JPS5918134A - 酸化物膜を有する熱線反射積層体の形成方法 - Google Patents
酸化物膜を有する熱線反射積層体の形成方法Info
- Publication number
- JPS5918134A JPS5918134A JP57122901A JP12290182A JPS5918134A JP S5918134 A JPS5918134 A JP S5918134A JP 57122901 A JP57122901 A JP 57122901A JP 12290182 A JP12290182 A JP 12290182A JP S5918134 A JPS5918134 A JP S5918134A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- layer
- metal
- oxide
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
る高性能熱線反射ガラスの製造方法に関するものである
。
。
近年、省エネルギーの観点からビル等の建築物の窓ガラ
スに対して断熱性の高い特性が要求されるようになった
。熱反射性という面では金属膜が有用であるが、その中
でも可視光線を適当量透過させ、その上近赤外線以上の
波長の光の反射能が高いという点で、Ａｕ， Ａｇ，
ＡＩ， Ｏｕ等の膜が広く利用されている。ところが、
このような金属単層の膜は使用下において、金属原子の
マイグレーション酸化等が生じ易く、耐候性の点で十分
でなく、又付着力、引っ掻き強度等の機械強度も十分で
ない。
スに対して断熱性の高い特性が要求されるようになった
。熱反射性という面では金属膜が有用であるが、その中
でも可視光線を適当量透過させ、その上近赤外線以上の
波長の光の反射能が高いという点で、Ａｕ， Ａｇ，
ＡＩ， Ｏｕ等の膜が広く利用されている。ところが、
このような金属単層の膜は使用下において、金属原子の
マイグレーション酸化等が生じ易く、耐候性の点で十分
でなく、又付着力、引っ掻き強度等の機械強度も十分で
ない。
このような問題点の対策として、上記、赤外反射性の高
いＡｕ、 Ａｇ、 Ｏｕ、 Ａ１等の金属層と酸化物の
ような誘電体膜を組み合わせて多層構成にする事が広く
行なわれている。例えば基体面と金属膜の間に酸化物層
を挿入すれば、金属単層の場合に較べて付着力が著しく
増大する。これは酸化物薄膜がガラスに対しては酸素原
子による共有結合性をもち、金属膜に対しては金属原子
による金属結合をもって両者の媒介の役割をつとめるか
らである。又金属膜の上に酸化物膜を形成すれば、酸化
物膜が保護膜の役割をつとめ、耐候性が向上する。さら
に上記両者の構成を組み合わせて、第１層酸化物層、第
２層金属層、第３層酸化物層という３層構造にすれば、
上述の耐候性機械的強度が向上するだけではなく、各層
の膜厚を調整する事によって、金属膜単層では得られな
いような高い可視光透過率、例えば、８０％程度の透過
率を実現する事も可能である。又可視光の反射率に下げ
る事もでき、この事はＡｕ、 Ａｇ、 Ｏｕ等の金属単
層膜をビル等に使用した場合、しばしば問題となる反射
光公害金防ぐ役割をはたす。
いＡｕ、 Ａｇ、 Ｏｕ、 Ａ１等の金属層と酸化物の
ような誘電体膜を組み合わせて多層構成にする事が広く
行なわれている。例えば基体面と金属膜の間に酸化物層
を挿入すれば、金属単層の場合に較べて付着力が著しく
増大する。これは酸化物薄膜がガラスに対しては酸素原
子による共有結合性をもち、金属膜に対しては金属原子
による金属結合をもって両者の媒介の役割をつとめるか
らである。又金属膜の上に酸化物膜を形成すれば、酸化
物膜が保護膜の役割をつとめ、耐候性が向上する。さら
に上記両者の構成を組み合わせて、第１層酸化物層、第
２層金属層、第３層酸化物層という３層構造にすれば、
上述の耐候性機械的強度が向上するだけではなく、各層
の膜厚を調整する事によって、金属膜単層では得られな
いような高い可視光透過率、例えば、８０％程度の透過
率を実現する事も可能である。又可視光の反射率に下げ
る事もでき、この事はＡｕ、 Ａｇ、 Ｏｕ等の金属単
層膜をビル等に使用した場合、しばしば問題となる反射
光公害金防ぐ役割をはたす。
このような酸化物薄膜をスパッター法で形成する手段と
してターゲットとし′を目的酸化物よりなる焼結ターゲ
ットを使用して通常の不活性ガス雰囲気中のスパッタを
行なう方法とターゲットとし１目的酸化物の金属成分よ
シなる金属ターゲットを使用して、不活性ガスと酸素ガ
スの混合ガス雰囲気中で反応性ス、Ｃツタを行なわせる
方法がある。酸化物ターゲットを用いる方法は、反応性
スパッタに較べ一〇再現性は得易いが、ターゲットの成
型に手間がかかり、又ターゲットｉ再生して使用する事
ができない。さらに酸化錫や酸化インヂウムのような一
部の酸化物を除いて、Ｄ、 Ｏ，スパッタを行なう事が
できないという欠点をもっている。一方金属ターゲット
を使用すれば、Ｄ、 Ｃ，スパッタが可能であり、又タ
ーゲットの成型も比較的容易で、再生して使用する事も
できる。ところが金属ターゲットから酸化物膜を得るた
めには、スパッタ雰囲気中の酸素ガスの割合をかなり多
くしなければならない。そしてかかる雰囲気中でＡｕ、
Ａｇ、 Ｏｕ。
してターゲットとし′を目的酸化物よりなる焼結ターゲ
ットを使用して通常の不活性ガス雰囲気中のスパッタを
行なう方法とターゲットとし１目的酸化物の金属成分よ
シなる金属ターゲットを使用して、不活性ガスと酸素ガ
スの混合ガス雰囲気中で反応性ス、Ｃツタを行なわせる
方法がある。酸化物ターゲットを用いる方法は、反応性
スパッタに較べ一〇再現性は得易いが、ターゲットの成
型に手間がかかり、又ターゲットｉ再生して使用する事
ができない。さらに酸化錫や酸化インヂウムのような一
部の酸化物を除いて、Ｄ、 Ｏ，スパッタを行なう事が
できないという欠点をもっている。一方金属ターゲット
を使用すれば、Ｄ、 Ｃ，スパッタが可能であり、又タ
ーゲットの成型も比較的容易で、再生して使用する事も
できる。ところが金属ターゲットから酸化物膜を得るた
めには、スパッタ雰囲気中の酸素ガスの割合をかなり多
くしなければならない。そしてかかる雰囲気中でＡｕ、
Ａｇ、 Ｏｕ。
Ａ１等のスパッタを行なうと、該金属の近赤外線領域以
上における反射特性が著しく低下し、熱線反射としての
性能が下がる結果を招く。このような事態を避けるため
には金属層と酸化物層の各層を形成する際に真空槽内の
雰囲気の切り換えが必要となり、この事は生産性という
面で不利な条件である。
上における反射特性が著しく低下し、熱線反射としての
性能が下がる結果を招く。このような事態を避けるため
には金属層と酸化物層の各層を形成する際に真空槽内の
雰囲気の切り換えが必要となり、この事は生産性という
面で不利な条件である。
本発明者は、かかる点を改善することを目的として研究
の結果、金属膜として酸化し難いＡｕ。
の結果、金属膜として酸化し難いＡｕ。
Ａｇ、 Ａ１等を、酸化物膜として逆に酸化し易いＢ１
のような酸化物を選択すれば条件を調節する事によって
同一雰囲気中で５層膜を形成することが可能であること
を発見した。
のような酸化物を選択すれば条件を調節する事によって
同一雰囲気中で５層膜を形成することが可能であること
を発見した。
Ｂ１ の金属ターゲットから酸化物膜を形成する際のス
パッタ雰囲気中の酸素ガスの割合は、酸化物膜の形成速
度を１０λ／θｅＣ以下に押える限り、３０チ程度で十
分であり、形成速度を下げれば、より少ない酸素ガスの
割合で酸化物膜を形成することが可能である。形成され
たＢ１の酸化物の膜は完全なり１２０３の形に到ってお
らず、やや酸素不足の状態であり、４．５Ａ／ｓｅｃの
形成速度で得た酸化物膜は６３２．８ ｍμの波長で、
光学定数にの値として０．０８程度の吸収がある。
パッタ雰囲気中の酸素ガスの割合は、酸化物膜の形成速
度を１０λ／θｅＣ以下に押える限り、３０チ程度で十
分であり、形成速度を下げれば、より少ない酸素ガスの
割合で酸化物膜を形成することが可能である。形成され
たＢ１の酸化物の膜は完全なり１２０３の形に到ってお
らず、やや酸素不足の状態であり、４．５Ａ／ｓｅｃの
形成速度で得た酸化物膜は６３２．８ ｍμの波長で、
光学定数にの値として０．０８程度の吸収がある。
一方、上述の雰囲気中でＡｇｔ、スパッタすると形成速
度を極端に低下させない限り、赤外域の光学特性も可視
域の光学特性も通常の不活性ガスだけの雰囲気中で得た
Ａｇ膜と大きく違わない膜が得られる。
度を極端に低下させない限り、赤外域の光学特性も可視
域の光学特性も通常の不活性ガスだけの雰囲気中で得た
Ａｇ膜と大きく違わない膜が得られる。
上記の膜形成速度の条件及びスパッター雰囲気で、室温
においてＢ１酸化物／ Ａ ［１！；／Ｂ ｉ酸化物の
３層スパッターを同一雰囲気中で行ない、得られた３層
膜の分光特性を測定したところ、７００ｍμ以上の近赤
外及び赤外域における反射特性が著しく低下しているこ
とが判明した。かがる現象の原因は混合ガス雰囲気中で
のスパッターにょつて得られたＡｇ膜が、不活性ガスだ
けの雰囲気中でのスパッターによって得られたＡｇ膜よ
り機械的強度の点で劣り、そのため、Ａｇ膜の上にＢ１
酸化物の膜を形成する際にＡｇ膜の構造が破壊されると
ころにある。この事は、酸化物ターゲットを用いて不活
性ガスだけの雰囲気中で６層膜を作成してみても上記の
ような現象が起らなかった事及び、混合ガス雰囲気中で
３層膜を作成してもＡｇ膜の上のＢ１酸化物層の厚みを
小さくすることによって、近赤外線、赤外線域の反射性
能の低下の程度を押えることができるという事実によっ
て確認された。
においてＢ１酸化物／ Ａ ［１！；／Ｂ ｉ酸化物の
３層スパッターを同一雰囲気中で行ない、得られた３層
膜の分光特性を測定したところ、７００ｍμ以上の近赤
外及び赤外域における反射特性が著しく低下しているこ
とが判明した。かがる現象の原因は混合ガス雰囲気中で
のスパッターにょつて得られたＡｇ膜が、不活性ガスだ
けの雰囲気中でのスパッターによって得られたＡｇ膜よ
り機械的強度の点で劣り、そのため、Ａｇ膜の上にＢ１
酸化物の膜を形成する際にＡｇ膜の構造が破壊されると
ころにある。この事は、酸化物ターゲットを用いて不活
性ガスだけの雰囲気中で６層膜を作成してみても上記の
ような現象が起らなかった事及び、混合ガス雰囲気中で
３層膜を作成してもＡｇ膜の上のＢ１酸化物層の厚みを
小さくすることによって、近赤外線、赤外線域の反射性
能の低下の程度を押えることができるという事実によっ
て確認された。
このようなり１酸化物膜によるＡｇ膜味壊の起因力とな
るものは両方の内部応力の相違であると考えられる。
るものは両方の内部応力の相違であると考えられる。
そこで本発明者等は、両方の内部応力を緩和するために
スパッターの際に基体の温度を予め１００〜１５０℃に
加熱することを試みた。その結果、この条件で得られた
３層膜は、近赤外線域以上においても反射特性が優れ、
熱線反射体として価値が高いことが判明した。
スパッターの際に基体の温度を予め１００〜１５０℃に
加熱することを試みた。その結果、この条件で得られた
３層膜は、近赤外線域以上においても反射特性が優れ、
熱線反射体として価値が高いことが判明した。
基体の温度を高めることのＡｇ膜への影響は、この温度
ではそれ程大きくないと考えられ、又Ａｇ膜と基体の間
に存在するＢ１酸化物の層が、加熱によるＡｇのマイグ
レーションを妨げる媒介の働きをしている。しかしこの
温度範囲以」二に加熱するとＡｇのマイクレージョンは
妨は切れなくなると考えられる。又Ａｇ膜の厚みも薄す
ぎると破壊やマイグレーションが起こり易い（〜、熱線
反射性の観４点からみても、Ａｇ膜が極端に薄いのはそ
の効果が小さい。又逆にＡｇ膜が厚すぎると可視域の透
過率が下がる結果となり、望ましくない。このことから
赤外線高反射金属の厚みは５０〜３００Ａが望ましい。
ではそれ程大きくないと考えられ、又Ａｇ膜と基体の間
に存在するＢ１酸化物の層が、加熱によるＡｇのマイグ
レーションを妨げる媒介の働きをしている。しかしこの
温度範囲以」二に加熱するとＡｇのマイクレージョンは
妨は切れなくなると考えられる。又Ａｇ膜の厚みも薄す
ぎると破壊やマイグレーションが起こり易い（〜、熱線
反射性の観４点からみても、Ａｇ膜が極端に薄いのはそ
の効果が小さい。又逆にＡｇ膜が厚すぎると可視域の透
過率が下がる結果となり、望ましくない。このことから
赤外線高反射金属の厚みは５０〜３００Ａが望ましい。
以上のように本発明によると、熱線展線性能を有する酸
化物／金属／酸化物型の熱線反射の積層体を作成する際
において、金属としてＡｇ。
化物／金属／酸化物型の熱線反射の積層体を作成する際
において、金属としてＡｇ。
ＡＩ、 Ａｕのような酸化し雛い物質を選択し、酸化物
としてＢ１のような酸化し易い金属から構成される物質
を選択すれば、基体の温度１００〜１５０°α混合ガス
中の酸素ガスの割合５〜３０チという条件で、同一雰囲
気中で５層形成することができ、特に基体を加熱するこ
とによって内部応力が緩和され、３層膜の作成が容易に
なる。
としてＢ１のような酸化し易い金属から構成される物質
を選択すれば、基体の温度１００〜１５０°α混合ガス
中の酸素ガスの割合５〜３０チという条件で、同一雰囲
気中で５層形成することができ、特に基体を加熱するこ
とによって内部応力が緩和され、３層膜の作成が容易に
なる。
以下に本発明の実施例について説明する。
実施例１
研摩方法で表面を清浄した２、５簡厚ソーダライムガラ
ス基板を真空槽内に入れ、油拡散ポンプでｔ ＯＸ １
０−６Ｔｏｒｒ以下まで真空に引くとともに、ガラス基
板′ｆ：１００〜１１０°Ｃに加熱しておく。真空室に
酸素ガスを３０％含む酸素・アルゴン混合ガスを導入し
、真空度を４、Ｏｘ １０”−’ Ｔｏｒｒに調節する
。金属Ｂ１ターゲットにα８〜１． ＯＫＶの電圧を印
加し、反応性スパッターを行ない厚さ４００ＡのＢ１醗
化物薄膜をガラス基板上に得る。次に雰囲気を変えずに
Ａｇターゲットに２．２〜２．４ ＫＶの電圧を印加し
、Ｂ１酸化物薄膜上に２０ＯＡのＡｇ、薄膜を形成した
。最後に再びＢ１＃化物薄膜ｋＡｇ薄膜の上に４００Ｘ
形成した。この６層コートは、ＲＦマグネトロンスノく
ツタ−装置を用いて行ない、又真空槽内にＡｇターゲッ
トとＢ１のターゲットの両方が同時に設置できるので、
真空を破壊す〜ることな〈実施さｉｔたことはもちろん
、前述の、しうにＢ１酸化物層。
ス基板を真空槽内に入れ、油拡散ポンプでｔ ＯＸ １
０−６Ｔｏｒｒ以下まで真空に引くとともに、ガラス基
板′ｆ：１００〜１１０°Ｃに加熱しておく。真空室に
酸素ガスを３０％含む酸素・アルゴン混合ガスを導入し
、真空度を４、Ｏｘ １０”−’ Ｔｏｒｒに調節する
。金属Ｂ１ターゲットにα８〜１． ＯＫＶの電圧を印
加し、反応性スパッターを行ない厚さ４００ＡのＢ１醗
化物薄膜をガラス基板上に得る。次に雰囲気を変えずに
Ａｇターゲットに２．２〜２．４ ＫＶの電圧を印加し
、Ｂ１酸化物薄膜上に２０ＯＡのＡｇ、薄膜を形成した
。最後に再びＢ１＃化物薄膜ｋＡｇ薄膜の上に４００Ｘ
形成した。この６層コートは、ＲＦマグネトロンスノく
ツタ−装置を用いて行ない、又真空槽内にＡｇターゲッ
トとＢ１のターゲットの両方が同時に設置できるので、
真空を破壊す〜ることな〈実施さｉｔたことはもちろん
、前述の、しうにＢ１酸化物層。
Ａｇ層それぞれＷ囲気を変えずに同一雰囲気中でコート
された。得られた膜の光学特性を測定したところ、可視
光平均透過率は５３．９％、可視光平均反射率は５１．
２４であった。又太陽エネルギー反射率は４９．４％で
、同透過率は２６７％であった。
された。得られた膜の光学特性を測定したところ、可視
光平均透過率は５３．９％、可視光平均反射率は５１．
２４であった。又太陽エネルギー反射率は４９．４％で
、同透過率は２６７％であった。
かかる熱線反射ガラスの分光特性図を第１図に示す。
なお、第１図において１は透過率、２は反射率を示す。
実施例２
実施例１と同様な手順でガラス基板上に、４００ＡのＢ
１酸化物の薄膜、１００ＡのＡｇの薄膜、４００ＸのＢ
１酸化物の薄膜を順次積層した。なおそれぞれの膜を作
成する際の印加電圧は実施例１の場合と同じにして、ス
パッタ時間を変えることによって各層の膜厚の調整を行
なった。得られた膜の光学特性を測定したところ、可視
光平均透過率は５５．２多回視光平均反射率は１２．０
チであった。又太陽エネルギー反射率は２２．４チ、同
透過率は４７、１ ％であった。かかる熱線反射ガラス
の分光特性図を第２図に示す。なお、第２図において３
は透過率、４は反射率を示す。
１酸化物の薄膜、１００ＡのＡｇの薄膜、４００ＸのＢ
１酸化物の薄膜を順次積層した。なおそれぞれの膜を作
成する際の印加電圧は実施例１の場合と同じにして、ス
パッタ時間を変えることによって各層の膜厚の調整を行
なった。得られた膜の光学特性を測定したところ、可視
光平均透過率は５５．２多回視光平均反射率は１２．０
チであった。又太陽エネルギー反射率は２２．４チ、同
透過率は４７、１ ％であった。かかる熱線反射ガラス
の分光特性図を第２図に示す。なお、第２図において３
は透過率、４は反射率を示す。
比較例
ガラス基板を加熱せずに常温としたほかは、実施例１と
同様の手順で、ガラス基板上に３０ＯＡのＢ１酸化物の
薄膜、１００大のＡｇの薄膜、５００λのＢ１酸化物の
薄膜を順次積層した。各層ともスパッタ時間が比較的短
かかったため、スパッタリングによる基板温度の上昇は
ほとんど認められなかった。得られた熱線反射ガラスの
分光特性を測定したところ、第３図に示すように、７０
０ｍμ以上の波長域において透過率も反射率もその特性
が悪化していた。なお、第３図において５は透過率、６
は反射率を示す。
同様の手順で、ガラス基板上に３０ＯＡのＢ１酸化物の
薄膜、１００大のＡｇの薄膜、５００λのＢ１酸化物の
薄膜を順次積層した。各層ともスパッタ時間が比較的短
かかったため、スパッタリングによる基板温度の上昇は
ほとんど認められなかった。得られた熱線反射ガラスの
分光特性を測定したところ、第３図に示すように、７０
０ｍμ以上の波長域において透過率も反射率もその特性
が悪化していた。なお、第３図において５は透過率、６
は反射率を示す。
以上のようにこの発明によれば、金属膜を破壊すること
なく、酸化物／金属／酸化物の５層構造膜を同一雰囲気
中で作成でき、このことは量産化に対して好ましい条件
を与える。
なく、酸化物／金属／酸化物の５層構造膜を同一雰囲気
中で作成でき、このことは量産化に対して好ましい条件
を与える。
第１，２図は、本発明方法による熱線反射ガラスの分光
特性図、第５図は比較例に係る熱線反射ガラスの分光特
性図を示す。 芽３−）■
特性図、第５図は比較例に係る熱線反射ガラスの分光特
性図を示す。 芽３−）■
Claims (6)
- （１）反応性スパッター法によシ、金属膜と酸化物膜の
積層体を基体面に形成する方法において、スパッターガ
スとして不活性ガスと酸素ガスの混合ガスを用いるとと
もに、金属膜、酸化物膜の両方とも、スパッター雰囲気
を変えずに形成させる事を特徴とする積層体の形成方法
。 - （２） スパッターガスの酸素濃度が５〜３０％であ
る事を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の熱線反射
積層体の形成方法。 - （３）基体を１００〜１５０℃に加熱する事を特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の熱線反射積層体の形成方
法。 - （４）酸化物膜のターゲットとして金属を用いる事を特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の熱線反射積層体の
形成方法。 - （５）積層体の構成が、第１層が酸化物層、第２層が金
属膜層、第５層が酸化物膜層という５層構造を有する事
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の熱線反射積層
体の形成方法。 - （６） 金属膜としてＡｇ、 Ａｕ、 ＡＩの少なく
とも１つを用い、且つその膜厚が５０〜６００にである
事を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の熱線反射積
層体の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57122901A JPS5918134A (ja) | 1982-07-16 | 1982-07-16 | 酸化物膜を有する熱線反射積層体の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57122901A JPS5918134A (ja) | 1982-07-16 | 1982-07-16 | 酸化物膜を有する熱線反射積層体の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5918134A true JPS5918134A (ja) | 1984-01-30 |
Family
ID=14847417
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57122901A Pending JPS5918134A (ja) | 1982-07-16 | 1982-07-16 | 酸化物膜を有する熱線反射積層体の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5918134A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61151045A (ja) * | 1984-12-17 | 1986-07-09 | ピーピージー・インダストリーズ・インコーポレーテツド | 太陽エネルギーの反射のための製品およびその製造法 |
| JPS6241740A (ja) * | 1985-08-19 | 1987-02-23 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 熱線反射ガラスの製造方法 |
| JPS63274757A (ja) * | 1987-03-26 | 1988-11-11 | ピーピージー インダストリーズ，インコーポレーテツド | ビスマス・錫酸化物膜 |
| JPS643036A (en) * | 1987-05-15 | 1989-01-06 | Ppg Ind Inc | Low-reflection coated article |
| JPH0334028U (ja) * | 1990-04-26 | 1991-04-03 | ||
| JPH069817U (ja) * | 1992-07-13 | 1994-02-08 | 日立造船エンジニアリング株式会社 | 薄板切断機の板材搬送装置 |
| US5413864A (en) * | 1990-07-05 | 1995-05-09 | Asahi Glass Company Ltd. | Low emissivity film |
| US5419969A (en) * | 1990-07-05 | 1995-05-30 | Asahi Glass Company Ltd. | Low emissivity film |
| US5532062A (en) * | 1990-07-05 | 1996-07-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Low emissivity film |
| WO2002026488A1 (fr) * | 2000-09-29 | 2002-04-04 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Stratifié transparent à faible pouvoir émissif |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5052113A (ja) * | 1973-04-12 | 1975-05-09 | ||
| JPS5338269A (en) * | 1976-09-20 | 1978-04-08 | Nippon Precision Circuits | Input*output protecting circuit of mos ic |
| JPS5458719A (en) * | 1977-10-20 | 1979-05-11 | Teijin Ltd | Laminated glass plate |
| JPS569249A (en) * | 1979-06-30 | 1981-01-30 | Sanyo Shinku Kogyo Kk | Electrically conductive infrared shielding glass and its manufacture |
-
1982
- 1982-07-16 JP JP57122901A patent/JPS5918134A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5052113A (ja) * | 1973-04-12 | 1975-05-09 | ||
| JPS5338269A (en) * | 1976-09-20 | 1978-04-08 | Nippon Precision Circuits | Input*output protecting circuit of mos ic |
| JPS5458719A (en) * | 1977-10-20 | 1979-05-11 | Teijin Ltd | Laminated glass plate |
| JPS569249A (en) * | 1979-06-30 | 1981-01-30 | Sanyo Shinku Kogyo Kk | Electrically conductive infrared shielding glass and its manufacture |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61151045A (ja) * | 1984-12-17 | 1986-07-09 | ピーピージー・インダストリーズ・インコーポレーテツド | 太陽エネルギーの反射のための製品およびその製造法 |
| JPS6241740A (ja) * | 1985-08-19 | 1987-02-23 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 熱線反射ガラスの製造方法 |
| JPS63274757A (ja) * | 1987-03-26 | 1988-11-11 | ピーピージー インダストリーズ，インコーポレーテツド | ビスマス・錫酸化物膜 |
| JPS643036A (en) * | 1987-05-15 | 1989-01-06 | Ppg Ind Inc | Low-reflection coated article |
| JPH0334028U (ja) * | 1990-04-26 | 1991-04-03 | ||
| US5413864A (en) * | 1990-07-05 | 1995-05-09 | Asahi Glass Company Ltd. | Low emissivity film |
| US5419969A (en) * | 1990-07-05 | 1995-05-30 | Asahi Glass Company Ltd. | Low emissivity film |
| EP0698585A1 (en) * | 1990-07-05 | 1996-02-28 | Asahi Glass Company Ltd. | A low emissivity film |
| US5532062A (en) * | 1990-07-05 | 1996-07-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Low emissivity film |
| USRE37446E1 (en) | 1990-07-05 | 2001-11-13 | Asahi Glass Company Ltd. | Low emissivity film |
| JPH069817U (ja) * | 1992-07-13 | 1994-02-08 | 日立造船エンジニアリング株式会社 | 薄板切断機の板材搬送装置 |
| WO2002026488A1 (fr) * | 2000-09-29 | 2002-04-04 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Stratifié transparent à faible pouvoir émissif |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2505276B2 (ja) | 灰色高透過性低放射性物品及びその製法 | |
| KR920005471B1 (ko) | 고온처리용 저복사성 필름 | |
| EP0219273B1 (en) | Transparent article having high visible transmittance | |
| JP4763569B2 (ja) | 高赤外反射コーティング、薄膜コーティング堆積方法および関連技術 | |
| EP0645352B1 (fr) | Substrat transparent muni d'un empilement de couches minces agissant sur le rayonnement solaire et/ou infrarouge | |
| US4861669A (en) | Sputtered titanium oxynitride films | |
| JP3515392B2 (ja) | 金属被覆物品とその製法 | |
| CN87105971A (zh) | 高温过程的低辐射薄膜 | |
| JPS62196366A (ja) | 高透過率，低放射率物品 | |
| JPH02160641A (ja) | 熱線反射ガラス | |
| KR101543496B1 (ko) | 저방사 단열 코팅막, 이를 포함하는 건축 자재 및 저방사 단열 코팅막 제조 방법 | |
| MXPA06001624A (es) | Substrato transparente que comprende cubierta antirreflexion. | |
| JPS63206333A (ja) | 単板熱線反射ガラス | |
| JP2002055213A (ja) | 高反射ミラー | |
| JPH0660037B2 (ja) | 太陽エネルギーの反射のための被覆ガラス製品およびその製造法 | |
| EP1833768A2 (fr) | Feuille de verre portant un empilage multi-couches | |
| TW201305078A (zh) | 三銀低輻射鍍膜玻璃及其製造方法 | |
| JPH11228185A (ja) | 日射遮蔽性透光板およびこれを用いた日射遮蔽性複層透光板 | |
| KR102565397B1 (ko) | 저방사율 코팅, 그를 포함하는 유리 표면, 및 그를 제조하는 방법 | |
| CN88101654A (zh) | 氮氧钛喷镀膜 | |
| US4900630A (en) | Glass plate with reflective multilayer coatings to give golden appearance | |
| JPS5918134A (ja) | 酸化物膜を有する熱線反射積層体の形成方法 | |
| JPH0570580B2 (ja) | ||
| JPS63239043A (ja) | 赤外反射物品 | |
| JPH0325506B2 (ja) |