JPH0843498A - 検査可能性および信頼性を強化した耐高電圧出力回路および検査方法 - Google Patents

検査可能性および信頼性を強化した耐高電圧出力回路および検査方法

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JPH0843498A
JPH0843498A JP7142108A JP14210895A JPH0843498A JP H0843498 A JPH0843498 A JP H0843498A JP 7142108 A JP7142108 A JP 7142108A JP 14210895 A JP14210895 A JP 14210895A JP H0843498 A JPH0843498 A JP H0843498A
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transistor
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JP7142108A
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H Andresen Bernhard
エィチ.アンドレセン バーンハード
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Texas Instruments Inc
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 欠陥検査が可能な耐高電圧出力回路および検
査方法を提供する。 【構成】 検査可能性を有する耐高電圧出力回路30
は、欠陥検出回路32と結合された、カスコード状トラ
ンジスタ対14および16を含む。欠陥検出回路32
は、前記カスコード状トランジスタ対のトランジスタに
欠陥がある場合、出力から認知可能な電流を引き出す。
出力を監視して認知可能な電流を検出することにより、
回路30の検査が可能となり、欠陥のあるカスコード状
トランジスタ対を識別することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子回路に関し、更に特
定すれば、高供給電圧回路とインターフェースする低供
給電圧回路および回路の欠陥検査方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】半導体プロセスにおいて寸法および許容
電圧動作範囲が増々縮小されるに連れて、半導体回路設
計者は多くの新しい設計に関する問題に直面している。
具体的な問題を1つあげると、電圧供給強度(voltage s
upply magnitude)が異なる他の回路とインターフェース
する回路の設計である。例えば、CMOS回路は近年で
は5V供給電圧を使用していたが、現在では3.3ボル
トの供給電圧を採用する回路が増えている。個々の設計
者は同じ用途に用いられる他の回路が使用する供給電圧
について必ずしも熟知している訳ではないので、低供給
電圧を必要とするプロセスを用いる設計者は、彼等の回
路を保護し、より高い供給電圧を使用する回路と適正に
それらをインターフェースさせなければならない。
【0003】図1は、VDD供給電圧が3.3Vで、イン
ターフェース回路を用いない従来技術の回路10を示
す。PMOSトランジスタ12とNMOSトランジスタ
14には4V以上の電圧をかけることができず、回路1
0は5Vの供給電圧を使用する他の回路とバス上で接続
されるとすると、問題が生じる。回路10の出力が5V
に上昇し、一方PMOSトランジスタ12およびNMO
Sトランジスタ14のバイアスがオフになっていると、
PMOSトランジスタ12を横切るドレインからバック
ゲート(backgate)への寄生ダイオードが導通する。ま
た、NMOSトランジスタ14のドレイン−ソース間に
5Vの電圧がかかると、トランジスタ14の機能低下
や、或は、ホットキャリア(hot carrier) の劣化(degra
dation) による「乳児死亡(infant mortality)」破壊の
原因となる。これらの問題は、デジタル・イクイップメ
ント・コーポレーション(Digital Equipment Corporati
on) に譲渡された、ドッバープール(Dobberpuhl)による
アメリカ合衆国特許第5,160,855号において論
じられ、かつ取り扱われている。ドッバープールは、前
述のホットキャリア劣化の問題に対する解決法を論じて
いる。これを図2に従来技術として示す。
【0004】図2において、回路20は、2つのカスコ
ード状NMOSトランジスタ、即ち、NMOSトランジ
スタ14とNMOSトランジスタ16とを有する。NM
OSトランジスタ16は、そのゲートが回路の供給電圧
(この例では3.3V)であるVDDに結合されている。
NMOSトランジスタ16は、NMOSトランジスタ1
4がオフで回路20の出力が5Vに上昇したとき、電圧
降下の一部を分担することによって、NMOS14を保
護するように作用する。NMOS16が出力における電
圧降下を分担するので、NMOS14自体には5V全て
がかかることがなくなり、機能低下を免れる。また、P
MOS12のバックゲートは、この場合スイッチング回
路に接続されている。スイッチング回路は出力電圧レベ
ルがVDDを超えるときに、PMOS12のバックゲート
を出力に結合して、寄生ダイオードに電流が流れるのを
防止する。このような変更によって、回路20は、破壊
や機能低下を被ることなく、出力に印加される5Vレベ
ルに耐えることが可能となる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図2の
回路20には重大な制約がある。NMOSトランジスタ
16に欠陥があり、なんらかの理由でドレイン−ソース
間が短絡していても、この欠陥は検査中に検出すること
ができない。回路20が検査において機能的に動作する
ことが示されても、回路20は潜在的な信頼性の問題を
有しており、この欠陥を検出する方法が未だに得られて
いない。この検査性の問題のために、販売会社は顧客
に、欠陥が生じないことを保証することができない。
【0006】本発明の目的は、検査可能であり、したが
ってカスコードの欠陥から製品の信頼性を保証する、耐
高電圧出力回路を提供することである。本発明のその他
の目的および利点は、以下の詳細な説明および図面を参
照することによって、当業者には明らかとなろう。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、カスコード状
トランジスタ対を有する耐高電圧出力回路と、これらカ
スコード状トランジスタ対間に結合された欠陥検出回路
とを含む。カスコード状トランジスタ対において、スイ
ッチされないトランジスタが欠陥を有するとき、欠陥検
出回路が電流を導通させる。
【0008】本発明は、カスコード状トランジスタ対を
含む回路における、潜在的な信頼性の欠陥を検査する方
法を含む。本方法のステップは、カスコード状トランジ
スタ対の間に欠陥検出機構を挿入することを含み、カス
コード状トランジスタ対においてスイッチされないトラ
ンジスタが欠陥を有する場合、欠陥検出機構が電流を導
通させる。検査中、カスコード状トランジスタ対に流れ
込む電流を監視し、認知可能な電流が測定されたなら、
当該カスコード状トランジスタ対の一方に欠陥があり、
欠陥検出機構が電流を吸い込む。
【0009】
【実施例】図3は、本発明の実施例である、検査可能性
を有する耐高電圧出力回路30を示す、ブロック図と概
略図とを組み合わせたものである。回路30は、ソース
端子が供給電圧VDD(5Vよりかなり低い電圧値、例え
ば3V、3.3V等)に接続されているPMOSトラン
ジスタ12を含む。PMOSトランジスタ12のゲート
端子は、制御電圧VP に結合されている。制御電圧VP
は、図示しない他の支持回路によって発生される。PM
OSトランジスタ12のドレイン端子は、回路30の出
力を形成し、NMOSトランジスタ16のドレイン端子
にも結合されている。PMOSトランジスタ12のバッ
クゲートは、図示しない回路によって、VDDと出力電圧
との間で、どちらか大きい方に切り換えられる。NMO
Sトランジスタ16のゲート端子は供給電圧VDDに結合
され、一方ソース端子はNMOSトランジスタ14のド
レイン端子に結合されている。或は、NMOSトランジ
スタ16のゲート端子は、VDDに強度が非常に近い供給
電圧に結合されてもよい。NMOSトランジスタ14の
ソース端子は回路の接地に結合され、ゲート端子は制御
電圧VN に結合されている。制御電圧VN は、図示しな
い支持回路によって発生される。NMOSトランジスタ
16のゲートおよびソース端子間には、欠陥検出回路3
2も結合される。欠陥検出回路32は、NMOS16に
欠陥があるとき、および回路30の出力電圧が高電圧値
に上昇したとき、電流を導通させる。
【0010】図4は、本発明の好適実施例を示す概略図
である。図4の回路40は、欠陥検出回路32がダイオ
ード42と置き換えられたことを除いて、図3の回路3
0と実質的に同様である。ダイオード42は欠陥検出器
として作用し、NMOSトランジスタ16に欠陥がある
ときに、回路40の出力電圧が高電圧値に上昇した際出
力からVDDに電流を導通させる。
【0011】図5は、本発明の他の好適実施例を示す概
略図である。図5の回路50は、欠陥検出回路32がP
MOSトランジスタ52と置き換えられたことを除い
て、図3の回路30と実質的に同様である。PMOSト
ランジスタ52は欠陥検出器として作用し、NMOSト
ランジスタ16に欠陥があるときに、回路50の出力電
圧が高電圧値に上昇した際出力からVDDに電流を導通さ
せる。
【0012】図3の回路30は、以下のように動作す
る。制御電圧VP が高デジタル値、制御電圧VN が低デ
ジタル値であるとき、PMOS12およびNMOS14
の双方はオフとなり、したがって導通せず、回路30の
出力は浮遊状態(float) となる。5Vの供給電圧で動作
する回路によって回路30が駆動されると、回路30の
出力における電圧は、プロセス回路30が耐えるように
設計された量を超えて上昇する。回路30の出力が5V
に上昇した場合、カスコードトランジスタ16は、出力
における電圧降下を一部分担するように作用し、NMO
Sトランジスタ14およびNMOSトランジスタ16の
いずれにも、5Vの電圧降下全体がかからないようにす
る。NMOSトランジスタ16は、NMOSトランジス
タ14がオンのとき、電流を導通させるようにバイアス
される。NMOSトランジスタ14がオフのとき、導通
は起こらず、NMOSトランジスタ16はNMOSトラ
ンジスタ14と、回路出力における電圧降下を分担す
る。このようにして、回路30は、図2の従来例に示し
たような、NMOSトランジスタ14のホットキャリア
の劣化を防止する。しかしながら、NMOSトランジス
タ16に(なんらかの理由で)欠陥があり、ドレイン−
ソース間が事実上「短絡」している場合、5V全て(ま
たは出力におけるいかなる電圧)がNMOSトランジス
タ14に集中する。図2に示した従来技術の回路20に
は、このような潜在的な問題を防止または識別する方法
がない。欠陥検出回路32は、出力がVDDを超え、トラ
ンジスタ16が短絡した場合に、出力からVDDへの電流
経路を形成するので、単体検査(unit test) によって欠
陥を判定することができるという利点がある。欠陥検出
は様々な方法で行うことができ、欠陥検出の全ての方法
が本発明において認められることは理解されよう。
【0013】図4は、本発明の好適実施例である回路4
0を示す。ここでは、図3の欠陥検出回路32は、具体
的な素子、即ち、ダイオード42と置き換えられてい
る。典型的なダイオードは、逆方向にバイアスされると
開放回路のように作用し、順方向にバイアスされると短
絡回路のように作用する。また、典型的なダイオード
は、順方向に約0.7Vのバイアスをかけられると、短
絡回路として作用する。したがって、PMOSトランジ
スタ12とNMOSトランジスタ14がオフのとき、回
路40の出力は5Vに上昇し、NMOSトランジスタ1
6がなんらかの形の欠陥によって短絡すると、出力が約
DD+0.7Vになったときにダイオード42は電流を
DDに導通し始める。この欠陥は検査可能である。検査
中、検査技師は、PMOS12およびNMOS14を強
制的にオフにし、回路40の出力を5Vに上昇させる。
次に、出力ピンを監視して、出力に流れ込む電流を検出
する。認知可能な電流が検出されたなら、ダイオード4
2が出力からVDDに電流を供給しているので、技師はN
MOS16に欠陥があることがわかる。
【0014】図5は、カスコードトランジスタ構成の欠
陥検出機構を用いた、本発明の他の実施例である。回路
50は、欠陥検出回路32がPMOSトランジスタ52
と置き換えられたことを除いて、回路30と同様であ
る。PMOSトランジスタ52のバックゲートはそれ自
体のソースに結合されているので、図4のダイオード4
2と同様の効果のダイオードが形成される。同様に、P
MOSトランジスタ12とNMOSトランジスタ14が
導通していないとき、回路50の出力は5Vに上昇す
る。NMOSトランジスタ16が適正に動作するなら、
出力における電圧効果をNMOSトランジスタ14と分
担することによって、ホットキャリアの欠陥からNMO
Sトランジスタ14を保護する。NMOSトランジスタ
16に欠陥があって短絡すると、NMOSトランジスタ
14のドレインがVDDより約0.7V高くなったときに
PMOSトランジスタ52が導通し始める。この場合
も、図4の回路40および図3の回路30と同様、回路
50は検査可能である。検査技師は、PMOSトランジ
スタ12およびNMOSトランジスタ14を強制的にオ
フにし、回路50の出力を5Vに上昇させて、同時に出
力における電流の流れを監視する。認知し得る電流の流
れが出力で検出された場合、技師はNMOSトランジス
タ16に欠陥があることを知る。
【0015】以上、3.3Vの供給電圧VDDを使用する
回路30、回路40、および回路50として本発明につ
いて説明したが、本発明は、低い供給電圧を使用する回
路に、それより高い電圧の回路を接続するいかなる場合
にも適用可能であることは理解されよう。したがって、
供給電圧の低下が続く限り、本発明は適用可能であり続
ける。また、欠陥検出回路32は多数の様々な感知回路
を含み得ることも認められよう。本発明は、欠陥検出の
全ての態様を包含するものとする。図4のダイオード4
2および図5のPMOSトランジスタ52は、欠陥検出
回路32を実施する方法を示した例示的な実施例に過ぎ
ない。
【0016】以上、本発明をその好適実施例を参照しな
がら説明したが、この説明は限定の意味に解釈されるも
のではない。本発明の説明を参照すれば、当業者には、
開示した実施例の種々の変更は明白となろう。したがっ
て、特許請求の範囲の記載は、本発明の真の範囲に該当
するかかる変更または実施例全てに及ぶことを意図する
ものである。
【0017】以上の説明に関して更に以下の項を開示す
る。 (1)スイッチングトランジスタとスイッチされないト
ランジスタとを有する、カスコードトランジスタ対と、
前記カスコードトランジスタ対に結合された欠陥検出回
路であって、前記カスコードトランジスタ対の前記スイ
ッチされないトランジスタに欠陥があるとき、電流を導
通させる前記欠陥検出回路と、を含むことを特徴とする
検査可能なカスコードトランジスタ回路。 (2)第1項において、前記カスコードトランジスタ対
は、2つのMOSトランジスタから成り、欠陥がある場
合、前記スイッチされないトランジスタがドレインおよ
びソース端子間で短絡することを特徴とする、前記カス
コードトランジスタ回路。
【0018】(3)出力に結合された第1および第2ト
ランジスタを有し、第1供給電圧で動作するカスコード
状トランジスタ対と、前記出力に結合され、前記第1供
給電圧よりも大きな第2供給電圧で動作する回路と、前
記カスコード状トランジスタ対に結合された欠陥検出回
路であって、前記第2供給電圧値が前記カスコード状ト
ランジスタ対の間にかかり、かつ前記カスコード状トラ
ンジスタ対内の前記第1トランジスタに欠陥があると
き、前記出力から前記第1供給電圧に電流を導通させる
前記欠陥検出回路と、を含むことを特徴とする耐高電圧
出力回路。 (4)第3項において、前記欠陥検出回路は、更に、陽
極が前記カスコード状トランジスタ対間に結合され、陰
極が前記第1供給電圧の強度に非常に近い電圧に結合さ
れたダイオードを含むことを特徴とする前記耐高電圧出
力回路。 (5)第3項において、前記欠陥検出回路は、更に、ド
レイン端子が前記カスコード状トランジスタ対の第1お
よび第2トランジスタ間に結合され、ゲート端子および
ソース端子が前記第1供給電圧の強度に非常に近い電圧
に結合され、前記カスコードトランジスタ対の型とは相
補関係にある型のMOSトランジスタを含むことを特徴
とする前記耐高電圧出力回路。 (6)第3項において、前記欠陥検出回路は、更に、ド
レイン端子が前記カスコード状トランジスタ対の前記第
1および第2トランジスタ間に結合され、ゲート端子が
前記カスコードトランジスタ対のスイッチングトランジ
スタのゲートに結合され、ソースが前記第1供給電圧の
強度に非常に近い電圧に結合された、MOSトランジス
タを含むことを特徴とする前記耐高電圧出力回路。 (7)第3項において、更に、前記欠陥検出回路に結合
された検査可能構造を含み、認知可能な電流が前記欠陥
検出回路を通過する場合、前記カスコード状トランジス
タ対の第1トランジスタにおいて欠陥が識別されるよう
に、前記検査可能構造は前記欠陥検出回路を監視するこ
とを特徴とする前記耐高電圧出力回路。
【0019】(8)制御電圧と回路の接地とに結合され
た第1トランジスタと、前記第1トランジスタと、前記
回路の供給電圧と強度が実質的に等しい電圧源と、回路
出力とに結合された第2トランジスタと、前記電圧源と
前記第1および第2トランジスタの接続部とに結合され
た欠陥検出手段であって、前記制御電圧がバイアスさ
れ、前記第1トランジスタが導通しておらず、前記第2
トランジスタに欠陥がある場合に、前記欠陥検出手段は
活性化し、これによって、前記第2トランジスタが前記
第1トランジスタと回路出力における電圧降下を分担す
ることを禁止し、前記欠陥検出回路の活性化は、前記回
路出力から前記電圧源への電流を吸い込むことによっ
て、前記回路出力における電流の監視を通じて、前記第
2トランジスタの欠陥を検出可能にする、前記欠陥検出
手段と、を含むことを特徴とする、検査可能な耐高電圧
回路。 (9)第8項において、前記欠陥検出手段は、陽極が前
記第1および第2トランジスタ間の前記接続部に結合さ
れ、陰極が前記電圧源に結合されたダイオードを含むこ
とを特徴とする、前記耐高電圧回路。 (10)第8項において、前記欠陥検出手段は、前記第
1および第2トランジスタ間の前記接続部に結合された
第1端子と、前記電圧源に結合された第2端子、バック
ゲート端子およびゲート端子とを有するPMOSトラン
ジスタを含むことを特徴とする、前記耐高電圧回路。
【0020】(11)供給電圧に接続されたソース端子
と、第1制御電圧に接続されたゲート端子と、回路出力
を形成するドレイン端子とを有するPMOSトランジス
タと、前記回路出力に接続されたドレイン端子と、前記
供給電圧に接続されたゲート端子と、ソース端子とを有
する第1NMOSトランジスタと、前記第1NMOSト
ランジスタのソース端子に接続されたドレイン端子と、
第2制御電圧に接続されたゲート端子と、接地電位に接
続されたソース端子とを有する第2NMOSトランジス
タと、前記第1NMOSトランジスタの前記ゲート端子
とソース端子との間に接続された欠陥検出回路であっ
て、前記第1NMOSトランジスタに欠陥があり、前記
第2NMOSトランジスタが導通しておらず、破壊的に
高い電圧が前記回路出力に存在する場合、前記出力端子
から前記供給電圧に電流を導通させる前記欠陥検出回路
と、を含むことを特徴とする耐高電圧回路。 (12)第11項において、前記欠陥検出回路は、陽極
が前記第1NMOSトランジスタの前記ソース端子に接
続され、陰極が前記第1NMOSトランジスタの前記ゲ
ート端子に接続されたダイオードを含むことを特徴とす
る前記回路。 (13)第11項において、前記欠陥検出回路は、ソー
ス端子およびバックゲート端子が前記供給電圧に接続さ
れ、ドレイン端子が前記第1NMOSトランジスタの前
記ソース端子に接続されたPMOSトランジスタを含む
ことを特徴とする前記回路。
【0021】(14)カスコード状トランジスタ対を含
む回路における潜在的な信頼性欠陥を検査する方法であ
って、欠陥検出機構をカスコード状トランジスタ対に結
合し、前記カスコード状トランジスタ対の内スイッチさ
れないトランジスタに欠陥がある場合、前記欠陥検出機
構は前記カスコード状トランジスタ対に流れ込む電流を
監視し、認知可能な電流が測定されたなら、前記カスコ
ード状トランジスタ対の一方に欠陥があることが検出さ
れ、前記欠陥検出機構が電流を吸い込む、ステップを含
むことを特徴とする方法。 (15)検査可能性を有する耐高電圧出力回路30は、
欠陥検出回路32と結合された、カスコード状トランジ
スタ対14および16を含む。欠陥検出回路32を活性
化することによって、出力から認知可能な電流が引き出
される。出力を監視して認知可能な電流を検出すること
により、回路30の検査が可能となり、欠陥のあるカス
コード状トランジスタ対を識別することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来技術によるCMOS回路10を示す概略
図。
【図2】従来技術によるカスコード状NMOSトランジ
スタ16を有するCMOS回路20を示す概略図。
【図3】本発明による、検査可能性を有する耐高電圧出
力30を示す、ブロック図と概略図とを組み合わせた
図。
【図4】本発明の好適実施例40を示す概略図。
【図5】本発明の他の好適実施例50を示す概略図。
【図6】本発明の他の実施例を示す概略図。
【符号の説明】
12,14,16 カスコード状トランジスタ 30,40,50 耐高電圧回路 32 欠陥検出回路 42 ダイオード 52 PMOSトランジスタ 60 検査可能構造

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】スイッチングトランジスタとスイッチされ
    ないトランジスタとを有する、カスコードトランジスタ
    対と、 前記カスコードトランジスタ対に結合された欠陥検出回
    路であって、前記カスコードトランジスタ対の前記スイ
    ッチされないトランジスタに欠陥があるとき、電流を導
    通させる前記欠陥検出回路と、を含むことを特徴とする
    検査可能なカスコードトランジスタ回路。
  2. 【請求項2】カスコード状トランジスタ対を含む回路に
    おける潜在的な信頼性欠陥を検査する方法であって、 欠陥検出機構をカスコード状トランジスタ対に結合し、 前記カスコード状トランジスタ対の内スイッチされない
    トランジスタに欠陥がある場合、前記欠陥検出機構は前
    記カスコード状トランジスタ対に流れ込む電流を監視
    し、 認知可能な電流が測定されたことによって、前記カスコ
    ード状トランジスタ対の一方に欠陥があることを検出
    し、前記欠陥検出機構が電流を吸い込む、ステップを含
    むことを特徴とする方法。
JP7142108A 1994-06-08 1995-06-08 検査可能性および信頼性を強化した耐高電圧出力回路および検査方法 Pending JPH0843498A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109902410A (zh) * 2019-03-07 2019-06-18 上海华虹宏力半导体制造有限公司 一种检查低压晶体管可靠性的方法

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