JPH0848545A - 低反射熱線反射ガラス - Google Patents
低反射熱線反射ガラスInfo
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- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
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Abstract
(57)【要約】
【構成】ガラス基板１０上に第１層として透明金属酸化
物膜１１、第２層として金属膜または金属窒化物膜１
２、第３層として透明金属酸化物膜１３、第４層として
窒素金属窒化物膜１４をスパッタリング法により順次積
層させた低反射熱線反射ガラス。 【効果】室内側からの反射率が通常の透明板ガラス並み
で周囲に眩しさ等による悪影響を及ぼさず、かつ種々の
反射色調を呈する、可視光透過率４０％以下の熱線反射
ガラスが得られる。
物膜１１、第２層として金属膜または金属窒化物膜１
２、第３層として透明金属酸化物膜１３、第４層として
窒素金属窒化物膜１４をスパッタリング法により順次積
層させた低反射熱線反射ガラス。 【効果】室内側からの反射率が通常の透明板ガラス並み
で周囲に眩しさ等による悪影響を及ぼさず、かつ種々の
反射色調を呈する、可視光透過率４０％以下の熱線反射
ガラスが得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は建築用の熱線反射ガラス
に関する。
に関する。
【０００２】
【従来の技術】ビルにおける開口部は、近年意匠性と快
適性のため拡大する傾向にある。それに伴い、太陽光の
侵入量が増加し、室内の冷房負荷が大きくなるという点
や、ビルの外観上大きな面積を占める窓のデザイン的な
重要性が増加するという点等の因子により、熱線反射ガ
ラスを使用するケースが急増している。この用途に用い
られる熱線反射ガラスは、通常ソーラーコントロールガ
ラスと呼ばれている。このようなソーラーコントロール
ガラスは、そのハーフミラー効果により独特の美観を表
し、ビルの壁面材として広く用いられている。
適性のため拡大する傾向にある。それに伴い、太陽光の
侵入量が増加し、室内の冷房負荷が大きくなるという点
や、ビルの外観上大きな面積を占める窓のデザイン的な
重要性が増加するという点等の因子により、熱線反射ガ
ラスを使用するケースが急増している。この用途に用い
られる熱線反射ガラスは、通常ソーラーコントロールガ
ラスと呼ばれている。このようなソーラーコントロール
ガラスは、そのハーフミラー効果により独特の美観を表
し、ビルの壁面材として広く用いられている。
【０００３】このような熱線反射ガラスをビルの壁面や
窓として使用した場合、そのミラー効果が逆に周囲の環
境に悪影響を及ぼし、周辺住民の苦情の対象となる場合
もある。具体的な例としては、ミラー効果を高めるため
に可視光領域の反射率も高くし、その結果として熱線反
射ガラスに反射した太陽光のために眩しくて自動車の運
転に支障が出る等である。そのためビルの施工場所によ
っては熱線反射ガラスが使用できない状況が生じる恐れ
がある。
窓として使用した場合、そのミラー効果が逆に周囲の環
境に悪影響を及ぼし、周辺住民の苦情の対象となる場合
もある。具体的な例としては、ミラー効果を高めるため
に可視光領域の反射率も高くし、その結果として熱線反
射ガラスに反射した太陽光のために眩しくて自動車の運
転に支障が出る等である。そのためビルの施工場所によ
っては熱線反射ガラスが使用できない状況が生じる恐れ
がある。
【０００４】かかる問題を解決するために、熱線反射ガ
ラスの可視光領域の反射率を下げる方法として、熱線反
射膜全体の膜厚を薄くするという手段が考えられる。し
かし、その結果として可視光透過率も上がり、その影響
で太陽エネルギー透過率も上がってしまい、ソーラーコ
ントロールガラスに要求される日射遮蔽効果が低下して
しまうことが多い。現在使われている熱線反射ガラスで
も、可視光透過率が３０％程度で、しかもガラス面から
の可視光反射率が比較的低い１０％程度のものも認めら
れるが、色調が限定されてしまっている。
ラスの可視光領域の反射率を下げる方法として、熱線反
射膜全体の膜厚を薄くするという手段が考えられる。し
かし、その結果として可視光透過率も上がり、その影響
で太陽エネルギー透過率も上がってしまい、ソーラーコ
ントロールガラスに要求される日射遮蔽効果が低下して
しまうことが多い。現在使われている熱線反射ガラスで
も、可視光透過率が３０％程度で、しかもガラス面から
の可視光反射率が比較的低い１０％程度のものも認めら
れるが、色調が限定されてしまっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は従来技
術が有していた前述の欠点を解消し、日射遮蔽性能を落
さずに室外側（ガラス基板側）の可視光反射率を抑え、
かつ意匠性を保持するために種々の色調を呈することが
できる熱線反射ガラスを提供することにある。
術が有していた前述の欠点を解消し、日射遮蔽性能を落
さずに室外側（ガラス基板側）の可視光反射率を抑え、
かつ意匠性を保持するために種々の色調を呈することが
できる熱線反射ガラスを提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の問題点を
解決すべくなされたものであり、ガラス基板上に第１層
として透明金属酸化物膜、第２層として金属膜または金
属窒化物膜、第３層として透明金属酸化物膜、第４層と
して金属窒化物膜をスパッタリング法により順次積層さ
せた熱線反射ガラスにおいて、ガラス基板側からの可視
光反射率が１０％以下であり、かつ可視光透過率が４０
％以下であることを特徴とする低反射熱線反射ガラスを
提供する。
解決すべくなされたものであり、ガラス基板上に第１層
として透明金属酸化物膜、第２層として金属膜または金
属窒化物膜、第３層として透明金属酸化物膜、第４層と
して金属窒化物膜をスパッタリング法により順次積層さ
せた熱線反射ガラスにおいて、ガラス基板側からの可視
光反射率が１０％以下であり、かつ可視光透過率が４０
％以下であることを特徴とする低反射熱線反射ガラスを
提供する。
【０００７】図１は本発明に係る低反射熱線反射ガラス
の要部断面を示し、１０はガラス基板、１１は第１層と
しての透明金属酸化物膜、１２は第２層としての金属膜
または金属窒化物膜、１３は第３層としての金属酸化物
膜、１４は第４層としての金属窒化物膜を示す。
の要部断面を示し、１０はガラス基板、１１は第１層と
しての透明金属酸化物膜、１２は第２層としての金属膜
または金属窒化物膜、１３は第３層としての金属酸化物
膜、１４は第４層としての金属窒化物膜を示す。
【０００８】本発明における金属膜材料としては、チタ
ン、クロム、ステンレスおよびニクロムからなる群から
選ばれる少なくとも１種が使用されるが、可視領域にお
ける光学特性がこれらの金属と類似したものであれば、
その金属を使用しても色調的には似たような低反射熱線
反射ガラスが得られる。しかし、ここに挙げた４種類の
金属は熱線反射膜材料としても実績を有するので好まし
い。また、その幾何学的膜厚は表現しようとする色調に
よって規定される。
ン、クロム、ステンレスおよびニクロムからなる群から
選ばれる少なくとも１種が使用されるが、可視領域にお
ける光学特性がこれらの金属と類似したものであれば、
その金属を使用しても色調的には似たような低反射熱線
反射ガラスが得られる。しかし、ここに挙げた４種類の
金属は熱線反射膜材料としても実績を有するので好まし
い。また、その幾何学的膜厚は表現しようとする色調に
よって規定される。
【０００９】本発明における金属窒化物膜は窒化チタン
膜が好ましく、該窒化チタン膜は、スパッタリングガス
として窒素１００％の雰囲気中で成膜され、その結果化
学量論的に窒素過剰の膜となる。その他にスパッタリン
グ法によって窒化チタン膜を作成する方法としては、ス
パッタリングガスとしてアルゴンと窒素の混合ガスを用
いる場合がある。この場合は窒化チタンの膜中のＴｉ：
Ｎの組成比が１：１に近くなる。この窒化チタン膜を用
いても色調によっては低反射熱線反射ガラスを提供する
ことができるが、窒素１００％雰囲気中で成膜させる方
が安定した膜質が得やすく、成膜上も容易である。ま
た、その幾何学的膜厚は表現しようとする色調によって
規定される。
膜が好ましく、該窒化チタン膜は、スパッタリングガス
として窒素１００％の雰囲気中で成膜され、その結果化
学量論的に窒素過剰の膜となる。その他にスパッタリン
グ法によって窒化チタン膜を作成する方法としては、ス
パッタリングガスとしてアルゴンと窒素の混合ガスを用
いる場合がある。この場合は窒化チタンの膜中のＴｉ：
Ｎの組成比が１：１に近くなる。この窒化チタン膜を用
いても色調によっては低反射熱線反射ガラスを提供する
ことができるが、窒素１００％雰囲気中で成膜させる方
が安定した膜質が得やすく、成膜上も容易である。ま
た、その幾何学的膜厚は表現しようとする色調によって
規定される。
【００１０】また、本発明の低反射熱線反射ガラスの可
視光透過率は主に第２層と第４層に使用される金属窒化
物膜や金属膜の合計の膜厚によって規定される。現在、
一般に使用されている熱線反射ガラスの可視光透過率は
４０％以下であり、それらと同じレベルの透過率を得る
ためには、第２層と第４層を合わせた膜厚を幾何学的膜
厚で２５ｎｍ以下に制御する必要がある。
視光透過率は主に第２層と第４層に使用される金属窒化
物膜や金属膜の合計の膜厚によって規定される。現在、
一般に使用されている熱線反射ガラスの可視光透過率は
４０％以下であり、それらと同じレベルの透過率を得る
ためには、第２層と第４層を合わせた膜厚を幾何学的膜
厚で２５ｎｍ以下に制御する必要がある。
【００１１】本発明における透明金属酸化物膜は、チタ
ン、錫、亜鉛、ジルコニウムおよびタンタルからなる群
から選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物が使用され
るが、好ましくはチタン、錫の酸化物がよい。その理由
は、この２つの金属酸化物が単板熱線反射ガラスに使用
される酸化物として実績があり、耐久性にも優れている
からである。また、その幾何学的膜厚は使用される材
料、表現しようとする色調によって規定されるが、あま
り膜厚が厚くなると、生産時間が長くなり、その結果と
して生産性も低下する。
ン、錫、亜鉛、ジルコニウムおよびタンタルからなる群
から選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物が使用され
るが、好ましくはチタン、錫の酸化物がよい。その理由
は、この２つの金属酸化物が単板熱線反射ガラスに使用
される酸化物として実績があり、耐久性にも優れている
からである。また、その幾何学的膜厚は使用される材
料、表現しようとする色調によって規定されるが、あま
り膜厚が厚くなると、生産時間が長くなり、その結果と
して生産性も低下する。
【００１２】次に本発明によって、種々の色調の低反射
熱線反射ガラスを得る方法を説明する。なお、以下に示
される膜厚は、幾何学的膜厚を意味する。
熱線反射ガラスを得る方法を説明する。なお、以下に示
される膜厚は、幾何学的膜厚を意味する。
【００１３】本発明によってガラス基板側からの反射色
調がグレーの低反射ガラスを得るには、ガラス基板上に
第１層として膜厚が１５〜２７ｎｍの透明金属酸化物膜
を成膜し、第２層として膜厚が１４〜２９ｎｍの窒化チ
タン膜を成膜し、第３層として膜厚が３４〜５４ｎｍの
透明金属酸化物膜を成膜し、第４層として窒化チタン膜
を１９〜３６ｎｍの膜厚で作成する。
調がグレーの低反射ガラスを得るには、ガラス基板上に
第１層として膜厚が１５〜２７ｎｍの透明金属酸化物膜
を成膜し、第２層として膜厚が１４〜２９ｎｍの窒化チ
タン膜を成膜し、第３層として膜厚が３４〜５４ｎｍの
透明金属酸化物膜を成膜し、第４層として窒化チタン膜
を１９〜３６ｎｍの膜厚で作成する。
【００１４】また他の構成としてはガラス基板上に第１
層として膜厚が３１〜４７ｎｍの酸化チタン膜か酸化タ
ンタル膜、あるいは膜厚が３８〜５６ｎｍの酸化錫膜、
酸化亜鉛膜または酸化ジルコニウム膜を作成し、第２層
として金属膜を４〜１４ｎｍの膜厚で成膜し、第３層と
して膜厚が２５〜３８ｎｍの酸化チタン膜か酸化タンタ
ル膜、あるいは膜厚が３３〜４９ｎｍの酸化錫膜、酸化
亜鉛膜または酸化ジルコニウム膜を作成し、第４層とし
て窒化チタン膜を１５〜３３ｎｍの膜厚で作成する。
層として膜厚が３１〜４７ｎｍの酸化チタン膜か酸化タ
ンタル膜、あるいは膜厚が３８〜５６ｎｍの酸化錫膜、
酸化亜鉛膜または酸化ジルコニウム膜を作成し、第２層
として金属膜を４〜１４ｎｍの膜厚で成膜し、第３層と
して膜厚が２５〜３８ｎｍの酸化チタン膜か酸化タンタ
ル膜、あるいは膜厚が３３〜４９ｎｍの酸化錫膜、酸化
亜鉛膜または酸化ジルコニウム膜を作成し、第４層とし
て窒化チタン膜を１５〜３３ｎｍの膜厚で作成する。
【００１５】本発明によってガラス基板側からの反射色
調がブルーの低反射ガラスを得るには、ガラス基板上に
第１層として膜厚が４６〜６８ｎｍの酸化チタン膜か酸
化タンタル膜、あるいは膜厚が６３〜８５ｎｍの酸化錫
膜、酸化亜鉛膜または酸化ジルコニウム膜を作成し、第
２層として窒化チタン膜を１３〜２６ｎｍの膜厚で成膜
し、第３層として膜厚が１８〜３７ｎｍの透明金属酸化
物膜を成膜し、第４層として窒化チタン膜を１５〜３４
ｎｍの膜厚で作成する。
調がブルーの低反射ガラスを得るには、ガラス基板上に
第１層として膜厚が４６〜６８ｎｍの酸化チタン膜か酸
化タンタル膜、あるいは膜厚が６３〜８５ｎｍの酸化錫
膜、酸化亜鉛膜または酸化ジルコニウム膜を作成し、第
２層として窒化チタン膜を１３〜２６ｎｍの膜厚で成膜
し、第３層として膜厚が１８〜３７ｎｍの透明金属酸化
物膜を成膜し、第４層として窒化チタン膜を１５〜３４
ｎｍの膜厚で作成する。
【００１６】また他の構成としては、ガラス基板上に第
１層として膜厚が３５〜５２ｎｍの酸化チタン膜か酸化
タンタル膜、あるいは膜厚が４２〜６２ｎｍの酸化錫
膜、酸化亜鉛膜または酸化ジルコニウム膜を作成し、第
２層として金属膜を３〜１４ｎｍの膜厚で成膜し、第３
層として膜厚が１９〜３５ｎｍの酸化チタン膜か酸化タ
ンタル膜、あるいは膜厚が２６〜３９ｎｍの酸化錫膜、
酸化亜鉛膜または酸化ジルコニウム膜を作成し、第４層
として窒化チタン膜を１８〜３３ｎｍか４０〜６１ｎｍ
の膜厚で作成する。
１層として膜厚が３５〜５２ｎｍの酸化チタン膜か酸化
タンタル膜、あるいは膜厚が４２〜６２ｎｍの酸化錫
膜、酸化亜鉛膜または酸化ジルコニウム膜を作成し、第
２層として金属膜を３〜１４ｎｍの膜厚で成膜し、第３
層として膜厚が１９〜３５ｎｍの酸化チタン膜か酸化タ
ンタル膜、あるいは膜厚が２６〜３９ｎｍの酸化錫膜、
酸化亜鉛膜または酸化ジルコニウム膜を作成し、第４層
として窒化チタン膜を１８〜３３ｎｍか４０〜６１ｎｍ
の膜厚で作成する。
【００１７】本発明によってガラス基板側からの反射色
調がシルバーブロンズの低反射ガラスを得るには、ガラ
ス基板上に第１層として膜厚が２４〜３６ｎｍの酸化チ
タン膜か酸化タンタル膜、あるいは膜厚が３２〜４８ｎ
ｍの酸化錫膜、酸化亜鉛膜または酸化ジルコニウム膜を
作成し、第２層として窒化チタン膜を８〜１４ｎｍか１
７〜３２ｎｍの膜厚で成膜し、第３層として膜厚が２６
〜４０ｎｍの酸化チタン膜か酸化タンタル膜、あるいは
膜厚が５〜１１ｎｍの酸化錫膜、酸化亜鉛膜または酸化
ジルコニウム膜を作成し、第４層として窒化チタン膜を
１４〜２６ｎｍか３５〜５３ｎｍの膜厚で作成する。
調がシルバーブロンズの低反射ガラスを得るには、ガラ
ス基板上に第１層として膜厚が２４〜３６ｎｍの酸化チ
タン膜か酸化タンタル膜、あるいは膜厚が３２〜４８ｎ
ｍの酸化錫膜、酸化亜鉛膜または酸化ジルコニウム膜を
作成し、第２層として窒化チタン膜を８〜１４ｎｍか１
７〜３２ｎｍの膜厚で成膜し、第３層として膜厚が２６
〜４０ｎｍの酸化チタン膜か酸化タンタル膜、あるいは
膜厚が５〜１１ｎｍの酸化錫膜、酸化亜鉛膜または酸化
ジルコニウム膜を作成し、第４層として窒化チタン膜を
１４〜２６ｎｍか３５〜５３ｎｍの膜厚で作成する。
【００１８】また他の構成としては、ガラス基板上に第
１層として膜厚が２６〜４０ｎｍの酸化チタン膜か酸化
タンタル膜を作成し、第２層として金属膜を５〜１１ｎ
ｍの膜厚で成膜し、第３層として膜厚が３０〜４６ｎｍ
の酸化チタン膜か酸化タンタル膜を作成し、第４層とし
て窒化チタン膜を１５〜２７ｎｍの膜厚で作成する。
１層として膜厚が２６〜４０ｎｍの酸化チタン膜か酸化
タンタル膜を作成し、第２層として金属膜を５〜１１ｎ
ｍの膜厚で成膜し、第３層として膜厚が３０〜４６ｎｍ
の酸化チタン膜か酸化タンタル膜を作成し、第４層とし
て窒化チタン膜を１５〜２７ｎｍの膜厚で作成する。
【００１９】
［実施例１］マグネトロンＤ．Ｃ．スパッタリング装置
の陰極上に金属チタンのターゲットをセットする。研磨
などの方法で６ｍｍ厚のフロート板ガラス基板を十分に
洗浄、乾燥した後、真空槽内に入れ、ターボポンプを使
用して１×１０-5ｔｏｒｒ以下まで排気する。
の陰極上に金属チタンのターゲットをセットする。研磨
などの方法で６ｍｍ厚のフロート板ガラス基板を十分に
洗浄、乾燥した後、真空槽内に入れ、ターボポンプを使
用して１×１０-5ｔｏｒｒ以下まで排気する。
【００２０】次に真空系内にアルゴンガス３００ｃｃ／
ｍｉｎ、酸素ガス６０ｃｃ／ｍｉｎを導入し、系内の圧
力を３．０×１０-3ｔｏｒｒにセットし、この状態でチ
タンターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加して酸
化チタン膜を２１ｎｍ成膜する。
ｍｉｎ、酸素ガス６０ｃｃ／ｍｉｎを導入し、系内の圧
力を３．０×１０-3ｔｏｒｒにセットし、この状態でチ
タンターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加して酸
化チタン膜を２１ｎｍ成膜する。
【００２１】次に真空系内のガスを窒素ガス１００％に
完全に置換して（導入量は５００ｃｃ／ｍｉｎ）、この
状態でチタンターゲットに同じく３．１Ｗ／ｃｍ2 の電
力を印加して窒化チタン膜を２２ｎｍ成膜する。
完全に置換して（導入量は５００ｃｃ／ｍｉｎ）、この
状態でチタンターゲットに同じく３．１Ｗ／ｃｍ2 の電
力を印加して窒化チタン膜を２２ｎｍ成膜する。
【００２２】次に再び真空系内の雰囲気をアルゴンガス
３００ｃｃ／ｍｉｎ、酸素ガス６０ｃｃ／ｍｉｎに戻
し、チタンターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加
して、酸化チタン膜を４２ｎｍ成膜する。
３００ｃｃ／ｍｉｎ、酸素ガス６０ｃｃ／ｍｉｎに戻
し、チタンターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加
して、酸化チタン膜を４２ｎｍ成膜する。
【００２３】最後に真空系内のガスをもう一度窒素ガス
１００％（導入量は５００ｃｃ／ｍｉｎ）にし電力を印
加して窒化チタン膜を３１ｎｍ成膜する。
１００％（導入量は５００ｃｃ／ｍｉｎ）にし電力を印
加して窒化チタン膜を３１ｎｍ成膜する。
【００２４】このようにして得られたサンプルの可視光
透過率は１６．４％、ガラス面側の反射特性は、反射率
７．９％、反射色調は、ａ* が１．９８、ｂ* が−５．
１７で、やや青味がかったグレー系の反射色であった。
また、太陽エネルギー透過率は１２．０％で、遮蔽係数
（ＳＣ値）は０．４７であった。
透過率は１６．４％、ガラス面側の反射特性は、反射率
７．９％、反射色調は、ａ* が１．９８、ｂ* が−５．
１７で、やや青味がかったグレー系の反射色であった。
また、太陽エネルギー透過率は１２．０％で、遮蔽係数
（ＳＣ値）は０．４７であった。
【００２５】［実施例２］マグネトロンＤ．Ｃ．スパッ
タリング装置の陰極上に金属チタンと金属錫のターゲッ
トをセットし、研磨などの方法で６ｍｍ厚のフロート板
ガラス基板を十分に洗浄、乾燥した後、真空槽内に入
れ、ターボポンプを使用して１×１０-5ｔｏｒｒ以下ま
で排気する。
タリング装置の陰極上に金属チタンと金属錫のターゲッ
トをセットし、研磨などの方法で６ｍｍ厚のフロート板
ガラス基板を十分に洗浄、乾燥した後、真空槽内に入
れ、ターボポンプを使用して１×１０-5ｔｏｒｒ以下ま
で排気する。
【００２６】次に真空系内にアルゴンガス１００ｃｃ／
ｍｉｎ、酸素ガス５００ｃｃ／ｍｉｎを導入し、この状
態で錫ターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加して
酸化錫膜を７４ｎｍ成膜する。
ｍｉｎ、酸素ガス５００ｃｃ／ｍｉｎを導入し、この状
態で錫ターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加して
酸化錫膜を７４ｎｍ成膜する。
【００２７】次に真空系内のガスを窒素１００％に完全
に置換して（導入量は５００ｃｃ／ｍｉｎ）、この状態
でチタンターゲットに同じく３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を
印加して窒化チタン膜を２０ｎｍ成膜する。
に置換して（導入量は５００ｃｃ／ｍｉｎ）、この状態
でチタンターゲットに同じく３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を
印加して窒化チタン膜を２０ｎｍ成膜する。
【００２８】次に再び真空系内の雰囲気をアルゴンガス
１００ｃｃ／ｍｉｎ、酸素ガス５００ｃｃ／ｍｉｎに戻
し、錫ターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加し
て、酸化錫膜を２６ｎｍ成膜する。
１００ｃｃ／ｍｉｎ、酸素ガス５００ｃｃ／ｍｉｎに戻
し、錫ターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加し
て、酸化錫膜を２６ｎｍ成膜する。
【００２９】最後に真空系内のガスをもう一度窒素ガス
１００％（導入量は５００ｃｃ／ｍｉｎ）にし、チタン
ターゲットに電力を印加して窒化チタン膜を２１ｎｍ成
膜する。
１００％（導入量は５００ｃｃ／ｍｉｎ）にし、チタン
ターゲットに電力を印加して窒化チタン膜を２１ｎｍ成
膜する。
【００３０】このようにして得られたサンプルの可視光
透過率は２２．８％、ガラス面側の反射特性は、反射率
８．０％、反射色調は、ａ* が−３．８８、ｂ* が−
９．２８で、やや緑がかったブルー系の反射色であっ
た。また、太陽エネルギー透過率は１６．７％で、遮蔽
係数（ＳＣ値）は０．５１であった。
透過率は２２．８％、ガラス面側の反射特性は、反射率
８．０％、反射色調は、ａ* が−３．８８、ｂ* が−
９．２８で、やや緑がかったブルー系の反射色であっ
た。また、太陽エネルギー透過率は１６．７％で、遮蔽
係数（ＳＣ値）は０．５１であった。
【００３１】［実施例３］実施例１と同様の手順で第１
層として酸化チタン膜を３０ｎｍ、第２層として窒化チ
タン膜を１１ｎｍ、第３層として酸化チタン膜を３３ｎ
ｍ、第４層として窒化チタン膜を２０ｎｍ成膜する。
層として酸化チタン膜を３０ｎｍ、第２層として窒化チ
タン膜を１１ｎｍ、第３層として酸化チタン膜を３３ｎ
ｍ、第４層として窒化チタン膜を２０ｎｍ成膜する。
【００３２】このようにして得られたサンプルの可視光
透過率は３０．４％、ガラス面側の反射特性は、反射率
６．７％、反射色調は、ａ* が２．９５、ｂ* が７．３
０で、シルバーブロンズ系の反射色であった。また、太
陽エネルギー透過率は２１．９％で、遮蔽係数（ＳＣ
値）は０．５４であった。
透過率は３０．４％、ガラス面側の反射特性は、反射率
６．７％、反射色調は、ａ* が２．９５、ｂ* が７．３
０で、シルバーブロンズ系の反射色であった。また、太
陽エネルギー透過率は２１．９％で、遮蔽係数（ＳＣ
値）は０．５４であった。
【００３３】［実施例４］マグネトロンＤ．Ｃ．スパッ
タリング装置の陰極上に金属チタン、金属錫およびステ
ンレス（ＳＵＳ３１６）のターゲットをセットし、研磨
などの方法で６ｍｍ厚のフロート板ガラス基板を十分に
洗浄、乾燥した後、真空槽内に入れ、ターボポンプを使
用して１×１０-5ｔｏｒｒ以下まで排気する。
タリング装置の陰極上に金属チタン、金属錫およびステ
ンレス（ＳＵＳ３１６）のターゲットをセットし、研磨
などの方法で６ｍｍ厚のフロート板ガラス基板を十分に
洗浄、乾燥した後、真空槽内に入れ、ターボポンプを使
用して１×１０-5ｔｏｒｒ以下まで排気する。
【００３４】次に真空系内にアルゴンガス１００ｃｃ／
ｍｉｎ、酸素ガス５００ｃｃ／ｍｉｎを導入し、この状
態で錫ターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加して
酸化錫間膜を４７ｎｍ成膜する。
ｍｉｎ、酸素ガス５００ｃｃ／ｍｉｎを導入し、この状
態で錫ターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加して
酸化錫間膜を４７ｎｍ成膜する。
【００３５】次に真空系内のガスをアルゴン１００％に
完全に置換して（導入量は３００ｃｃ／ｍｉｎ）、この
状態でステンレスターゲットに１．９Ｗ／ｃｍ2 の電力
を印加して金属ステンレス膜を６ｎｍ成膜する。
完全に置換して（導入量は３００ｃｃ／ｍｉｎ）、この
状態でステンレスターゲットに１．９Ｗ／ｃｍ2 の電力
を印加して金属ステンレス膜を６ｎｍ成膜する。
【００３６】次に再び真空系内の雰囲気をアルゴンガス
１００ｃｃ／ｍｉｎ、酸素ガス５００ｃｃ／ｍｉｎに戻
し、錫ターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加し
て、酸化錫膜を４１ｎｍ成膜する。
１００ｃｃ／ｍｉｎ、酸素ガス５００ｃｃ／ｍｉｎに戻
し、錫ターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加し
て、酸化錫膜を４１ｎｍ成膜する。
【００３７】最後に真空系内のガスを窒素ガス１００％
（導入量は５００ｃｃ／ｍｉｎ）にし、チタンターゲッ
トに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加して窒化チタン膜を
２６ｎｍ成膜する。
（導入量は５００ｃｃ／ｍｉｎ）にし、チタンターゲッ
トに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加して窒化チタン膜を
２６ｎｍ成膜する。
【００３８】このようにして得られたサンプルの可視光
透過率は１９．９％、ガラス面側の反射特性は、反射率
８．３％、反射色調は、ａ* が−０．７３、ｂ* が−
２．８２で、実施例１より青味の薄いグレー系の反射色
であった。また、太陽エネルギー透過率は１５．９％
で、遮蔽係数（ＳＣ値）は０．４９であった。
透過率は１９．９％、ガラス面側の反射特性は、反射率
８．３％、反射色調は、ａ* が−０．７３、ｂ* が−
２．８２で、実施例１より青味の薄いグレー系の反射色
であった。また、太陽エネルギー透過率は１５．９％
で、遮蔽係数（ＳＣ値）は０．４９であった。
【００３９】［実施例５］マグネトロンＤ．Ｃ．スパッ
タリング装置の陰極上に金属チタンとステンレス（ＳＵ
Ｓ３１６）のターゲットをセットする。研磨などの方法
で６ｍｍ厚のフロート板ガラス基板を十分に洗浄、乾燥
した後、真空槽内に入れ、ターボポンプを使用して１×
１０-5ｔｏｒｒ以下まで排気する。
タリング装置の陰極上に金属チタンとステンレス（ＳＵ
Ｓ３１６）のターゲットをセットする。研磨などの方法
で６ｍｍ厚のフロート板ガラス基板を十分に洗浄、乾燥
した後、真空槽内に入れ、ターボポンプを使用して１×
１０-5ｔｏｒｒ以下まで排気する。
【００４０】次に真空系内にアルゴンガス３００ｃｃ／
ｍｉｎ、酸素ガス６０ｃｃ／ｍｉｎを導入し、系内の圧
力を３．０×１０-3ｔｏｒｒにセットし、この状態でチ
タンターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加して酸
化チタン膜を３３ｎｍ成膜する。
ｍｉｎ、酸素ガス６０ｃｃ／ｍｉｎを導入し、系内の圧
力を３．０×１０-3ｔｏｒｒにセットし、この状態でチ
タンターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加して酸
化チタン膜を３３ｎｍ成膜する。
【００４１】次に真空系内のガスをアルゴン１００％に
完全に置換して（導入量は３００ｃｃ／ｍｉｎ）、この
状態でステンレスターゲットに１．９Ｗ／ｃｍ2 の電力
を印加して金属ステンレス膜を８ｎｍ成膜する。
完全に置換して（導入量は３００ｃｃ／ｍｉｎ）、この
状態でステンレスターゲットに１．９Ｗ／ｃｍ2 の電力
を印加して金属ステンレス膜を８ｎｍ成膜する。
【００４２】次に再び真空系内の雰囲気をアルゴンガス
３００ｃｃ／ｍｉｎ、酸素ガス６０ｃｃ／ｍｉｎに戻
し、チタンターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加
して、酸化チタン膜を３８ｎｍ成膜する。
３００ｃｃ／ｍｉｎ、酸素ガス６０ｃｃ／ｍｉｎに戻
し、チタンターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加
して、酸化チタン膜を３８ｎｍ成膜する。
【００４３】最後に真空系内のガスを窒素ガス１００％
（導入量は５００ｃｃ／ｍｉｎ）にし、チタンターゲッ
トに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加して窒化チタン膜を
２１ｎｍ成膜する。
（導入量は５００ｃｃ／ｍｉｎ）にし、チタンターゲッ
トに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加して窒化チタン膜を
２１ｎｍ成膜する。
【００４４】このようにして得られたサンプルの可視光
透過率は２２．７％、ガラス面側の反射特性は、反射率
７．８％、反射色調は、ａ* が２．４４、ｂ* が８．２
２で、実施例３と類似したシルバーブロンズ系の反射色
であった。また、太陽エネルギー透過率は１６．９％
で、遮蔽係数（ＳＣ値）は０．５０であった。
透過率は２２．７％、ガラス面側の反射特性は、反射率
７．８％、反射色調は、ａ* が２．４４、ｂ* が８．２
２で、実施例３と類似したシルバーブロンズ系の反射色
であった。また、太陽エネルギー透過率は１６．９％
で、遮蔽係数（ＳＣ値）は０．５０であった。
【００４５】以上５つの実施例においては、遮蔽係数
（ＳＣ値）が０．４７から０．５４と一般的なソーラー
コントロールガラス並みの値を示している。しかも可視
光の反射率は、１０％以下と透明板ガラス並みまで低く
なっていることも確認できる。
（ＳＣ値）が０．４７から０．５４と一般的なソーラー
コントロールガラス並みの値を示している。しかも可視
光の反射率は、１０％以下と透明板ガラス並みまで低く
なっていることも確認できる。
【００４６】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、室外側か
らの反射率が通常の透明板ガラス並みで周囲に眩しさ等
による悪影響を及ぼさず、かつ種々の反射色調を呈す
る、可視光透過率４０％以下の熱線反射ガラスが得られ
る。
らの反射率が通常の透明板ガラス並みで周囲に眩しさ等
による悪影響を及ぼさず、かつ種々の反射色調を呈す
る、可視光透過率４０％以下の熱線反射ガラスが得られ
る。
【００４７】特に透明金属酸化物膜として酸化チタン、
吸収膜として窒化チタンを使用した組合せでは、実施例
で見られたように、金属チタンターゲットにおいてスパ
ッタリングガスを使い分けることによって、酸化チタン
膜と窒化チタン膜とを作り分けることができる。そのた
め、現在一般に使用されている窒化チタンと金属だけを
使用した通常の高反射熱線反射ガラスと本発明の低反射
熱線反射ガラスを大気開放を伴うジョブチェンジ無しに
作り分けることができる。
吸収膜として窒化チタンを使用した組合せでは、実施例
で見られたように、金属チタンターゲットにおいてスパ
ッタリングガスを使い分けることによって、酸化チタン
膜と窒化チタン膜とを作り分けることができる。そのた
め、現在一般に使用されている窒化チタンと金属だけを
使用した通常の高反射熱線反射ガラスと本発明の低反射
熱線反射ガラスを大気開放を伴うジョブチェンジ無しに
作り分けることができる。
【図１】本発明に係わる熱線反射ガラスの要部の断面の
模式図
模式図
１０：ガラス基板 １１：透明金属酸化物膜 １２：金属窒化物膜または金属膜 １３：透明金属酸化物膜 １４：金属窒化物膜
Claims (4)
- 【請求項１】ガラス基板上に第１層として透明金属酸化
物膜、第２層として金属膜または金属窒化物膜、第３層
として透明金属酸化物膜、第４層として金属窒化物膜を
スパッタリング法により順次積層させた熱線反射ガラス
において、ガラス基板側からの可視光反射率が１０％以
下であり、かつ可視光透過率が４０％以下であることを
特徴とする低反射熱線反射ガラス。 - 【請求項２】前記金属窒化物膜が窒化チタン膜であるこ
とを特徴とする請求項１記載の低反射熱線反射ガラス。 - 【請求項３】前記透明金属酸化物膜がチタン、錫、亜
鉛、ジルコニウムおよびタンタルからなる群から選ばれ
る少なくとも１種の金属の酸化物膜であることを特徴と
する請求項１または２記載の低反射熱線反射ガラス。 - 【請求項４】前記金属膜がチタン、クロム、ステンレス
およびニクロムからなる群から選ばれる少なくとも１種
の金属であることを特徴とする請求項１〜３いずれか記
載の低反射熱線反射ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1210195A JPH0848545A (ja) | 1994-05-31 | 1995-01-27 | 低反射熱線反射ガラス |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11915694 | 1994-05-31 | ||
| JP6-119156 | 1994-05-31 | ||
| JP1210195A JPH0848545A (ja) | 1994-05-31 | 1995-01-27 | 低反射熱線反射ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0848545A true JPH0848545A (ja) | 1996-02-20 |
Family
ID=26347666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1210195A Pending JPH0848545A (ja) | 1994-05-31 | 1995-01-27 | 低反射熱線反射ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0848545A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002092527A1 (en) * | 2001-05-17 | 2002-11-21 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated articles with anti-migration barrier layer between dielectric and solar control layers, and methods of making same |
| JP2010202465A (ja) * | 2009-03-04 | 2010-09-16 | Japan Fine Ceramics Center | 断熱ガラスとその製造方法 |
| US20170197874A1 (en) * | 2014-07-25 | 2017-07-13 | Agc Glass Europe | Decorative glass panel |
| US20170210096A1 (en) * | 2014-07-25 | 2017-07-27 | Agc Glass Europe | Heating glazing unit |
-
1995
- 1995-01-27 JP JP1210195A patent/JPH0848545A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002092527A1 (en) * | 2001-05-17 | 2002-11-21 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated articles with anti-migration barrier layer between dielectric and solar control layers, and methods of making same |
| JP2010202465A (ja) * | 2009-03-04 | 2010-09-16 | Japan Fine Ceramics Center | 断熱ガラスとその製造方法 |
| US20170197874A1 (en) * | 2014-07-25 | 2017-07-13 | Agc Glass Europe | Decorative glass panel |
| US20170210096A1 (en) * | 2014-07-25 | 2017-07-27 | Agc Glass Europe | Heating glazing unit |
| US10550034B2 (en) * | 2014-07-25 | 2020-02-04 | Agc Glass Europe | Decorative glass panel |
| US10710339B2 (en) * | 2014-07-25 | 2020-07-14 | Agc Glass Europe | Heating glazing unit |
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