答時間の他
に、動作温度範囲、視野角、コントラスト等の種々の特
性を最適化する必要があり、そのため、ネマチック液晶
の場合と同様に多種の化合物を混合し、個々の化合物が
有している特長を生かすことで最適化を計ることが試み
られている。ＳｍＣホスト成分は強誘電性液晶組成物の
中の大きな割合を占めており、強誘電性液晶組成物の特
性に大きな影響を与えるため、優れたＳｍＣホストが必
要であり、そのＳｍＣホストの特性は、例えばＳｍＣ温
度範囲が広い、低粘性である、キラルドーパント添加時
にチルト角が２２．５゜、層構造がブックシェルフある
いはシェブロン型でありツイストでないこと等である。

【０００８】また、近年、実用的な強誘電性液晶ディス
プレイを実現する方法として、τ−Ｖ_ｍｉｎモード
［Ｐ．Ｗ．Ｈ．Ｓａｒｇｕｙ ｅｔ ａｌ．，Ｆｅｒｒ
ｏｅｌｅｃｔｒｉｃｓ，１２２，６３（１９９１）、
Ｐ．Ｗ．Ｒｏｓｓ ｅｔ ａｌ．，ＳＩＤ’９２Ｄｉｇ
ｅｓｔ，２１７（１９９２）、Ｍ．Ｋｏｄｅｎ ｅｔ
ａｌ．，Ｅｕｒｏ Ｄｉｓｐｌａｙ’９３］があり、こ
のモードにおいて、低電圧駆動、高速応答を実現するた
めのＳｍＣホスト材料として、誘電率異方性（△ε）が
大きな負の値を有し、低粘性である材料の開発が望まれ
ている。このようにネマチック液晶組成物並びに強誘電
性液晶組成物のいずれにおいても、それらを作製する際
に有効な成分となり得る種々の化合物の研究開発が望ま
れている。

【０００９】公知の液晶性化合物の誘電率異方性（△
ε）に着目すると、これまでに合成されている化合物で
△εが大きな正の材料は多数存在している。しかし、△
εが小さな負の材料は、例えば

【化７】 等の多数の化合物が実用に供されているものの、△εが
大きな負の材料は極めて少なく、また、それらの代表的
化合物である

【化８】 に見られるように、分子短軸方向にシアノ基を導入した
化合物が殆どであり、粘度が高い、融点が高い、化学的
に不安定、さらに組成物を調製する際に相溶性が悪い等
の欠点を有している。

【００１０】△εが大きな負の材料は、たとえばホメオ
トロピック配向をおこなうＥＣＢ型表示素子［Ｊ．Ｒｂ
ｅｒｔ，Ｆ．Ｃｌｅｒｃ ＳＩＤ ８０ Ｄｉｇｅｓｔ
Ｔｅｃｈｎ．Ｐａｐｅｒｓ ３０（１９８０），Ｊ．
Ｄｕｃｈｅｎｅ Ｄｉｓｐｌａｙｓ ７３（１９８
６），Ｈ．Ｓｃｈａｄ ＳＩＤ ８２ Ｄｉｇｅｓｔ
Ｔｅｃｈｎ．Ｐａｐｅｒｓ ２４４（１９８２）］用の
材料、また、ＴＮあるいはＳＴＮ型に用いる液晶組成物
の△εの大きさを調整する材料、あるいは、高周波重畳
法による強誘電性液晶表示素子［Ｊ．Ｍ．Ｇｅａｒｙ，
ＳＩＤ ８５ Ｄｉｇｅｓｔ Ｔｅｃｈｎ．Ｐａｐｅｒ
ｓ １２８（１９８５），Ｙ．Ｓａｔｏ，ｅｔ ａｌ．
ＳＩＤ ８６ Ｄｉｇｅｓｔ Ｔｅｃｈｎ．Ｐａｐｅｒ
ｓ ３４８（１９８６）］用の材料、さらに前記のτ−
Ｖ_ｍｉｎモード法におけるホスト材料等に用いられる。

【００１１】本発明者らはこのような観点から、液晶表
示素子用に供せられる液晶組成物調製の際に有効な液晶
性化合物を提供することを目的として、分子長軸側方に
電子吸引性の強いトリフルオロメチル基、さらに、フッ
素原子を構造中に導入することにより、分子長軸に対し
て垂直方向の誘電率が大きくなる（△εが大きな負にな
る）と予測される化合物をデザインし、これらを合成
し、各化合物単体およびそれらを含有する組成物を作製
して鋭意研究した結果、ネマチック液晶表示素子あるい
は強誘電性液晶表示素子に用いる液晶組成物成分とし
て、極めて有用な材料を見出した。本発明はかかる知見
に基づくものである。

【００１２】

【発明の開示】本発明は、一般式、

【化９】 （式中、Ｒ^１ま炭素原子数１〜１４のアルキル基あるい
はアルコキシアルキル基、Ｒ^２は炭素原子数１〜１４の
アルキル基を表し、Ａは

【化１０】 を表わし、Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３、Ｌ^４はそれぞれ独立に水
素原子あるいはフッ素原子を表し、Ｙは単結合、

【化１１】 を表し、Ｚは単結合あるいは−Ｏ−を表し、Ｘは水素原
子あるいはフッ素原子を表す。但し、Ｘが水素原子であ
る場合、Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３、Ｌ^４の中の少なくともいず
れか１つはフッ素原子を表し、Ａがシクロヘキサン環を
含む場合、Ｚは単結合を表し、Ｒ^１がアルコキシアルキ
ル基である場合、Ｙは単結合を表す）で表される新規な
トリフルオロメチルベンゼン誘導体を提供するものであ
り、また、それらの液晶化合物の少なくとも１種を含有
することを特徴とする液晶組成物を提供するものであ
る。

【００１３】以下に、本発明に係る液晶性化合物の合成
経路について説明し、さらに実施例等により、本発明を
詳細に説明する。以下に合成経路を式示し、説明する
が、それらは一例であり、また、実施例とともに、それ
らの例により、本発明は制約されるものではない。

【００１４】［合成経路図］ 式中の各記号は前述の定
義を有する。

【００１５】

【化１２】

【００１６】

【化１３】

【００１７】

【化１４】

【００１８】

【化１５】

【００１９】

【化１６】

【００２０】以下に式示した合成経路について説明す
る。 経路１ 一般式１−１〜１−６で表される化合物は市販されてい
る。一般式１−１０及び１−１１で表される化合物は、
それぞれ一般式１−４および１−５化合物をアルキルブ
ロマイド（Ｒ^２Ｂｒ）を用い、常法によりエーテル化す
ることにより得られる。

【００２１】一般式１−１化合物をｎ−ブチルリチウム
（Ｃ_４Ｈ_９Ｌｉ）でリチオ化後、Ｎ−ホルミルピペラジ
ンでホルミル化して得られる一般式１−７化合物にアル
キルマグネシウムブロマイド（ＲＭｇＢｒ）を作用さ
せ、次いで、脱水反応するか、あるいは、一般式１−２
化合物のグリニャール試薬を調製し、これにアルキルア
ルデヒド（ＲＣＨＯ）を作用させ、次いで、脱水反応す
ることにより一般式１−８化合物が得られる。これをパ
ラジユムカーボン（Ｐｄ／Ｃ）存在下に水添反応すれば
一般式１−１３化合物を得ることができる。

【００２２】１−アルキン（ＲＣ≡ＣＨ）をＣ_４Ｈ_９Ｌ
ｉでリチオ化後、塩化亜鉛（ＺｎＣｌ_４）を反応させて
得られる１−アルキン亜鉛クロライド（ＲＣ≡Ｃ−Ｚｎ
Ｃｌ）をテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
［Ｐｄ（ＰＰｈ_３）_４］存在下に一般式１−３化合物と
カップリング反応させることにより一般式１−９化合物
が得られる。これをＰｄ／Ｃ存在下に水添反応すれば一
般式１−１４化合物を得ることができる。

【００２３】このようにして得られる一般式１−６、１
−１０、１−１１、１−１３及び１−１４化合物を、そ
れぞれＣ_４Ｈ_９Ｌｉでリチオ化後、トリメチルボレート
［Ｂ（ＯＣＨ_３）_３］を作用させ、次いで加水分解する
ことにより一般式Ｉ−１で表されるボロン酸誘導体を得
ることができる。

【００２４】経路２ 経路１で得られる一般式Ｉ−１で表されるボロン酸誘導
体と、市販の一般式２−１あるいは２−２化合物とをＰ
ｄ（ＰＰｈ_３）_４存在下にカップリング反応させること
により、それぞれ一般式２−３あるいは２−４化合物が
得られる。これらの化合物から、経路１において一般式
１−６あるいは１−１０から一般式Ｉ−１で表される化
合物を得るのと同様の方法で一般式２−５化合物を得る
ことができる。この化合物と、あるいは、一般式Ｉ−１
化合物と市販の一般式２−６化合物とをそれぞれカップ
リング反応させることにより、一般式Ｐ−１あるいはＰ
−２で表される化合物が得られる。

【００２５】経路３ 経路２で得られる一般式２−１あるいは２−２化合物を
Ｃ_４Ｈ_９Ｌｉでリチオ化後、一般式３−１化合物とそれ
ぞれカップリング反応させることにより、シクロヘキセ
ン誘導体３−２あるいは３−３化合物が得られる。これ
らの化合物をそれぞれＰｄ／Ｃ存在下に水添反応して得
られる一般式３−４あるいは３−５化合物から、経路２
において一般式２−３あるいは２−４化合物から一般式
Ｐ−１で表される化合物を得るのと同様の方法で、一般
式Ｐ−３で表される化合物が得られる。また、一般式Ｐ
−４で表される化合物は、前述の一般式３−１から３−
５化合物を得ると同様に、一般式３−７と２−６化合物
とをカップリング反応し、次いで水添反応を行うことに
より合成することができる。

【００２６】経路４ 経路２および３で得られる一般式Ｐ−１〜Ｐ−４化合物
は一般式４−１で表すことができる。以下に一般式Ｐ−
１〜Ｐ−４化合物を一括して一般式４−１で表し、本発
明の一般式（１）化合物の合成方法を説明する。

【００２７】一般式４−１化合物をＣ_４Ｈ_９Ｌｉでリチ
オ化後、Ｂ（ＯＣＨ_３）_３を作用させて得られるホウ酸
エステル誘導体を過酸化水素水で処理することにより、
一般式４−２化合物が得られる。この化合物をＲ^１Ｂｒ
で常法によりエーテル化するか、あるいは、アシルクロ
ライド（Ｒ^１ＣＯＣｌ）でエステル化することにより一
般式（１）におけるＹが

【化１７】 で表される化合物を得ることができる。また、一般式４
−１化合物を前記同様に順次リチオ化、ホルミル化して
得られる一般式４−３化合物から、経路１において一般
式１−７から１−１３化合物を得ると同様の方法で一般
式（１）におけるＹが単結合で表される化合物を得るこ
とができる。

【００２８】一般式４−３化合物を三酸化クロム（Ｃｒ
Ｏ_３）等の酸化反応して得られるカルボン酸誘導体４−
５化合物をＲ^１ＯＨを用いてエステル化することによ
り、一般式（１）におけるＹが

【化１８】 で表される化合物を得ることができる。

【００２９】一般式４−３化合物を水素化ホウ素ナトリ
ウム（ＮａＢＨ_４）で還元して得られる一般式４−６化
合物を塩化チオニル（ＳＯＣｌ_２）でクロル化すること
により一般式４−７化合物が得られる。これをシアン化
カリウムでシアノ化して得られる一般式４−８化合物を
酸あるいはアルカリで加水分解して一般式４−９化合物
を合成し、この化合物をリチウムアルミニウムハイドラ
イド（ＬｉＡｌＨ_４）で還元すれば一般式４−１０化合
物が得られる。一般式４−６化合物から一般式４−１０
化合物を得る経路を任意に繰り返し行うことによりｎが
任意な整数の一般式４−１１化合物を得ることができ
る。これを相間移動触媒存在下にアルキルアイオダイド
（Ｒ^３Ｉ）でエーテル化すれば一般式（１）におけるＹ
が単結合でＲ^１がアルコキシアルキル基で表される化合
物を得ることができる。

【００３０】経路５ 市販の一般式５−１化合物とＲ^１Ｂｒとのエーテル化反
応により得られる一般式５−２化化合物を臭素（Ｂ
ｒ_２）を用いて臭素化して、一般式５−３化合物が得ら
れる。一般式５−２あるいは５−３化合物は、経路１に
おける一般式１−１３あるいは１−１４から一般式Ｉ−
１化合物を得る方法と同様にして、一般式５−４で表さ
れるボロン酸誘導体とすることができる。

【００３１】一般式５−５化合物を亜硝酸ナトリウム
（ＮａＮＯ_２）と反応させてジアゾニウム塩を調製し、
これにヨウ化カリウム（ＫＩ）を反応させて一般式５−
６化合物を得た後、経路１における一般式１−３から一
般式Ｉ−１化合物を得る方法と同様にして、一般式５−
９化合物を得ることができる。前述の方法で得られるボ
ロン酸誘導体５−４あるいは５−９化合物はＰｄ（ＰＰ
ｈ_３）_４存在下に、経路２で得られる一般式２−３化合
物とそれぞれカップリング反応することにより、Ｙが単
結合あるいは−Ｏ−で表される一般式（１）の化合物を
得ることができる。

【００３２】同様に、一般式５−３化合物と、経路２で
得られるボロン酸誘導体２−５とのカップリング反応に
より、Ｙが−Ｏ−で表される一般式（１）の化合物を得
ることができる。

【００３３】以下に、実施例等によりさらに詳しく本発
明を説明する。なお、本明細書中に記載されている略記
号は下記に示す意味を有する。 ＧＴＯ： ガラスチューブオーブン ＧＬＣ： ガスクロマトグラフィー ＨＰＬＣ： 高速液体クロマトグラフィー ＴＬＣ： 薄層クロマトグラフィー ＩＲ： 赤外吸収スペクトル Ｍａｓｓ： 質量分析 ｂ．ｐ．： 沸点 Ｃ： 結晶 Ｓ_Ｘ： 判別不明なスメクチック相 Ｓ_Ｂ： スメクチックＢ相 Ｓ_Ａ： スメクチックＡ相 Ｎｅ： ネマチック相 Ｉ ： 等方性液体 ？： 温度不明

【００３４】

【実施例】

実施例１

【化１９】 ２−トリフルオロメチルフェノール１５ｇ、ｎ−オクチ
ルブロマイド３５．７ｇ、炭酸カリウム２５．６ｇ及び
メチルエチルケトン２００ｃｃから成る混合物を１２時
間還流撹拌した。反応混合物から吸引濾過により不溶物
を除き、その濾液を濃縮し、エーテルにて抽出、水洗を
行い、硫酸ナトリウムにて乾燥後溶媒を留去し、残留分
を減圧下にて蒸留し、２−トリフルオロメチルオクチル
オキシベンゼン２２．２ｇ（８７．４％）を得た。ｂ．
ｐ．８７〜９２℃／０．３ｔｏｒｒ、ＧＬＣ ９６．４
％、ＧＣ−Ｍｓ ２７４（Ｍ^＋）

【００３５】

【化２０】 上記（ａ）で得た２−トリフルオロメチルオクチルオキ
シベンゼン２０ｇのクロロホルム５０ｃｃ溶液に臭素１
２．８ｇを滴下し、５時間室温撹拌した。反応混合物を
希水酸化ナトリウム水溶液に注加し、クロロホルムにて
抽出、水洗を行い、硫酸ナトリウムにて乾燥後溶媒を留
去し、残留分を減圧下にて蒸留し、４−ブロモ−２−ト
リフルオロメチルオクチルオキシベンゼン２３．０ ｇ
（８９．１％）を得た。ｂ．ｐ．１０４〜１０８℃／
０．１５ｔｏｒｒ、ＧＬＣ ９９．０％、ＧＣ−Ｍｓ
３５２（Ｍ^＋−１） ３５４（Ｍ^＋＋１）

【００３６】

【化２１】 アルゴン雰囲気下、上記（ｂ）で得た４−ブロモ−２−
トリフルオロメチルオクチルオキシベンゼン１８ｇのテ
トラヒドロフラン１００ｃｃ溶液を−７０℃まで冷却し
た後１．６Ｍ ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液３８
ｃｃを滴下し、同温度で１時間撹拌した。この反応混合
物にホウ酸トリメチル５．８ｇを加え、徐々に室温まで
戻し一昼夜撹拌した。反応混合物を希塩酸水溶液に注加
し、ベンゼンにて抽出、水洗を行い、硫酸ナトリウムに
て乾燥後溶媒を留去し、残留分をヘキサンにて再結晶
し、４−オクチルオキシ−３−トリフルオロメチルフェ
ニルボロン酸１３．５ｇ（８３．３％）を得た。ＨＬＣ
９８．７％、ＩＲ（ｄｉｓｋ）３３７０ｃｍ^−１（Ｏ
Ｈ）

【００３７】

【化２２】 アルゴン雰囲気下、Ｐｄ（ＰＰｈ_３）_４〔テトラキス
（トリフェニルホスフィン）パラジウム （０）〕１．
２７ｇ、４−ブロモ−２−フルオロヨードベンゼン６．
７ｇのベンゼン７０ｃｃ溶液、４−オクチルオキシフェ
ニルボロン酸７．３ｇのエタノール７０ｃｃ溶液及び２
Ｍ炭酸ナトリウム水溶液７０ｃｃから成る混合物を１０
時間還流撹拌した。反応混合物を水に注加し、ベンゼン
にて抽出、水洗を行い、硫酸ナトリウムにて乾燥後溶媒
を留去し、残留分をヘキサン−ベンゼン（１：１）を溶
出液としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精
製し、次いで減圧下、ＧＴＯにて蒸留し、４′−ブロモ
−２′−フルオロ−４−オクチルオキシビフェニル２．
５ｇ （２９．８％）を得た。ｂ．ｐ．１７０〜１７５
℃／０．１５ｔｏｒｒ）ＧＬＣ９７．０％、Ｍａｓｓ
３７８ （Ｍ^＋−１）３８０（Ｍ^＋＋１）

【００３８】

【化２３】 アルゴン雰囲気下、Ｐｄ（ＰＰｈ_３）_４０．２９ｇ）、
上記（ｄ）で得た４′−ブロモ−２′−フルオロー４−
オクチルオキシビフェニル１．５ｇのベンゼン１５ｃｃ
溶液、上記（ｃ）で得た４−オクチルオキシ−３−トリ
フルオロメチルフェニルボロン酸１．５ｇのエタノール
１５ｃｃ溶液及び２Ｍ炭酸カリウム水溶液４ｃｃから成
る混合物を１８時間還流撹拌した。反応混合物を水に注
加し、ベンゼンにて抽出、水洗を行い、硫酸ナトリウム
にて乾燥後溶媒を留去し、残留分をヘキサン−ベンゼン
（２０：１〜５：１）を溶出液としたシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにて精製し、次いでメタノールーア
セトン混合溶媒にて再結晶し、３−トリフルオロメチル
−３′−フルオロ−４，４″−ジオクチルオキシターフ
ェニル２．０ｇ（８８．５％）を得た。

【００３９】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
３％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で５７２に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【００４０】実施例２

【化２４】 氷冷下、２−フルオロ−４−ブロモビフェニル１０．５
ｇ、無水塩化アルミニウム９．６ｇ及び塩化メチレン１
５０ｃｃから成る混合物に塩化ｎ−オクタノイル１２ｇ
の塩化メチレン１０ｃｃ溶液を滴下、７時間撹拌した。
反応混合物を希塩酸水溶液に注加し、ベンゼンにて抽
出、水洗を行い、硫酸ナトリウムにて乾燥後溶媒を留去
し、残留分をアセトンにて再結晶し、２′−フルオロ−
４′−ブロモ−ヘプチルカルボニルビフェニル１６．３
ｇ（１００％）を得た。Ｍａｓｓ３７６（Ｍ^＋−１）３
７８（Ｍ^＋＋１）

【００４１】

【化２５】 氷冷下、上記（ａ）で得た２′−フルオロ−４′−ブロ
モ−ヘプチルカルボニルビフェニル１６．３ｇとトリフ
ルオロ酢酸９０ｃｃの混合物にトリエチルシラン１０ｇ
を加え、４時間室温で撹拌した。反応混合物を水に注加
し、ベンゼンにて抽出、水洗を行い、硫酸ナトリウムに
て乾燥後溶媒を留去し、残留分を減圧下、ＧＴＯにて蒸
留し、２′−フルオロ−４′−ブロモ−４−オクチルビ
フェニル１２．１ｇ（７７．１％）を得た。ｂ．ｐ．１
５０℃／０．２ｔｏｒｒ

【００４２】

【化２６】 実施例１−（ｃ）において、４−ブロモ−２−トリフル
オロメチルオクチルオキシベンゼン１８ｇに替えて上記
（ｂ）で得た２′−フルオロ−４′−ブロモ−４−オク
チルビフェニル１８．５ｇを用い、他は実施例１−
（ｃ）と同様に操作し２′−フルオロ−４−オクチルオ
キシビフェニル−４′−ボロン酸１４．５ｇ（８６．８
％）を得た。ＨＰＬＣ９９．２％、ＩＲ（ｄｉｓｋ）３
３５０ｃｍ^−１（ＯＨ）

【００４３】

【化２７】 実施例１−（ｅ）において、４′−ブロモ−２′−フル
オロ−４−オクチルオキシビフェニル１．５ｇ並びに３
−トリフルオロメチル−４−オクチルオキシフェニルボ
ロン酸１．５ｇに替えて、実施例１−（ｂ）で得られる
４−ブロモ−２−トリフルオロメチルオクチルオキシベ
ンゼン１．４ｇ並びに上記（ｃ）で得た２′−フルオロ
−４−オクチルオキシビフェニル−４′−ボロン酸１．
５３ｇを用い、他は実施例１−（ｅ）と同様に操作し
て、３−トリフルオロメチル−３′−フルオロ−４−オ
クチルオキシビフェニル−４′−オクチルターフェニル
１．２５ｇ（５６．６％）を得た。

【００４４】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
６％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で５５６に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【００４５】実施例３

【化２８】 実施例１−（ａ）において、２−トリフルオロメチルフ
ェノール１５ｇに替えて４−ブロモ−２−フルオロフェ
ノール１７．７ｇをｍ用い、他は実施例１−（ａ）と同
様に操作し４−ブロモ−２−フルオロオクチルオキシベ
ンゼン２３．６ｇ（９３．６％）を得た。ｂ．ｐ．１１
６〜１１７℃／０．１５ｔｏｒｒ、ＧＬＣ９７．５％

【００４６】

【化２９】 実施例１−（ｃ）において、４−ブロモ−２−トリフル
オロメチルオクチルオキシベンゼン１８ｇに替えて上記
（ａ）で得た４−ブロモ−２−フルオロオクチルオキシ
ベンゼン１５．５ｇを用い、他は実施例１−（ｃ）と同
様に操作し３−フルオロ−４−オクチルオキシフェニル
ボロン酸７．５ｇ（５４．７％）を得た。ＨＰＬＣ９
２．５％、ＩＲ（ｄｉｓｋ）３３５０ｃｍ^−１（ＯＨ）

【００４７】

【化３０】 実施例１−（ｄ）において、４−ブロモ−２−フルオロ
ヨードベンゼン６．７ｇ並びに４−オクチルオキシフェ
ニルボロン酸７．３ｇに替えて４−ブロモヨードベンゼ
ン６．３ｇ並びに上記（ｂ）で得た３−フルオロ−４−
オクチルオキシフェニルボロン酸７．８ｇを用い、他は
実施例１−（ｄ）と同様に操作し４′−ブロモ−３−フ
ルオロ−４−オクチルオキシビフェニル６．１ｇ（７
２．２％）を得た。ＧＬＣ９７．７％

【００４８】

【化３１】 実施例１−（ｅ）において、４′−ブロモ−２′−フル
オロ−４−オクチルオキシビフェニル１．５ｇに替え
て、上記（ｃ）で得た４′−ブロモ−３−フルオロ−４
−オクチルオキシビフェニル１．５ｇを用い、他は実施
例１−（ｅ）と同様に操作し３−トリフルオロメチル−
３″−フルオロ−４，４″−ジオクチルオキシターフェ
ニル２．１ｇ（９２．９％）を得た。

【００４９】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
７％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で５７２に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【００５０】実施例４

【化３２】 アルゴン雰囲気下、ヨウ素により活性化したマグネシウ
ム２ｇに４′−ブロモ−４−ペンチルビフェニル２５ｇ
のテトラヒドロフラン１００ｃｃ溶液の１／５量を加え
加熱した。反応開始後残りの溶液を滴下し、さらに２時
間還流撹拌してグリニヤール試薬を調製した。

【００５１】一方、アルゴン雰囲気下、ホウ酸トリメチ
ル９．８ｇのテトラヒドロフラン２０ｃｃ溶液を０℃に
冷却した後、先に調製したグリニヤール試薬を滴下して
徐々に室温まで戻し３時間撹拌した。この反応混合物に
氷冷した１０％硫酸水溶液を加えて加水分解を行い、ベ
ンゼンにて抽出、水洗を行い、硫酸ナトリウムにて乾燥
後溶媒を留去し、残留分をヘキサンにて再結晶し４−ヘ
プチルビフェニル−４′−ボロン酸１５．３ｇ（６８．
６％）を得た。ＨＰＬＣ９３．８％、ＩＲ（ｄｉｓｋ）
３３５０ｃｍ^−１（ＯＨ）

【００５２】

【化３３】 実施例１−（ｄ）において、４−ブロモ−２−フルオロ
ヨードベンゼン６．７ｇ並びに４−オクチルオキシフェ
ニルボロン酸７．３ｇに替えて３−ブロモ−２−フルオ
ロベンゾトリフルオリド５．４ｇ並びに上記（ａ）で得
た４−ヘプチルビフェニル−４′−ボロン酸８．６ｇを
用い、他は実施例１−（ｄ）と同様に操作し２−フルオ
ロ−３−トリフルオロメチル−４″−ヘプチルターフェ
ニル８．９ｇ（９６．７％）を得た。ＧＬＣ９８．５
％、Ｍａｓｓ４１４（Ｍ^＋）

【００５３】

【化３４】 アルゴン雰囲気下、上記（ｂ）で得た２−フルオロ−３
−トリフルオロメチル−４″−ヘプチルターフェニル３
ｇのテトラヒドロフラン３０ｃｃ溶液を−７０℃に冷却
した後１．６Ｍｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液５．
４ｃｃを滴下し、−１０℃で３０分間撹拌した。この反
応混合物を−４０℃に冷却しホウ酸トリメチル１．５ｃ
ｃを加え、０℃で３０分間撹拌した。さらに−１０℃ま
で冷却したこの反応混合物に３０％過酸化水素水５ｃｃ
を滴下し、０℃で１時間撹拌した後飽和亜硫酸水素ナト
リウム溶液で処理した。反応混合物を水に注加し、エー
テルにて抽出、水洗を行い、硫酸ナトリウムで乾燥後溶
媒を留去し、残留分をヘキサン−ベンゼン（４：１〜
１：１）を溶出液としたシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにて精製し、２−フルオロ−３−トリフルオロメ
チル−４−ヒドロキシ−４″−ヘプチルターフェニル
１．６ｇ（５１．３％）を得た。ＨＰＬＣ９９．１％、
Ｍａｓｓ４３０（Ｍ^＋）

【００５４】

【化３５】 氷冷下、上記（ｃ）で得た２−フルオロ−３−トリフル
オロメチル−４−ヒドロキシ−４″−ヘプチルターフェ
ニル１．４６ｇのジメチルホルムアミド２０ｃｃ溶液に
６０％水素化ナトリウム０．４３ｇ及びｎ−オクチルブ
ロマイド０．７９ｇを順次加え、一昼夜室温撹拌した。
反応混合物を希塩酸水溶液に注加し、エーテルにて抽
出、水洗を行い、硫酸ナトリウムにて乾燥後溶媒を留去
し、残留分をヘキサン−ベンゼン（４：１〜３：１）を
溶出液としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて
精製し、次いでメタノール−アセトン混合溶媒にて再結
晶し、２−フルオロ−３−トリフルオロメチル−４−オ
クチルオキシ−４″−ヘプチルターフェニル１．０６ｇ
（５７．６％）を得た。

【００５５】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
３％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で５４２に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【００５６】実施例５

【化３６】 実施例４−（ａ）において、４′−ブロモ−４−ヘプチ
ルビフェニル２５ｇに替えて４′−ブロモ−４−オクチ
ルオキシビフェニル２７．３ｇを用い、他は実施例４−
（ａ）と同様に操作し４−オクチルオキシビフェニル−
４′−ボロン酸１５．１ｇ（６０．９％）を得た。ＨＰ
ＬＣ９５．９％、ＩＲ（ｄｉｓｋ）３３７０ｃｍ
^−１（ＯＨ）

【００５７】

【化３７】 実施例１−（ｄ）において、４−ブロモ−２−フルオロ
ヨードベンゼン６．７ｇ並びに４−オクチルオキシフェ
ニルボロン酸７．３ｇに替えて３−ブロモ−２−フルオ
ロベンゾトリフルオリド５．４ｇ並びに（ａ）で得た４
−オクチルオキシビフェニル−４′−ボロン酸９．５ｇ
を用い、他は実施例１−（ｄ）と同様に操作し２−フル
オロ−３−トリフルオロメチル−４″−オクチルオキシ
ターフェニル９．１ｇ（９２．２％）を得た。ＧＬＣ９
９．０％、Ｍａｓｓ４４４（Ｍ^＋）

【００５８】

【化３８】 実施例４−（ｃ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４″−ヘプチルターフェニル３．０ｇに
替えて上記（ｂ）で得た２−フルオロ−３−トリフルオ
ロメチル−４″−オクチルオキシターフェニル３．１９
ｇを用い、他は実施例４−（ｃ）と同様に操作し２−フ
ルオロ−３−トリフルオロメチル−４−ヒドロキシ−
４″−オクチルオキシターフェニル２．２３ｇ（６７．
６％）を得た。ＨＰＬＣ９８．３％、Ｍａｓｓ４６０
（Ｍ^＋）、ＩＲ（ｄｉｓｋ）３６００ｃｍ^−１（ＯＨ）

【００５９】

【化３９】 実施例４−（ｄ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４−ヒドロキシ−４″−ヘプチルターフ
ェニル１．４６ｇに替えて上記（ｃ）で得た２−フルオ
ロ−３−トリフルオロメチル−４−ヒドロキシ−４″−
オクチルオキシターフェニル１．５６ｇを用い、他は実
施例４−（ｄ）同様に操作し２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４，４″−ジオクチルオキシターフェニ
ル１．２ｇ（６１．９％）を得た。

【００６０】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
６％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で５７２に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した．この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【００６１】実施例６

【化４０】 実施例１−（ｄ）において、４−オクチルオキシフェニ
ルボロン酸７．３ｇに替えて実施例３−（ｂ）で得られ
る３−フルオロ−４−オクチルオキシフェニルボロン酸
７．８ｇを用い、他は実施例１−（ｄ）と同様に操作し
４′−ブロモ−３，２′−ジフルオロ−４−オクチルオ
キシビフェニル１０．９ｇ（９４．８％）を得た。ＧＬ
Ｃ９７．６％、Ｍａｓｓ３９６（Ｍ^＋−１）３９８（Ｍ
^＋＋１）

【００６２】

【化４１】 実施例１−（ｅ）において、４′−ブロモ−２′−フル
オロメチル−４−オクチルオキシビフェニル１．５ｇに
替えて、上記（ａ）で得た４′−ブロモ−３，２′−ジ
フルオロ−４−オクチルオキシビフェニル１．５７ｇを
用い、他は実施例１−（ｅ）と同様に操作し３−トリフ
ルオロメチル−３′，３″−ジフルオロ−４，４″−ジ
オクチルオキシターフェニル２．１６ｇ（９２．７％）
を得た。

【００６３】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
４％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で５９０に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【００６４】実施例７

【化４２】 アルゴン雰囲気下、ｏ−ジフルオロベンゼン１０２ｇの
テトラヒドロフラン４００ｃｃ溶液を−７０℃まで冷却
した後１．６Ｍ ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液６
５０ｃｃを滴下し、同温度で１時間撹拌した。この反応
混合物にホウ酸トリメチル１００ｇを滴下し、徐々に室
温まで戻し一昼夜撹拌した。反応混合物を希塩酸水溶液
に注加し、ベンゼンにて抽出、水洗を行い、硫酸ナトリ
ウムにて乾燥後溶媒を留去し、残留分をヘキサンにて再
結晶し、２，３−ジフルオロフェニルボロン酸８１ｇ
（５７．３％）を得た。ＨＰＬＣ９６．９％）ＩＲ（ｄ
ｉｓｋ）３３３０ｃｍ^−１（ＯＨ）

【００６５】

【化４３】 アルゴン雰囲気下、Ｐｄ（ＰＰｈ_３）_４４．８ｇ、４−
ブロモオクチルオキシベンゼン２３．９ｇのベンゼン１
８０ｃｃ溶液、上記（ａ）で得た２，３−ジフルオロフ
ェニルボロン酸１４．６ｇのエタノール１８０ｃｃ溶液
及び２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液１８０ｃｃから成る混合
物を６時間還流撹拌した。反応混合物を水に注加し、ベ
ンゼンにて抽出、水洗を行い、硫酸ナトリウムにて乾燥
後溶媒を留去し、残留分をヘキサンを溶出液としたシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、次いで減
圧下、ＧＴＯにて蒸留し、２′，３′−ジフルオロ−４
−オクチルオキシビフェニル１８．０ｇ（６７．４％）
を得た。ＧＬＣ９６．３％、Ｍａｓｓ３１８（Ｍ^＋）

【００６６】

【化４４】 実施例１−（ｃ）において、４−ブロモ−２−トリフル
オロメチルオクチルオキシベンゼン１８ｇに替えて上記
（ｂ）で得た２′，３′−ジフルオロ−４−オクチルオ
キシビフェニル１６．２ｇを用い、他は実施例１−
（ｃ）と同様に操作し２′，３′−ジフルオロ−４−オ
クチルオキシビフェニル−４′−ボロン酸１４．７ｇ
（７９．９％）を得た。ＨＰＬＣ９８．９％、ＩＲ（ｄ
ｉｓｋ）３３５０ｃｍ^−１（ＯＨ）

【００６７】

【化４５】 実施例１−（ｅ）において、４′−ブロモ−２′−フル
オロ−４−オクチルオキシビフェニル１．５ｇ並びに３
−トリフルオロメチル−４−オクチルオキシフェニルボ
ロン酸１．５ｇに替えて、実施例１−（ｂ）で得られる
４−ブロモ−２−トリフルオロメチルオクチルオキシベ
ンゼン１．４ｇ並びに上記（ｃ）で得た２′，３′−ジ
フルオロ−４−オクチルオキシビフェニル−４′−ボロ
ン酸１．７１ｇを用い、他は実施例１−（ｅ）と同様に
操作し３−トリフルオロメチル−２′，３′−ジフルオ
ロ−４，４″−ジオクチルオキシターフェニル２．２ｇ
（９４．０％）を得た。

【００６８】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
１％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で５９０に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【００６９】実施例８

【化４６】 実施例７−（ｂ）において、４−ブロモオクチルオキシ
ベンゼン２３．９ｇに替えて４−ヨードオクチルベンゼ
ン２６．５ｇを用い、他は実施例７−（ｂ）と同様に操
作し２′，３′−ジフルオロ−４−オクチルビフェニル
２３．４ｇ（９２．５％）を得た。ＧＬＣ９６．３％、
Ｍａｓｓ３０２（Ｍ^＋）

【００７０】

【化４７】 実施例１−（ｃ）において、４−ブロモ−２−トリフル
オロメチルオクチルオキシベンゼン１８ｇに替えて上記
（ａ）で得た２′，３′−ジフルオロ−４−オクチルビ
フェニル１５．４ｇを用い、他は実施例１−（ｃ）と同
様に操作し２′，３′−ジフルオロ−４−オクチルビフ
ェニル−４′−ボロン酸１３．６ｇ（７７．３％）を得
た。ＨＰＬＣ９８．６％、ＩＲ（ｄｉｓｋ）３３５０ｃ
ｍ^−１（ＯＨ）

【００７１】

【化４８】 実施例１−（ｅ）において、４′−ブロモ−２′−フル
オロ−４−オクチルオキシビフェニル１．５ｇ並びに３
−トリフルオロメチル−４−オクチルオキシフェニルボ
ロン酸１．５ｇに替えて、実施例１−（ｂ）で得られる
４−ブロモ−２−トリフルオロメチルオクチルオキシベ
ンゼン１．４ｇ並びに上記（ｂ）で得た２′，３′−ジ
フルオロ−４−オクチルビフェニル−４′−ボロン酸
１．６３ｇを用い、他は実施例１−（ｅ）と同様に操作
し３−トリフルオロメチル−２′，３′−ジフルオロ−
４−オクチルオキシ−４″−オクチルターフェニル１．
７９ｇ（７８．５％）を得た。

【００７２】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
２％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で５７４に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した．この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【００７３】実施例９

【化４９】 実施例１−（ａ）において、２−トリフルオロメチルフ
ェノール１５ｇに替えて２，３−ジフルオロフェノール
１２．０ｇを用い、他は実施例１−（ａ）と同様に操作
し２，３−ジフルオロオクチルオキシベンゼン２１．２
ｇ（９５．１％）を得た。ｂ．ｐ．８３〜８４℃／０．
１５ｔｏｒｒ、ＧＬＣ９５．１％

【００７４】

【化５０】 実施例１−（ｃ）において、４−ブロモ−２−トリフル
オロメチルオクチルオキシベンゼン１８ｇに替えて上記
（ａ）で得た２，３−ジフルオロオクチルオキシベンゼ
ン１２．３ｇを用い、他は実施例１−（ｃ）と同様に操
作し２，３−ジフルオロ−４−オクチルオキシフェニル
ボロン酸１２．２ｇ（８４．１％）を得た。ＨＰＬＣ９
９．９％、ＩＲ（ｄｉｓｋ）３３２０ｃｍ^−１（ＯＨ）

【００７５】

【化５１】 実施例１−（ｄ）において、４−ブロモ−２−フルオロ
ヨードベンゼン６．７ｇ並びに４−オクチルオキシフェ
ニルボロン酸７．３ｇに替えて４−ブロモヨードベンゼ
ン６．３ｇ並びに上記（ｂ）で得た２，３−ジフルオロ
−４−オクチルオキシフェニルボロン酸８．３ｇを用
い、他は実施例１−（ｄ）と同様に操作し４′−ブロモ
−２，３−ジフルオロ−４−オクチルオキシビフェニル
７．４ｇ（８４．１％）を得た。ＧＴＯｂ．ｐ．１８５
〜１９０℃／１．０ｔｏｒｒ、ＧＬＣ９４．１％、Ｍａ
ｓｓ３９６（Ｍ^＋−１）３９８（Ｍ^＋＋１）

【００７６】

【化５２】 実施例１−（ｅ）において、４′−ブロモ−２′−フル
オロ−４−オクチルオキシビフェニル１．５ｇに替え
て、上記（ｃ）で得た４′−ブロモ−２，３−ジフルオ
ロ−４−オクチルオキシビフェニル１．５７ｇを用い、
他は実施例１−（ｅ）と同様に操作し３−トリフルオロ
メチル−２″，３″−ジフルオロ−４，４″−ジオクチ
ルオキシターフェニル２．１ｇ（９５．９％）を得た。

【００７７】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
７％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で５９０に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【００７８】実施例１０

【化５３】 実施例１−（ｄ）において、４−ブロモ−２−フルオロ
ヨードベンゼン６．７ｇ並びに４−オクチルオキシフェ
ニルボロン酸７．３ｇに替えて３−ブロモ−２−フルオ
ロベンゾトリフルオリド５．４ｇ並びに実施例７−
（ｃ）で得られる２′，３′−ジフルオロ−４−オクチ
ルオキシビフェニル−４′−ボロン酸１０．５ｇを用
い、他は実施例１−（ｄ）と同様に操作し２，２′，
３′−トリフルオロ−３−トリフルオロメチル−４″−
オクチルオキシターフェニル９．３ｇ（８６．９％）を
得た。ＧＬＣ９１．６％、Ｍａｓｓ４８０（Ｍ^＋）

【００７９】

【化５４】 実施例４−（ｃ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４″−ヘプチルターフェニル３．０ｇに
替えて上記（ａ）で得た２，２′，３′−トリフルオロ
−３−トリフルオロメチル−４″−オクチルオキシター
フェニル３．５ｇを用い、他は実施例４−（ｃ）と同様
に操作し２，２′，３′−トリフルオロ−３−トリフル
オロメチル−４−ヒドロキシ−４″−オクチルオキシタ
ーフェニル１．９ｇ（６１．３％）を得た。ＨＰＬＣ９
９．５％、Ｍａｓｓ４９６（Ｍ^＋）

【００８０】

【化５５】 実施例４−（ｄ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４−ヒドロキシ−４″−ヘプチルターフ
ェニル１．４６ｇに替えて上記（ｂ）で得た２，２′，
３′−トリフルオロ−３−トリフルオロメチル−４−ヒ
ドロキシ−４″−オクチルオキシターフェニル１．６８
ｇを用い、他は実施例４−（ｄ）と同様に操作し２，
２′，３′−トリフルオロ−３−トリフルオロメチル−
４，４″−ジオクチルオキシターフェニル０．６６ｇ
（３２．０％）を得た。

【００８１】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
５％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で６０８に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【００８２】実施例１１

【化５６】 実施例７−（ｂ）において、４−ブロモオクチルオキシ
ベンゼン２３．９ｇに替えて４−ブロモ−ブチルオキシ
ベンゼン１９．２ｇを用い、他は実施例７−（ｂ）と同
様に操作し２′，３′−ジフルオロ−４−ブチルオキシ
ビフェニル１６．１ｇ（７２．３％）を得た。ＧＬＣ９
８．５％、Ｍａｓｓ２６２（Ｍ^＋）

【００８３】

【化５７】 実施例１−（ｃ）において、４−ブロモ−２−トリフル
オロメチルオクチルオキシベンゼン１８ｇに替えて上記
（ａ）で得た２′，３′−ジフルオロ−４−ブチルオキ
シビフェニル１３．４ｇを用い、他は実施例１−（ｃ）
と同様に操作し２′，３′−ジフルオロ−４−ブチルオ
キシビフェニル−４′−ボロン酸１３．６ｇ（８６．６
％）を得た。ＨＰＬＣ９９．８％、ＩＲ（ｄｉｓｋ）３
３５０ｃｍ^−１（ＯＨ）

【００８４】

【化５８】 実施例１−（ｄ）において、４−ブロモ−２−フルオロ
ヨードベンゼン６．７ｇ並びに４−オクチルオキシフェ
ニルボロン酸７．３ｇに替えて３−ブロモ−２−フルオ
ロベンゾトリフルオリド５．４ｇ並びに上記（ｂ）で得
た２′，３′−ジフルオロ−４−ブチルオキシビフェニ
ル−４′−ボロン酸８．９ｇを用い、他は実施例１−
（ｄ）と同様に操作し２，２′，３′−トリフルオロ−
３−トリフルオロメチル−４″−ブチルオキシターフェ
ニル７．４ｇ（７８．７％）を得た。ＧＬＣ９８．１
％、Ｍａｓｓ４２４（Ｍ^＋）

【００８５】

【化５９】 実施例４−（ｃ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４″−ヘプチルターフェニル３．０ｇに
替えて上記（ｃ）で得た２，２′，３′−トリフルオロ
−３−トリフルオロメチル−４″−ブチルオキシターフ
ェニル３．０５ｇを用い、他は実施例４−（ｃ）と同様
に操作し２，２′，３′−トリフルオロ−３−トリフル
オロメチル−４−ヒドロキシ−４″−ブチルオキシター
フェニル１．５ｇ（４７．３％）を得た。ＩＲ（ｄｉｓ
ｋ）３４２０ｃｍ^−１（ＯＨ）、Ｍａｓｓ４４０
（Ｍ^＋）

【００８６】

【化６０】 実施例４−（ｄ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４−ヒドロキシ−４″−ヘプチルターフ
ェニル１．４６ｇ並びにオクチルブロマイド０．７９ｇ
に替えて上記（ｄ）で得た２，２′，３′−トリフルオ
ロ−３−トリフルオロメチル−４−ヒドロキシ−４″−
ブチルオキシターフェニル１．４９ｇ並びにプロピルブ
ロマイド０．５３ｇを用い、他は実施例４−（ｄ）と同
様に操作し２，２′，３′−トリフルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４″−ブチルオキシ−４−プロピルオキ
シターフェニル１．２２ｇ（７４．８％）を得た。

【００８７】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
８％であり、ＴＬＣで１スポットあった。またＩＲ測定
の結果及びＭａｓｓ分析で４８２に分子イオンピークが
認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた物
質が標記化合物であることを確認した。この化合物をメ
トラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡下
にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【００８８】実施例１２

【化６１】 実施例１−（ｄ）において、４−ブロモ−２−フルオロ
ヨードベンゼン６．７ｇ並びに４−オクチルオキシフェ
ニルボロン酸７．３ｇに替えて３−ブロモ−２−フルオ
ロベンゾトリフルオリド５．４ｇ並びに実施例８−
（ｂ）で得られる２′，３′−ジフルオロ−４−オクチ
ルビフェニル−４′−ボロン酸１０．１ｇを用い、他は
実施例１−（ｄ）と同様に操作し２，２′，３′−トリ
フルオロ−３−トリフルオロメチル−４″−オクチルタ
ーフェニル９．１ｇ（８８．３％）を得た。ＧＬＣ９
０．６％、Ｍａｓｓ４６４（Ｍ^＋）

【００８９】

【化６２】 実施例４−（ｃ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４″−ヘプチルターフェニル３．０ｇに
替えて上記（ａ）で得た２，２′，３′−トリフルオロ
−３−トリフルオロメチル−４″−オクチルターフェニ
ル３．３ｇを用い、他は実施例４−（ｃ）と同様に操作
し２，２′，３′−トリフルオロ−３−トリフルオロメ
チル−４−ヒドロキシ−４″−オクチルターフェニル
２．１９ｇ（６４．２％）を得た。ＨＰＬＣ９９．４
％、Ｍａｓｓ４８０（Ｍ^＋）

【００９０】

【化６３】 実施例４−（ｄ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４−ヒドロキシ−４″−ヘプチルターフ
ェニル１．４６ｇに替えて上記（ｂ）で得た２，２′，
３′−トリフルオロ−３−トリフルオロメチル−４−ヒ
ドロキシ−４″−オクチルターフェニル１．６３ｇを用
い、他は実施例４−（ｄ）と同様に操作し２，２′，
３′−トリフルオロ−３−トリフルオロメチル−４″−
オクチル−４−オクチルオキシターフェニル０．９２ｇ
（４５．８％）を得た。

【００９１】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
０％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で５９２に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【００９２】実施例１３

【化６４】 実施例７−（ｂ）において、４−ブロモオクチルオキシ
ベンゼン２３．９ｇに替えて４−ヨードプロピルベンゼ
ン２０．６ｇを用い、他は実施例７−（ｂ）と同様に操
作し２′，３′−ジフルオロ−４−プロピルビフェニル
１８．０ｇ（９２．８％）を得た。ＧＬＣ９５．４％、
Ｍａｓｓ２３２（Ｍ^＋）

【００９３】

【化６５】 実施例１−（ｃ）において、４−ブロモ−２−トリフル
オロメチルオクチルオキシベンゼン１８ｇに替えて上記
（ａ）で得た２′，３′−ジフルオロ−４−プロピルビ
フェニル１１．８ｇを用い、他は実施例１−（ｃ）と同
様に操作し２′，３′−ジフルオロ−４−プロピルビフ
ェニル−４′−ボロン酸１２．７ｇ（９０．７％）を得
た。ＨＰＬＣ９６．３％、ＩＲ（ｄｉｓｋ）３３３０ｃ
ｍ^−１（ＯＨ）

【００９４】

【化６６】 実施例１−（ｄ）において、４−ブロモ−２−フルオロ
ヨードベンゼン６．７ｇ並びに４−オクチルオキシフェ
ニルボロン酸７．３ｇに替えて３−ブロモ−２−フルオ
ロベンゾトリフルオリド５．４ｇ並びに上記（ｂ）で得
た２′，３′−ジフルオロ−４−プロピルビフェニル−
４′−ボロン酸８．０ｇを用い、他は実施例１−（ｄ）
と同様に操作し２，２′，３′−トリフルオロ−３−ト
リフルオロメチル−４″−プロピルターフェニル７．１
ｇ（８１．１％）を得た。ＧＬＣ９２．７％、Ｍａｓｓ
３９４（Ｍ^＋）

【００９５】

【化６７】 実施例４−（ｃ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４″−ヘプチルターフェニル３．０ｇに
替えて上記（ｃ）で得た２，２′，３′−トリフルオロ
−３−トリフルオロメチル−４″−プロピルターフェニ
ル２．８４ｇを用い、他は実施例４−（ｃ）と同様に操
作し２，２′，３′−トリフルオロ−３−トリフルオロ
メチル−４−ヒドロキシ−４″−プロピルターフェニル
１．４ｇ（４７．３％）を得た。ＩＲ（ｄｉｓｋ）３５
８０ｃｍ^−１（ＯＨ）、Ｍａｓｓ４１０（Ｍ^＋）

【００９６】

【化６８】 実施例４−（ｄ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４−ヒドロキシ−４″−ヘプチルターフ
ェニル１．４６ｇ並びにオクチルブロマイド０．７９ｇ
に替えて上記（ｄ）で得た２，２２，３′−トリフルオ
ロ−３−トリフルオロメチル−４−ヒドロキシ−４″−
プロピルターフェニル１．３９ｇ並びにプロピルブロマ
イド０．５３ｇを用い、他は実施例４−（ｄ）と同様に
操作し２，２′，３′−トリフルオロ−３−トリフルオ
ロメチル−４″−プロピル−４−プロピルオキシターフ
ェニル０．８９ｇ（５８．２％）を得た。

【００９７】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
３％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で４５２に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【００９８】実施例１４

【化６９】 実施例１−（ｅ）において、４′−ブロモ−２′−フル
オロ−４−オクチルオキシビフェニル１．５ｇに替え
て、実施例３−（ａ）で得られる４−ブロモ−２−フル
オロオクチルオキシベンゼン１．２ｇを用い、他は実施
例１−（ｅ）と同様に操作し３−トリフルオロメチル−
３′−フルオロ−４，４′−ジオクチルオキシビフェニ
ル１．７ｇ（８６．７％）を得た。

【００９９】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
７％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で４９６に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【０１００】実施例１５

【化７０】 実施例１−（ｄ）において、４−ブロモ−２−フルオロ
ヨードベンゼン６．７ｇに替えて３−ブロモ−２−フル
オロベンゾトリフルオリド５．４ｇを用い、他は実施例
１−（ｄ）と同様に操作し３−トリフルオロメチル−２
−フルオロ−４′−オクチルオキシビフェニル８．０ｇ
（９７．８％）を得た。ＧＬＣ９６．８％、Ｍａｓｓ
３６８（Ｍ^＋）

【０１０１】

【化７１】 実施例４−（ｃ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４″−ヘプチルターフェニル３．０ｇに
替えて上記（ａ）で得た３−トリフルオロメチル−２−
フルオロ−４′−オクチルオキシビフェニル２．６５ｇ
を用い、他は実施例４−（ｃ）と同様に操作し３−トリ
フルオロメチル−２−フルオロ−４−ヒドロキシ−４′
−オクチルオキシビフェニル１．９７ｇ（７１．７％）
を得た。ＨＰＬＣ９６．２％、ＩＲ（ｄｉｓｋ）３３２
０ｃｍ^−１（ＯＨ）、Ｍａｓｓ３８４（Ｍ^＋）

【０１０２】

【化７２】 実施例４−（ｄ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４−ヒドロキシ−４″−ヘプチルターフ
ェニル１．４６ｇに替えて上記（ｂ）で得た３−トリフ
ルオロメチル−２−フルオロ−４−ヒドロキシ−４′−
オクチルオキシビフェニル１．３ｇを用い、他は実施例
４−（ｄ）と同様に操作し３−トリフルオロメチル−２
−フルオロ−４，４′−ジオクチルオキシビフェニル
０．９４ｇ（５６．０％）を得た。

【０１０３】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
３％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で４９６に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【０１０４】実施例１６

【化７３】 実施例１−（ｅ）において、４′−ブロモ−２′−フル
オロ−４−オクチルオキシビフェニル１．５ｇ並びに３
−トリフルオロメチル−４−オクチルオキシフェニルボ
ロン酸１．５ｇに替えて、実施例１−（ｂ）で得られる
４−ブロモ−２−トリフルオロメチルオクチルオキシベ
ンゼン１．４ｇ並びに実施例９−（ｂ）で得られる２，
３−ジフルオロ−４−オクチルオキシフェニルボロン酸
１．３５ｇを用い、他は実施例１−（ｅ）と同様に操作
し３−トリフルオロメチル−２′，３′−ジフルオロ−
４，４′−ジオクチルオキシビフェニル１．８６ｇ（９
１．２％）を得た。

【０１０５】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
６％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で５１４に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【０１０６】実施例１７

【化７４】 実施例１−（ｄ）において、４−ブロモ−２−フルオロ
ヨードベンゼン６．７ｇ並びに４−オクチルオキシフェ
ニルボロン酸７．３ｇに替えて３−ブロモ−２−フルオ
ロベンゾトリフルオリドＦ５．４ｇ並びに実施例９−
（ｂ）で得られる２，３−ジフルオロ−４−オクチルオ
キシフェニル−ボロン酸８．３ｇを用い、他は実施例１
−（ｄ）と同様に操作し２，２′，３′−トリフルオロ
−３−トリフルオロメチル−４′−オクチルオキシビフ
ェニル８．６ｇ（９５．７％）を得た。ＧＬＣ９１．３
％、Ｍａｓｓ ４０４（Ｍ^＋）

【０１０７】

【化７５】 実施例４−（ｃ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４″−ヘプチルターフェニル３．０ｇに
替えて上記（ａ）で得た２，２′，３′−トリフルオロ
−３−トリフルオロメチル−４′−オクチルオキシビフ
ェニル２．９ｇを用い、他は実施例４−（ｃ）と同様に
操作し２，２′，３′−トリフルオロ−３−トリフルオ
ロメチル−４−ヒドロキシ−４′−オクチルオキシビフ
ェニル１．７４ｇ（５７．８％）を得た。ＨＰＬＣ ９
８．９％、ＩＲ（ｎｅａｔ）３６２０ｃｍ^−１、Ｍａｓ
ｓ ４２０（Ｍ^＋）

【０１０８】

【化７６】 実施例４−（ｄ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４−ヒドロキシ−４″−ヘプチルターフ
ェニル１．４６ｇに替えて上記（ｂ）で得た２，２′，
３′−トリフルオロ−３−トリフルオロメチル−４−ヒ
ドロキシ−４′−オクチルオキシビフェニル１．４２ｇ
を用い、他は実施例４−（ｄ）と同様に操作し２，
２′，３′−トリフルオロ−３−トリフルオロメチル−
４，４′−ジオクチルオキシビフェニル１．１９ｇ（６
６．１％）を得た。

【０１０９】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
５％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で５３２に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【０１１０】実施例１８

【化７７】 氷冷下、実施例１５−（ｂ）で得られる３−トリフルオ
ロメチル−２−フルオロ−４−ヒドロキシ−４′−オク
チルオキシビフェニル１．５ｇ、ｎ−オクタン酸０．６
１ｇ、４−ジメチルアミノピリジン５０ｍｇ及び塩化メ
チレン３０ｃｃから成る混合物にＮ，Ｎ′−ジシクロヘ
キシルカルボジイミド０．９３ｇを加え、一昼夜室温撹
拌した。反応混合物から吸引濾過により析出物を除き、
その濾液を濃縮した後ヘキサン−ベンゼン（２：１〜
１：１）を溶出液としたシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにて精製し、次いでアセトン−メタノール混合溶
媒で再結晶し３−トリフルオロメチル−２−フルオロ−
４−ヘプチルカルボニルオキシ−４′−オクチルオキシ
ビフェニル１．３ｇ（６５．３％）を得た。

【０１１１】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
４％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で５１０に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【０１１２】実施例１９

【化７８】 実施例４−（ａ）において、４′−ブロモ−４−ヘプチ
ルビフェニル２５ｇに替えて４−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）ブロモベンゼン２３ｇを用い、他
は実施例４−（ａ）と同様に操作し４−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル）フェニルボロン酸１０．４
ｇ（５１．０％）を得た。ＨＰＬＣ９９．７％

【０１１３】

【化７９】 実施例１−（ｄ）において、４−ブロモ−２−フルオロ
ヨードベンゼン６．７ｇ並びに４−オクチルオキシフェ
ニルボロン酸７．３ｇに替えて３−ブロモ−２−フルオ
ロベンゾトリフルオリド５．４ｇ並びに上記（ａ）で得
た４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェ
ニルボロン酸８．０ｇを用い、他は実施例１−（ｄ）と
同様に操作し４′−（トランス−４−ペンチルシクロヘ
キシル）−３−トリフルオロメチル−２−フルオロビフ
ェニル８．３ｇ（９５．３％）を得た。ＧＬＣ ９９．
７％、Ｍａｓｓ ３９２（Ｍ^＋）

【０１１４】

【化８０】 実施例４−（ｃ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４″−ヘプチルターフェニル３．０ｇに
替えて上記（ｂ）で得た４′−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３−トリフルオロメチル−２−フ
ルオロビフェニル２．８ｇを用い、他は実施例４−
（ｃ）と同様に操作し４′−（トランス−４−ペンチル
シクロヘキシル）−３−トリフルオロメチル−２−フル
オロ−４−ヒドロキシビフェニル２．３ｇ（７９．３
％）を得た。ＧＬＣ ９８．８％、ＩＲ（ｄｉｓｋ）３
６００ｃｍ^−１（ＯＨ）

【０１１５】

【化８１】 実施例４−（ｄ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４−ヒドロキシ−４″−ヘプチルターフ
ェニル１．４６ｇ並びにオクチルブロマイド０．７９ｇ
に替えて上記（ｃ）で得た４′−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）−３−トリフルオロメチル−２−
フルオロ−４−ヒドロキシビフェニル１．３８ｇ並びに
プロピルブロマイド０．５３ｇを用い、他は実施例４−
（ｄ）と同様に操作し４′−（トランス−４−ペンチル
シクロヘキシル）−３−トリフルオロメチル−２−フル
オロ−４−プロピルオキシビフェニル１．０１ｇ（６
６．４％）を得た。

【０１１６】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
８％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で４５０に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【０１１７】実施例２０

【化８２】 アルゴン雰囲気下、実施例１９−（ｂ）で得られる４′
−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−ト
リフルオロメチル−２−フルオロビフェニル３．０ｇの
テトラヒドロフラン２０ｃｃ溶液を−７０℃まで冷却し
た後１．６Ｍｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液６ｃｃ
を滴下し、同温度で２時間撹拌した。この反応混合物に
Ｎ−ホルミルピペリジン１．２ｃｃを加え、徐々に室温
まで戻し一昼夜撹拌した。反応混合物を希塩酸水溶液に
注加し、ベンゼンにて抽出、水洗を行い、硫酸ナトリウ
ムにて乾燥後溶媒を留去し、残留分をヘキサン−ベンゼ
ン（３：１〜２：１）を溶出液としたシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにて精製し４′−（トランス−４−
ペンチルシクロヘキシル）−３−トリフルオロメチル−
２−フルオロ−４−ホルミルビフェニル１．０ｇ（３
１．１％）を得た。ＧＬＣ ９８．８％、ＩＲ（ｄｉｓ
ｋ）１７００ｃｍ^−１（Ｃ＝Ｏ）

【０１１８】

【化８３】 アルゴン雰囲気下、エチルトリフェニルホスホニウムブ
ロマイド１．１５ｇにテトラヒドロフラン１５ｃｃを加
え、−５℃に冷却した後カリウム−ｔ−ブトキサイド
０．４５ｇで処理し、さらに室温にて１時間撹拌した。
この反応混合物を−５℃に冷却した後上記（ａ）で得た
４′−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３
−トリフルオロメチル−２−フルオロ−４−ホルミルビ
フェニル１．０ｇのテトラヒドロフラン１０ｃｃ溶液を
滴下し、室温にて一昼夜撹拌した。反応混合物を水に注
加し、酢酸エチルにて抽出、水洗を行い、硫酸ナトリウ
ムにて乾燥後溶媒を留去し、残留分をヘキサンを溶出液
としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し
４′−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３
−トリフルオロメチル−２−フルオロ−４−（１−プロ
ペニル）ビフェニル０．６４ｇを得た。次いでこの化合
物を酢酸エチル２０ｃｃに溶かした後、１０％パラジウ
ムカーボン０．０６ｇを加え、室温にて１時間水素添加
した。反応混合物を濾過して、パラジウムカーボンを除
き、その濾液を濃縮した後、残留分をアセトン−メタノ
ール混合溶媒にて再結晶し、４′−（トランス−４−ペ
ンチルシクロヘキシル）−３−トリフルオロメチル−２
−フルオロ−４−プロピルビフェニル０．４１ｇ（３
９．８％）を得た。

【０１１９】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
２％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で４３４に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【０１２０】実施例２１

【化８４】 氷冷下、実施例２０−（ａ）で得られる４′−（トラン
ス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−トリフルオロ
メチル−２−フルオロ−４−ホルミルビフェニル０．９
５ｇ、テトラヒドロフラン１０ｃｃ及びエタノール１０
ｃｃから成る溶液に水素化ホウ素ナトリウム０．２ｇを
加え、７時間還流撹拌した。反応混合物を希塩酸水溶液
に注加し、ベンゼンにて抽出、水洗を行い、硫酸ナトリ
ウムにて乾燥後溶媒を留去し、粗４′−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル）−３−トリフルオロメチル
−２−フルオロ−４−ヒドロキシメチルビフェニル０．
９５ｇを得た。ＧＬＣ ９８．５％、ＩＲ（ｄｉｓｋ）
３３２０ｃｍ^−１（ＯＨ）

【０１２１】

【化８５】 上記（ａ）で得た粗４′−（トランス−４−ペンチルシ
クロヘキシル）−３−トリフルオロメチル−２−フルオ
ロ−４−ヒドロキシメチルビフェニル０．９５ｇのテト
ラヒドロフラン１５ｃｃ溶液にヨウ化メチル１．０ｇ、
水酸化カリウム０．３９ｇ及び１８−クラウン−６ ９
５ｍｇを順次加え、２日間室温撹拌した。反応混合物を
水に注加し、ベンゼンにて抽出、水洗を行い、硫酸ナト
リウムにて乾燥後溶媒を留去し、残留分をヘキサン−ベ
ンゼン（１０：１〜１：１）を溶出液としたシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにて精製し、次いでアセトン
−メタノール混合溶媒で再結晶し４′−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル）−３−トリフルオロメチル
−２−フルオロ−４−メトキシメチルビフェニル０．７
１ｇ（７２．４％）を得た。

【０１２２】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
９％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で４３６に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【０１２３】実施例２２

【化８６】 アルゴン雰囲気下、３−ブロモ−２−フルオロベンゾト
リフルオリド１０ｇのテトラヒドロフラン４０ｃｃ溶液
を−７０℃まで冷却した後１．６Ｍ ｎ−ブチルリチウ
ムのヘキサン溶液３１ｃｃを滴下し、同温度で１時間撹
拌した。この反応混合物にペンチルシクロヘキシルシク
ロヘキサノン１０．３ｇのテトラヒドロフラン５０ｃｃ
溶液を滴下し、撹拌しながら徐々に室温まで戻した。反
応混合物を希塩酸水溶液に注加し、トルエンにて抽出、
水洗を行い、硫酸ナトリウムにて乾燥後溶媒を留去し、
残留分にトルエン３５０ｃｃとｐ−トルエンスルホン酸
１．０ｇを加え、検水管を用いて３時間還流撹拌した。
反応混合物を水に注加し、トルエンにて抽出、水洗を行
い、硫酸ナトリウムにて乾燥後溶媒を留去し、残留分を
ヘキサンを溶出液としたシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにて精製し、次いで減圧下、ＧＴＯにて蒸留し３
−トリフルオロメチル−２−フルオロ−〔４−（トラン
ス−４−ペンチルシクロヘキシル）−シクロヘキセン−
１−イル〕ベンゼン９．０ｇ（５５．２％）を得た。
ｂ．ｐ．１６５℃／０．１５ｔｏｒｒ

【０１２４】

【化８７】 上記（ａ）で得た３−トリフルオロメチル−２−フルオ
ロ−〔４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
−シクロヘキセン−１−イル〕ベンゼン９．０ｇ、１０
％パラジウムカーボン１．０ｇ及び酢酸エチル１００ｃ
ｃから成る混合物を５ａｔｍにて一昼夜水素添加した。
反応混合物を濾過して、パラジウムカーボンを除き、そ
の濾液を濃縮した後残留分をアルゴン雰囲気下、ジメチ
ルスルホキシド５０ｃｃに溶かし、この溶液にカリウム
−ｔ−ブトキシド２．７ｇを加え、３０〜３５℃にて５
時間撹拌した。反応混合物を希塩酸水溶液に注加し、ベ
ンゼンにて抽出、水洗を行い、硫酸ナトリウムにて乾燥
後溶媒を留去し、残留分をヘキサンを溶出液としたシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、次いでア
セトンにて再結晶し３−トリフルオロメチル−２−フル
オロ−〔トランス−４−（トランス−４−ペンチルシク
ロヘキシル）−シクロヘキシル〕ベンゼン５．４ｇ（５
９．７％）を得た。ＧＬＣ ９８．７％

【０１２５】

【化８８】 実施例４−（ｃ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４″−ヘプチルターフェニル３．０ｇに
替えて上記（ｂ）で得た３−トリフルオロメチル−２−
フルオロ−〔トランス−４−（トランス−４−ペンチル
シクロヘキシル）−シクロヘキシル〕ベンゼン２．８７
ｇを用い、他は実施例４−（ｃ）同様に操作し３−トリ
フルオロメチル−２−フルオロ−４−ヒドロキシ−〔ト
ランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）−シクロヘキシル〕ベンゼン１．７４ｇ（５８．２
％）を得た。ＨＰＬＣ ９９．８％、ＩＲ（ｄｉｓｋ）
３３８０ｃｍ^−１（ＯＨ）

【０１２６】

【化８９】 実施例４−（ｄ）において、２−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチル−４−ヒドロキシ−４″−ヘプチルターフ
ェニル１．４６ｇ並びにオクチルブロマイド０．７９ｇ
に替えて上記（ｃ）で得た３−トリフルオロメチル−２
−フルオロ−４−ヒドロキシ−〔トランス−４−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキシル）−シクロヘキシ
ル〕ベンゼン１．４ｇ並びにプロピルブロマイド０．５
３ｇを用い、他は実施例４−（ｄ）同様に操作し３−ト
リフルオロメチル−２−フルオロ−４−プロピルオキシ
−〔トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘ
キシル）−シクロヘキシル〕ベンゼン１．０７ｇ（６
９．５％）を得た。

【０１２７】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
７％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で４５６に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【０１２８】実施例２３

【化９０】 実施例２０−（ａ）において、４′−（トランス−４−
ペンチルシクロヘキシル）−３−トリフルオロメチル−
２−フルオロビフェニル３．０ｇに替えて実施例２２−
（ｂ）で得られる３−トリフルオロメチル−２−フルオ
ロ−〔トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロ
ヘキシル）−シクロヘキシル〕ベンゼン３．０ｇを用
い、他は実施例２０−（ａ）と同様に操作し３−トリフ
ルオロメチル−２−フルオロ−４−ホルミル−〔トラン
ス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−
シクロヘキシル〕ベンゼン１．０ｇ（３１．１％）を得
た。ＧＬＣ ９７．９％、ＩＲ（ｄｉｓｋ）１７００ｃ
ｍ^−１（Ｃ＝Ｏ）

【０１２９】

【化９１】 実施例２０−（ｂ）において、４′−（トランス−４−
ペンチルシクロヘキシル）−３−トリフルオロメチル−
２−フルオロ−４−ホルミルビフェニル１．０ｇに替え
て上記（ａ）で得た３−トリフルオロメチル−２−フル
オロ−４−ホルミル−〔トランス−４−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル）−シクロヘキシル〕ベンゼ
ン１．０ｇを用い、他は実施例２０−（ｂ）と同様に操
作し３−トリフルオロメチル−２−フルオロ−４−プロ
ピル−〔トランス−４−（トランス−４−ペンチルシク
ロヘキシル）−シクロヘキシル〕ベンゼン０．５ｇを得
た。

【０１３０】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
６％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で４４０に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【０１３１】実施例２４

【化９２】 実施例２１−（ａ）において、４′−（トランス−４−
ペンチルシクロヘキシル）−３−トリフルオロメチル−
２−フルオロ−４−ホルミルビフェニル０．９５ｇに替
えて実施例２３−（ａ）で得られる３−トリフルオロメ
チル−２−フルオロ−４−ホルミル−〔トランス−４−
（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−シクロヘ
キシル〕ベンゼン０．９５ｇを用い、他は実施例２１−
（ａ）と同様に操作し３−トリフルオロメチル−２−フ
ルオロ−４−ヒドロキシメチル−〔トランス−４−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−シクロヘキシ
ル〕ベンゼン０．９５ｇ（１００％）を得た。ＧＬＣ
９５．９％、ＩＲ（ｄｉｓｋ）３３２０ｃｍ^−１（Ｏ
Ｈ）

【０１３２】

【化９３】 実施例２１−（ｂ）において、４′−（トランス−４−
ペンチルシクロヘキシル）−３−トリフルオロメチル−
２−フルオロ−４−ヒドロキシメチルビフェニル０．９
５ｇに替えて上記（ａ）で得た３−トリフルオロメチル
−２−フルオロ−４−ヒドロキシメチル−〔トランス−
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−シク
ロヘキシル〕ベンゼン０．９５ｇを用い、他は実施例２
１−（ｂ）と同様に操作し３−トリフルオロメチル−２
−フルオロ−４−メトキシメチル−〔トランス−４−
（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−シクロヘ
キシル〕ベンゼン０．８ｇ（８１．６％）を得た。

【０１３３】得られた化合物の純度はＨＰＬＣで９９．
７％であり、ＴＬＣで１スポットであった。またＩＲ測
定の結果及びＭａｓｓ分析で４４２に分子イオンピーク
が認められたこと並びに用いた原料の関係から得られた
物質が標記化合物であることを確認した。この化合物を
メトラーホットステージＦＰ−８２を用い、偏光顕微鏡
下にて相変化を観察した。その結果を表４に示す。

【０１３４】実施例２５ 下記の方法により算出した実施例化合物の誘電率異方性
（Δε）を表１に示す。垂直配向セル（ＥＨＣ社製、配
向剤：ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロマイ
ド）並びに水平配向セル（ＥＨＣ社製、配向剤：日立化
成ポリイミドＬＸ−１４００）を用い、それぞれの空セ
ル時静電容量Ｃ_１並びにＣ_２を、Ｇｅｎｅｒａｌ Ｒａ
ｄｉｏ社製 １６２０Ａ型キャパシタンスブリッジにて
測定した（±０．５Ｖ、１ＫＨｚ正弦波）。次に、２種
のセルに測定試料を封入し、前記同様に垂直配向セル並
びに水平配向セルの静電容量Ｃ_３並びにＣ_４をそれぞれ
測定し、下式よりΔεを算出した。 Δε＝〔Ｃ_３／Ｃ_１〕−〔Ｃ_４／Ｃ_２〕

【０１３５】

【表１】

【０１３６】これらの化合物はΔεが大きな負の材料で
あり、液晶組成物を作成する際に、所望のΔεを付与す
るための成分材料として使用することができる。

【０１３７】実施例２６

【化９４】 上記４種類のフェニルピリミジン化合物からなる母体液
晶（Ｂ−１）を調製した。

【０１３８】その相転移温度を下記に示す。

【０１３９】

【化９５】 母体液晶（Ｂ−１）９６．７ｗｔ％と光学活性化合物
（Ｄ−１）３．３ｗｔ％とから成るカイラルＳｃ組成物
（Ｍ−１）を調製した。

【０１４０】カイラルＳｃ組成物（Ｍ−１）９０ｗｔ％
に実施例１２で得られた

【化９６】 １０ｗｔ％を添加し、カイラルＳｃ組成物（Ｍ−２）を
調製した。調製した組成物をそれぞれ別に、ポリイミド
を塗布し、ラビング処理を施した透明電極付きガラス基
板から作成した２μｍギャップの液晶セル（ＥＨＣ社
製）に注入して各液晶素子を作成し、それぞれを２枚の
偏光板に挟んで、試験材料を作製し、±５Ｖ／μｍ、２
００Ｈｚの矩形波を印加して、透過光強度の変化からτ
（応答時間）を、またソーヤー、タワー法にてＰｓ（自
発分極）を、印加電圧の極性反転時の消光位の移動角度
からθ（チルト角）をそれぞれ測定した。さらに、相転
移温度並びにΔε（実施例２５参照）を測定した。その
結果を表２に示す。

【０１４１】

【表２】 表２に示されているように、カイラルＳｃ組成物（Ｍ−
１）に比べて、本発明化合物を添加したカイラルＳｃ組
成物（Ｍ−２）はカイラルＳｃ相温度範囲が大幅に拡張
されていると共にθが大きく広がっているにも拘らずτ
は殆ど変化していないことが認められる。また、高々１
０ｗｔ％添加しただけでΔεを負に大きくしていること
が判る。

【０１４２】実施例２７ 市販のネマチック液晶組成物であるＺＬＩ−１１３２
（メルク社製）９０ｗｔ％と実施例１９の

【化９７】 １０ｗｔ％とから成るネマチツク液晶組成物（Ｍ−３）
を調製し、ＺＬＩ−１１３２および組成物Ｍ−３の諸物
性を測定した。その結果を表３に示す。

【０１４３】

【表３】 Δｎはアッベ式屈折計（アタゴ社製）を用い、２５℃の
恒温水を循環しながら、正常光の屈折率（ｎ_０）並びに
異常光の屈折率（ｎ_ｅ）を測定し、式Δｎ＝ｎ_ｅ−ｎ_ｏ
から求めた。

【０１４４】Ｖ_ｔｈ，Ｖ_ｓａｔは、ＴＮ配向セル（ＥＨ
Ｃ社製、セル厚９μｍ、ラビング角度９０°）に試料を
封入し、これを分光光度計（日立社製 ３２０型）の測
光部に設置し、セルの入射光側と出射光側に偏光フィル
ターをノーマリーホワイト状態（電圧無印加時に光を透
過させる状態）になるように設置し、ファンクションジ
ェネレーター（Ｈｅｗｌｅｔｔ Ｐａｃｋａｒｄ社製
３３１１Ａ型）を用いて前記セルに１ＫＨｚ矩形波電圧
を印加し、測定光波長５５０ｎｍにて印加電圧に対する
光の透過率特性を測定し、透過率が９０％を示す時の電
圧をＶ_ｔｈ、１０％を示す時の電圧をＶ_ｓａｔとして測
定した。

【０１４５】表３に示すように、本発明化合物を添加す
ることによって、Ｔ_ＮＩ（ネマチック相から等方性液体
への転移温度）やτ（応答時間）は殆ど変化しないもの
の、Ｖ_ｔｈ（閾値電圧）並びにＶ_ｓａｔ（飽和電圧）が
低下していることが判る。このことは、本発明化合物を
使用することによりより低電圧駆動が可能となることを
意味している。また、Δｎ（屈折率異方性）も小さくし
ている。

【０１４６】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明に係るト
リフルオロメチルベンゼン誘導体は、液晶組成物の調製
にあたり、所望の特性を有する液晶組成物を調製するた
めに有用な材料となるものであり、特に大きな負のΔε
を有していることから、τ−Ｖ_ｍｉｎモード用あるいは
高周波重畳法の強誘電性液晶組成物、さらに、ＥＣＢ型
のネマチック液晶組成物等の液晶性材料として極めて優
れた効果をもたらすものである。

【０１４７】

【表４】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 69/63 9546−4Ｈ 69/76 Ａ 9546−4Ｈ 69/94 9546−4Ｈ Ｃ０９Ｋ 19/12 9279−4Ｈ 19/30 9279−4Ｈ 19/44 9279−4Ｈ 19/46 9279−4Ｈ Ｇ０２Ｆ 1/19 ５０１

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式 【化１】 （式中、Ｒ^１は炭素原子数１〜１４のアルキル基あるい
   はアルコキシアルキル基、Ｒ^２は炭素原子数１〜１４の
   アルキル基を表し、Ａは 【化２】 を表わし、Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３、Ｌ^４はそれぞれ独立に水
   素原子あるいはフッ素原子を表し、Ｙは単結合、 【化３】 を表し、Ｚは単結合あるいは−Ｏ−を表し、Ｘは水素原
   子あるいはフッ素原子を表す。ただし、Ｘが水素原子で
   ある場合、Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３、Ｌ^４の中の少なくともい
   ずれか１つはフッ素原子を表し、Ａがシクロヘキサン環
   を含む構造である場合、Ｚは単結合を表し、Ｒ^１がアル
   コキシアルキル基である場合、Ｙは単結合を表す）で表
   されるトリフルオロメチルベンゼン誘導体。
2. 【請求項２】 一般式 【化４】 （式中、Ｒ^１は炭素原子数１〜１４のアルキル基あるい
   はアルコキシアルキル基、Ｒ^２は炭素原子数１〜１４の
   アルキル基を表し、Ａは 【化５】 を表わし、Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３、Ｌ^４はそれぞれ独立に水
   素原子あるいはフッ素原子を表し、Ｙは単結合、 【化６】 を表し、Ｚは単結合あるいは−Ｏ−を表し、Ｘは水素原
   子あるいはフッ素原子を表す。ただし、Ｘが水素原子で
   ある場合、Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３、Ｌ^４の中の少なくともい
   ずれか１つはフッ素原子を表し、Ａがシクロヘキサン環
   を含む構造である場合、Ｚは単結合を表し、Ｒ^１がアル
   コキシアルキル基である場合、Ｙは単結合を表す）で表
   されるトリフルオロメチルベンゼン誘導体の少なくとも
   １種を含有することを特徴とする液晶組成物。