JPH0845892A - 回転処理装置 - Google Patents
回転処理装置Info
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- JPH0845892A JPH0845892A JP6201317A JP20131794A JPH0845892A JP H0845892 A JPH0845892 A JP H0845892A JP 6201317 A JP6201317 A JP 6201317A JP 20131794 A JP20131794 A JP 20131794A JP H0845892 A JPH0845892 A JP H0845892A
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- cup
- rotation processing
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 被処理体の表面に処理液が再付着することを
防止できる手段を提供する。 【構成】 カップの内部において回転する被処理体の表
面に処理液を供給し、該処理液をその遠心力によって被
処理体の周囲に飛散させて処理を行う回転処理装置にお
いて、遠心力によって被処理体の周囲に飛散された上記
処理液をカップの下方に案内する案内手段を設ける。ま
た、被処理体と共に回転して被処理体とカップとの間に
おいて下降気流を発生させる気流発生手段を設ける。
防止できる手段を提供する。 【構成】 カップの内部において回転する被処理体の表
面に処理液を供給し、該処理液をその遠心力によって被
処理体の周囲に飛散させて処理を行う回転処理装置にお
いて、遠心力によって被処理体の周囲に飛散された上記
処理液をカップの下方に案内する案内手段を設ける。ま
た、被処理体と共に回転して被処理体とカップとの間に
おいて下降気流を発生させる気流発生手段を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カップの内部におい
て、例えば半導体ウェハやＬＣＤ基板などを回転させて
その上方より例えばリンス液の如き処理液を供給し、該
処理液をその遠心力によって被処理体の周囲に飛散させ
て処理を行う回転処理装置に関する。
て、例えば半導体ウェハやＬＣＤ基板などを回転させて
その上方より例えばリンス液の如き処理液を供給し、該
処理液をその遠心力によって被処理体の周囲に飛散させ
て処理を行う回転処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、半導体の製造においては、被処
理体である半導体ウェハやＬＣＤ基板などの表面にレジ
ストパターンを形成させるために、いわゆるリソグラフ
ィ工程が行われている。このリソグラフィ工程は、被処
理体の洗浄、被処理体の表面へのレジストの塗布、その
レジストの露光、現像など、種々の工程を含んでいる。
理体である半導体ウェハやＬＣＤ基板などの表面にレジ
ストパターンを形成させるために、いわゆるリソグラフ
ィ工程が行われている。このリソグラフィ工程は、被処
理体の洗浄、被処理体の表面へのレジストの塗布、その
レジストの露光、現像など、種々の工程を含んでいる。
【０００３】以上のようなリソグラフィ工程において、
スクラバを例にとって説明すると、カップの内部に回転
自在なスピンチャックが配置されており、このスピンチ
ャックの上に例えばＬＣＤ基板などの被処理体を装着し
てこれを回転させると共に、回転する被処理体の表面に
例えばリンス液などの処理液を供給している。そして、
処理液をその遠心力によって被処理体の周囲に飛散させ
ることにより、被処理体の表面を洗浄すると同時に、カ
ップの内部に浮遊しているダストやミスト、その他の有
害ガス、悪臭等を除去する構成になっている。
スクラバを例にとって説明すると、カップの内部に回転
自在なスピンチャックが配置されており、このスピンチ
ャックの上に例えばＬＣＤ基板などの被処理体を装着し
てこれを回転させると共に、回転する被処理体の表面に
例えばリンス液などの処理液を供給している。そして、
処理液をその遠心力によって被処理体の周囲に飛散させ
ることにより、被処理体の表面を洗浄すると同時に、カ
ップの内部に浮遊しているダストやミスト、その他の有
害ガス、悪臭等を除去する構成になっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、かかるスク
ラバにおいては、被処理体の表面に供給されその遠心力
で被処理体の周囲に飛散した例えばリンス液などの処理
液がミストとなってカップ内で浮遊し、それが被処理体
の表面に再付着するといった問題を生じていた。そし
て、このようにミストとなった処理液が被処理体の表面
に再付着することにより、洗浄後の被処理体の表面にウ
ォーターマークが発生したり、パーティクルが付着した
りすることにより、表面清浄が劣化されるという課題が
あった。
ラバにおいては、被処理体の表面に供給されその遠心力
で被処理体の周囲に飛散した例えばリンス液などの処理
液がミストとなってカップ内で浮遊し、それが被処理体
の表面に再付着するといった問題を生じていた。そし
て、このようにミストとなった処理液が被処理体の表面
に再付着することにより、洗浄後の被処理体の表面にウ
ォーターマークが発生したり、パーティクルが付着した
りすることにより、表面清浄が劣化されるという課題が
あった。
【０００５】ここで、以上のようなミストとなった処理
液が被処理体の表面に再付着するといった問題の解決策
として、先ず、被処理体の下方において排気ポンプでカ
ップ内雰囲気を吸引するといった方法が試みられた。し
かし、この方法は装置構成上実現が相当に困難である。
特に、被処理体の表面を洗浄するスクラバの他、例えば
被処理体の表面に所定の膜などを形成する成膜装置等を
備えて構成される処理システにおいては、各処理装置内
を共同廃棄する構成になっているため、スクラバ内を吸
引排気するための排気ポンプを特別に設置するといった
ことは現状では不可能であった。
液が被処理体の表面に再付着するといった問題の解決策
として、先ず、被処理体の下方において排気ポンプでカ
ップ内雰囲気を吸引するといった方法が試みられた。し
かし、この方法は装置構成上実現が相当に困難である。
特に、被処理体の表面を洗浄するスクラバの他、例えば
被処理体の表面に所定の膜などを形成する成膜装置等を
備えて構成される処理システにおいては、各処理装置内
を共同廃棄する構成になっているため、スクラバ内を吸
引排気するための排気ポンプを特別に設置するといった
ことは現状では不可能であった。
【０００６】また、被処理体の周囲を囲んでいるカップ
の形状を種々に変形させることにより、処理液がカップ
内で浮遊しないようにする方法も多々試みられたが、実
用化されるほど効果の上がるものは得られていない。
の形状を種々に変形させることにより、処理液がカップ
内で浮遊しないようにする方法も多々試みられたが、実
用化されるほど効果の上がるものは得られていない。
【０００７】従って本発明の目的は、被処理体の表面に
処理液が再付着することを防止できる手段を提供するこ
とにある。
処理液が再付着することを防止できる手段を提供するこ
とにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、カップ
の内部において回転する被処理体の表面に処理液を供給
し、該処理液をその遠心力によって被処理体の周囲に飛
散させて処理を行うものにおいて、遠心力によって被処
理体の周囲に飛散された上記処理液をカップの下方に案
内する案内手段を設けたことを特徴とする回転処理装置
が提供される。
の内部において回転する被処理体の表面に処理液を供給
し、該処理液をその遠心力によって被処理体の周囲に飛
散させて処理を行うものにおいて、遠心力によって被処
理体の周囲に飛散された上記処理液をカップの下方に案
内する案内手段を設けたことを特徴とする回転処理装置
が提供される。
【０００９】この回転処理装置における上記案内手段
は、カップ内面に対して固定された静翼とすることがで
き、また、該静翼は、入口角が水平な曲面板で構成する
ことができる。
は、カップ内面に対して固定された静翼とすることがで
き、また、該静翼は、入口角が水平な曲面板で構成する
ことができる。
【００１０】また本発明によれば、カップの内部におい
て回転する被処理体の表面に処理液を供給し、該処理液
をその遠心力によって被処理体の周囲に飛散させて処理
を行うものにおいて、被処理体と共に回転して被処理体
とカップとの間において下降気流を発生させる気流発生
手段を設けたことを特徴とする回転処理装置が併せて提
供される。
て回転する被処理体の表面に処理液を供給し、該処理液
をその遠心力によって被処理体の周囲に飛散させて処理
を行うものにおいて、被処理体と共に回転して被処理体
とカップとの間において下降気流を発生させる気流発生
手段を設けたことを特徴とする回転処理装置が併せて提
供される。
【００１１】この回転処理装置にあっては、更に、上記
気流発生手段によって発生された下降気流をカップの下
方に案内する案内手段を設けることができる。そして、
上記気流発生手段は、上記被処理体と共に回転すること
によって下降気流を発生させる動翼とすることができ、
上記案内手段は、カップ内面に対して固定された静翼と
することができる。また、該静翼は、入口角が上記気流
発生手段によって発生された下降気流と平行な曲面板で
構成することができる。
気流発生手段によって発生された下降気流をカップの下
方に案内する案内手段を設けることができる。そして、
上記気流発生手段は、上記被処理体と共に回転すること
によって下降気流を発生させる動翼とすることができ、
上記案内手段は、カップ内面に対して固定された静翼と
することができる。また、該静翼は、入口角が上記気流
発生手段によって発生された下降気流と平行な曲面板で
構成することができる。
【００１２】
【作用】例えば半導体ウェハやＬＣＤ基板などの洗浄等
を行うスクラバの如き回転処理装置にあっては、カップ
の内部において被処理体を回転させてその上方から処理
液を供給し、被処理体の周囲に遠心力で処理液を飛散さ
せるようになっている。かかる回転処理装置にあっては
遠心力で被処理体の周囲に飛散した処理液が、ミストと
なってカップ内で浮遊し、それが再付着することによっ
て洗浄後の被処理体の表面清浄を劣化させる要因とな
る。
を行うスクラバの如き回転処理装置にあっては、カップ
の内部において被処理体を回転させてその上方から処理
液を供給し、被処理体の周囲に遠心力で処理液を飛散さ
せるようになっている。かかる回転処理装置にあっては
遠心力で被処理体の周囲に飛散した処理液が、ミストと
なってカップ内で浮遊し、それが再付着することによっ
て洗浄後の被処理体の表面清浄を劣化させる要因とな
る。
【００１３】本発明者らは以上のようなＬＣＤ基板など
の洗浄等を回転処理によって行うカップの内面にタフト
と呼ばれる糸状のものを装着して、回転処理時において
カップ内で発生している気流の状況を調べ、被処理体の
周囲に飛散した処理液がどのような現象によってカップ
内でミストとなって浮遊するか、その原因の究明を行っ
た。その結果、遠心力で被処理体の周囲に飛散した処理
液は、カップ内面付近で上昇させられてミストとなって
再び被処理体の表面に落下するといった、カップ内にお
ける循環流が発生していることが分かった。
の洗浄等を回転処理によって行うカップの内面にタフト
と呼ばれる糸状のものを装着して、回転処理時において
カップ内で発生している気流の状況を調べ、被処理体の
周囲に飛散した処理液がどのような現象によってカップ
内でミストとなって浮遊するか、その原因の究明を行っ
た。その結果、遠心力で被処理体の周囲に飛散した処理
液は、カップ内面付近で上昇させられてミストとなって
再び被処理体の表面に落下するといった、カップ内にお
ける循環流が発生していることが分かった。
【００１４】そこで、本発明者らは上記のように、遠心
力によって被処理体の周囲に飛散された上記処理液をカ
ップの下方に案内する案内手段を設けるか、または、被
処理体と共に回転して被処理体とカップとの間において
下降気流を発生させる気流発生手段を設けることによっ
て、そのようなカップ内における循環流の発生を妨げる
こととした。かかる本発明によれば、被処理体の周囲に
遠心力によって飛散された処理液を案内手段で下方に案
内することにより、処理液がカップ内上方に舞い上がろ
うとすることを防ぐことができる。また、被処理体の周
囲に設けた気流発生手段を被処理体と共に回転させるこ
とによってカップ内において下降気流が発生し、この下
降気流により被処理体の周囲に飛散された処理液を下方
に排気することが可能になる。このように、本発明によ
れば被処理体の周囲に飛散された処理液を案内手段や気
流発生手段を用いて下方に強制排気することによってカ
ップ内における循環流の発生を防止でき、処理液が洗浄
後の被処理体の表面に再付着するといった問題を回避で
きるようになる。
力によって被処理体の周囲に飛散された上記処理液をカ
ップの下方に案内する案内手段を設けるか、または、被
処理体と共に回転して被処理体とカップとの間において
下降気流を発生させる気流発生手段を設けることによっ
て、そのようなカップ内における循環流の発生を妨げる
こととした。かかる本発明によれば、被処理体の周囲に
遠心力によって飛散された処理液を案内手段で下方に案
内することにより、処理液がカップ内上方に舞い上がろ
うとすることを防ぐことができる。また、被処理体の周
囲に設けた気流発生手段を被処理体と共に回転させるこ
とによってカップ内において下降気流が発生し、この下
降気流により被処理体の周囲に飛散された処理液を下方
に排気することが可能になる。このように、本発明によ
れば被処理体の周囲に飛散された処理液を案内手段や気
流発生手段を用いて下方に強制排気することによってカ
ップ内における循環流の発生を防止でき、処理液が洗浄
後の被処理体の表面に再付着するといった問題を回避で
きるようになる。
【００１５】
【実施例】以下に本発明の実施例を、被処理体の表面を
リンス液を用いて洗浄するスクラバに基づいて詳述す
る。図１はスクラバ１の断面図、図２はスクラバ１の平
面図、図３はスクラバ１が配置された処理システム２の
全体構成を示す斜視図である。
リンス液を用いて洗浄するスクラバに基づいて詳述す
る。図１はスクラバ１の断面図、図２はスクラバ１の平
面図、図３はスクラバ１が配置された処理システム２の
全体構成を示す斜視図である。
【００１６】まず、図３に示す処理システム２から説明
する。この処理システム２は、その一側に被処理体Ｗと
して例えば半導体ウェハを収容する複数のカセット１０
を載置可能に構成したキャリアステーション１１を有
し、キャリアステーション１１の中央部には被処理体Ｗ
の搬送及び位置決めを行うと共に被処理体Ｗを保持して
メンアーム１２との間で受け渡しを行う補助アーム１３
が設けられている。メインアーム１２は、処理システム
２の中央部を長手方向に移動可能に、２基直列に配置さ
れており、その移送路の両側には、現像装置１４その他
の各種処理装置が配置されている。
する。この処理システム２は、その一側に被処理体Ｗと
して例えば半導体ウェハを収容する複数のカセット１０
を載置可能に構成したキャリアステーション１１を有
し、キャリアステーション１１の中央部には被処理体Ｗ
の搬送及び位置決めを行うと共に被処理体Ｗを保持して
メンアーム１２との間で受け渡しを行う補助アーム１３
が設けられている。メインアーム１２は、処理システム
２の中央部を長手方向に移動可能に、２基直列に配置さ
れており、その移送路の両側には、現像装置１４その他
の各種処理装置が配置されている。
【００１７】図示の処理システム２にあっては、キャリ
アステーション１１側の側方には、被処理体Ｗを回転さ
せながらその表面に例えば純水などのリンス液を供給す
ることによって被処理体Ｗの表面を洗浄するためのスク
ラバ１及び高圧ジェット水により被処理体Ｗを洗浄する
ための高圧ジェット洗浄機１６等が並設され、メインア
ーム１２の移送路を挟んで反対側に本発明実施例に係る
現像装置１４が二基並設され、その隣に二基の加熱装置
１７が積み重ねて設けられている。
アステーション１１側の側方には、被処理体Ｗを回転さ
せながらその表面に例えば純水などのリンス液を供給す
ることによって被処理体Ｗの表面を洗浄するためのスク
ラバ１及び高圧ジェット水により被処理体Ｗを洗浄する
ための高圧ジェット洗浄機１６等が並設され、メインア
ーム１２の移送路を挟んで反対側に本発明実施例に係る
現像装置１４が二基並設され、その隣に二基の加熱装置
１７が積み重ねて設けられている。
【００１８】これら機器の側方には、接続用ユニット１
８を介して、被処理体Ｗにレジストを塗布する前に被処
理体Ｗを疎水処理するアドヒージョン装置２０が設けら
れ、このアドヒージョン装置２０の下方には冷却用クー
リング装置２１が配置されている。また、これらアドヒ
ージョン装置２０及びクーリング装置２１の側方に加熱
装置２２が二列に二個づつ積み重ねられて配置される。
メインアーム１２の移送路を挟んで反対側には被処理体
Ｗにレジスト液を塗布するレジスト塗布装置２３が二台
並設されている。図示はしないが、これらレジスト塗布
装置２３の側部には、レジスト膜に所定の微細パターン
を露光するための露光装置等が設けられる。
８を介して、被処理体Ｗにレジストを塗布する前に被処
理体Ｗを疎水処理するアドヒージョン装置２０が設けら
れ、このアドヒージョン装置２０の下方には冷却用クー
リング装置２１が配置されている。また、これらアドヒ
ージョン装置２０及びクーリング装置２１の側方に加熱
装置２２が二列に二個づつ積み重ねられて配置される。
メインアーム１２の移送路を挟んで反対側には被処理体
Ｗにレジスト液を塗布するレジスト塗布装置２３が二台
並設されている。図示はしないが、これらレジスト塗布
装置２３の側部には、レジスト膜に所定の微細パターン
を露光するための露光装置等が設けられる。
【００１９】以上のように構成された処理システム２に
組み込まれるスクラバ１の中心部には、図１、２に示す
ように、駆動モータ２５によって回転可能でかつ上下動
可能に構成されたスピンチャック２６が設けられ、この
スピンチャック２６の上面に被処理体Ｗを保持するよう
に構成されている。このスピンチャック２６の周囲を囲
うようにして、純水などのリンス液の飛散を防止するた
めの樹脂または金属からなる環状のカップ２７が設けら
れる。このカップ２７の上方２８は上にいくに従って狭
くなるように、内側に傾斜して設けられ、その上端開口
部２９の直径は被処理体Ｗをカップ２７内に挿入できる
大きさに形成されている。また、カップ２７の底部３０
は水平よりも若干傾斜して設けられ、この底部３０の最
下部には廃液配管３１が接続されると共に、その反対側
にはカップ２７内の雰囲気を排気するための排気配管３
２が接続されている。この底部３０には環状壁３３が立
設してあり、この環状壁３３の上端によって、上記スピ
ンチャック２６と一体的に回転する支持板３４が回転自
在に支持されている。この支持板３４の周辺部は外側に
向かって下方に傾斜するように構成されている。
組み込まれるスクラバ１の中心部には、図１、２に示す
ように、駆動モータ２５によって回転可能でかつ上下動
可能に構成されたスピンチャック２６が設けられ、この
スピンチャック２６の上面に被処理体Ｗを保持するよう
に構成されている。このスピンチャック２６の周囲を囲
うようにして、純水などのリンス液の飛散を防止するた
めの樹脂または金属からなる環状のカップ２７が設けら
れる。このカップ２７の上方２８は上にいくに従って狭
くなるように、内側に傾斜して設けられ、その上端開口
部２９の直径は被処理体Ｗをカップ２７内に挿入できる
大きさに形成されている。また、カップ２７の底部３０
は水平よりも若干傾斜して設けられ、この底部３０の最
下部には廃液配管３１が接続されると共に、その反対側
にはカップ２７内の雰囲気を排気するための排気配管３
２が接続されている。この底部３０には環状壁３３が立
設してあり、この環状壁３３の上端によって、上記スピ
ンチャック２６と一体的に回転する支持板３４が回転自
在に支持されている。この支持板３４の周辺部は外側に
向かって下方に傾斜するように構成されている。
【００２０】カップ２７の上部側方には、スピンチャッ
ク２６によって保持された被処理体Ｗ上にリンス液とし
て例えば純水を供給するためのリンス液ヘッダ４０が設
けられる。図４に示されるように、このリンス液ヘッダ
４０の下方に二つのリンス用ノズル４１、４１が垂設さ
れており、リンス液源４３からリンス液ヘッダ４０内に
供給されたリンス液がこれらリンス用ノズル４１、４１
から被処理体Ｗ上に吐き出されるように構成されてい
る。
ク２６によって保持された被処理体Ｗ上にリンス液とし
て例えば純水を供給するためのリンス液ヘッダ４０が設
けられる。図４に示されるように、このリンス液ヘッダ
４０の下方に二つのリンス用ノズル４１、４１が垂設さ
れており、リンス液源４３からリンス液ヘッダ４０内に
供給されたリンス液がこれらリンス用ノズル４１、４１
から被処理体Ｗ上に吐き出されるように構成されてい
る。
【００２１】また、図２に示すようにカップ２７の前方
には、リンス液ヘッダ４０を被処理体Ｗの上方において
往復動させるための搬送レール４８が設けられ、このレ
ール４８に沿って把持アーム５０が移動自在に装着され
ている。把持アーム５０はエアーシリンダやステッピン
グモーター等によって駆動されるボールスクリュー、ベ
ルト式の移動機構によって移動し、上記リンス液ヘッダ
４０を把持して被処理体Ｗ上において移動させるように
構成される。なお、把持アーム５０は、エアーシリンダ
ー等を使用したメカニカルチャック機構や、真空吸着
式、電磁石式のチャック等により構成され、リンス液ヘ
ッダ４０を把持、挟持、吸着することが可能である。
には、リンス液ヘッダ４０を被処理体Ｗの上方において
往復動させるための搬送レール４８が設けられ、このレ
ール４８に沿って把持アーム５０が移動自在に装着され
ている。把持アーム５０はエアーシリンダやステッピン
グモーター等によって駆動されるボールスクリュー、ベ
ルト式の移動機構によって移動し、上記リンス液ヘッダ
４０を把持して被処理体Ｗ上において移動させるように
構成される。なお、把持アーム５０は、エアーシリンダ
ー等を使用したメカニカルチャック機構や、真空吸着
式、電磁石式のチャック等により構成され、リンス液ヘ
ッダ４０を把持、挟持、吸着することが可能である。
【００２２】そして、以上に説明した駆動モータ２５、
及びリンス液源４３を含む装置全体の制御は、例えばマ
イクロコンピュータ等よりなる制御部５１により行われ
る。
及びリンス液源４３を含む装置全体の制御は、例えばマ
イクロコンピュータ等よりなる制御部５１により行われ
る。
【００２３】しかして以上のように構成されるスクラバ
１にあっては、カップ２７の内部においてスピンチャッ
ク２６で被処理体Ｗを回転させ、その上方からリンス用
ノズル４１、４１でリンス液を供給することにより、リ
ンス液を被処理体Ｗの周囲に遠心力で飛散させるように
している。そこで本発明にあっては、そのように遠心力
によって被処理体Ｗの周囲に飛散されたリンス液をカッ
プ２７の下方に案内する案内手段を設けるか、もしく
は、被処理体Ｗと共に回転して被処理体Ｗとカップとの
間において下降気流を発生させる気流発生手段を設ける
ことにより、被処理体Ｗの周囲に飛散された処理液を下
方に強制排気する構成としたものである。以下にかかる
強制排気を行うための案内手段及び気流発生手段の具体
的な実施例を説明する。
１にあっては、カップ２７の内部においてスピンチャッ
ク２６で被処理体Ｗを回転させ、その上方からリンス用
ノズル４１、４１でリンス液を供給することにより、リ
ンス液を被処理体Ｗの周囲に遠心力で飛散させるように
している。そこで本発明にあっては、そのように遠心力
によって被処理体Ｗの周囲に飛散されたリンス液をカッ
プ２７の下方に案内する案内手段を設けるか、もしく
は、被処理体Ｗと共に回転して被処理体Ｗとカップとの
間において下降気流を発生させる気流発生手段を設ける
ことにより、被処理体Ｗの周囲に飛散された処理液を下
方に強制排気する構成としたものである。以下にかかる
強制排気を行うための案内手段及び気流発生手段の具体
的な実施例を説明する。
【００２４】先ず、案内手段の実施例から説明する。図
５に示されるように、回転駆動されるスピンチャック２
６の上面に被処理体Ｗが保持されており、この被処理体
Ｗの周縁部と対向するカップ２７の内面に、案内手段と
しての静翼６０が設けられる。図６に示すように、静翼
６０は円筒形状をなすカップ２７の内面に複数設けられ
ている。図７に示すように、静翼６０の上端６１の入口
角は水平に設けられ、静翼６０は、この上端６１から被
処理体Ｗの回転進行方向６２に進むに従って次第に低く
なるような全体として曲面板で構成されている。
５に示されるように、回転駆動されるスピンチャック２
６の上面に被処理体Ｗが保持されており、この被処理体
Ｗの周縁部と対向するカップ２７の内面に、案内手段と
しての静翼６０が設けられる。図６に示すように、静翼
６０は円筒形状をなすカップ２７の内面に複数設けられ
ている。図７に示すように、静翼６０の上端６１の入口
角は水平に設けられ、静翼６０は、この上端６１から被
処理体Ｗの回転進行方向６２に進むに従って次第に低く
なるような全体として曲面板で構成されている。
【００２５】さて、以上のように構成された実施例にお
いて、駆動モータ２５によってスピンチャック２６の上
面に保持している被処理体Ｗが回転されると、リンス用
ノズル４１、４１から被処理体Ｗの表面に供給されたリ
ンス液はその遠心力によって被処理体Ｗの周囲に飛散す
る。そして、該リンス液は液滴、あるいはミスト状にな
って被処理体Ｗの周縁部から回転接線方向に向かって飛
び出すこととなる。こうして被処理体Ｗの周縁部から回
転接線方向に向かって飛び出したリンス液の液滴等は、
次にカップ２７内面に設けられている静翼６０の裏面６
３に当接し、図７に示す矢印６４の方向に強制的にガイ
ドされてカップ２７内下方に排気されるようになる。
いて、駆動モータ２５によってスピンチャック２６の上
面に保持している被処理体Ｗが回転されると、リンス用
ノズル４１、４１から被処理体Ｗの表面に供給されたリ
ンス液はその遠心力によって被処理体Ｗの周囲に飛散す
る。そして、該リンス液は液滴、あるいはミスト状にな
って被処理体Ｗの周縁部から回転接線方向に向かって飛
び出すこととなる。こうして被処理体Ｗの周縁部から回
転接線方向に向かって飛び出したリンス液の液滴等は、
次にカップ２７内面に設けられている静翼６０の裏面６
３に当接し、図７に示す矢印６４の方向に強制的にガイ
ドされてカップ２７内下方に排気されるようになる。
【００２６】次に、気流発生手段の実施例を説明する。
図８に示されるように、回転駆動されるスピンチャック
２６の上面に被処理体Ｗが保持されており、この被処理
体Ｗの下方に配置され、被処理体Ｗと一体的に回転する
支持板３４の周面に気流発生手段としての動翼７０が設
けられる。また、この動翼７０の下側に案内手段として
の静翼７１がカップ２７の内面に設けられている。更
に、この実施例においては、支持板３４の下方に形成さ
れた空間を埋めるための固定ブロック７２が設けてあ
る。図９に示すように、動翼７０は支持板３４の周面に
複数設けられており、各動翼７０の形状は、支持板３４
（被処理体Ｗ）の回転進行方向７３に進むに従って次第
に高くなるような全体として曲面板で構成されている。
なお、図９に示した実施例は動翼７０が比較的短い構成
のものであるが、図１０に示すように、支持板３４を平
面視した場合に相隣り合う動翼７０同士の上端７５と下
端７６を交互に重なり合わせるようにして、比較的長い
動翼７０を支持板３４の周面に配設する構成としても良
い。
図８に示されるように、回転駆動されるスピンチャック
２６の上面に被処理体Ｗが保持されており、この被処理
体Ｗの下方に配置され、被処理体Ｗと一体的に回転する
支持板３４の周面に気流発生手段としての動翼７０が設
けられる。また、この動翼７０の下側に案内手段として
の静翼７１がカップ２７の内面に設けられている。更
に、この実施例においては、支持板３４の下方に形成さ
れた空間を埋めるための固定ブロック７２が設けてあ
る。図９に示すように、動翼７０は支持板３４の周面に
複数設けられており、各動翼７０の形状は、支持板３４
（被処理体Ｗ）の回転進行方向７３に進むに従って次第
に高くなるような全体として曲面板で構成されている。
なお、図９に示した実施例は動翼７０が比較的短い構成
のものであるが、図１０に示すように、支持板３４を平
面視した場合に相隣り合う動翼７０同士の上端７５と下
端７６を交互に重なり合わせるようにして、比較的長い
動翼７０を支持板３４の周面に配設する構成としても良
い。
【００２７】また、図示はしないが、先に説明した図６
のものと同様に、カップ２７の内面に複数の曲面板から
なる静翼７１を設けた構成になっている。但し、この実
施例の静翼７１の入口角θは支持板３４と共に回転する
動翼７０によって発生される下降気流の出口速度と平行
に形成されている。即ち、図１１に示すように、支持板
３４が被処理体Ｗと一体的に回転すると、動翼７０の作
用によって被処理体Ｗの周囲において下降気流が発生す
ることとなるが、この下降気流の動翼７０の下端７６に
おける出口速度ｖは、動翼７０の回転速度ｖ1と、動翼
７０の下面に沿って生ずる接線方向速度ｖ2との合成ベ
クトルによって表される。そこで実施例のものにおいて
は、この合成ベクトルとして表される出口速度ｖと水平
方向（即ち回転速度ｖ1）とのなす角度αと、上記静翼
７１の入口角θとを一致させることにより、動翼７０の
作用によって発生された下降気流が、スムーズに静翼７
１に侵入できるような構成になっている。
のものと同様に、カップ２７の内面に複数の曲面板から
なる静翼７１を設けた構成になっている。但し、この実
施例の静翼７１の入口角θは支持板３４と共に回転する
動翼７０によって発生される下降気流の出口速度と平行
に形成されている。即ち、図１１に示すように、支持板
３４が被処理体Ｗと一体的に回転すると、動翼７０の作
用によって被処理体Ｗの周囲において下降気流が発生す
ることとなるが、この下降気流の動翼７０の下端７６に
おける出口速度ｖは、動翼７０の回転速度ｖ1と、動翼
７０の下面に沿って生ずる接線方向速度ｖ2との合成ベ
クトルによって表される。そこで実施例のものにおいて
は、この合成ベクトルとして表される出口速度ｖと水平
方向（即ち回転速度ｖ1）とのなす角度αと、上記静翼
７１の入口角θとを一致させることにより、動翼７０の
作用によって発生された下降気流が、スムーズに静翼７
１に侵入できるような構成になっている。
【００２８】しかして、この実施例においては、駆動モ
ータ２５によって支持板３４と被処理体Ｗが一体的に回
転され、上記リンス用ノズル４１、４１から被処理体Ｗ
の表面に供給されたリンス液はその遠心力によって被処
理体Ｗの周囲に飛散する。そして、該リンス液は液滴、
あるいはミスト状になって被処理体Ｗの周縁部から回転
接線方向に向かって飛び出す。一方、支持板３４が被処
理体Ｗと一体的に回転することにより、支持板３４の周
面に設けられている動翼７０の作用によって被処理体Ｗ
の周囲において下降気流が発生する。かくして被処理体
Ｗの周縁部から飛散したリンス液の液滴等は、この下降
気流によって被処理体Ｗの周囲から下方に排気され、動
翼７０の下端７６から吐き出された後も、更にカップ２
７内面に設けられている静翼７１によって下方に強制的
にガイドされてカップ２７内下方に排気される。
ータ２５によって支持板３４と被処理体Ｗが一体的に回
転され、上記リンス用ノズル４１、４１から被処理体Ｗ
の表面に供給されたリンス液はその遠心力によって被処
理体Ｗの周囲に飛散する。そして、該リンス液は液滴、
あるいはミスト状になって被処理体Ｗの周縁部から回転
接線方向に向かって飛び出す。一方、支持板３４が被処
理体Ｗと一体的に回転することにより、支持板３４の周
面に設けられている動翼７０の作用によって被処理体Ｗ
の周囲において下降気流が発生する。かくして被処理体
Ｗの周縁部から飛散したリンス液の液滴等は、この下降
気流によって被処理体Ｗの周囲から下方に排気され、動
翼７０の下端７６から吐き出された後も、更にカップ２
７内面に設けられている静翼７１によって下方に強制的
にガイドされてカップ２７内下方に排気される。
【００２９】このように本発明の実施例のものによれ
ば、案内手段としての静翼６０や気流発生手段としての
動翼７０を設けたことにより、被処理体Ｗの周囲に飛散
されたリンス液を下方に強制排気することが可能とな
り、これによりリンス液がカップ内に上昇浮遊して洗浄
後の被処理体Ｗの表面に再付着するといった問題を回避
できるようになる。
ば、案内手段としての静翼６０や気流発生手段としての
動翼７０を設けたことにより、被処理体Ｗの周囲に飛散
されたリンス液を下方に強制排気することが可能とな
り、これによりリンス液がカップ内に上昇浮遊して洗浄
後の被処理体Ｗの表面に再付着するといった問題を回避
できるようになる。
【００３０】以上、本発明の実施例をスクラバについて
説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、
種々の態様を採り得るものである。例えば、静翼や動翼
は図示のように曲面板としないで平板形状などに構成し
ても良い。また、図８では動翼と静翼の両方を設けたも
のを説明したが、必ずしも両方は必要ではなく、動翼と
静翼の何れか一方のみだけを設けるようにして本発明の
目的を達成することも可能である。更に、本発明の回転
処理装置を、例えば現像装置、塗布装置、乾燥装置、オ
ゾンのレジストストッパ、ＨＦ洗浄機など他の機種に適
用することもできる。
説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、
種々の態様を採り得るものである。例えば、静翼や動翼
は図示のように曲面板としないで平板形状などに構成し
ても良い。また、図８では動翼と静翼の両方を設けたも
のを説明したが、必ずしも両方は必要ではなく、動翼と
静翼の何れか一方のみだけを設けるようにして本発明の
目的を達成することも可能である。更に、本発明の回転
処理装置を、例えば現像装置、塗布装置、乾燥装置、オ
ゾンのレジストストッパ、ＨＦ洗浄機など他の機種に適
用することもできる。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、被処理体の周囲に遠心
力によって飛散された処理液を被処理体の回転を利用す
ることによって下方に強制排気できるので、カップ内に
おける循環流の発生を排気ポンプなどといった特別な装
置を付加せずに効率よく防止でき、処理液が洗浄後の被
処理体の表面に再付着するといった問題を回避できるよ
うになる。従って、本発明によればウォーターマークや
パーティクルの付着といった問題のない、清浄な製品が
得られるようになる。更に、強制排気することによって
被処理体の乾燥効率を向上させることも可能である。
力によって飛散された処理液を被処理体の回転を利用す
ることによって下方に強制排気できるので、カップ内に
おける循環流の発生を排気ポンプなどといった特別な装
置を付加せずに効率よく防止でき、処理液が洗浄後の被
処理体の表面に再付着するといった問題を回避できるよ
うになる。従って、本発明によればウォーターマークや
パーティクルの付着といった問題のない、清浄な製品が
得られるようになる。更に、強制排気することによって
被処理体の乾燥効率を向上させることも可能である。
【図１】本発明の実施例を適用するスクラバの断面図
【図２】同スクラバの平面図
【図３】スクラバが配置された処理システムの全体構成
を示す斜視図
を示す斜視図
【図４】リンス液ヘッダの説明図
【図５】案内手段の実施例を示す断面図
【図６】案内手段の実施例を示す斜視図
【図７】案内手段の実施例を示す正面図
【図８】気流発生手段の実施例を示す断面図
【図９】気流発生手段の実施例を示す斜視図
【図１０】比較的長い動翼とした気流発生手段の実施例
を示す平面図
を示す平面図
【図１１】動翼からの出口速度と静翼の入口角の関係を
示す正面図
示す正面図
Ｗ 被処理体 １ スクラバ ２６ スピンチャック ２９ カップ ４０ リンス液ヘッダ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 篠木 武虎 佐賀県鳥栖市西新町1375番地41 東京エレ クトロン九州株式会社熊本事業所内
Claims (8)
- 【請求項１】 カップの内部において回転する被処理体
の表面に処理液を供給し、該処理液をその遠心力によっ
て被処理体の周囲に飛散させて処理を行うものにおい
て、遠心力によって被処理体の周囲に飛散された上記処
理液をカップの下方に案内する案内手段を設けたことを
特徴とする回転処理装置。 - 【請求項２】 上記案内手段は、カップ内面に対して固
定された静翼であることを特徴とする請求項１に記載の
回転処理装置。 - 【請求項３】 上記静翼は、入口角が水平な曲面板で構
成されることを特徴とする請求項２に記載の回転処理装
置。 - 【請求項４】 カップの内部において回転する被処理体
の表面に処理液を供給し、該処理液をその遠心力によっ
て被処理体の周囲に飛散させて処理を行うものにおい
て、被処理体と共に回転して被処理体とカップとの間に
おいて下降気流を発生させる気流発生手段を設けたこと
を特徴とする回転処理装置。 - 【請求項５】 上記気流発生手段は、上記被処理体と共
に回転することによって下降気流を発生させる動翼であ
ることを特徴とする請求項４に記載の回転処理装置。 - 【請求項６】 更に、上記気流発生手段によって発生さ
れた下降気流をカップの下方に案内する案内手段を設け
たことを特徴とする請求項４または５に記載の回転処理
装置。 - 【請求項７】 上記案内手段は、カップ内面に対して固
定された静翼であることを特徴とする請求項６に記載の
回転処理装置。 - 【請求項８】 上記静翼は、入口角が上記気流発生手段
によって発生された下降気流と平行な曲面板で構成され
ることを特徴とする請求項７に記載の回転処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06201317A JP3100108B2 (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 回転処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06201317A JP3100108B2 (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 回転処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0845892A true JPH0845892A (ja) | 1996-02-16 |
| JP3100108B2 JP3100108B2 (ja) | 2000-10-16 |
Family
ID=16439010
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06201317A Expired - Fee Related JP3100108B2 (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 回転処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3100108B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003086555A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-03-20 | Mimasu Semiconductor Industry Co Ltd | ウェーハの表面処理装置 |
| JP2012139660A (ja) * | 2011-01-05 | 2012-07-26 | Disco Corp | スピンナ洗浄装置 |
| JP2013131783A (ja) * | 2007-10-17 | 2013-07-04 | Ebara Corp | 基板洗浄装置 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006098134A (ja) * | 2004-09-28 | 2006-04-13 | Fuji Heavy Ind Ltd | 蓄電デバイスの残存容量演算装置 |
| US20090326842A1 (en) * | 2008-06-05 | 2009-12-31 | A123 Systems, Inc. | Method and system for determining state of charge of an energy delivery device |
| JP2011034699A (ja) * | 2009-07-30 | 2011-02-17 | Hitachi Vehicle Energy Ltd | リチウムイオン二次電池および二次電池システム |
| JP2012058028A (ja) * | 2010-09-07 | 2012-03-22 | Calsonic Kansei Corp | 電池容量算出装置および電池容量算出方法 |
| JP2012137408A (ja) * | 2010-12-27 | 2012-07-19 | Denso Corp | 二次電池の残存容量演算装置 |
| JP2012181976A (ja) * | 2011-03-01 | 2012-09-20 | Hitachi Ltd | リチウム二次電池の異常充電状態検出装置及び検査方法 |
| WO2013031559A1 (ja) * | 2011-08-30 | 2013-03-07 | 三洋電機株式会社 | バッテリシステム、電動車両、移動体、電力貯蔵装置および電源装置 |
-
1994
- 1994-08-03 JP JP06201317A patent/JP3100108B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006098134A (ja) * | 2004-09-28 | 2006-04-13 | Fuji Heavy Ind Ltd | 蓄電デバイスの残存容量演算装置 |
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| JP2012181976A (ja) * | 2011-03-01 | 2012-09-20 | Hitachi Ltd | リチウム二次電池の異常充電状態検出装置及び検査方法 |
| WO2013031559A1 (ja) * | 2011-08-30 | 2013-03-07 | 三洋電機株式会社 | バッテリシステム、電動車両、移動体、電力貯蔵装置および電源装置 |
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| JP2013131783A (ja) * | 2007-10-17 | 2013-07-04 | Ebara Corp | 基板洗浄装置 |
| JP2012139660A (ja) * | 2011-01-05 | 2012-07-26 | Disco Corp | スピンナ洗浄装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3100108B2 (ja) | 2000-10-16 |
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