JPH0845656A - マイクロ波加熱装置 - Google Patents
マイクロ波加熱装置Info
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- JPH0845656A JPH0845656A JP6197924A JP19792494A JPH0845656A JP H0845656 A JPH0845656 A JP H0845656A JP 6197924 A JP6197924 A JP 6197924A JP 19792494 A JP19792494 A JP 19792494A JP H0845656 A JPH0845656 A JP H0845656A
- Authority
- JP
- Japan
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- microwave
- chamber
- shaft portion
- main shaft
- heated
- Prior art date
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/64—Heating using microwaves
- H05B6/74—Mode transformers or mode stirrers
- H05B6/745—Rotatable stirrers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 一又は二以上の被加熱物全体をそれぞれ配置
場所如何にかかわらずムラなく加熱することが可能なマ
イクロ波加熱装置を提供すること。 【構成】 箱型のチャンバ1と、このチャンバ1内の空
間にマイクロ波を放射するマイクロ波出力手段2と、チ
ャンバ1内に装備されたターンテーブル機構3と、ター
ンテーブル機構3に装備された被加熱物載置部11,1
2とを備えている。ターンテーブル機構3は、支持枠体
4の中心線上に装備された回転主軸部5と、この回転主
軸部5と同軸に装備された太陽ギヤ6と、太陽ギヤ6の
周囲に配設された複数の遊星ギヤ7,8とを含む構成と
し、被加熱物載置部11,12を遊星ギヤの各々に個別
に装備し又被加熱物載置部11,12上の空間に、回転
主軸部5に付勢されて回転するマイクロ波用回転反射体
(スターラ)30を装備したこと。
場所如何にかかわらずムラなく加熱することが可能なマ
イクロ波加熱装置を提供すること。 【構成】 箱型のチャンバ1と、このチャンバ1内の空
間にマイクロ波を放射するマイクロ波出力手段2と、チ
ャンバ1内に装備されたターンテーブル機構3と、ター
ンテーブル機構3に装備された被加熱物載置部11,1
2とを備えている。ターンテーブル機構3は、支持枠体
4の中心線上に装備された回転主軸部5と、この回転主
軸部5と同軸に装備された太陽ギヤ6と、太陽ギヤ6の
周囲に配設された複数の遊星ギヤ7,8とを含む構成と
し、被加熱物載置部11,12を遊星ギヤの各々に個別
に装備し又被加熱物載置部11,12上の空間に、回転
主軸部5に付勢されて回転するマイクロ波用回転反射体
(スターラ)30を装備したこと。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、マイクロ波加熱装置に
係り、とく密封容器内にターンテーブルを装備すると共
に、このターンテーブル上の被加熱物にマイクロ波を照
射して加熱するマイクロ波加熱装置に関する。
係り、とく密封容器内にターンテーブルを装備すると共
に、このターンテーブル上の被加熱物にマイクロ波を照
射して加熱するマイクロ波加熱装置に関する。
【0002】
【従来の技術】この種のマイクロ波加熱装置としては、
従来より電子レンジ若しくはこれと同一原理のものが比
較的良く知られている。この場合、密封容器内のターン
テーブルは、耐久性および原価低減等の理由から従来よ
り円軌道のもの多く使用されている。
従来より電子レンジ若しくはこれと同一原理のものが比
較的良く知られている。この場合、密封容器内のターン
テーブルは、耐久性および原価低減等の理由から従来よ
り円軌道のもの多く使用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例にあっては、密封容器内での被加熱物が単純に円軌
道を移動するに留められており、このため照射ムラがで
き、均一加熱ができないという不都合が生じていた。ま
た、酸素免疫反応の反応時間短縮を図るために複数の試
験管を対象として上記従来例を使用した場合、各試験管
(実際には内部の液体試料)を均一に加熱することが出
来ないという不都合が生じていた。
来例にあっては、密封容器内での被加熱物が単純に円軌
道を移動するに留められており、このため照射ムラがで
き、均一加熱ができないという不都合が生じていた。ま
た、酸素免疫反応の反応時間短縮を図るために複数の試
験管を対象として上記従来例を使用した場合、各試験管
(実際には内部の液体試料)を均一に加熱することが出
来ないという不都合が生じていた。
【0004】
【発明の目的】本発明は、かかる従来例の有する不都合
を改善し、とくに一又は二以上の被加熱物全体をそれぞ
れ配置場所如何にかかわらずムラなく加熱することが可
能なマイクロ波加熱装置を提供することを、その目的と
する。
を改善し、とくに一又は二以上の被加熱物全体をそれぞ
れ配置場所如何にかかわらずムラなく加熱することが可
能なマイクロ波加熱装置を提供することを、その目的と
する。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明では、密封可能に
形成された箱型のチャンバと、このチャンバ内の空間に
マイクロ波を放射するマイクロ波出力手段と、前記チャ
ンバ内に装備されたターンテーブル機構と、このターン
テーブル機構の一部に装備された被加熱物載置部とを備
えている。
形成された箱型のチャンバと、このチャンバ内の空間に
マイクロ波を放射するマイクロ波出力手段と、前記チャ
ンバ内に装備されたターンテーブル機構と、このターン
テーブル機構の一部に装備された被加熱物載置部とを備
えている。
【0006】この内、ターンテーブル機構は、チャンバ
内の底部分に固定され上方が開口された支持枠体と、こ
の支持枠体の中心線上に回転自在に装備された回転主軸
部と、この回転主軸部と同軸に装備された太陽ギヤと、
この太陽ギヤの周囲に配設されアーム部材に回転自在に
支持されて回転主軸部により自転力および公転力が付勢
される複数の遊星ギヤとを含んで構成されている。
内の底部分に固定され上方が開口された支持枠体と、こ
の支持枠体の中心線上に回転自在に装備された回転主軸
部と、この回転主軸部と同軸に装備された太陽ギヤと、
この太陽ギヤの周囲に配設されアーム部材に回転自在に
支持されて回転主軸部により自転力および公転力が付勢
される複数の遊星ギヤとを含んで構成されている。
【0007】また、被加熱物載置部は各遊星ギヤの各々
に個別に装備され、マイクロ波出力手段のマイクロ波放
射部がチャンバ内の所定箇所に配置されている。
に個別に装備され、マイクロ波出力手段のマイクロ波放
射部がチャンバ内の所定箇所に配置されている。
【0008】そして、回転主軸部に付勢されて回転する
マイクロ波用回転反射体(スターラ)を、前述したマイ
クロ波放射部に対応してチャンバ内に装備する、という
構成を採っている。これによって前述した目的を達成し
ようとするものである。
マイクロ波用回転反射体(スターラ)を、前述したマイ
クロ波放射部に対応してチャンバ内に装備する、という
構成を採っている。これによって前述した目的を達成し
ようとするものである。
【0009】
【作 用】装置全体が作動しマイクロ波用回転反射体
(スターラ)が回転すると、マイクロ波放射部から放射
されるマイクロ波は、マイクロ波反射フィン機構の各フ
ィンによって間欠的に反射撹拌される。これによって、
チャンバ内壁からの反射も作用して当該チャンバ内の空
間では各被加熱物載置部に対するマイクロ波の放射が均
一化される。同時にスターラの回転により、チャンバ内
の空気も撹拌されるため、チャンバ内の温度の均一化は
更に促進される。
(スターラ)が回転すると、マイクロ波放射部から放射
されるマイクロ波は、マイクロ波反射フィン機構の各フ
ィンによって間欠的に反射撹拌される。これによって、
チャンバ内壁からの反射も作用して当該チャンバ内の空
間では各被加熱物載置部に対するマイクロ波の放射が均
一化される。同時にスターラの回転により、チャンバ内
の空気も撹拌されるため、チャンバ内の温度の均一化は
更に促進される。
【0010】
【実施例】以下、本発明の第1実施例を図1乃至図3に
基づいて説明する。
基づいて説明する。
【0011】まず、図1において、符号1は密封可能に
形成された箱型のチャンバを示す。このチャンバ1には
当該チャンバ1内の空間にマイクロ波を放射するマイク
ロ波出力手段2が併設されている。このマイクロ波出力
手段2は、マイクロ波発生部材2Aと、このマイクロ波
発生部材2Aから出力されるマイクロ波を増幅するマイ
クロ波増幅部2Bとを備えた構成となっている。
形成された箱型のチャンバを示す。このチャンバ1には
当該チャンバ1内の空間にマイクロ波を放射するマイク
ロ波出力手段2が併設されている。このマイクロ波出力
手段2は、マイクロ波発生部材2Aと、このマイクロ波
発生部材2Aから出力されるマイクロ波を増幅するマイ
クロ波増幅部2Bとを備えた構成となっている。
【0012】符号2Cは、チャンバ1内の図1における
上部中央に設けられたマイクロ波放射部を示す。そし
て、このマイクロ波増幅部2Bで増幅されたマイクロ波
は、チャンバ1内のマイクロ波放射部2Cから、チャン
バ1内の被加熱物に向けて放射されるようになってい
る。
上部中央に設けられたマイクロ波放射部を示す。そし
て、このマイクロ波増幅部2Bで増幅されたマイクロ波
は、チャンバ1内のマイクロ波放射部2Cから、チャン
バ1内の被加熱物に向けて放射されるようになってい
る。
【0013】チャンバ1内にはターンテーブル機構3が
装備されている。
装備されている。
【0014】このターンテーブル機構3は、チャンバ1
内の底部分に固定され上方が開口された断面コ字状の支
持枠体4と、この支持枠体4の中心線上に回転自在に装
備された回転主軸部5と、この回転主軸部5の先端部に
装備された太陽ギヤ6と、この太陽ギヤ6の周囲に配設
された複数(本実施例では二つ)の遊星ギヤ7,8と、
この遊星ギヤ7,8に共通に噛合すると共に支持枠体4
の開口部4Aに固定装備された内歯歯車9とを備えてい
る。
内の底部分に固定され上方が開口された断面コ字状の支
持枠体4と、この支持枠体4の中心線上に回転自在に装
備された回転主軸部5と、この回転主軸部5の先端部に
装備された太陽ギヤ6と、この太陽ギヤ6の周囲に配設
された複数(本実施例では二つ)の遊星ギヤ7,8と、
この遊星ギヤ7,8に共通に噛合すると共に支持枠体4
の開口部4Aに固定装備された内歯歯車9とを備えてい
る。
【0015】遊星ギヤ7,8の上面部分には、ターンテ
ーブルとしての被加熱物載置部11,12が装備されて
いる。この被加熱物載置部11,12は、酸素免疫反応
を得るために載置された複数の試験管Tを保持するため
のものである。符号11a,12aはそれぞれ取り付け
枠を示す。
ーブルとしての被加熱物載置部11,12が装備されて
いる。この被加熱物載置部11,12は、酸素免疫反応
を得るために載置された複数の試験管Tを保持するため
のものである。符号11a,12aはそれぞれ取り付け
枠を示す。
【0016】遊星ギヤ7,8は、固定支軸7A,8Aを
介してアーム部材20に回転自在に装備されている。ま
た、このアーム部材20は、その中心部で前述した回転
主軸部5に回転自在に装備されている。符号5Aはベア
リングを示す。そして、回転主軸部5には駆動モータ2
1が直結されている。この駆動モータ21は外部操作に
よってその回転速度が自由に可変設定することができる
ようになっている。符号22はモータ用の支持プレート
を示す。また、符号1A,1Bはチャンバ1用の支柱を
示す。
介してアーム部材20に回転自在に装備されている。ま
た、このアーム部材20は、その中心部で前述した回転
主軸部5に回転自在に装備されている。符号5Aはベア
リングを示す。そして、回転主軸部5には駆動モータ2
1が直結されている。この駆動モータ21は外部操作に
よってその回転速度が自由に可変設定することができる
ようになっている。符号22はモータ用の支持プレート
を示す。また、符号1A,1Bはチャンバ1用の支柱を
示す。
【0017】チャンバ1内には、更に、前述した回転主
軸部5にその支軸部が支持されて一体的に回転するマイ
クロ波用回転反射体(スターラ)30が装備されてい
る。
軸部5にその支軸部が支持されて一体的に回転するマイ
クロ波用回転反射体(スターラ)30が装備されてい
る。
【0018】このスターラ30は、回転主軸部5に支持
されて当該回転主軸部5に同軸に植設されたフィン支持
軸31と、このフィン支持軸31の図1における上端部
に装備された8枚羽根の反射フィン部32とにより構成
されている。この反射フィン部32は、前述した被加熱
物載置部11,12上の空間部分に当該被加熱物載置部
11,12に対し所定間隔を隔てて配置されている。そ
して、このスターラ30は、回転主軸部5と一体となっ
て回転するようになっている。
されて当該回転主軸部5に同軸に植設されたフィン支持
軸31と、このフィン支持軸31の図1における上端部
に装備された8枚羽根の反射フィン部32とにより構成
されている。この反射フィン部32は、前述した被加熱
物載置部11,12上の空間部分に当該被加熱物載置部
11,12に対し所定間隔を隔てて配置されている。そ
して、このスターラ30は、回転主軸部5と一体となっ
て回転するようになっている。
【0019】次に、上記第1実施例の動作を説明する。
【0020】まず、駆動モータ21およびマイクロ波出
力手段2を稼働状態に設定すると、回転主軸部5及び太
陽ギヤ6が同時に回転し、マイクロ波放射部2Cからチ
ャンバ1内の被加熱物に向けてマイクロ波が放射され
る。
力手段2を稼働状態に設定すると、回転主軸部5及び太
陽ギヤ6が同時に回転し、マイクロ波放射部2Cからチ
ャンバ1内の被加熱物に向けてマイクロ波が放射され
る。
【0021】また、太陽ギヤ6の回転は、遊星ギヤ7,
8に伝達され該遊星ギヤ7,8が自転と公転を同時に開
始する。即ち、図2(A)において、太陽ギヤ6が矢印
A方向(左回り)に回転すると、これに付勢されて遊星
ギヤ7,8がそれぞれ矢印B方向(右回り)に回転す
る。一方遊星ギヤ7,8は前述したように内歯歯車9に
噛合しているため、この内歯歯車9の内周面に沿うよう
にして太陽ギヤ6の回りを矢印C方向(即ち左回り)に
公転する。
8に伝達され該遊星ギヤ7,8が自転と公転を同時に開
始する。即ち、図2(A)において、太陽ギヤ6が矢印
A方向(左回り)に回転すると、これに付勢されて遊星
ギヤ7,8がそれぞれ矢印B方向(右回り)に回転す
る。一方遊星ギヤ7,8は前述したように内歯歯車9に
噛合しているため、この内歯歯車9の内周面に沿うよう
にして太陽ギヤ6の回りを矢印C方向(即ち左回り)に
公転する。
【0022】従って、遊星ギヤ7,8上の被加熱物載置
部11,12は、それぞれ自転しながら太陽ギヤ6の回
りを公転することとなり、このため、複数の試験管Tも
それぞれ被加熱物載置部11,12と共に一体的にそれ
ぞれ自転しながら太陽ギヤ6の回りを公転する。
部11,12は、それぞれ自転しながら太陽ギヤ6の回
りを公転することとなり、このため、複数の試験管Tも
それぞれ被加熱物載置部11,12と共に一体的にそれ
ぞれ自転しながら太陽ギヤ6の回りを公転する。
【0023】図2(B)は遊星ギヤ7,8の自転と公転
が開始された直後の状態を例示的に示したもので、図2
(C)は公転が1/4回転進んだ場合の状態を例示した
ものである。この場合、被加熱物載置部11,12の自
転及び公転の各回転数および回転速度は太陽ギヤ6,遊
星ギヤ7,8および内歯歯車9の各歯数によって決定さ
れる。
が開始された直後の状態を例示的に示したもので、図2
(C)は公転が1/4回転進んだ場合の状態を例示した
ものである。この場合、被加熱物載置部11,12の自
転及び公転の各回転数および回転速度は太陽ギヤ6,遊
星ギヤ7,8および内歯歯車9の各歯数によって決定さ
れる。
【0024】また、上記回転主軸部5の回転と同時に、
前述したスターラ30も回転主軸部5と一体となって回
転する。
前述したスターラ30も回転主軸部5と一体となって回
転する。
【0025】このため、被加熱物載置部11,12上に
載置された複数の試験管Tは、チャンバ1内でいろいろ
な位置に向きをとるため、試験管Tは、チャンバ1内で
の位置が連続的に変化し、同時にスターラ30によるマ
イクロ波の反射撹拌作用もあって、マイクロ波はチャン
バ1内全体にわたって均一に反射伝搬することとなる。
載置された複数の試験管Tは、チャンバ1内でいろいろ
な位置に向きをとるため、試験管Tは、チャンバ1内で
の位置が連続的に変化し、同時にスターラ30によるマ
イクロ波の反射撹拌作用もあって、マイクロ波はチャン
バ1内全体にわたって均一に反射伝搬することとなる。
【0026】その結果、チャンバ1内は、全体的にマイ
クロ波の照射ムラが少なくなり、内部温度も全体的に均
一化される。同時にチャンバ1内の空気もスターラ30
で撹拌されるため、チャンバ1内はかかる点においても
内部温度の均一化が促進されるようになっている。
クロ波の照射ムラが少なくなり、内部温度も全体的に均
一化される。同時にチャンバ1内の空気もスターラ30
で撹拌されるため、チャンバ1内はかかる点においても
内部温度の均一化が促進されるようになっている。
【0027】図3に比較実験の結果(チャンバ1内の温
度測定)を示す。この内、図3(A)はスターラ30を
装備しない場合を示し、図3(B)はスターラ30を装
備した場合を示す。
度測定)を示す。この内、図3(A)はスターラ30を
装備しない場合を示し、図3(B)はスターラ30を装
備した場合を示す。
【0028】これより、スターラ30を装備した場合に
方が、チャンバ1内は、全体的に温度分布の均一化がみ
られる。即ち、これで、スターラ30を装備した場合に
方が、マイクロ波の照射ムラが少ないことがわかる。
方が、チャンバ1内は、全体的に温度分布の均一化がみ
られる。即ち、これで、スターラ30を装備した場合に
方が、マイクロ波の照射ムラが少ないことがわかる。
【0029】次に、第2実施例を図4乃至図7に基づい
て説明する。
て説明する。
【0030】この図4乃至図7に示す第2実施例は、前
述した図1の実施例において開示したターンテーブル機
構部分の他の例を示すもので、図4は概略構成図を示
し、図5は太陽歯車と遊星歯車およびターンテーブルと
の関係を示し、図6は図4のターンテーブル部分を示す
概略斜視図である。また、図7は図5のターンテーブル
の回転面を示す図である。
述した図1の実施例において開示したターンテーブル機
構部分の他の例を示すもので、図4は概略構成図を示
し、図5は太陽歯車と遊星歯車およびターンテーブルと
の関係を示し、図6は図4のターンテーブル部分を示す
概略斜視図である。また、図7は図5のターンテーブル
の回転面を示す図である。
【0031】この図4乃至図7において、ターンテーブ
ル機構33は、チャンバ1内の底部中央に固定され上方
が開口された円筒状支持枠体34と、この円筒状支持枠
体34の開口34A部分に装備された太陽ギヤ35と、
この太陽ギヤ35の周囲に配設された四個の遊星ギヤ3
6,37,38,39とを備えている。
ル機構33は、チャンバ1内の底部中央に固定され上方
が開口された円筒状支持枠体34と、この円筒状支持枠
体34の開口34A部分に装備された太陽ギヤ35と、
この太陽ギヤ35の周囲に配設された四個の遊星ギヤ3
6,37,38,39とを備えている。
【0032】この各四個の遊星ギヤ36〜39は、アー
ム部材40Aにより回転自在に支持されている。このア
ーム部材40Aは、円筒状支持枠体33の中心線上に回
転自在に装備された回転主軸部40に連結され支持され
ている。また、各遊星ギヤ36〜39にはターンテーブ
ル41〜44が個別に装備されている。更に、遊星ギヤ
36〜39の各々には、図7に示すように被加熱物載置
部50が個別に設けられている。
ム部材40Aにより回転自在に支持されている。このア
ーム部材40Aは、円筒状支持枠体33の中心線上に回
転自在に装備された回転主軸部40に連結され支持され
ている。また、各遊星ギヤ36〜39にはターンテーブ
ル41〜44が個別に装備されている。更に、遊星ギヤ
36〜39の各々には、図7に示すように被加熱物載置
部50が個別に設けられている。
【0033】また、符号45は駆動モータを示す。この
駆動モータ45の回転力は、ウオーム45A及びウオー
ム歯車45Bを介して前述した回転主軸部40に伝達さ
れるようになっている。符号46は軸受けを示す。
駆動モータ45の回転力は、ウオーム45A及びウオー
ム歯車45Bを介して前述した回転主軸部40に伝達さ
れるようになっている。符号46は軸受けを示す。
【0034】更に、前述したアーム部材40Aには、各
ターンテーブル41〜44の公転と一体的に回転するカ
バープレート47が装備されている。このカバープレー
ト47は、円板状部材を素材として前述した各ターンテ
ーブル41〜44の配置部分に、当該各ターンテーブル
41〜44を収納し配置するための貫通穴47A〜47
Dを備えている。
ターンテーブル41〜44の公転と一体的に回転するカ
バープレート47が装備されている。このカバープレー
ト47は、円板状部材を素材として前述した各ターンテ
ーブル41〜44の配置部分に、当該各ターンテーブル
41〜44を収納し配置するための貫通穴47A〜47
Dを備えている。
【0035】このため、図4,図7に示すように、各タ
ーンテーブル41〜44とカバープレート47とは、そ
の各上面が同一面上に位置するように設定されている。
ここで、符号48は被加熱物載置部を固定するための固
定治具を示す。また、符号1Hはカバープレート47の
回転を許容する貫通穴を示す。
ーンテーブル41〜44とカバープレート47とは、そ
の各上面が同一面上に位置するように設定されている。
ここで、符号48は被加熱物載置部を固定するための固
定治具を示す。また、符号1Hはカバープレート47の
回転を許容する貫通穴を示す。
【0036】更に、マイクロ波用回転反射体(スター
ラ)30が、前述した図1の実施例の場合と同様に回転
主軸部40上に装備されている。その他の構成は、前述
した第1実施例と同一となっている。
ラ)30が、前述した図1の実施例の場合と同様に回転
主軸部40上に装備されている。その他の構成は、前述
した第1実施例と同一となっている。
【0037】このようにしても前述した第1実施例と同
一の作用効果を有するほか、とくに外側の歯車が不要と
なることから全体的に小型化することができ、ターンテ
ーブル41〜44以外の箇所をマイクロ波反射シート等
で覆うことが容易となり、かかる点において、そのため
の複雑な装備が不要となり原価低減を図り得るという利
点がある。
一の作用効果を有するほか、とくに外側の歯車が不要と
なることから全体的に小型化することができ、ターンテ
ーブル41〜44以外の箇所をマイクロ波反射シート等
で覆うことが容易となり、かかる点において、そのため
の複雑な装備が不要となり原価低減を図り得るという利
点がある。
【0038】次に、第3実施例を図8に基づいて説明す
る。
る。
【0039】この図8に示す第3実施例は、前述した図
1及び図4に示す各実施例において開示したマイクロ波
用回転反射体(スターラ)の他の例を示すものである。
1及び図4に示す各実施例において開示したマイクロ波
用回転反射体(スターラ)の他の例を示すものである。
【0040】即ち、この第3実施例では、マイクロ波用
回転反射体(スターラ)を四組設けると共に、この四組
の各マイクロ波用回転反射体(スターラ)51,52,
53,54を、その各支軸51A,52A,53A,5
4Aを介して各被加熱物載置部の各ターンテーブル4
1,42,43,44の中央部に個別に植設した点に特
長を有する。その他の構成は前述した図4の第2実施例
と同一となっている。
回転反射体(スターラ)を四組設けると共に、この四組
の各マイクロ波用回転反射体(スターラ)51,52,
53,54を、その各支軸51A,52A,53A,5
4Aを介して各被加熱物載置部の各ターンテーブル4
1,42,43,44の中央部に個別に植設した点に特
長を有する。その他の構成は前述した図4の第2実施例
と同一となっている。
【0041】このようにしても前述した図4の第2実施
例とほぼ同一の作用効果を有するものを得ることができ
る。
例とほぼ同一の作用効果を有するものを得ることができ
る。
【0042】
【発明の効果】本発明は以上のように構成され機能する
ので、これによると、マイクロ波用回転反射体(スター
ラ)の作用によって各被加熱物載置部に対するマイクロ
波照射の均一化が促進され,同時に内部の空気がマイク
ロ波反射フィンによって撹拌されることから、かかる点
においてもチャンバ内の内部温度の均一化が促進され、
これによって、各被加熱物載置部に載置される複数の被
加熱物を均一に且つ迅速に加熱するすることができると
いう従来にない優れたマイクロ波加熱装置を提供するこ
とができる。
ので、これによると、マイクロ波用回転反射体(スター
ラ)の作用によって各被加熱物載置部に対するマイクロ
波照射の均一化が促進され,同時に内部の空気がマイク
ロ波反射フィンによって撹拌されることから、かかる点
においてもチャンバ内の内部温度の均一化が促進され、
これによって、各被加熱物載置部に載置される複数の被
加熱物を均一に且つ迅速に加熱するすることができると
いう従来にない優れたマイクロ波加熱装置を提供するこ
とができる。
【図1】本発明の第1実施例を示す一部省略した概略構
成図である。
成図である。
【図2】図1に示す実施例の動作を示す説明図である。
【図3】図1における実施例の被加熱物が載置された位
置の温度分布を示す図で、図3(A)はスターラを装備
し無い場合を示し、図3(B)はスターラを装備した場
合を示す。
置の温度分布を示す図で、図3(A)はスターラを装備
し無い場合を示し、図3(B)はスターラを装備した場
合を示す。
【図4】本発明の第2実施例を示す一部省略した概略構
成図である。
成図である。
【図5】図4に於ける歯車の配置関係を示す説明図であ
る。
る。
【図6】図4のスターラ部分を示す斜視図である。
【図7】図4の一部省略した平面図である。
【図8】本発明の第3実施例におけるスターラ部分を示
す斜視図である。
す斜視図である。
1 チャンバ 2 マイクロ波出力手段 3,33 ターンテーブル機構 4 支持枠体 4A 支持枠体の開口部 5,40 回転主軸部 6 太陽ギヤ 7,8,36,37,38,39 遊星ギヤ 11,12,50被加熱物載置部 30,51,52,53,54 マイクロ波用回転反射
体(スターラ) 34 円筒状支持枠体 40A アーム部材
体(スターラ) 34 円筒状支持枠体 40A アーム部材
Claims (3)
- 【請求項1】 密封可能に形成された箱型のチャンバ
と、このチャンバ内の空間にマイクロ波を放射するマイ
クロ波出力手段と、前記チャンバ内に装備されたターン
テーブル機構と、このターンテーブル機構の一部に装備
された被加熱物載置部とを備えてなるマイクロ波加熱装
置において、 前記ターンテーブル機構を、前記チャンバ内の底部分に
固定され上方が開口された支持枠体と、この支持枠体の
中心線上に回転自在に装備された回転主軸部と、この回
転主軸部と同軸に装備された太陽ギヤと、この太陽ギヤ
の周囲に配設された複数の遊星ギヤとを含む構成とし、 前記被加熱物載置部を前記遊星ギヤの各々に個別に装備
するとともに、前記マイクロ波出力手段のマイクロ波放
射部を前記チャンバ内の所定箇所に装備し、 前記回転主軸部に付勢されて回転するマイクロ波用回転
反射体を、前記マイクロ波放射部に対応して前記チャン
バ内に装備したことを特徴とするマイクロ波加熱装置。 - 【請求項2】 前記マイクロ波用回転反射体を、その支
軸部を介して前記回転主軸部上に装備したことを特徴と
する請求項1記載のマイクロ波加熱装置。 - 【請求項3】 前記マイクロ波用回転反射体を複数設け
ると共に、これらの各マイクロ波用回転反射体を、その
各支軸部を介して前記各複数の遊星ギヤ部分の各ターン
テーブルに個別に装備したことを特徴とする請求項1記
載のマイクロ波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6197924A JPH0845656A (ja) | 1994-07-30 | 1994-07-30 | マイクロ波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6197924A JPH0845656A (ja) | 1994-07-30 | 1994-07-30 | マイクロ波加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0845656A true JPH0845656A (ja) | 1996-02-16 |
Family
ID=16382548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6197924A Withdrawn JPH0845656A (ja) | 1994-07-30 | 1994-07-30 | マイクロ波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0845656A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1994
- 1994-07-30 JP JP6197924A patent/JPH0845656A/ja not_active Withdrawn
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