JPH0841084A - チオカルバモイルメタンホスホン酸ジエステルの製造方法 - Google Patents

チオカルバモイルメタンホスホン酸ジエステルの製造方法

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JPH0841084A
JPH0841084A JP8432895A JP8432895A JPH0841084A JP H0841084 A JPH0841084 A JP H0841084A JP 8432895 A JP8432895 A JP 8432895A JP 8432895 A JP8432895 A JP 8432895A JP H0841084 A JPH0841084 A JP H0841084A
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JP
Japan
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formula
general formula
catalyst
following general
acid diester
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Withdrawn
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JP8432895A
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Inventor
Norbert Dr Weferling
ノルベルト・ヴェフェルリング
Hans-Jerg Dr Kleiner
イエルク・クライナー ハンス−
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Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/40Esters thereof
    • C07F9/4003Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
    • C07F9/4006Esters of acyclic acids which can have further substituents on alkyl

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
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  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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  • General Health & Medical Sciences (AREA)
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 チオカルバモイルメタンホスホン酸ジエステ
ルの製造方法の提供。 【構成】 下記一般式(I) 【化1】 〔式中、R1 及びR2 はC1-8 アルキル基を表し、ここ
でR1 及びR2 は同一又は異なりまた両者が一緒になっ
て環を形成していてもよい〕で示されるチオカルバモイ
ルメタンホスホン酸ジエステルを製造するために、下記
一般式(II) 【化2】 〔式中、R1 及びR2 は上記一般式(I)と同様に定義
される〕で示されるシアノメタンホスホン酸ジエステル
を0〜150℃で80時間以内で触媒の存在下において
加圧下で硫化水素と反応させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、下記一般式(I)
【0002】
【化5】 〔式中、R1 及びR2 は1〜8個、特に1〜4個の炭素
原子を有するアルキル基を表し、ここでR1 及びR2
同一であっても相違していてもよく、また両者が一緒に
なって1つの環を形成していてもよい〕で示されるチオ
カルバモイルメタンホスホン酸ジエステルの製造方法に
関する。
【0003】
【従来の技術】ソ連特許1583425号には、下記一
般式
【0004】
【化6】 〔式中、Rはエチル又はイソプロピル基を、R1 は水素
又は-CH2C(O)OC2H5 を表す〕で示されるチオアミド−置
換ホスホン酸エステルの製造方法が開示されている。こ
の方法に従い、トリエチルアミン及びピリジンを容量比
1:1の割合で含む溶剤中でジアルキル(シアノメチ
ル)ホスホン酸エステルを硫化水素と室温で反応させ
る。目的生成物は、反応混合物を0℃で12時間以上冷
却した後に反応混合物から結晶として得られる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】既知の方法の不利な点
は、収量が変動する点及び溶剤の回収が必要である点そ
してまた硫化水素のかなり過剰量が必要な点である。
【0006】従って、本発明の課題はチオカルバモイル
メタンホスホン酸ジエステルの製造において、溶剤なし
で実施でき必要な硫化水素がほんの僅かの過剰量ですむ
製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の課題は本発明に従
い下記一般式(II)
【0008】
【化7】 〔式中、R1 及びR2 は上記一般式(I)と同様に定義
される〕で示されるシアノメタンホスホン酸ジエステル
を0〜150℃で80時間以内で触媒の存在下において
加圧下で硫化水素と反応させることによって達成され
る。
【0009】さらに本発明に従った方法の好ましい形態
を示すと次の通りである。 a)反応を10〜30時間で実施すること b)反応を10〜40℃で実施すること c)下記一般式(III)
【0010】
【化8】 〔式中、R3 、R4 及びR5 はそれぞれ同一又は相違
し、それぞれ1〜20、好ましくは1〜12、特に1〜
4個の炭素原子を有する直鎖又は分岐のアルキル基又は
アルアルキル基を表し、Xは窒素原子又はリン原子を表
す〕で示される化合物を触媒として使用すること d)下記一般式(IV)
【0011】
【化9】 〔式中、R3 、R4 、R5 及びR6 はそれぞれ同一又は
相違し、それぞれ1〜20、好ましくは1〜12、特に
1〜4個の炭素原子を有する直鎖又は分岐のアルキル基
又はアルアルキル基を表し、Yは無機酸基又は有機酸基
を表す〕で示される化合物を触媒として使用すること e)無機酸基がハロゲン化物又は硫酸塩であるものを使
用すること f)有機酸基がアルキル又はアリールスルホン酸塩であ
るものを使用すること g)シアノメタンホスホン酸ジエステルと硫化水素をモ
ル比を1:(1〜2)、好ましくは1:(1.1〜1.
5)として反応させること 本発明に従った方法で使用され得る出発物質は、シアノ
メタンホスホン酸のジメチル、ジエチル、ジイソプロピ
ル、ジシクロヘキシル、ジオクチル又はモノメチルモノ
ブチルエステルである。
【0012】本発明に従った方法における特に適した触
媒は、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n
−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリエチ
ルホスフィン、トリ−n−ブチルホスフィン、トリ−n
−オクチルホスフィン又はメチルジシクロヘキシルホス
フィンのような第三脂肪族アミン及びホスフィンそして
塩化テトラエチルホスホニウム、臭化トリメチルベンジ
ルホスホニウム、臭化トリ−n−ブチルベンジルホスホ
ニウム又は臭化テトラ−n−ブチルホスホニウムのよう
な第四ホスホニウム塩である。
【0013】本発明に従った方法は原則として溶剤を使
用しないで実施できる。しかしながら、溶剤を使用する
ならば、目的生成物を溶剤から晶出するためエチルアセ
テート又はトルエンを推奨する。
【0014】本発明に従って得られるチオカルバモイル
ホスホン酸ジエステルは、例えばホーナーホスホン酸エ
ステル反応(Horner phosphonate reaction )のための
中間体として重要である。
【0015】
【実施例】
例 50g(0.282mol)のシアノメタンホスホン酸
ジエチル、7.2g(0.07mol)のトリエチルア
ミン、12g(0.353mol)の硫化水素及び50
mlのエチルアセテートの混合物を鋼製のオートクレー
ブ(有用な容量:250ml)中で50〜60℃で24
時間攪拌する。オートクレーブを冷却し、そこから反応
混合物を取り出し、0℃に冷却する。吸引濾過、洗浄及
び乾燥を行った後、35gの結晶生成物が得られる。濾
液から溶剤を除去した後、濾液を冷却してさらに15g
の固体を回収する。全量で50gのチオカルバモイルメ
タンホスホン酸ジエチルは、理論値に対し84%の収率
に相当する。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(I) 【化1】 〔式中、R1 及びR2 は1〜8個、特に1〜4個の炭素
    原子を有するアルキル基を表し、ここでR1 及びR2
    同一であっても相違していてもよく、また両者が一緒に
    なって1つの環を形成していてもよい〕で示されるチオ
    カルバモイルメタンホスホン酸ジエステルの製造方法に
    おいて、下記一般式(II) 【化2】 〔式中、R1 及びR2 は上記一般式(I)と同様に定義
    される〕で示されるシアノメタンホスホン酸ジエステル
    を0〜150℃、好ましくは10〜40℃で80時間以
    内、好ましくは10〜30時間にわたり触媒の存在下に
    おいて加圧下で硫化水素と反応させることを特徴とする
    上記製造方法。
  2. 【請求項2】 下記一般式(III) 【化3】 〔式中、R3 、R4 及びR5 はそれぞれ同一又は異な
    り、それぞれ1〜20、好ましくは1〜12、特に1〜
    4個の炭素原子を有する直鎖又は分岐のアルキル基又は
    アルアルキル基を表し、Xは窒素原子又はリン原子を表
    す〕で示される化合物を触媒として使用することを特徴
    とする請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 下記一般式(IV) 【化4】 〔式中、R3 、R4 、R5 及びR6 はそれぞれ同一又は
    異なり、それぞれ1〜20、好ましくは1〜12、特に
    1〜4個の炭素原子を有する直鎖又は分岐のアルキル基
    又はアルアルキル基を表し、Yは無機酸基又は有機酸基
    を表す〕で示される化合物を触媒として使用することを
    特徴とする請求項1に記載の方法。
  4. 【請求項4】 シアノメタンホスホン酸ジエステルと硫
    化水素をモル比が1:(1〜2)、好ましくは1:
    (1.1〜1.5)で反応させることを特徴とする請求
    項1〜3のいずれかに記載の方法。
JP8432895A 1994-04-11 1995-04-10 チオカルバモイルメタンホスホン酸ジエステルの製造方法 Withdrawn JPH0841084A (ja)

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DE19944412346 DE4412346A1 (de) 1994-04-11 1994-04-11 Verfahren zur Herstellung von Thiocarbonylmethanphosphonsäurediestern
DE4412346:9 1994-04-11

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0841084A true JPH0841084A (ja) 1996-02-13

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JP8432895A Withdrawn JPH0841084A (ja) 1994-04-11 1995-04-10 チオカルバモイルメタンホスホン酸ジエステルの製造方法

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SU1583425A1 (ru) * 1988-07-18 1990-08-07 Казанский государственный университет им.В.И.Ульянова-Ленина Способ получени тиоамидозамещенных фосфонатов

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EP0676407A3 (de) 1996-08-21
CA2145377A1 (en) 1995-10-12
EP0676407A2 (de) 1995-10-11
DE4412346A1 (de) 1995-10-12

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