JPH08506097A - 置換されたベンズアゼピノン - Google Patents

置換されたベンズアゼピノン

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JPH08506097A
JPH08506097A JP6513759A JP51375994A JPH08506097A JP H08506097 A JPH08506097 A JP H08506097A JP 6513759 A JP6513759 A JP 6513759A JP 51375994 A JP51375994 A JP 51375994A JP H08506097 A JPH08506097 A JP H08506097A
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JP6513759A
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ブュールマイヤー,ペーター
フレ,パスカル
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チバ−ガイギー アクチェンゲゼルシャフト
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、次の一般式: 〔式中、Arはアリールを表わし;XはC1〜C2−アルキレン又は直接結合を表わし;R1は水素、低級アルキル、アリール−低級アルキル、又はアシルを表わし;R2は低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、アリール低級アルコキシ低級アルキル、アリール−低級アルキル又はC3〜C7−シクロアルキル−低級アルキルを表わし;R3はカルボキシ、5−テトラゾリル、PO2H2,PO3H2もしくはSO3H2、低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシ−低級アルコキシカルボニル、アリール低級アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、カルバモイル、又はカルバモイル(これは(i)ヒドロキシ、低級アルカンスルホニル、ハロ低級アルカンスルホニルもしくはアリールスルホニルによりモノ置換されているか、(ii)低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニルもしくはフェニル低級アルキルによりモノ置換されているか又は相互に独立にジ置換されているか、あるいは(iii)低級アルキレンもしくは低級アルキレン−X1−低級アルキレンによりジ置換されており、ここでX1はO,S又はNHを表わす)であり;環Aは置換されていないか、あるいは低級アルキル、アリール低級アルキル、低級アルコキシ−低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルコキシ−低級アルコキシ、アリール低級アルコキシ、C3〜C7−シクロアルキル、C3〜C7−シクロアルキル−低級アルキル、ニトロ、ハロゲン、トリフルオロメチル、アミノ、又はアミノ(これは、低級アルキル、アリール低級アルキル又はアリールによりモノ置換又は相互に独立にジ置換されており、あるいは低級アルキレン又は低級アルキレンオキシ低級アルキレンによりジ置換されている)である〕により表わされる置換3−アミノ−1−アリールアルキル−ベンズアゼピン2−オン又はその塩に関する。本発明はさらにこれらの化合物の製造方法、その使用、並びに式(I)の化合物又はその医薬として許容される塩を含んで成る医薬製剤に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 置換されたベンズアゼピノン 本発明は、次の一般式: 〔式中、Arはアリールを表わし; XはC1〜C2−アルキレン又は直接結合を表わし; R1は水素、低級アルキル、アリール−低級アルキル、又はアシルを表わし; R2は低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル 、アリール低級アルコキシ低級アルキル、アリール−低級アルキル又はC3〜C7 −シクロアルキル−低級アルキルを表わし; R3はカルボキシ、5−テトラゾリル、PO2H2,PO3H2もしくはSO3H2、低級アル コキシカルボニル、低級アルコキシ−低級アルコキシカルボニル、アリール低級 アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、カルバモイル、又はカルバ モイル(これは(i)ヒドロキシ、低級アルカンスルホニル、ハロ低級アルカン スルホニルもしくはアリールスルホニルによりモノ置換されているか、(ii)低 級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニルもしくはフェニル低級アルキルに よりモノ置換されているか又は相互に独立にジ置換されているか、あるいは(ii i)低級アルキレンもしくは低級アル キレン−X1−低級アルキレンによりジ置換されており、ここでX1はO,S又は NHを表わす)であり; 環Aは置換されていないか、あるいは低級アルキル、アリール低級アルキル、 低級アルコキシ−低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルコキシ−低級アルコ キシ、アリール低級アルコキシ、C3〜C7−シクロアルキル、C3〜C7−シクロ アルキル−低級アルキル、ニトロ、ハロゲン、トリフルオロメチル、アミノ、又 はアミノ(これは、低級アルキル、アリール低級アルキル又はアリールによりモ ノ置換又は相互に独立にジ置換されており、あるいは低級アルキレン又は低級ア ルキレンオキシ低級アルキレンによりジ置換されている)である〕 により表わされる置換3−アミノ−1−アリールアルキル−ベンズアゼピン2− オン、あるいはその塩、その製造方法、その使用、並びに式(I)の化合物又は その医薬として許容される塩を含んで成る医薬製剤に関する。 ベンズアゼピン−2−オン型のラクタムは例えば米国特許No.4,477,464に記載 されている。この化合物は複素環の1−N−原子においてアシル−アルキル基を 有し、そしてACE−阻害物質として心臓血管系疾患の治療のために使用され得る 。 式(I)の前記の化合物の型のベンゾ−ラクタムは米国特許No.4,692,522に開 示されている。そこに特定された化合物は1−N−原子に置換基を有し、これは アシル基により置換されており、他方そのような配置において、複素環の3位に 結合したN−原子はN−アシル化されていてもよく、またN−アルキル化されて いてもよい。さらに、複素環に1−N−原子において非アシル化基により置換さ れており複素環の3位に結合したアミノ基がN−アシル化された化合物が特定さ れている。この様な物質類の化合物はコレシストキニ ンの拮抗物質として使用され得る。 他方、本発明の化合物は、ベンズアゼノピン環の1−N−原子が非アシル化炭 化水素基を有し、そして環の3位に結合したアミノ基はN−アルキル化されてお り、異る種類の活性スペクトルを有する。 文献にはアンジオテンシン(II)の2つのリセプターサブタイプ〔AT1及びAT2 〕が記載されており、これは合成アンジオテンシン−II−類似体に対する異る親 和性に関して区別される。 AT2−リセプターは体の種々の組織中において同定される。当該文献に記載さ れているように、第3のリセプターが、例えば神経腫瘍細胞、形質転換神経細胞 、中枢神経系の種々の領域、心臓及び血管、女性生殖器官、例えば子宮及び卵巣 、副腎及び膵臓、並びに治癒中の皮膚に存在する。 驚くべきことに、本発明の化合物は、Whitebreadら、Biochem.Biophys.Res .Comm.1989,163,184-191に記載されているモデルにおいて、アンジオテンシ ン−II−AT2−リセプターに対して選択的結合を示す。本発明の化合物の結合特 性は、50μMol/Lより低い濃度において証明される。従って、本発明の化合物は 特に、AT2−リセプターにより生ずる患者の徴候の予防又は治療のために使用さ れ得る。 次のことが示された。AT2−リセプターの刺激は、−ラットの褐色細胞腫セル ラインPC12W及びAT2−リセプタートランスアーCOS細胞におけるプロテイン−チ ロシン−ホスファターゼを変更(modulate)し〔Botariら、Biochem.Biophys. Res.Commun.1992,183,206-211;Botariら、Front.Neuroendocrinol.1993 ,44,207-213;Brechlerら、Regul.Peptide 1993,44,207-213;Kambayashi ら、J.Biol.Chem.1993,268,24543-24546〕 −PC12W及び神経培養物中のグラニレートサイクラーゼを阻害し〔Botariら、B iochem.Biophys.Res.Commun.1992,183,206-211;Botariら、Front.Neuro endocrinol.1993,44,207-213;Brechlerら、Regul.Peptide 1993,44,207- 213;Summersら、Am.J.Physiol.1991,260,679-687;Summersら、Proc.Nat l.Acad.Sci.USA 1991,88,7567-7571〕;並びに −神経芽細胞腫NG108-15細胞におけるT−Typ Ca++流を変更する〔Buissonら 、FEBS 1992,309,161-164〕。 さらに、AT2−リセプターは細胞成長及び細胞の増加に関与し、これは胎児期 に特に高密度に発現されるからである〔Gradyら、J.Clin.Iuc cst,1991,88 921-933〕。 血管内皮細胞の増殖を阻害するAT2−リガンドの能力のため、そして内皮細胞 増殖が脈管形成の原因となり、そしてこれが腫瘍増殖及び転移形成をもたらすと いう仮説のため、本発明の化合物は、一般に良性及び悪性の増殖と関連する障害 及び癌の治療のために使用することができる。 また、AT2−リセプターはホスホチロシンホスファターゼ活性(PTPase活性) の変更を中介し、これが増殖阻害及び抗増殖効果をもたらす。AT2−リセプター は血管平滑筋において新内膜形成をもたらす。従って、本発明の化合物は、血管 増殖障害、特に血栓に次ぐ血管細胞壁肥大、血管形成(Augioplastie)、ブルガ ー病、動脈硬化症及び関節硬化症の治療のために使用することができる。 PTPase−活性の変更はまた、チロシンキナーゼ−リセプター及びチロシン−リ ン酸化/脱リン酸化酵素系のシグナル経路を中介する、インシュリン作用との関 連において役割を演ずる。従って、本発明の化合物はまた、糖尿病障害及び合併 症、例えば糖尿病性神経炎、腎炎及び血管炎の治療のためにも使用することがで きる。 AT2−リセプターはまた、脳動脈の直径を調節し、そしてそれ故に脳血流を調 節し、そして脳虚血及び発作並びに類似の徴候の治療のために使用される。 他の重用な用途は、AT2−リセプターは脳の選択的領域に局在し、これは運動 活力の調節、感覚的及び視覚的現象、四肢系及び食欲の調節に関連するという事 実に基いて明らかとなる。同様に、AT2−リセプターを介して、神経選択の調節 及び選択的活性に関連するカルシウム流が変更される。従って、本発明の化合物 は、多数の神経性、精神病性、神経内分泌性、及び神経免疫性障害、例えば依存 、不安状態、抑制、てんかん、記憶、精神病、苦痛、睡眠、晩発性運動障害、過 剰活動及びてんかんの小発作、及び自己機能に関連する障害の治療及び診断、並 びにパーキンソン病、アルツハイマー病、及び食欲障害及びそれに関連する現象 、例えば肥満及び食欲減退の治療のために使用することができる。 前記のごとく、ATPase活性に影響を与えるAT2−リセプター及びこの種のリセ プターはまた、治癒中の皮膚にも同定されるので、本発明の化合物はまた、皮膚 の細胞増殖及び分化を調節することができ、そして皮膚組織の再構成において役 割を演じ、そしてそれにより創傷の治癒を助けそしてチロイドの形成を妨害する 。 卵巣濾胞細胞にもAT2−リセプターは見出され、排卵に制御効果を及ぼす。そ の限りでは、本発明の化合物は不妊の治療のために使用することができ、これは 非排卵、排卵障害、黄体の機能不全、「稽留流産」(missed abortion)、他の この種の疾患、例えば月経前症候群、排卵機能に関連する月経困難症がその原因 となる。 ヒトの子宮筋層において高いAT2−リセプター密度が見出される。PTPase活性 の刺激のため、子宮の収縮が阻害され、そして本発明の化合物は、異常な子宮収 縮により惹起される障害、例えば月経不 順、「稽留流産」(missed abortion)、肥大、及び過運動症の治療のために使 用することができる。さらに、PTP-ase活性はチロシンキナーゼ並びに細胞増殖 及び細胞分化と関連する他の酵素の活性を変更し、このため本発明の化合物は子 宮線維腫の治療のために使用することができる。 AT2−リセプターは心臓機能の調節のために役割を演ずる。T−Typカルシウム 流の明らかな影響は、AT2−リセプターを介して、心臓において、不整脈又は洞 結節(Sinusknot)における先導機能の変更において重要な役割を演ずる。従っ て、本発明の化合物は、心不全及び不整脈の療法において使用される。それのみ ならず、それらは、成長阻害的として一般に見られるPTPase活性の上昇をAT2− リセプターが介在するので、心臓肥大の治療のために有用である。 AT2−リセプターはまた、球状帯、束状帯及び副腎髄質にも存在する。これら のリセプターを介してT−Typによるカルシウムの流れが変更され、そしてさら に抗増殖特性が介在されるので、本発明の化合物は、副腎の肥大及び超分泌、例 えばクッシング(Cushing)症候群、雄性(androgenital)症候群、及び一次ア ルドステロン過剰症の治療のために使用される。 T−Typによるカルシウム流のこの様な変更のため、本発明の化合物は、膵臓 の調節不全及び外分泌を伴う障害、例えば膵炎、高インシュリン症、及びゾーリ ンガーエリソン(Zollinger-Ellison)症候群の治療のために使用することがで きる。 心臓硬塞の後に生ずる心臓の疾患を有効に治療するための、「心筋硬塞後」を 意のままに治療するための医薬の必要性が常に存在する。好ましくは、対応する 療法は、心臓の回復及び治癒期の後に開始されるべきである。急性心筋硬塞は血 液動態効果の変化のみならず、病気の及び健全な心臓における構造の変化も生じ させることが 知られている。これらの血液動態効果は、それ自体既知の方法で、例えばラット のモデルを使用して試験することができる〔Schoemakerら、J.Mol.Cell Cardi ol.23,187-197(1991)〕。同様に、心筋硬塞は間質で生ずるDNA合成の刺激及 び障害されていない心臓でのコラーゲン形成の増強にも関連する〔van Krimpen ら、J.Mol.Cell Cardiol.1245-1253(1991)〕。 驚くべきことに、本発明の化合物及びその塩は、DNA合成を低下せしめる。他 方、心筋硬塞後治療は負の血液動態効果の改善をもたらす。これらの制御効果は 、これらの化合物のAT2−リセプターへの結合に基く。これらの知見は、それ自 体既知の方法の使用を可能にする〔Schoemakerら、J.Mol.Cell Cardiol.23, 187-197(1991);及びvan Krimpenら、J.Mol.Cell Cardiol.23,1245-1253 (1991)並びにSmitsら、Jourral of Cardiovascular Pharmacology,20:772-7 78(1992)。両方の開始において、ラットのモデルに心臓硬塞を生じさせ、そし て活性成分を例えば浸透圧ミニポンプにより数週間にわたって投与する。活性成 分は、好ましくは、心筋硬塞が生じた後3〜4週間後に投与し、そして血液動態 効果及び当該DNAの生成を試験する。結果が明瞭に示すところによれば、一方に おいてDNA合成は有意に低下し、そして他方において負の血液動態効果は正常に もどる。「心筋硬塞後」の治療のために知られているACE-阻害物質カプトプリル (Captopril)を用いた対応する動物実験の結果は、ヒトにおいても確認される 〔Pfefferら、N.Engl.J.Med.1992,327,669-677〕。 要約すると、本発明の化合物及びその塩は好ましい作用プロフィールを示す。 従って、式(I)で表わされる化合物及びその医薬として許容される塩は、例 えば、AT2−リセプターの変更により生ずる疾患、例 えば前に記載した種類の疾患の治療のために有用である。本発明の目的は、式( I)の化合物及びその医薬として許容される塩の対応する医薬の製造のための使 用、及びAT2−リセプターの変更により生ずる疾患の治療に関する。医薬の製造 の際、活性成分の工業的量の調製が含まれる。 式(I)の化合物は特に、医薬として許容される塩として存在することができ る。例えば少なくとも1個の塩基性中心を有する化合物(I)は酸付加塩を形成 することができる。これらは、例えば強無機酸、例えば鉱酸、例えば硫酸、リン 酸又はパロゲン化水素酸、強有機カルボン酸、場合によっては例えばハロゲンに より置換されたC1〜C4−アルカンカルボン酸、例えば酢酸、場合によっては不 飽和のジカルボン酸、例えばシュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマ ル酸、フタル酸、又はテレフタル酸、ヒドロキシカルボン酸、アスコルビン酸、 グリコール酸、乳酸、酒石酸、リンゴ酸、又はクエン酸、アミノ酸、例えばアス パラギン酸、又はグルタミン酸、あるいは安息香酸、あるいは有機スルホン酸、 例えば場合によってはハロゲンにより置換されているC1〜C4−アルカン−又は アリール−スルホン酸、例えばメタン−又はp−トルエンスルホン酸と共に形成 される。さらに、少なくとも1個の酸基(例えばCOOH又は5−テトラゾリル)を 有する化合物(I)は塩基との塩を形成することができる。塩基との好ましい塩 は、例えば金属塩、例えばアルカリ金属又はアルカリ土類金属との塩、例えばナ トリウム塩、カリウム塩もしくはマグネシウム塩、又はアンモニアもしくは有機 アミンとの塩、例えばモルホリン、チオモルホリン、ピペリジン、ピロリジン、 モノ−、ジ−もしくはトリ−低級アルキルアミン、例えばエチルアミン、tert− ブチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、トリエチルアミン、ト リブチルアミンもしく はジメチル−プロピルアミン、又はモノ−、ジ−もしくはトリ−ヒドロキシ低級 アルキルアミン、例えばモノ−、ジ−もしくはトリ−エタノールアミンとの塩で ある。さらに、対応する内部塩を形成することもできる。さらに、医薬用途に適 合しない塩も、例えば単離のために含まれる。遊離化合物又はその医薬のして許 容される塩の精製が考えられる。 本発明の化合物は少なくとも2個の光学活性炭素原子を有し、そしいそれ故に 光学活性体、光学活性体混合物の形で、並びに純粋なエナンチオマー及びシアス テレオマーの形で存在することができる。対応する立体異性体は同様に本発明に 含まれる。 アリール、並びに例えばアリール−低級アルキル、アリール低級アルコキシ− カルボニル、又はアリールオキシカルボニル及びアリール低級アルカノイル中の アリールは、好ましくは炭素環アリール、例えばフェニル又はナフチル、さらに 複素環アリール、例えば単環モノアザアリール、モノオキサアリール、モノチア アリール、ジアザアリール、オキサザアリール又はチアザアリール、例えばピロ リル、ピリジル、フリル、チエニル、イミダゾリル、イソキサゾリル、又はチア ゾリルである。この様な炭素環又は複素環アリール基は例えば、相互に独立に、 置換されていないか、あるいは低級アルキル、アリール低級アルキル、低級アル コキシ−低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルコキシ−低級アルコキシ、ア リール低級アルコキシ、C3〜C7−シクロアルキル、C3〜C7−シクロアルキル −低級アルキル、ニトロ、ハロゲン、トリフルオロメチル、アミノ、アミノ(低 級アルキル、アリール低級アルキルもしくはアリールによりモノ−もしくは相互 に独立にジ置換されており又は低級アルキレン、低級アルキレンオキシ低級アル キレンによりジ置換されている)から成る群から選択された置換基により1又は 後置換さ れており、例えば2回又は3回置換されている。好ましいアリール基は、置換さ れていないフェニル基、又は上記のように1回もしくは多数回、例えば2回もし くは3回置換されたフェニルである。 アシルは例えば低級アルカノイル、アリール低級アルカノイル又はアロイル、 特にベンゾイルであり、これは置換されていないか、又は炭素環アリールについ て前記したように置換されていてもよい° 本明細書において使用する一般的用語は、特にことわらない限り次の意見を有 する。 「低級」なる表現は、特に7個以下、好ましくは4個以下の炭素原子を含む対 応する基又は化合物を意味する。 低級アルキルは特にC1〜C7−アルキル、すなわちメチル、エチル、n−プロ ピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert−ブチル、又 は対応するペンチル、ヘキシルもしくはヘプチル基を表わす。C1〜C4−アルキ ルが好ましい。 低級アルケニルは特にC3〜C7−アルケニルであり、そして例えば2−プロペ ニル又は1−,2−もしくは3−ブテニルである。C3〜C5−アルケニルが好ま しい。 低級アルキニルは特にC3〜C7−アルキニルであり、そして好ましくはプロパ ルギルである。 ヒドロキシ低級アルキルは特にヒドロキシ−C1〜C4−アルキル、例えばヒド ロキシメチル、2−ヒドロキシエチル又は3−ヒドロキシプロピルである。 C1〜C2−アルキレンはメチレン、又は1,1−エチレンもしくは1,2−エ チレンである。 C3〜C7−シクロアルキルは特にシクロプロピル、シクロブチル、シクロペン チル、シクロヘキシル又はシクロヘプチルである。 シクロペンチル及びシクロヘキシルが好ましい。 C3〜C7−シクロアルキル−低級アルキルは特に、C3〜C7−シクロアルキル −C1〜C7−アルキル、例えばシクロプロピルメチル、2−シクロプロピル−エ チル、3−シクロプロピル−プロピル、シクロペンチル−メチル、2−シクロペ ンチル−エチル、3−シクロペンチル−プロピル、シクロヘキシルメチル、2− シクロヘキシル−エチル又は3−シクロヘキシル−プロピルである。C5〜C6− シクロアルキル−C1〜C4−アルキル、例えばシクロヘキシルメチル又は2−シ クロヘキシル−エチルが好ましい。 低級アルコキシは特に、C1〜C7−アルコキシ、すなわちメトキシ、エトキシ 、n−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、n−ブチルオキシ、イソブチルオ キシ、sec-ブチルオキシ、tert−ブチルオキシ又は対応するペンチルオキシ、ヘ キシルオキシもしくはヘプチルオキシである。C1〜C4−アルコキシが好ましい 。 低級アルコキシ−低級アルキルは特に、C1〜C4−アルコキシ−C1〜C4−ア ルキル、例えば2−メトキシ−エチル、2−エトキシエチル、2−(n−プロピ ルオキシ)エチル又はエトキシメチルである。 低級アルコキシ−低級アルコキシは特にC1〜C4−アルコキシ−C1〜C4−ア ルコキシ、例えばメトキシメトキシ、エトキシメトキシ、2−メトキシ−エトキ シ又は2−エトキシ−エトキシである。 パロゲンは特に、35以下の原子番号を有するハロゲン、すなわち弗素、塩素又 は臭素であり、さらにヨウ素も含む。 低級アルキレンは特にC2〜C7−アルキレンであり、直鎖又は分枝鎖であり、 そして特にエチレン、1,3−プロピレン、1,4−ブチレン、1,2−プロピ レン、2−メチル−1,3−プロピレ ン、又は2,2−ジメチル−1,3−プロピレンである。C2〜C5−アルキレン が好ましい。 低級アルキレンオキシ低級アルキレンは特にC2〜C4−アルキレンオキシ−C2 〜C4−アルキレン、好ましくはエチレンオキシエチレンである。 低級アルコキシカルボニルは特に、C2〜C8−アルコキシカルボニルであり、 そして例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロピルオキシカルボ ニル又はピバロイルオキシカルボニルである。C2〜C5−アルコキシカルボニル が好ましい。 低級アルコキシ低級アルコキシカルボニルは特にC1〜C4−アルコキシ−C1 〜C4−アルコキシカルボニル、好ましくはエトキシエトキシカルボニル、メト キシエトキシカルボニル及びイソプロピルオキシ−エトキシカルボニルである。 ナフチルは特に、1−又は2−ナフチルである。 ピロリルは特に、2−又は3−ピロリルである。 ピリジルは特に、2−,3−又は4−ピリジルである。 フリルは特に、2−又は3−フリルである。 チエニルは特に、2−又は3−チエニルである。 イミダゾリルは特に、2−,4−又は5−イミダゾリルである。 イソキサゾリルは特に、3−又は4−イソキサゾリルである。 チアゾリルは特に、2−,3−又は5−チアゾリルである。 低級アルカノイルは特に、C1〜C7−アルカノイルであり、そして例えばホル ミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル又はピバロイルである 。C2〜C5−アルカノイルが好ましい。 フェニル低級アルカノイルは特にフェニル−C2〜C5−アルカノイルであり、 そして例えばフェニルアセチル、3−フェニルプロ ピオニル又は4−フェニルブチリルである。 低級アルキルアミノは特にC1〜C7−アルキルアミノであり、そして例えばメ チルアミノ、エチルアミノ、n−プロピルアミノ又はイソプロピルアミノである 。C1〜C4アルキルアミノが好ましい。 フェニル低級アルキルアミノは好ましくはフェニル−C1〜C4−アルキルアミ ノ、特にベンジルアミノ又は1−もしくは2−フェニルエチル−アミノである。 ジ低級アルキルアミノは特にジ−C1〜C4−アルキルアミノ、例えばジメチル アミノ、ジエチルアミノ、ジ(n−プロピル)アミノ、メチル−プロピルアミノ 、メチル−エチルアミノ、メチル−ブチルアミノ又はジブチル−アミノである。 N−低級アルキル−N−フェニル低級アルキルアミノは、特に、N−C1〜C4 −アルキル−N−フェニル−C1〜C4−アルキルアミノ、好ましくはメチル−ベ ンジル−アミノ又はエチル−ベンジルアミノである。 ジ(フェニル低級アルキル)アミノは特に、ジ(フェニル−C1〜C4−アルキ ル)アミノ、好ましくはジベンジルアミノである。 低級アルキレンにより置換されたアミノは特に、C2〜C6−アルキレンアミノ 、好ましくはC4〜C6−アルキレンアミノ、例えば1−ピロリジノ又は1−ピペ リジノである。 低級アルキレンオキシ低級アルキレンにより置換されたアミノは特に、C2〜 C4−アルキレンオキシ−C2〜C4−アルキレンアミノ、好ましくは4−モルホ リノである。 ハロゲン低級アルカンスルホニルは特にハロゲン−C1〜C7−アルカンスルホ ニル、例えばクロロメタンスルホニル、フルオロージクロロメタンスルホニル、 トリクロロメタンスルホニル又はトリ フルオロメタンスルホニルである。ハロゲン−C1〜C4−アルカンスルホニルが 好ましい。 本発明は特に、Arがアリールであり; XがC1〜C2−アルキレン又は直接結合であり; R1が水素、低級アルキル、アリール−低級アルキル又はアシルであり; R2が低級アルキル、アリール−低級アルキル又はC3〜C7−シクロアルキル −低級アルキルであり; R3がカルボキシ、5−テトラゾリル、PO2H2,PO3H2又はSO3H2であり; 環Aが、低級アルキル、アリール低級アルキル、低級アルコキシ−低級アルキ ル、低級アルコキシ、低級アルコキシ−低級アルコキシ、アリール低級アルコキ シ、C3〜C7−シクロアルキル、C3〜C7−シクロアルキル−低級アルキル、ニ トロ、ハロゲン、トリフルオロメチル、アミノ、アミノ(これは、低級アルキル 、アリール低級アルキルもしくはアリールによりモノ−もしくは相互に独立にジ 置換されているか、又は低級アルキレン、低級アルキレンオキシ低級アルキレン によりジ置換されている)から成る群から選択された置換基により1回又は複数 回置換されている式(I)の化合物、あるいはその塩に関する。 本発明は特に、Arがフェニルであり; XがC1〜C2−アルキレン又は直接結合であり; R1が水素、低級アルキル、低級アルキル(これは、フェニル、ナフチル、ピ ロリル、ピリジル、フリル、チエニル、イミダゾリル、イソキサゾリル又はチア ゾリルにより置換されている)、低級アルカノイル、低級アルカノイル(これは 、フェニル、ナフチル、ピロリル、ピリジル、フリル、チエニル、イミダゾリル 、イソキサゾ リル又はチアゾリルにより置換されている)、又はベンゾイルであり; R2が(i)低級アルキル、低級アルキル(これは、フェニル、ナフチル、ピ ロリル、ピリジル、フリル、チエニル、イミダゾリル、イソキサゾリル又はチア ゾリルにより置換されている)、又はC3〜C7−シクロアルキル−低級アルキル であり、あるいは(ii)ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル 、低級アルコキシ低級アルキル(ここで低級アルコキシ部分はフェニル、ナフチ ル、ピロリル、ピリジル、フリル、チエニル、イミダゾリル、イソキサゾリル又 はチアゾリルにより置換されている)であり; R3が(i)カルボキシ、5−テトラゾリル、PO2H2,PO3H2又はSO3H2であり、 あるいは(ii)低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシ低級アルコキシカル ボニル、フェニル低級アルコキシカルボニル、ベンゾイルカルボニル、カルバモ イル、低級アルキルカルバモイル、ジ低級アルキルカルバモイル、フェニル低級 アルキルカルバモイル、ジ−フェニル低級アルキル−カルバモイル、ヒドロキシ −カルバモイル、低級アルカンスルホニル−カルバモイル、ハロ低級アルカンス ルホニル又はフェニルスルホニルであり; 環Aは、炭素環又は複素環の芳香族基であり、これらは相互に独立に置換され ていないか、あるいは、低級アルキル、低級アルキル(これは、フェニル、ナフ チル、ピロリル、ピリジル、フリル、チエニル、イミダゾリル、イソキサゾリル 又はチアゾリルにより置換されている)、低級アルコキシ−低級アルキル、低級 アルコキシ、低級アルコキシ−低級アルコキシ、フェニル低級アルコキシ、C3 〜C7−シクロアルキル、C3〜C7−シクロアルキル−低級アルキル、ニトロ、 ハロゲン、トリフルオロメチル、アミノ、アミノ(これは、低級アルキル、フェ ニル低級アルキルもしくはフェニルに よりモノ置換されているか又は相互に独立にジ置換されており、あるいは低級ア ルキレン、低級アルキレンオキシ低級アルキレンによりジ置換されている)から 成る群から選択された置換基により1回又は複数回置換されている; 式(I)の化合物、その立体異性体、あるいはその塩に関する。 本発明は特に、Arがフェニルであり; XがC1〜C2−アルキレン又は直接結合であり; R1が水素、低級アルキル、フェニル低級アルキル、低級アルカノイル、フェ ニル低級アルカノイル又はベンゾイルであり; R2が低級アルキル、フェニル低級アルキル、又はC3〜C7−シクロアルキル −低級アルキルであり; R3が(i)カルボキシ、5−テトラゾリル、PO2H2,PO3H2もしくはSO3H2であ り、又は(ii)カルバモイルもしくはヒドロキシ−カルバモイルであり; 環Aが、炭素環又は複素環の芳香族基であって、相互に独立に、置換されてい ないか、あるいは低級アルキル、フェニル低級アルキル、低級アルコキシ−低級 アルキル、低級アルコキシ、低級アルコキシ−低級アルコキシ、フェニル低級ア ルコキシ、C3〜C7−シクロアルキル、C3〜C7−シクロアルキル−低級アルキ ル、ニトロ、ハロゲン、トリフルオロメチル、アミノ、アミノ(これは、低級ア ルキル、フェニル低級アルキルもしくはフェニルによりモノ置換されているか又 は相互に独立にジ置換されており、あるいは低級アルキレン、低級アルキレンオ キシ低級アルキレンによりジ置換されている)から成る群から選択された置換基 により1回又は複数回置換されている; 式(I)の化合物、その立体異性体、あるいはその塩に関する。 本発明は特に、Arがフェニル、又はC1〜C4−アルキルにより 置換されたフェニルであり; XがC1〜C2−アルキレン又は直接結合であり; R1が水素、C1〜C4−アルキル又はC2〜C5−アルカノイルであり; R2がフェニル−C1〜C4−アルキル又はC3〜C7−シクロアルキル−C1〜C4 −アルキルであり; R3がカルボキシ、5−テトラゾリル、PO2H2,PO3H2又はSO3H2であり; 環Aが置換されていないか、あるいはC1〜C4−アルキル、ハロゲン、C1〜 C4−アルコキシ−C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−ア ルコキシ−C1〜C4−アルコキシ、ニトロ、ハロゲン及びトリフルオロメチルか ら成る群から選択された置換基により1回又は複数回置換されている; 式(I)の化合物、その立体異性体、あるいはその塩に関する。 本発明は特に、Arがフェニル(C1〜C4−アルキル、低級アルコキシ、ハロゲ ン、トリフルオロメチル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ 又はニトロにより置換されている)であり; Xがメチレンであり; R1が水素又はC2〜C5−アルカノイルであり; R2はフェニル−C1〜C4−アルキル、あるいは非置換フェニル又はハロゲン 、トリフルオロメチル、C1〜C4−アルキルもしくはC1〜C4−アルコキシによ り置換されたフェニルであり、あるいはR2はC3〜C7−シクロアルキル−C1〜 C4−アルキルであり; R3はカルボキシ、カルバモイル又はヒドロキシカルバモイルであり; 環Aは置換されていないか、あるいはC1〜C4−アルキル、ハロゲン、C1〜 C4−アルコキシ−C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−ア ルコキシ−C1〜C4−アルコキシ、ニトロ、ハロゲン及びトリフルオロメチルか ら成る群から選択された置換基により1回又は複数回置換されている; 式(I)、あるいはその立体異性体、あるいはその塩に関する。 本発明は特に、Arはフェニル、又はC1〜C4−アルキルにより好ましくはパラ −位により置換されたフェニル、例えばp−イソプロピルフェニルであり; Xがメチレンであり; R1が水素、又はC2〜C5−アルカノイルであり; R2がフェニル−C1〜C4-アルキル又はC3〜C7−シクロアルキル−C1〜C4 −アルキルであり; R3がカルボキシ又は5−テトラゾリルであり; 環Aが置換されていないか、又はC1〜C4−アルキル、ハロゲン、C1〜C4− アルコキシ−C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルコキ シ−C1〜C4−アルコキシ、ニトロ、ハロゲン及びトリフルオロメチルから成る 群から選択された置換基により1回又は複数回置換されている; 式(I)の化合物、その立体異性体、あるいはその塩に関する。 本発明は特に、次の式(Ia): (式中、R1は水素であり; R2はフェニル−C1〜C4−アルキル、例えば2−フェニル−エチル、又はC3 〜C7−シクロアルキル−C1〜C4−アルキル、例えば2−シクロヘキシル−エ チルであり; R3はカルボキシであり; R4はC1〜C4−アルキル、好ましくはイソプロピルであり、好ましくはパラ −位において結合している) により表わされる化合物、その立体異性体、あるいはその塩に関する。 本発明は特に、次の式(Ib): (式中、R1は水素であり; R2はフェニル−C1〜C4−アルキル、例えば2−フェニル−エチル、又はC3 〜C7−シクロアルキル−C1〜C4−アルキル、例えば2−シクロヘキシル−エ チルであり; R3はカルボキシであり; R4はC1〜C4−アルキル、好ましくはイソプロピルである) により表わされる化合物、その立体異性体、あるいはその塩に関する。 本発明は、R2及びR3を有するC−原子が(S)−配置を有する式(I),( Ia)及び(Ib)の化合物に関する。 基R2及びR3を有するC−原子並びにアミノ基が結合して複素 環C原子が(S)−配置を有する式(I),(Ia)及び(Ib)の化合物が好 ましい。 本発明は、実施例に記載されている式(I)の新規化合物、及びその立体異性 体、又はその塩に関する。 本発明のさらなる対象は、式(I)の化合物及びその立体異性体又はその塩の 製造方法であり、これらは例えば次のようにして製造される: a)次の式: (式中、X1は基R3に変換され得る基である) で表わされる化合物、又はその塩において、X1を基R3に変換し; b)R1が水素である式(I)の化合物又はその塩の製造のために、次の式: (式中、X2はアミノ保護基である) により表わされる化合物又はその塩において、アミノ保護基を除去し;あるいは 、 c)次の式: で表わされる化合物を、次の式: (式中、X5は離核性脱離基である) により表わされる化合物、又は式: R2−CO−R3 (IVc) 又はその塩と反応せしめ;あるいは、 d)次の式: で表わされる化合物を、次の式: X6−X−Ar (Vb) (式中X6は離核性脱離基である) で表わされる化合物又はその塩と反応せしめ;あるいは、 e)次の式: (式中、X7は(i)オキソ、又は(ii)水素と共に反応性エステル化ヒドロ キシ基である) で表わされる化合物を、次の式: で表わされる化合物又はその塩と反応せしめ; そして、所望により、上記の方法又は他の方法により得られた遊離形又は塩の 形の式(I)の化合物を、式(I)の他の化合物に転換し、こうして得られた異 性体混合物を分離し、そして所望の異性体を単離し、そして/又は上記のように して得られた式(I)の遊離化合物を塩に、上記のようにして得られた式(I) の化合物の塩を式(I)の遊離化合物又は他の塩に変換する。 好ましいX1は例えばシアノである。 R3がカルボキシである式(I)の化合物は、例えば、X1がシアノであるか又 はR3とは異るエステル化もしくはアミド化カルボキシである式(II)の化合物 から出発して、加水分解により、好ましくは塩基の存在下で製造することができ る。 好ましくは、次のX1はそれ自体既知の方法により、カルボキシR3に転換する ことができる;2−シアノエトキシカルボニルX1は例えば塩基の存在下で加水 分解することができ、2−トリメチルシリルオキシカルボニルは弗化物、例えば アルカリ金属弗化物、例えば弗化ナトリウムによる処理により、そしてシリルオ キシカルボニルX1は酸で処理することによりカルボキシR3に転換することがで きる。 前記の及び後記の変法において記載する反応は、それ自体既知の方法で、適当 な溶剤もしくは希釈剤又はこれらの混合物の存在下又 は非存在下で、必要により冷却して、室温において又は加熱して、例えば約−80 ℃と反応混合物の沸点との間の温度、好ましくは約−10℃〜約+200℃において 、所望により密閉容器中で、圧力下で、不活性雰囲気中で、そして/又は水不含 条件下で行われる。 対応する処理方法及び反応条件の詳細は特に実施例において知ることができる 。 変法a) カルボキシR3に変換される基X1は例えば官能的に修飾されたカルボキシ又は 酸化的にカルボキシに変換され得る基である。 官能的に修飾されたカルボキシとして例えばR3とは異るエステル化カルボキ シ、アミド化カルボキシ又はシアノである。 R3とは異るエステル化されたカルボキシは、例えば場合によっては置換され ている脂肪族、環状脂肪族又は芳香族アルコールによりエステル化されたカルボ キシである。脂肪族アルコールは、例えば低級アルカノール、例えばメタノール 、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、sec-ブ タノール又はtert−ブタノールであり、シアノ又はシリル基により置換されてお り、他方環状脂肪族アルコールとして例えば3〜8員環状アルコール、例えばシ クロペンタノール、−ヘキサノール又は−ヘプタノ−ルが挙げられる。芳香族ア ルコールは例えばフェノール又は複素環アルコールであり、これらは置換されて いてもよく、例にヒドロキシピリジン、例えば2−,3−又は4−ヒドロキシピ リジンである。 アミド化カルボキシは、例えば、カルバモイル、あるいはヒドロキシ、アミノ もしくは場合によっては置換されているフェニルによりモノ置換された、低級ア ルキルによりモノ−もしくはジ−置換された又は4〜7員アルキレンもしくは3 −アザ、3−低級アルキル アザ−、3−オキサ−もしくは3−チアアルキレンにより置換されたカルバモイ ルである。例えば、カルバモイル、N−モノ−もしくはN,N−ジ低級アルキル カルバモイル、例えばN−メチル−、N−エチル、N,N−ジメチル、N,N− ジエチル−及びN,N−ジプロピル−カルバモイル、ピロリジノ−及びピペリジ ノカルボニル、モルホリノ、ピペラジノ−、4−メチルピペラジノ−及びチオモ ルホリノ−カルボニル、モルホリノ−、ピペラジノ−、4−メチルピペラジノ及 びチオモルホリノ−カルバモイル、アニリノカルボニル、並びに低級アルキル、 低級アルコキシ、及び/又はハロゲンにより置換されたアニリノカルボニルを挙 げることができる。 好ましくは、官能的に修飾されけたカルボキシは、例えばシアノ−低級アルコ キシカルボニル、例えば2−シアノエトキシカルボニル、シリルオキシ−カルボ ニル、例えばトリ低級アルキルシリルオキシカルボニル、例えばトリメチル(又 はエチル)シリルオキシカルボニル、及びシアノである。 X1は好ましくはシアノである。 R3がカルボキシである式(I)の化合物は、例えば、X1がシアノ、又はR3 とは異るエステル化されたもしくはアミド化されたカルボキシルである式(II) の化合物から出発して、加水分解により、特に塩基の存在下で製造することがで きる。 特に、次のX1はそれ自体既知の方法でカルボキシR3に変換することができる 。2−シアノエトキシカルボニルX1は例えば塩基の存在下で加水分解により、 2−トリメチルシリルオキシカルボニルは弗化物、例えはアルカリ金属弗化物、 例えはフッ化ナトリウムによる処理によって、そしてシリルオキシカルボニルX1 は酸で処理することによりカルボキシR3に変換することができる。 塩基として、例えば、アルカリ金属−ヒドロキシド、−ヒドリド 、−アミド、−アルカノレート、−カーボネート、トリフェニルメチリド、−ジ 低級アルキルアミド、−アミノアルキルアミド又は−低級アルキルシリルアミド 、ナフタリンアミン、低級アルキルアミン、塩基性複素環、水酸化アンモニウム 、及び炭素環アミンを挙げることができる。例えば、水酸化ナトリウム、水酸化 カリウム、ナトリウムアミド、カリウム−tert−ブチレート、−カーボネート、 リチウム−トリフェニルメチリド、−ジイソプロピルアミド、カリウム−3−( アミノプロピル)−アミド、−ビス−(トリメチルシリル)−アミド、ジメチル アミノナフタリン、ジ−もしくはトリ−エチルアミン、又はエチル−ジイソプロ ピルアミン、N−メチル−ピペリジン、ピリジン、ベンジルトリメチル−アンモ ニウムヒドロキシド、1,5−ジアザビシクロ〔4,3,0〕ノン−5エン(DB N)、及び1,8−ジアザ−ビシクロ〔5,4,0〕ウンデク−7−エン(DBU) が挙げられる。 酸として、例えば、強無機酸、例えば鉱酸、例えば硫酸、リン酸又はハロゲン 化水素酸、強有機カルボン酸、例えば、場合によってはハロゲンにより置換され たC1〜C4−アルカンカルボン酸、例えば酢酸又はトリフルオロ酢酸、有機スル ホン酸、例えば、場合によってはハロゲンにより置換されたC1〜C4−アルカン −又はアリール−スルホン酸、例えばメタンスルホン酸又はp−トルエンスルホ ン酸が挙げられる。 酸化的にカルボキシに変換される基として、例えばヒドロキシメチル、又は場 合によってはその場で生成されるホルミルが挙げられる。 X1がヒドロキシメチル又はホルミルである式(II)の化合物から出発して、 R3カルボキシを酸化により生成することができる。酸化は、例えば、不活性溶 剤、例えば低級アルカンカルボン酸、例 えば酢酸、ケトン、例えばアセトン、エーテル、例えばテトラヒドロフラン、複 素環芳香族、例えばピリジン、もしくは水、又はこれらの混合物中で、好ましく は冷却又は加熱して、例えば約0℃と約+150℃との間の温度において、行うこ とができる。酸化剤として例えは酸化性遷移金属化合物、特にI,VI又はVII族 の元素を有する化合物が挙げられる。例えば、銀化合物、例えば硝酸銀、酸化銀 及びピコリン酸銀、クロム化合物、例えば三酸化クロム及び重クロム酸カリウム 、並びにマンガン化合物、例えば過マンガン酸カリウム、過マンガン酸テトラブ チルアンモニウム、及び過マンガン酸ベンジルトリエチルアンモニウムが挙げら れる。更なる酸化剤は、例えば、IV族の元素の対応する化合物、例えば二酸化鉛 、又はハロゲン−酸素化合物、例えばヨウ素酸ナトリウム又は過ヨウ素酸カリウ ムである。 5−テトラゾリルR3に変換され得る基X1は例えばシアノ及びN−保護5−テ トラゾリルである。 R3が5−テトラゾリルである式(I)の化合物の製造のための、例えば、X1 がシアノである式(II)の出発物質から出発し、そしてこれをアジド、例えばHN3 、又は特にその塩、例えばアルカリ金属塩、又は有機錫アジド、例えばトリ低 級アルキル−もしくはトリアリール−錫アジドと反応せしめる。好ましいアジド は例えばナトリウムアジド及びカリウムアジド並びにトリ−C1〜C4−アルキル −、例えばトリエチル−又はトリブチル−錫アジド、並びにトリフェニル錫アジ ドである。 N−保護5−テトラゾリルR3の保護基として、テトラゾ化学において常用の 保護基、特にトリフェニルメチル、場合によっては例えばニトロにより置換され たベンジル、例えば4−ニトロベンジル、低級アルコキシメチル、例えばメトキ シメチルもしくはエトキシ メチル、低級アルキルチオメチル、例えばメチルチオメチル、及びC−シアノエ チル、さらには低級アルコキシ低級アルコキシメチル、例えば2−メトキシエト キシメチル、ベンジルオキシメチル、及びフェナシルが挙げられる。保護基の除 去は既知の方法により、例えばJ.Green,Protective Groups in Organic Synth esis,Wiley-Interscience(1980)に記載されているようにして行われる。すな わち、例えばトリフェニルメチルは常法により加水分解により特に酸の存在下で 、又は水素化分解により水素化触媒の存在下で、4−ニトロベンジルは例えば水 素化分解により水素化触媒の存在下で、メトキシ−又はエトキシメチルは例えば トリ低級アルキル亜鉛ブロミド、例えばトリエチル−もしくはトリブチル−亜鉛 −ブロミドで処理することにより、メチルチオメチルは例えばトリフルオロ酢酸 で処理することにより、2−シアノエチルは例えば加水分解により、例えば苛性 ソーダを用いて、2−メトキシエトキシメチルは例えば加水分解により例えば塩 酸を用いて、そしてベンジルオキシメチル及びフェナシルは例えば水素化分解に より水素化触媒を用いて除去することができる。 PO2H2及びPO3H2R3に変換される基X1は例えばそれぞれPO2H2及びPO3H2の官能 性誘導体である。 対応するR3に変換される基X1は例えば基−N2 +-であり、ここでA-は酸例 えば鉱酸の陰イオンである。対応するジアゾニウム化合物は例えはそれ自体既知 の方法で、P(III)−ハロゲン化物、例えばPCl3又はPBr3と反応させ、そして 加水分解処理し、これによりR3がPO3H2である式(I)の化合物を得る。 R3としてのSO3Hに変換される基X1は例えはメルカプト基である。この基を有 する式(II)の出発化合物はそれ自体既知の酸化法によりR3がSO3Hである式( I)の化合物に酸化される。酸化剤と して、例えば無機過酸、例えば鉱酸の過酸、例えば過ヨウ素酸もしくは過硫酸、 有機過酸、例えば過カルボン酸もしくは過スルホン酸、例えば過蟻酸、過酢酸、 トリフルオロ酢酸、又はp−トルエンスルホン酸、あるいは過酸化水素と酸との 混合物、例えば過酸化水素と酢酸との混合物が挙げられる。適当な触媒の存在下 で酸化が行われ、この際触媒として、適当な酸、例えば場合によっては置換され たカルボン酸、例えば酢酸もしくはトリフルオロ酢酸、又は遷移金属酸化物、例 えばVI族の元素の酸化物、例えば酸化モリブデン又は酸化タングステンが挙げら れる。酸化は、穏和な条件下で、例えば約−50℃〜約+100℃の温度において行 われる。 式(II)の出発物質は、例えは、次の式: (式中、X3は前記のアミノ保護基を表わし、例えばフタロイルである) で表わされる化合物又はその塩を、次の式: Ar−X−X4 (IIb) (式中、X4は反応性エステル化ヒドロキシである) で表わされる化合物と、塩基の存在下で反応せしめることにより得られる。次の 反応段階において、それ自体既知の方法によりアミノ保護基を除去し、フタロイ ル基は例えばヒドラジンヒドラートで処理することにより除去する。こうして得 られる、次の式: により表わされる化合物は次に、次の式: (式中、X4は離核性脱離基、例えばジアゾニウム基、又は反応性エステル化 基である) により表わされる化合物と、塩基の存在下で反応せしめてR1が水素である式(I I)の化合物を得る。所望により、対応する化合物を、それ自体既知の方法で、 N−アルキル化又はN−アシル化により式(II)の化合物にすることができる。 反応性エステル化ヒドロキシは特に、強無機酸又は有機スルホン酸によりエス テル化されたヒドロキシ、例えばハロゲン、例えば塩素、臭素、又はヨウ素、又 はスルホニルオキシ、例えばヒドロキシスルホニルオキシ、ハロゲンスルホニル オキシ、例えばフルオロスルホニルオキシ、場合によっては例えばハロゲンによ り置換されたC1〜C7−アルカンスルホニルオキシ、例えばメタンスルホニルオ キシ又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ、C5〜C7−シクロアルカンスル ホニルオキシ、例えばシクロヘキサンスルホニルオキシ、又は場合によっては例 えばC1〜C7−アルキルハロゲンにより置換されたベンゾイルスルホニルオキシ 、例えばp−ブロムフェニル−もしくはp−トルエン−スルホニルオキシ、好ま しくはハロゲン、例えば塩素、臭素又はヨウ素、さらにはスルホニルオキシ、例 えばメタン−もしくはp−トルエン−スルホニルオキシである。 式(II)の化合物の具体的な製造方法は特に実施例1に記載する。 式(IIa),(IIb)及び(IId)の出発物質はそれ自体既知の 方法により製造することができる。 変法b) アミノ保護基X2としてペプチド化学においてすでに用いられている保護基、 特に、トリフェニルメチル、場合によっては例えばニトロにより置換されたベン ジル、例えば4−ニトロベンジル、低級アルコキシメチル、例えばメトキシ−も しくはエトキシメチル、低級アルキルチオメチル、例えばメチルチオメチル、さ らに2−シアノエチル、さらに低級アルコキシ低級アルコキシメチル、例えば2 −メトキシエトキシメチル、ベンジルオキシメチル、及びフェナシルが挙げられ る。保護基の除去は、既知の方法により、例えばJ.Green,Protective Groups in Organic Synthesis,Wiley-Interscience(1980)に記載されているようにし て行われる。すなわち、トリフェニルメチルは常法に従って加水分解により好ま しくは酸の存在下で、又は水素化により水素化触媒の存在下で、4−ニトロベン ジルは例えば水素化分解により水素化触媒の存在下で、メトキシ−もしくはエト キシ−メチルは例えばトリ低級アルキルメチル、例えばトリエチル−もしくはト リブチル−錫−ブロミドで処理することにより、メチルチオメチルは例えばトリ フルオロ酢酸で処理することにより、2−シアノエチルは例えば加水分解により 例えば苛性ソーダを用いて、2−メトキシエトキシメチルは例えば加水分解によ り例えば塩酸により、そしてベンジルオキシメチル及びフェナシルは例えば水素 化触媒の存在下での水素化分解により、除去することができる。 式(III)の出発物質は、例えば、前に記載した次の式: で表わされる化合物を、次の式: (式中、X4は離核性脱離基、例えばジアゾニウム基又は反応性エステル化ヒ ドロキシである) により表わされる化合物と、塩基の存在下で反応せしめて、R1が水素原子であ る式(II)の化合物を得、そして次にアミノ保護基をそれ自体既知の方法で導入 することにより得られる。 変法c) 離核性脱離基X5は例えばジアゾニウム基又は前に定義したような反応性エス テル化ヒドロキシである。X5は好ましくはハロゲン、例えば塩素もしくは臭素 、又はスルホニルオキシ、例えばメタンスルホニルオキシもしくは4−ニトロフ ェニル−スルホニルオキシである。 反応はそれ自体既知の方法で、好ましくは前記の塩基の存在化で行われる。 出発物質は部分的に知られており、又はそれ自体既知の方法により製造するこ とができる。 式(IVa)の出発物質の製造は、例えば、変法b)において式(III)の化合 物の製造に関して記載されたようにして行われる。 変法d) 離核性脱離基として特に、前記の条件を有する反応性エステル化ヒドロキシが 挙げられる。 反応はそれ自体既知の方法で行われ、好ましくは前記の塩基の存在下で行われ る。 R3がカルボキシルではない式(Va)の化合物を用いて反応を行うのが好ま しい。さらにR1が水素ではない式(Va)の化合物を用いて反応を行うのが好 ましい。 出発物質は部分的に既知であり、あるいはそれ自体既知の方法で製造される。 式(Va)の化合物の製造のため、例えば、式(IIc)の化合物から出発し、 そしてこれを変法c)と同様にして式(IVb)又は(IVa)の化合物と反応せし め、この際、好ましくは前に定義した塩基の存在下で処理する。 変法e) 反応はそれ自体既知の方法で行う。 還元的アルキル化(X7=オキソ)は常用の還元剤の存在下で行い、他方置換 的N−アルキル化(X7=水素と共に反応性エステル化ヒドロキシ)は好ましく は前に定義した塩基の存在下で行われる゜ 出発物質は部分的には既知であり、あるいは既知の方法で製造することができ る。 前記の方法又は他の方法により製造される式(I)の化合物は、それ自体既知 の方法で、式(I)の他の化合物に変換することができる。 アミノ基を有する化合物Iはそれ自体既知の方法によりN−アルキル化(アリ ール化)することができ;同様に、カルバモイル又はカルバモイルを有する基は N−アルキル化(アリール化)すること ができる。アルキル化(アリール化)は例えば(アリール−)C1〜C7−アルキ ル−ハライド、例えば−ブロミドもしくは−イオジド、(アリール−)C1〜C7 −アルカンスルホネート、例えばメタンスルホネートもしくはp−トルエンスル ホネート、又はジ−C1〜C7−アルキルスルホネート、例えばジメチルスルホネ ートにより、好ましくは塩基性条件下で、例えば苛性ソーダー又は苛性カリの存 在下で、そして好ましくは相転移触媒、例えばテトラブチルアンモニウムブロミ ド又はベンジルトリメチルアンモニウムクロリドの存在下で行われ、この場合強 塩基性縮合剤、例えばアルカリ金属−アミド、ヒドリド又は−アルコレート、例 えばナトリウムアミド、水素化ナトリウム又はナトリウムメタノレートを必要と する場合がある。 R1が水素である式(I)の化合物は、それ自体既知の方法で、R1がアシルで ある式(I)の化合物にアシル化することができる。この反応は、例えば式R1 −OHの化合物又はその反応性誘導体を用いて行われる。式R1−OHの化合物の反 応性誘導体は例えばそれから誘導される反応性無水物である。 式R1−OHの酸の無水物は核酸の対称無水物又は好ましくは混合無水物であり 、例えば無機酸との無水物、例えば酸ハロゲン化物、特に酸塩化物(例えば、対 応する酸を塩化チオニル、五塩化リン又は塩化オキサリルで処理することにより 得られる;酸塩化物法)、アジド(例えば対応する酸から対応するヒドラジドを 経て、そして硝酸で処理することにより得られる;アジド法)、炭酸半エステル 、例えば炭酸低級アルキル半エステルとの無水物(例えば、対応する酸をクロロ 蟻酸低級アルキルエステル又は1−低級アルコキシカルボニル−2−低級アルコ キシ−1,2−ジヒドロキノリン、例えば1−エトキシカルボニル−2−エトキ シ−1,2−ジヒドロキノ リンによる処理によって得られる;混合O−アルキル炭酸無水物法)、ジハロ、 特にジクロロリン酸との無水物(例えば、対応する酸をオキシ塩化リンで処理す ることにより得られる;オキシ塩化リン法)、他のリン酸誘導体との無水物(例 えば、フェニル−N−フェニルホスホラミドクロリデートを用いて得ることがで きる)又は亜リン酸誘導体との無水物、あるいは有機酸との無水物、例えは有機 カルボン酸との無水物(例えば、対応する酸を、場合によっては置換されている 低級アルカン−もしくはフェニル低級アルカン−カルボン酸ハライド、例えばフ ェニル酢酸−ピバリン酸−もしくはトリフルオロ酢酸−クロリドで処理すること により得られる;混合カルボン酸無水物法)又は有機スルホン酸との無水物(例 えば、対応する酸の塩、例えばアルカリ金属塩を適当な有機スルホン酸ハライド 、例えば低級アルカン−もしくはアリール−、例えばメタン−もしくはp−トル エン−スルホン酸クロリドで処理することにより得られる;混合スルホン酸無水 物法)、並びに対称無水物(例えば、対応する酸を、カルボジイミド又は1−ジ エチルアミノプロピンの存在下で縮合せしめることにより得られる;対称無水物 法)であることができる。 アミド結合の形成のための縮合は、それ自体既知の方法により、例えば、「Ho uben-Weyl,Methoden der organischen Chemie」4版、Band 15/II,Georg Thie me Verlag、スツットガルト、1974;「The Peptide」(Herausg.E.Gross及びJ .Meienhofer),Band1及び2,Academic Press、ロンドン及びニューヨーク、 1979/1980;又はM.Bodanszky,「Principles of Peptide Synthesis」,Sprin ger-Verlag、ベルリン、1984、などの標準書に記載されているようにして行うこ とができる。 縮合は常用の縮合剤の存在下で行うことができる。常用の縮合剤 は例えばカルボジイミド、例えばジエチル−、ジプロピル−、N−エチル−N′ −(3−ジメチルアミノプロピル)−カルボジイミド又は特にジシクロヘキシル カルボジイミド、さらに、適当なカルボニル化合物、例えばカルボニルジイミダ ゾール、1,2−オキサゾリウム化合物、例えば2−エチル−5−フェニル−1 ,2−オキサゾリウム−3′−スルホネート及び2−tert−ブチル−5−メチル イソキサゾリウムパークロレート、又は適当なアシルアミノ化合物、例えば2− エトキシ−1−エトキシカルボニル−1,2−ジヒドロキノリン、さらに、活性 化されたリン酸誘導体、例えばジフェニルホスホリルアジド、ジエチルホスホリ ルシアニド、フェニル−N−フェニルホスホラミドクロリデート、ビス−(2− オキソ−3−オキサゾリジニル)−ホスフィン酸クロリド又は1−ベンゾトリア ゾリルオキシ−トリス−(ジメチルアミノ)−ホスホニウム−ヘキサフルオロホ スフェートである。 所望により、有機塩基、例えばかさばった(バリキー)基を有するトリ低級ア ルキルアミン、例えばエチルジイソプロピルアミン、又は複素環塩基、例えばピ リジン、4−ジメチルアミノピリジンもしくは好ましくはN−メチルモルホリン を添加する。 酸無水物とアミンとの縮合は無機の炭酸塩、例えばアルカリ金属属炭酸塩もし くはアルカリ金属重炭酸水素塩、例えばナトリウムもしくはの炭酸塩もしくは重 炭酸塩(通常、硫酸塩と共に)を用いて行うことができる。 この縮合は好ましくは、不活性の、極性の、非プロトン性の、好ましくは水を 含有しない溶剤又は溶剤混合物中で、例えばカルボン酸アミド、例えばホルムア ミド又はジメチルホルムアミド、ハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレン、四 塩化炭素又はクロロベンゼン、ケトン、例えばアセトン、環状エーテル、例えば テトラヒドロ フラン、エステル、例えば酢酸エチルエステル、又はニトリル、例えばアセトニ トリル、あるいはこれらの混合物中で、場合によっては低温又は高温において、 例えば約−40℃と約+100℃、好ましくは約−10℃と約+50℃との間の温度にお いて、そして場合によっては不活性ガス、例えば窒素雰囲気中で行う。 反応性酸誘導体はその場で生成せしめることもできる。 置換基としてエステル化カルボキシ基を有する式(I)の化合物において、こ の基は例えば加水分解により、例えば塩基性剤又は酸性剤、例えば鉱酸の存在下 で遊離カルボキシル基に変換することができる。tert−ブチルオキシカルボニル はさらに、例えばそれ自体既知の方法で、例えばトリハロ酢酸、例えばトリフル オロ酢酸で処理することにより、好ましくは無水条件下で、そしてベンジルオキ シカルボニルは、例えば水素化触媒の存在下で触媒的水素化により、例えば後記 のごとくして、カルボキシル基に変換することができる。 さらに、置換基としてカルボキシル基を有する式(I)の化合物において(特 に、R3がカルボキシでない場合)、このカルボキシル基は、アルコール、例え ば低級アルカノールで処理することにより、適当なエステル化剤、例えば酸性試 薬、例えば無機又は有機の酸、又はルイス酸、例えば塩化亜鉛、又は水結合縮合 剤、例えばカルボジイミド、例えばN,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド の存在下で、あるいはジアゾ試薬、例えばジアゾ低級アルカン、例えばジアゾメ タンで処理することにより、対応するエステル化カルボキシに変換することがで きる。この化合物はまた、カルボキシ基が遊離の形態又は塩の形態、例えばアン モニウム塩又は金属塩、例えばアルカリ金属塩、例えばナトリウムもしくはカリ ウム金属塩として存在する式(I)の化合物を、C1〜C7−アルキルハライド 、例えばメチル−もしくはエチル−ブロミドもしくはイオジド、又は有機スルホ ン酸、例えば対応するC1〜C7−アルキルエステル、例えばメタンスルホン酸− もしくはp−トルエンスルホン酸−メチルエステル−もしくはエチルエステルで 処理することにより、得ることができる。 置換基としてエステル化カルボキシを有する式(I)の化合物は、反応、例え ばアルコールとの反応、通常は出発物質中のエステル化カルボキシのそれよりも 高級な対応するアルコールで処理することにより、適当なエステル化剤、例えば 塩基性剤、例えばアルカリ金属−C1〜C7−アルカノエート、C1〜C7−アルカ ノレート又は−シアニド、例えば酢酸ナトリウム、ナトリウムメタノレート、ナ トリウムエタノレート、tert−ブタノレート又はシアニド、あるいは適当な酸剤 の存在下で、場合によっては例えば蒸留によって対応するアルコールを除去しな がら、式(I)の他のエステル化合物に変えることができる。さらに、置換基と して活性エステル化カルボキシ基を有する式(I)の対応するいわゆる活性化エ ステルから出発して(下記参照のこと)、そしてC1〜C7−アルカノールで処理 することにより、他のエステルに変えることができる。 置換基としてカルボキシ基を有する式(I)の化合物はまず、反応性誘導体、 例えば無水物(さらに場合無水物)、酸ハライド、例えば酸塩化物(例えば、ハ ロゲン化チオニル、例えば塩化チオニルで処理することによる)、蟻酸エステル との無水物、例えば−C1〜C7−アルキルエステル(例えば、塩、例えばアンモ ニウム塩又はアルキル金属塩を、ハロ蟻酸エステル、例えばクロロ蟻酸エステル 、例えばC1〜C7−アルキルテステルで処理することによる)、あるいは活性エ ステル、例えばシアノメチル−、ニトロフェニル、例えば4−ニトロ−フェニル 、もしくはポリハロフェニル、例え ばペンタクロロフェニル−エステル(例えば、適当な縮合剤、例えばN,N′− ジシクロヘキシルカルボジイミドの存在下で対応するヒドロキシ化合物で処理す ることによる)に変換することができ、そして次にこの反応性誘導体を対応する アルコール成分と反応せしめ、そして式(I)の対応するエステル化合物に達す ることができる。この場合、これを直接に、又は中間体を介して得ることができ 、この場合カルボキシ基を有する式(I)の化合物の活性化エステル、例えば4 −ニトロフェニルエステルをまず1−非置換イミダゾールと反応せしめ、そして こうして得られた1−イミダゾリルカルボニル化合物を対応するエステル成分と 反応せしめる。 芳香族環が置換基として水素原子を指示する場合、これはハロゲン化剤の助け により常法に従って、ハロゲン原子で置換えることができ、例えば臭素、臭化水 素酸、アシルヒドロブロミト又は他の有機臭素化合物、例えばN−ブロムサクシ ンイミド、N−ブロムアセトマミド、N−ブロモフタリミド、ピリジニウムパー ブロマイト、ジオキサンジブロマイト、1,3−ジブロム−5,5−ジメチルヒ ドラントイン又は2,4,4,6−テトラブロム−2,5−シクロヘキサジエン −1−オンにより臭素原子で置き換えることができ、あるいは原子状塩素により 例えばハロゲン化炭化水素、例えばクロロホルム中で、冷却下で、例えば約−10 ℃以下で塩素により置換えることができる。 芳香族環がアミノ基を有する場合、これを常法に従って、例えば亜硝酸化合物 例えは亜硝酸ナトリウムで処理することにより、適当なプロトン酸、例えば鉱酸 の存在下でジアゾ化することができ、この場合反応温度は好ましくは約5℃以下 に維持する。こうして得られた酸の形で存在するジアゾニウム塩は、常法に従っ て、次のように置換することができる;水の存在下でフェノール加熱と同様にし てヒドロキシ基に;対応するアルコールで処理することによりアルコキシ基に、 この場合、エネルギーが供給されなければならない;対応するジアゾニウムテト ラフルオロボレートの熱分解の際にシーマン(Schiemann)反応と同様にして弗 素原子に;あるいは対応するCu(I)塩との反応によりサンドマイヤー反応と同 様にして塩素、臭素、ヨウ素又はシアノ基に次に例えば約5℃に冷却し、そして 次に約60℃〜約150℃に加熱する。 この発明は特に実施例に記載する方法に関する。 式(I)の化合物の塩は、それ自体既知の方法で製造することができる。例え ば、式(I)の化合物の酸付加熱は、適当な酸又は適当なイオン交換体で処理す ることにより得られる。式(I)の化合物の塩は常法に従って遊離化合物(I) に変換することができ、酸付加熱を例えば適当な塩基性剤又は適当なイオン交換 体により処理する。 化合物(I)の塩はそれ自体既知の方法で化合物(I)の他の塩に変えること ができる。 製造方法及び反応条件に依存して、塩形成性の特に塩基性の特性を有する化合 物(I)は遊離の形態で又は塩の形態で得られる。 遊離の形及びその塩の形の式(I)の化合物の間の密接な関連性のため、前記 及び後記において、遊離化合物への言及はその塩をも意味し、そして逆に対応す る塩は遊離の化合物(I)をも意味する。 化合物(I)は、塩形成性化合物の塩を含めて、水和物の形で、そして/又は 例えば結晶化に使用された溶剤を含む形で得られる。 化合物(I)及びその塩は、出発物質及び処理方法の選択により、可能な異性 体又はその混合物、例えば不斉炭素原子の多数の絶対的及び相対的マンフィグレ ーションにより、純粋な異性体、例えば 光学対掌対及び/又はジアステレオマー、あるいは異性体混合物、例えばエナン チオマー混合物、例えばラセミ体、ジアステレオマー混合物又はラセミ体混合物 として存在し得る。 得られたジアステレオマー混合物及びラセミ体混合物は、成分の物理−化学的 性質に基いて、既知の方法により、例えば分別結晶化により、純粋なジアステレ オマー又はラセミ体に分離することができる。得られたエナンチオマー混合物、 ラセミ体は、既知の方法により光学対掌体に分割され、例えば光学活性溶剤から の結晶化により、キラル吸着クロマトグラフィーにより、適当な微生物により、 特異的な固定化酵素による開裂により、エナンチオマーのみが複合体を形成する キラルクラウンエーテルを用いての封入体の形成により、あるいは塩基性最終生 成物のラセミ体光学活性酸、例えばカルボン酸、例えば酒石酸もしくはリンゴ酸 、又はスルホン酸、例えばカンファースルホン酸と反応せしめ、次にこうして得 られたジアステレオマー混合物を、例えばそれらの異る溶解性に基いてジアステ レオマーに分離し、これから所望のエナンチオマーを適当な手段の使用により分 離することができる。好ましくは活性なエナンチオマーを単離する。 本発明はまた、本方法のある段階で中間体として得られる化合物を取り出し、 そして残りの段階を行い、又は出発物質を誘導体又は塩の形で、そして/又はラ セミ体又は対掌体を用い、又は特に反応条件下で生成せしめる態様を含む。 本発明の方法においては、好ましくは、特に価値ある化合物(I)に転換され る出発物質又は中間体が使用される。化合物(I)の製造のための新規な出発物 質及び中間体、その使用及びその製造方法も本発明の対象であり、ここで変化要 素A,X,R1,R2,R3及びR4は化合物(I)について定義した意味を有する 。 式(I)の化合物及びその医薬として利用可能な塩は好ましくは医薬として許 容される製剤の形で、動物又はヒトの体の予防的及び/又は治療的処置の方法に おいて、特にAT2−リセプターの刺激又はブロックによって惹起される疾患の処 置のために使用される。 本発明はまた、化合物Iを遊離の形で又は医薬として許容される塩の形で活性 成分として含んで成る医薬製剤、及びその製造方法に関する。これらの医薬製剤 は温血動物に非経腸的、例えば経口的に、さらには直腸に又は非経腸的に投与さ れ、そして活性成分を単独で、又は常用の医薬助剤と共に含んで成る。医薬製剤 は例えば約0.1%〜約100%、好ましくは約1%〜約60%の活性成分を含有する。 経腸的又は非経腸的投与のための医薬調製物は、例えば単位投与形であり、例え ば糖衣丸、錠剤、カプセル又は坐薬、さらにはアンプルである。これらは、それ 自体既知の方法で、例えば常用の混合、造粒、糖衣、溶解又は凍結乾燥法により 製造される。経口投与のための医薬製剤は、活性成分を担体と混合し、得られる 混合物を場合によっては造粒し、そして混合物又は顆粒を、所望により又は必要 により助剤添加の後、錠剤又は糖衣丸の芯に形成する。 適当な担体は特に充填剤、例えば糖類例えばラクトース、サッカロース、マン ニトール及びソルビトール、セルコース調製物及び/又はリン酸カルシウム、例 えばリン酸三カルシウス又はリン酸水素カルシウム、さらに結合剤、例えば澱粉 糊、例えば使用に際しトウモロコシ、小麦、米又はジャガイモ澱粉、ゼラチン、 トラガカント、メチルセルロース及び/又はポリビニルピロリドン、そして所望 により崩壊剤、例えば前記の澱粉さらにはカルボキシメチル澱粉、架橋ポリビニ ルピロリドン、寒天又はアルギン酸もしくはその塩、例えばナトリウム塩である 。助剤はまず流動剤及び滑剤、例えば珪酸、タルク、ステアリン酸もしくはその 塩、例えばステアリン酸マ グネシウム塩もしくはステアリン酸カルシウム及び/又はポリエチレングリコー ルである。糖衣丸の芯は、場合によっては胃液耐性被覆を有し、この場合、場合 によってはアラビアゴム、タルク、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコ ール及び/又は二酸化チタンを含有する濃原温溶液、適当な有機溶剤中ラッカー 溶液、胃液耐性被覆の調製のためには適当なセルロース調製物、例えばアセチル セルロースホスフェート又はヒドロキシプロピルメチルセルロースホスフェート を用いる。錠剤又は糖衣丸の被覆は、香料又は色素を、例えば特定のため種々の 活性成分の区別のために有することができる。 更なる経口投与用医薬製剤はゼラチンの挿入カプセル又はゼラチンと可塑剤、 例えばグリセロール又はソルビトールとから作られた密閉カプセルである。挿入 カプセルは活性成分を顆粒の形で、例えば充填剤、例えばラクトース、結合剤、 例えば澱粉、及び/又は滑剤、例えばタルク又はステアリン酸マグネシウム、及 び場合によっては安定剤との混合物として含有することができる。このようなカ プセルにおいて、活性成分は好ましくは適当な流体、例えば脂肪油、パラフィン 油又は流動ポリエチレングリコールに溶解され、又は懸濁され、この場合安定剤 を添加することもできる。 直腸投与用医薬製剤として例えば坐薬を挙げることができ、これは活性成分と 坐薬基剤とから構成される。坐薬基剤として、例えば天然又は合成トリグリセラ イド、パラフィン炭化水素、ポリエチレングリコール及び高級アルカノールであ る。さらに、ゼラチン直腸カプセルを用いることができ、これは活性成分と基剤 とを含んで成る。基剤としては例えば液体トリグリセライド、ポリエチレングリ コール及びパラフィン炭化水素を挙げることができる。 非経腸投与のためには、第一に水溶性の、例えば水溶性塩の形で 活性成分の水溶液、さらには活性成分の懸濁液、例えば対応する油性注射用懸濁 液(適当な親油性溶剤又はビヒクル、例えば脂肪油、例えばゴマ油、又は合成脂 肪酸エステル、例えばオレイン酸エチル又はトリグリセライドが使用される)、 又は水性注射用懸濁液であって、増粘剤、例えばナトリウムカルボキシメチルセ ルロース、ソルビトール及び/又はデキストラン、そしてさらに場合によっては 安定剤を含有するもの、が挙げられる。 活性成分の投与量は種々の因子、例えば適用方法、温血動物の種、年令及び/ 又は個体の状態に依存する。通常、約75kgの成人患者に経口投与する場合、約10 mg〜2250mg、特に約10〜250mgのおよその日用量が見積られる。 次の実施例により上記の発明をさらに説明するが、いかなる方法でもそれに減 縮して解すべきでない。温度は℃で示す。 例1. 3〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)− アミノ〕−1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ −ベンズアゼピン−2−オン 5.3gの3−〔(1−(S)−エトキシカルボニル−3−シクロヘキシル−プ ロピル)−アミノ〕−1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テ トラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンのジアステレオマー混合物(反応は、純 粋なジアステレオマーから出発して進行するが、注意深い加水分解により、有意 なラセミ化は生じない)を200mlのメタノールに溶解し、50mlの水及び16mlの2 N NaOH水溶液と混合し、そして次に23時間室温で混合する。これを16mlの2N 塩酸と混合し(pH約5)、この混合物をロータリーエバポレーターにより濃縮し 、残渣を酢酸エチルに溶解し、水により 2回、及び食塩水により1回洗浄し、有機相を硫酸マグネシウムにより乾燥し、 そして濃縮する。残渣を得る。精製及び単離をフラッシュクロマトグラフィー( シリカゲル240g、溶離剤:塩化メチレン/メタノール98:2、後で9:1)に より行う。蒸発の後、対応する画分を酢酸エチルから結晶化する。 非極性ジアステレオマー:融点151〜153℃;Rf値:0.81 極性ジアステレオマー :融点157〜158℃;Rf値:0.58。 Rf値の測定のため、溶剤として、(a)塩化メチレンと(b)塩化メチレン /メタノール/水/酢酸(150:50:10:1)の1:1混合物を用いる。 出発物質は例えば次のようにして製造することができる。 a)3−(R/S)−N−フタロイルアミノ−1−(p−イソプロピルベンジ ル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン 5gの3−(R/S)−N−フタロイル−1,2,3,4,5−テトラヒドロ −ベンズアゼピン−2−オン(Helv.Chim.Acta 71(2),337,1988)を40ml のDMFに溶解し、氷冷しながら、1.2gの水素化ナトリウム(油中55%)と混合し た。混合物を60℃に加熱し 、そして再度室温に冷却した。5分間にわたり、氷冷しながら、4.13gのp−イ ソプロピルベンジルクロリド(Fairfield I-200700)を加える。室温で15分間撹 拌し、そして次に60℃で一夜撹拌する。反応混合物を冷却後30mlの水と混合する 。次に、これを酢酸エチルで3回抽出し、そして有機相を水で2回、次に食塩水 で1回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濃縮する。残渣をフラッシュク ロマトグラフィー(シリカゲル200g;溶離剤:酢酸エチル/ヘキサン1:2) により単離する。Ff値(酢酸エチル/ヘキサン1:2):0.7。 b)3−(R/S)−アミノ−1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3, 4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン 5.6gの3−(R/S)−N−フタロイルアミノ−1−(p−イソプロピルベ ンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンを120ml のエタノール中で2.8mlのヒドラジンヒドラートと混合する。混合物を2.5時間還 流加熱し、氷浴中で冷却し、そして濾過する(エタノールで洗浄する)。フラッ シュクロマトグラフィー(シリカゲル80g、溶離剤:塩化メチレン/メタノール 95:5)が純生成物をもたらす。Rf値(塩化メチレン/メタノール9:1):0 .71。 c)3−〔(1−(S)−エトキシカルボニル−3−シクロヘキシル−プロピ ル)−アミノ〕−1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラ ヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン 1.5gの3−(R/S)−アミノ−1−(p−イソプロピルベンジル)−2, 3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン及び2.23gの(R)−α −〔〔(4−ニトロフェニル)−スルホ ニル〕オキシ〕−4−シクロヘキシル−酪酸−エチルエステル(Helv.Chim.Ac ta 71(2),337,1988)を用意し、そして40℃にて0.67mlのN−メチルモルホ リンと混合する。混合物を15時間75℃にて加熱し、冷却し、酢酸エチルで希釈し 、炭酸水素ナトリウム水溶液及び水、そして最後に希塩酸及び食塩水で洗浄する 。フラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル80g、溶離剤:酢酸エチル/ヘキ サン1:2)が両ジアステレオマーをもたらし、このものは酢酸エチル/テトラ ヒドロフランに溶解した後、分解し3当量の1N塩酸で処理することにより、対 応する塩酸塩に転換される。 両塩基のRf値(溶剤:酢酸エチル/ヘキサン1:2): 非極性成分:0.70 極性成分 :0.46 非極性成分の塩酸塩:融点64〜66℃ 極性成分の塩酸塩 :融点66〜68℃ 両ジアステレオマーに分離することができ、又は混合物(酸段階でのクロマト グラフ分離)として対応する酸に加水分解することができる。 例2. 3〔(1−(S)−カルボキシ−3−フェニル−プロピル)−アミノ 〕−1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロベンズ アゼピン−2−オン 例えば例1に記載したのと同様にして、標記化合物を製造することができる。 3−〔(1−(R/S)−エトキシカルボニル−3−フェニル−プロピル)−ア ミノ〕−1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ− ベンズアゼピン−2−オンから出発して(両ジアステレオマーは分離され加水分 解される)から出発して希塩酸による加水分解、処理及びフラッシュクロマトグ ラフィー(溶剤:塩化メチレン/メタノール9:1)により、両方の純粋なジア ステレオマー酸を得る。 融点a)150〜151℃(極性エチルエステルより出発して) 融点b)147〜148℃(非極性エチルエステルより出発して) 両ジアステレオマーはまた、混合物として、酸段階でのクロマトグラフィー分 離により、対応する酸に加水分解され得る。 出発物質は、例えば次のようにして得ることができる。 a)3−〔(1−(S)−エトキシカルボニル−3−シクロヘキシル−プロピ ル)−アミノ〕−1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラ ヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン 例1c)と同様にして、3−(R/S)−アミノ−1−(p−イソプロピルベ ンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン及び(R )−α−〔〔(4−ニトロフェニル)スルホニル)オキシ〕−4−フェニル酪酸 −エチルエステル(Helv.Chim.Acta 71(2),337,1988)から出発して得ら れる。フラッシュクロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチル/ヘキサン1:4) が両方の純ジアステレオマー型をもたらし、これは酢酸エチル/テトラヒドロフ ラン中に溶解した後分離し、3当量の1N塩酸による処理によって対応する塩酸 塩に変換される。 遊離塩基のRf値値(溶離剤:酢酸エチル/ヘキサン): 非極性成分:0.49 極性成分 :0.36 融点:68〜70℃(非極性成分の塩酸塩) 融点:71〜72℃(極性成分の塩酸塩) 例3. 例えば、例1又は2に記載したのと同様にして、次のものを製造 することができる。 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ 〕−1−(p−ニトロベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼ ピン−2−オン; 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ 〕−1−(p−アミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼ ピン−2−オン; 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ 〕−1−(p−tert−ブチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベン ズアゼピン−2−オン:ジアステレオマーA:融点160〜162℃;ジアステレオマ ーB:融点158〜159℃; 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ 〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼ ピン−2−オン:ジアステレオマーA:融点158℃;ジアステレオマーB:融点1 82〜183℃; 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ 〕−1−(p−ジメチルアミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベ ンズアゼピン−2−オン:ジアステレオマーA:融点168〜170℃;ジアステレオ マーB:融点216〜220℃; 3〔N−アセチル−N−(1−(S)−カルボキシ−3−フェニル−プロピル )−アミノ〕−1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒ ドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−フェニル−プロピル)−アミノ〕−1 −ベンジル−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ 〕−1−ベンジル−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン ;ジアステレオマーA:融点98〜101℃;ジアステレオマーB:融点206〜208℃ ; 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ 〕−1−(p−メトキシベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズア ゼピン−2−オン;ジアステレオマーA:融点185〜186℃;ジアステレオマーB :融点95〜100℃; 3−〔(1−(S)−カルボキシ−2−フェニル−エチル)−アミノ〕−1− (p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピ ン−2−オン塩酸塩;ジアステレオマーA:融点158℃;ジアステレオマーB: 融点190℃; 例4. 例えば例1又は2に記載したのと同様にして、次の化合物を製造することがで きる。 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ 〕−1−(p−ニトロベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼ ピン−2−オン(非極性ジアステレオマー)を、例1と同様にして、水酸化ナト リウム水溶液により182mgの3−〔(1−(S)−エトキシカルボニル−3−シ クロヘキシル−プロピル)−アミノ〕−1−(p−ニトロベンジル)−2,3, 4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン(非極性ジアステレオマー) を処理することにより得る。Rf値(溶剤:塩化メチレン/メタノール9:1)0 .43。 出発物質は例えば次のようにして製造される。 DMF中で50gの3−N−フタロイルアミノ−2,3,4,5−テトラヒドロ− ベンズアゼピン−2−オン、17.9gの水素化ナトリウ ム分散体(55%)及び88.7gのp−ニトロベンジルクロリドから出発して、3− N−フタロイルアミノ−1−(p−ニトロベンジル)−2,3,4,5−テトラ ヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンを得る。Rf値(溶剤:酢酸エチル/ヘキサ ン1:1)0.86。 33.5gの3−N−フタロイルアミノ−1−(p−ニトロベンジル)−2,3, 4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンをエタノール中で還流下でヒ ドラジンヒドラートで処理することにより、3−アミノ−1−(p−ニトロベン ジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンを得る。Rf 値(溶剤:塩化メチレン/メタノール9:1)0.49。 15gの3−アミノ−1−(p−ニトロベンジル)−2,3,4,5−テトラヒ ドロ−ベンズアゼピン−2−オンを22.1gの(R)−α−〔〔(4−ニトロフェ ニル)スルホニル〕オキシ〕−4−シクロヘキシル−酪酸エチルエステル及び6. 45mlのN−メチルモルホリンと反応させることにより、両ジアステレオマーエス テル3−(S)−〔(1−(S)−エトキシカルボニル−3−シクロヘキシル− プロピル)−アミノ〕−1−(p−ニトロベンジル)−2,3,4,5−テトラ ヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン及び3−(R)−〔(1−(S)−エトキシ カルボニル−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ〕−1−(p−ニトロベ ンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンを得る。 Rf値(溶剤:酢酸エチル/ヘキサン1:2);非極性成分0.78、極性成分0.69 。 例5. 例えば例1又は2に記載したのと同様にして、199mgの極性成分3−〔(1− (S)−エトキシカルボニル)−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ〕− 1−(p−ニトロベンジル)−2,3, 4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンから出発して、同様にして、 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ〕 −1−(p−ニトロベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピ ン−2−オンを得る。Rf値(溶剤:塩化メチレン/メタノール9:1)0.33。 例6. 例えば例1又は2に記載したのと同様にして: 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−アミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベ ンズアゼピン−2−オン、及び 3−(R)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−アミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベ ンズアゼピン−2−オン、 を製造する。 両生成物は、例4に記載した対応するニトロ誘導体から出発して、メタノール 中でパラジウム−炭素(10%)を用いて常圧下で水素化することにより得られる 。FAB-MS:(M+H)+450。 例7. 例えば例1又は2に記載したのと同様にして: 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−tert−ブチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒド ロ−ベンズアゼピン−2−オン、及び 3−(R)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−tert−ブチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒド ロ−ベンズアゼピン−2−オン、 を製造する。 両生成物は、例1と同様にして、NaOH水溶液により対応するエチ ルエステルを加水分解することにより得られる。融点161〜162℃(非極性ジアス テレオマー)、158〜159℃(極性ジアステレオマー)。 出発物質は例1のようにして得ることができる。 DMF中6.1gの3−N−フタロイルアミノ−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベ ンズアゼピン−2−オン、0.9gの水素化ナトリウム分散体(55%)及び5.48g のp−tert−ブチルベンジルクロリドから出発して、3−N−フタロイルアミノ −1−(p−tert−ブチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズ アゼピン−2−オンを得る。Rf値(溶剤:酢酸エチル/ヘキサン1:1)0.87 。 6.8gの3−N−フタロイルアミノ−1−(p−tert−ブチルベンジル)−2 ,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンをエタノール中還流下 でヒドラジンヒドラートにより処理して、3−アミノ−1−(p−tert−ブチル ベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンを得る 。Rf値(溶剤:塩化メチレン/メタノール4:1)0.61。 3.55gの3−アミノ−1−(p−tert−ブチルベンジル)−2,3,4,5− テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンを2.5gの(R)−α−〔〔(4−ニ トロフェニル)スルホニル〕オキシ〕−4−シクロヘキシル−酪酸エチルエステ ル及びl.03mlのN−メチルモルホリンと反応せしめることにより、両ジアステレ オマーエステル3−(S)−〔(1−(S)−エトキシカルボニル−3−シクロ ヘキシル−プロピル)−アミノ〕−1−(p−tert−ブチルベンジル)−2,3 ,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン及び3−(R)−〔(1− (S)−エトキシカルボニル−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ〕−1 −(p−tert−ブチルベン ジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンを得る。Rf 値(溶剤:酢酸エチル/ヘキサン1:2);非極性成分0.42、極性成分0.26。 例8. 例えば例1又は2に記載したのと同様にして: 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベ ンズアゼピン−2−オン、及び 3−(R)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベ ンズアゼピン−2−オン、 を製造することができる。 両生成物は、例1と同様にして、NaOH水溶液により対応するエチルエステルを 加水分解することにより得られる。融点158℃(非極性ジアステレオマー)、182 〜183℃(極性ジアステレオマー)。 出発物質は、例1のようにして、得ることができる。 DMF中で10gの3−N−フタロイルアミノ−2,3,4,5−テトラヒドロ− ベンズアゼピン−2−オン、1.46gの水素化ナトリウム分散体(55%)及び6.9 gのp−メチルベンジルクロリドから出発して、3−N−フタロイルアミノ−1 −(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン− 2−オンを得る。Rf値(溶剤:酢酸エチル/ヘキサン1:1)0.39。 9.9gの3−N−フタロイルアミノ−1−(p−メチルベンジル)−2,3, 4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンをエタノール中還流下で5.5m lのヒドラジンヒドラートで処理することにより、3−アミノ−1−(p−メチ ルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンを得 る。Rf値( 溶剤:塩化メチレン/メタノール9:1)0.46。 5.4gの3−アミノ−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラ ヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンを8.84gの(R)−α−〔〔(4−ニトロフ ェニル)スルホニル〕オキシ〕−4−シクロヘキシル−酪酸エチルエステル及び 2.6mlのN−メチルモルホリンと反応せしめ、両ジアステレオマーエステル3− (S)−〔(1−(S)−エトキシカルボニル−3−シクロヘキシル−プロピル )−アミノ〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ− ベンズアゼピン−2−オン、及び3−(R)−〔(1−(S)−エトキシカルボ ニル−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ〕−1−(p−メチルベンジル )−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンを得る。Rf値 (溶剤:酢酸エチル/ヘキサン1:2);非極性成分0.58、極性成分0.39。 例9. 例えば例1又は2に記載した方法と同様にして: 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−2−フェニルエチル)−アミノ〕 −1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズ アゼピン−2−オン塩酸塩、及び 3−(R)−〔(1−(S)−カルボキシ−2−フェニルエチル)−アミノ〕 −1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズ アゼピン−2−オン塩酸塩、 が得られる。 生成物は、溶剤としてのジオキサン中パラジウム炭素(10%)の存在下常圧に おいて対応するベンジルエステルの水素化により得られる。融点190℃(非極性 ジアステレオマー)、158℃(極性ジアステレオマー)。 11gのD−フェニル乳酸ベンジルエステル、10.5gの4−ニトロ ベンゾールスルホクロリド及び6mlのトリエチルアミンから出発して、(R)− α−〔〔(4−ニトロフェニル)スルホニル〕オキシ〕−3−フェニルプロピオ ン酸ベンジルエステルを得る。Rf値(溶剤:酢酸エチル/ヘキサン1:4)0.3 。 2.55gの(R)−α−〔〔(4−ニトロフェニル)スルホニル〕オキシ〕−3 −フェニルプロピオン酸ベンジルエステル、800mgの3−アミノ−1−(p−イ ソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2− オン及び0.88mlのN−メチルモルホリンから出発して、フラッシュクロマトグラ フィー(シリカゲル1kg、溶剤:石油エーテル/酢酸エチル3:1)の後、3− (S)−〔(1−(S)−ベンジルオキシカルボニル−2−フェニルエチル)− アミノ〕−1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ −ベンズアゼピン−2−オン及び3−(R)−〔(1−(S)−ベンジルオキシ カルボニル−2−フェニルエチル)−アミノ〕−1−(p−イソプロピルベンジ ル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンを得る。Rf 値(溶剤:酢酸エチル/ヘキサン)0.34(非極性ジアステレオマー)、0.18(極 性ジアステレオマー)。 例10. 例えば例1又は2に記載した方法と同様にして: 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−フェニルプロピル)−アミノ 〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼ ピン−2−オン塩酸塩、及び 3−(R)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−フェニルプロピル)−アミノ 〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼ ピン−2−オンを製造することができる。 生成物は例1のようにして、メタノール/水(10:1)の混合物中対応するエ チルエステルの塩基性加水分解により得られる。融点極性ジアステレオマーにつ いて209℃、非極性ジアステレオマーについて107℃。 両出発エステルは例2のようにして、次のようにして製造される゜ 4.2gの(R)−α−〔〔(4−ニトロフェニル)スルホニル〕オキシ〕−3 −フェニル酪酸エチルエステル、2gの3−アミノ−1−(p−メチルベンジル )−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン及び2.81mlのM −メチルモルホリンから出発して、フラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル 1kg、溶剤:石油エーテル/酢酸エチル3:1)の後、3−(S)−〔(1−( S)−エトキシカルボニル−3−フェニルプロピル)−アミノ〕−1−(p−メ チルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン及 び3−(R)−〔(1−(S)−エチルオキシカルボニル−3−フェニルプロピ ル)−アミノ〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ −ベンズアゼピン−2−オンを得る。Rf値(溶剤:酢酸エチル/ヘキサン1: 2)0.37(非極性ジアステレオマー)、0.23(極性ジアステレオマー)。 酢酸エチル中3N HClで処理することにより塩酸塩を得る。 例11. 例えば例1又は2に記載されているのと同様にして: 3−(S)−〔(1−(S)−N−ヒドロキシ−カルバモイル−3−シクロヘ キシルプロピル)−アミノ〕−1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4 ,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン を製造することができる。 200mgの3−(S)−〔(1−(S)−N−ベンジルオキシ−カルバモイル− 3−シクロヘキシルプロピル)−アミノ〕−1−(p−メチルベンジル)−2, 3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンを、10mlのメタノール中 、常圧下、50mgのパラジウム炭(10%)の存在下で飽和まで水素化する。触媒の 濾去、及び蒸発の後、生成物を非晶質粉末として得る。融点110℃(分割)。Rf 値(溶剤:クロロホルム/メタノール9:1)0.59。 出発物質は例えば次のようにして得ることができる。 400mgの3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシルプロ ピル)−アミノ〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒド ロ−ベンズアゼピン−2−オン、268mgのO−ベンジルヒドロキシルアミン塩酸 塩、328mgのO−(N−サクシンイミジル)−N,N,N′,N′−テトラメチ ルウロニウム−テトラフルオロボレート及び718mgのN−エチル−ジイソプロピ ルアミンを4.4mlのDMF中で3時間にわたり、室温で撹拌する。反応混合物を酢酸 エチル中に溶解し、0.1 N NaOH、水及び1 N HClで洗浄し、乾燥し、そして蒸 発せしめる。フラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル90g、溶剤:ペンタン /酢酸エチル2:1)による単離により生成物を樹脂状物として得る。Rf値( 溶剤:ヘキサン/酢酸エチル1:1)0.52。 例12. 例えば例1又は2に記載したのと同様にして: 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−シクロヘキシルプロピル) −アミノ〕−1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒド ロ−ベンズアゼピン−2−オン、 を製造することができる。 例1からの生成物400mgを6mlのDMF中328mgのO−(N−サクシンイミジル) −N,N,N′,N′−テトラメチルウロニウム及び2mlの濃アンモニア水と共 に、室温にて一夜撹拌する。反応混合物を酢酸エチル中に溶解し、水で洗浄し、 有機相を乾燥し、そして濃縮する。生成物を、ジオキサンからの凍結乾燥により 得る。Rf値(溶剤:ヘキサン/酢酸エステル1:1)0.21。 例13. 例えば例1又は2に記載したのと同様にして: 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−ジメチルアミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒ ドロ−ベンズアゼピン−2−オン、及び 3−(R)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−ジメチルアミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒ ドロ−ベンズアゼピン−2−オン、 を製造することができる。 両生成物は、例6に記載した両調製物3−(S)−〔(1−(S)−カルボキ シ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ〕−1−(p−アミノベンジル) −2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン、及び3−(R) −〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ〕− 1−(p−アミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン −2−オンを、パラジウム炭(10%)の存在下で水素により還元的アミノ化する ことにより得られる。融点168〜170℃(非極性ジアステレオマー)、216〜220℃ (極性ジアステレオマー)。 例14. 例えば例1又は2に記載したのと同様にして: 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル −プロピル)−アミノ〕−1−(ベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ− ベンズアゼピン−2−オン、及び 3−(R)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(ベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピ ン−2−オン、 を製造することができる。 両生成物は、例1と同様にして、対応するエチルエステルをNaOH水溶液により 加水分解することにより得られる。融点98〜101℃(非極性ジアステレオマー) 、206〜208℃(極性ジアステレオマー)。 例15. 例えば、例1又は例2に記載したのと同様にして: 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−メトキシベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ− ベンズアゼピン−2−オン、及び 3−(R)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−メトキシベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ− ベンズアゼピン−2−オンを製造することができる。 両生成物は、例1と同様にして、対応するエチルエステルをNaOH水溶液により 加水分解することにより得られる。融点95〜100℃(非極性ジアステレオマー) 、185〜186℃(極性ジアステレオマー)。 例16. 例えば例1又は2に記載したのと同様にして: 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −N−アセチルアミノ〕−1−(p−イソプロピルベ ンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン、 を製造することができる。 生成物は、例1に記載した生成物を塩化メチレン中無水酢酸及び4−ジメチル アミノピリジンにより処理することにより得られる。FAB-MS:(M+H)+519。 例17. 例えば先行する例に記載されているのと同様にして、次の化合物を製造するこ とができる: 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−シクロヘキシル−プロピル )−アミノ〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ− ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−ヒドロキシ−カルバモイル−3−シクロヘキシ ル−プロピル)−アミノ〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テ トラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−フェニル−プロピル)−ア ミノ〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズ アゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−N−ヒドロキシ−カルバモイル−3−フェニル −プロピル)−アミノ〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テト ラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−シクロヘキシル−エチル) −アミノ〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベ ンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−N−ヒドロキシ−カルバモイル−3−シクロヘ キシル−エチル)−アミノ〕−1−(p−メチルベン ジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−フェニル−エチル)−アミ ノ〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズア ゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−N−ヒドロキシ−カルバモイル−3−フェニル −エチル)−アミノ〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラ ヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−シクロヘキシル−プロピル )−アミノ〕−1−(p−メトキシベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ −ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−N−ヒドロキシ−カルバモイル−3−シクロヘ キシル−プロピル)−アミノ〕−1−(p−メトキシベンジル)−2,3,4, 5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−フェニル−プロピル)−ア ミノ〕−1−(p−メトキシベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベン ズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−N−ヒドロキシ−カルバモイル−3−フェニル −プロピル)−アミノ〕−1−(p−メトキシベンジル)−2,3,4,5−テ トラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−シクロヘキシル−エチル) −アミノ〕−1−(p−メトキシベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ− ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−N−ヒドロキシ−カルバモイル−3−シクロヘ キシル−エチル)−アミノ〕−1−(p−メトキシベ ンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−フェニル−エチル)−アミ ノ〕−1−(p−メトキシベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズ アゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−N−ヒドロキシ−カルバモイル−3−フェニル −エチル)−アミノ〕−1−(p−メトキシベンジル)−2,3,4,5−テト ラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−シクロヘキシル−プロピル )−アミノ〕−1−(p−ジメチルアミノベンジル)−2,3,4,5−テトラ ヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−N−ヒドロキシ−カルバモイル−3−シクロヘ キシル−プロピル)−アミノ〕−1−(p−ジメチルアミノベンジル)−2,3 ,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−フェニル−プロピル)−ア ミノ〕−1−(p−ジメチルアミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ −ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−N−ヒドロキシ−カルバモイル−3−フェニル −プロピル)−アミノ〕−1−(p−ジメチルアミノベンジル)−2,3,4, 5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−シクロヘキシル−エチル) −アミノ〕−1−(p−ジメチルアミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒ ドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−N−ヒドロキシ−カルバモイル−3−シクロヘ キシル−エチル)−アミノ〕−1−(p−ジメチルア ミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−フェニル−エチル)−アミ ノ〕−1−(p−ジメチルアミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ− ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−N−ヒドロキシ−カルバモイル−3−フェニル −エチル)−アミノ〕−1−(p−ジメチルアミノベンジル)−2,3,4,5 −テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−シクロヘキシル−プロピル )−アミノ〕−1−(p−アミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ− ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−N−ヒドロキシ−ルバモイル−3−シクロヘキ シル−プロピル)−アミノ〕−1−(p−アミノベンジル)−2,3,4,5− テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−フェニル−プロピル)−ア ミノ〕−1−(p−アミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズ アゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−N−ヒドロキシ−カルバモイル−3−フェニル −プロピル)−アミノ〕−1−(p−アミノベンジル)−2,3,4,5−テト ラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−シクロヘキシル−エチル) −アミノ〕−1−(p−アミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベ ンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−N−ヒドロキシ−カルバモイル−3−シクロヘ キシル−エチル)−アミノ〕−1−(p−アミノベン ジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−フェニル−エチル)−アミ ノ〕−1−(p−アミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズア ゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−N−ヒドロキシ−カルバモイル−3−フェニル −エチル)−アミノ〕−1−(p−アミノベンジル)−2,3,4,5−テトラ ヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 例18. 50mgの活性成分、例えば3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシ ル−プロピル)−アミノ〕−1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4, 5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンを含有する錠剤を次の様にして製 造することができる。 組成(錠剤10,000個分) 活性成分 500.0g ラクトース 500.0g ジャガイモ澱粉 352.0g ゼラチン 8.0g タルク 60.0g ステアリン酸マグネシウム 10.0g 二酸化珪素(高分散性) 20.0g エタノール 適当量 活性成分をラクトース及び292gのジャガイモ澱粉を混合し、この混合物をゼ ラチンのアルコール溶液により湿めらせ、そして篩を通して造粒する。乾燥後、 残りのジャガイモ澱粉、タルク、ステアリン酸マグネシウム及び高分散性二酸化 珪素に混合し、そして混合物を、それぞれが145.0mgの重量及び50.0mgの活性成 分を含有する 錠剤に圧縮し、この錠剤は、所望により、投与量の精密な適合のために分割切目 を有することができる。 実施例19. それぞれが100mgの活性成分、例えば3−〔(1−(S)−カルボキシ−3− フェニル−プロピル)−アミノ〕−1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3 ,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オンを含有するラッカー錠剤を 次のようにして製造することができる。 組成(錠剤1000個分) 活性成分 100.00g ラクトース 100.00g トウモロコシ澱粉 70.00g タルク 8.50g ステアリン酸カルシウム 1.50g ヒドロキシプロピルメチルセルロース 2.36g シェラック 0.64g 水 適当量 ジクロロメタン 適当量 活性成分、ラクトース及び40gのトウモロコシ澱粉を混合し、そして15gのト ウモロコシ澱粉と水(加温のもとで)から調製された糊で湿し、そして造粒する 。顆粒を乾燥させ、残りのトウモロコシ澱粉、タルク及びステアリン酸カルシウ ムを加え、そして顆粒と混合する。この混合物を錠剤(重量:280mg)に圧縮し 、これにジクロロメタン中ヒドロキシプロピルメチルセルロース及びシェラック の溶液を被覆する(被覆−錠剤の最終重量:283mg)。 例20. 例えば例18及び19に記載した方法と同様にして、例1〜17に記載 した式(I)の他の化合物又は式(I)の化合物の医薬として許容される塩を含 有する錠剤及びラッカー錠定を製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,SN,TD, TG),AU,BB,BG,BR,BY,CA,CZ, FI,HU,JP,KP,KR,KZ,LK,LV,M G,MN,MW,NO,NZ,PL,RO,RU,SD ,SK,UA,US,UZ,VN 【要約の続き】 れる塩を含んで成る医薬製剤に関する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.次の一般式: 〔式中、Arはアリールを表わし; XはC1〜C2−アルキレン又は直接結合を表わし; R1は水素、低級アルキル、アリール−低級アルキル、又はアシルを表わし: R2は低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル 、アリール低級アルコキシ低級アルキル、アリール−低級アルキル又はC3〜C7 −シクロアルキル−低級アルキルを表わし; R3はカルボキシ、5−テトラゾリル、PO2H2,PO3H2もしくはSO3H2、低級アル コキシカルボニル、低級アルコキシ−低級アルコキシカルボニル、アリール低級 アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、カルバモイル、又はカルバ モイル(これは(i)ヒドロキシ、低級アルカンスルホニル、ハロ低級アルカン スルホニルもしくはアリールスルホニルによりモノ置換されているか、(ii)低 級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニルもしくはフェニル低級アルキルに よりモノ置換されているか又は相互に独立にジ置換されているか、あるいは(ii i)低級アルキレンもしくは低級アルキレン−X1−低級アルキレンによりジ置換 されており、ここでX1はO,S又はNHを表わす)であり; 環Aは置換されていないか、あるいは低級アルキル、アリール低級アルキル、 低級アルコキシ−低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルコキシ−低級アルコ キシ、アリール低級アルコキシ、C3〜C7−シクロアルキル、C3〜C7−シクロ アルキル−低級アルキル、ニトロ、ハロゲン、トリフルオロメチル、アミノ、又 はアミノ(これは、低級アルキル、アリール低級アルキル又はアリールによりモ ノ置換又は相互に独立にジ置換されており、あるいは低級アルキレン又は低級ア ルキレンオキシ低級アルキレンによりジ置換されている)である〕 により表わされる置換3−アミノ−1−アリールアルキル−ベンズアゼピン2− オン、その立体異性体、あるいはその塩。 2.Arがフェニルであり; XがC1〜C2−アルキレン又は直接結合であり; R1が水素、低級アルキル、低級アルキル(これは、フェニル、ナフチル、ピ ロリル、ピリジル、フリル、チエニル、イミダゾリル、イソキサゾリル又はチア ゾリルにより置換されている)、低級アルカノイル、低級アルカノイル(これは 、フェニル、ナフチル、ピロリル、ピリジル、フリル、チエニル、イミダゾリル 、イソキサゾリル又はチアゾリルにより置換されている)、又はベンゾイルであ り; R2が(i)低級アルキル、低級アルキル(これは、フェニル、ナフチル、ピ ロリル、ピリジル、フリル、チエニル、イミダゾリル、イソキサゾリル又はチア ゾリルにより置換されている)、又はC3〜C7−シクロアルキル−低級アルキル であり、あるいは(ii)ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル 、低級アルコキシ低級アルキル(ここで、低級アルコキシ基はフェニル、ナフチ ル、ピロリル、ピリジル、フリル、チエニル、イミダゾリル、イ ソキサゾリル又はチアゾリルにより置換されている)であり; R3が(i)カルボキシ、5−テトラゾリル、PO2H2,PO3H2又はSO3H2であり、 あるいは(ii)低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシ低級アルコキシカル ボニル、フェニル低級アルコキシカルボニル、ベンゾイルカルボニル、カルバモ イル、低級アルキルカルバモイル、ジ低級アルキルカルバモイル、フェニル低級 アルキカルバモイル、ジ−フェニル低級アルキル−カルバモイル、ヒドロキシ− カルバモイル、低級アルカンスルホニル−カルバモイル、ハロ低級アルカンスル ホニル又はフェニルスルホニルであり; 環Aは、炭素環又は複素環の芳香族基であり、これらは相互に独立に置換され ていないか、あるいは、低級アルキル、低級アルキル(これは、フェニル、ナフ チル、ピロリル、ピリジル、フリル、チエニル、イミダゾリル、イソキサゾリル 又はチアゾリルにより置換されている)、低級アルコキシ−低級アルキル、低級 アルコキシ、低級アルコキシ−低級アルコキシ、フェニル低級アルコキシ、C3 〜C7−シクロアルキル、C3〜C7−シクロアルキル−低級アルキル、ニトロ、 ハロゲン、トリフルオロメチル、アミノ、アミノ(これは、低級アルキル、フェ ニル低級アルキルもしくはフェニルによりモノ置換されているか又は相互に独立 にジ置換されており、あるいは低級アルキレン、低級アルキレンオキシ低級アル キレンによりジ置換されている)から成る群から選択された置換基により1回又 は複数回置換されている; 式(I)の化合物、その立体異性体、あるいはその塩。 3.Arがフェニルであり; XがC1〜C2−アルキレン又は直接結合であり; R1が水素、低級アルキル、フェニル低級アルキル、低級アルカノイル、フェ ニル低級アルカノイル又はベンゾイルであり; R2が低級アルキル、フェニル低級アルキル又はC3〜C7−シクロアルキル− 低級アルキルであり; R3が(i)カルボキシ、5−テトラゾリル、PO2H2,PO3H2もしくはSO3H2であ り、又は(ii)カルバモイルもしくはヒドロキシ−カルバモイルであり; 環Aが、炭素環又は複素環の芳香族基であって、相互に独立に、置換されてい ないか、あるいは低級アルキル、フェニル低級アルキル、低級アルコキシ−低級 アルキル、低級アルコキシ、低級アルコキシ−低級アルコキシ、フェニル低級ア ルコキシ、C3〜C7−シクロアルキル、C3〜C7−シクロアルキル−低級アルキ ル、ニトロ、ハロゲン、トリフルオロメチル、アミノ、アミノ(これは、低級ア ルキル、フェニル低級アルキルもしくはフェニルによりモノ置換されているか又 は相互に独立にジ置換されており、あるいは低級アルキレン、低級アルキレンオ キシ低級アルキレンによりジ置換されている)から成る群から選択された置換基 により1回又は複数回置換されている; 式(I)の化合物、その立体異性体、あるいはその塩。 4.Arがフェニル、又はC1〜C4−アルキルにより置換されたフェニルであり ; XがC1〜C2−アルキレン又は直接結合であり; R1が水素、C1〜C4−アルキル又はC2〜C5−アルカノイルであり; R2がフェニル−C1〜C4−アルキル又はC3〜C7−シクロアルキル−C1〜C4 −アルキルであり; R3がカルボキシ、5−テトラゾリル、PO2H2,PO3H2又はSO3H2であり; 環Aが置換されていないか、あるいはC1〜C4−アルキル、ハ ロゲン、C1〜C4−アルコキシ−C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、 C1〜C4−アルコキシ−C1〜C4−アルコキシ、ニトロ、ハロゲン及びトリフル オロメチルから成る群から選択された置換基により1回又は複数回置換されてい る; 式(I)の化合物、その立体異性体、あるいはその塩。 5.Arがフェニル(C1〜C4−アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、トリフ ルオロメチル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ又はニトロ により置換されている)であり; Xがメチレンであり; R1が水素又はC2〜C5−アルカノイルであり; R2はフェニル−C1〜C4−アルキル、あるいは非置換フェニル又はハロゲン 、トリフルオロメチル、C1〜C4−アルキルもしくはC1〜C4−アルコキシによ り置換されたフェニルであり、あるいはR2はC3〜C7−シクロアルキル−C1〜 C4−アルキルであり; R3はカルボキシ、カルバモイル又はヒドロキシカルバモイルであり; 環Aは置換されていないか、あるいはC1〜C4−アルキル、ハロゲン、C1〜 C4−アルコキシ−C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−ア ルコキシ−C1〜C4−アルコキシ、ニトロ、ハロゲン及びトリフルオロメチルか ら成る群から選択された置換基により1回又は複数回置換されている; 式(I)、あるいはその立体異性体、あるいはその塩。 6.Arはフェニル、又はC1〜C4アルキルにより好ましくはパラ−位により置 換されたフェニル、例えばp−イソプロピルフェニルであり; Xがメチレンであり; R1が水素、又はC2〜C5−アルカノイルであり; R2がフェニル−C1〜C4−アルキル又はC3〜C7−シクロアルキル−C1〜C4 −アルキルであり; R3がカルボキシ又は5−テトラゾリルであり; 環Aが置換されていないか、又はC1〜C4−アルキル、ハロゲン、C1〜C4− アルコキシ−C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルコキ シ−C1〜C4−アルコキシ、ニトロ、ハロゲン及びトリフルオロメチルから成る 群から選択された置換基により1回又は複数回置換されている; 式(I)の化合物、その立体異性体、あるいはその塩。 7.次の式(Ia): (式中、R1は水素であり; R2はフェニル−C1〜C4−アルキル、例えば2−フェニル−エチル、又はC3 〜C7−シクロアルキル−C1〜C4−アルキル、例えば2−シクロヘキシル−エ チルであり; R3はカルボキシであり; R4はC1〜C4−アルキル、好ましくはイソプロピルであり、好ましくはパラ −位において結合している) により表わされる化合物、その立体異性体、あるいはその塩。 8.次の式(Ib): (式中、R1は水素であり; R2はフェニル−C1〜C4−アルキル、例えば2−フェニル−エチル、又はC3 〜C7−シクロアルキル−C1〜C4−アルキル、例えば2−シクロヘキシル−エ チルであり; R3はカルボキシであり; R4はC1〜C4−アルキル、好ましくはイソプロピルである) により表わされる化合物、その立体異性体、あるいはその塩。 9.R2及びR3を有するC−原子並びにアミノ基が結合している複素環C−原 子が(S)−配置を有する請求項1〜8のいずれか1項に記載の式(I),(I a)及び(Ib)の化合物。 10.3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−ア ミノ〕−1−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズ アゼピン−2−オン; 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−フェニル−プロピル)−アミノ〕−1 −(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼ ピン−2−オン; 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ 〕−1−(p−ニトロベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼ ピン−2−オン; 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ 〕−1−(p−アミノベンジル)−2,3,4,5− テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ 〕−1−(p−tert−ブチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベン ズアゼピン−2−オン; 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ 〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼ ピン−2−オン; 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ 〕−1−(p−ジメチルアミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベ ンズアゼピン−2−オン; 3−〔N−アセチル−N−(1−(S)−カルボキシ−3−フェニル−プロピ ル)−アミノ〕−1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラ ヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−フェニル−プロピル)−アミノ〕−1 −ベンジル−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ 〕−1−ベンジル−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン ; 3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル)−アミノ 〕−1−(p−メトキシベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズア ゼピン−2−オン;及び 3−〔(1−(S)−カルボキシ−2−フェニル−エチル)−アミノ〕−1− (p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピ ン−2−オン;あるいは これらの塩から選択される化合物。 11.3−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プ ロピル)−アミノ〕−1−(p−ニトロベンジル)−2,3,4,5−テトラヒ ドロ−ベンズアゼピン−2−オン: 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−アミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベ ンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−tert−ブチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒド ロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(R)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−tert−ブチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒド ロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベ ンズアゼピン−2−オン; 3−(R)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベ ンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−2−フェニルエチル)−アミノ〕 −1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズ アゼピン−2−オン; 3−(R)−〔(1−(S)−カルボキシ−2−フェニルエチル)−アミノ〕 −1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズ アゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−フェニルプロピル)−アミノ 〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼ ピン−2−オン; 3−(R)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−フェニルプロピ ル)−アミノ〕−1−(p−メチルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ −ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−N−ヒドロキシ−カルバモイル−3−シクロヘ キシルプロピル)−アミノ〕−1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4 ,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルバモイル−3−シクロヘキシルプロピル) −アミノ〕−1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5−テトラヒド ロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−ジメチルアミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒ ドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(R)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−ジメチルアミノベンジル)−2,3,4,5−テトラヒ ドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(ベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピ ン−2−オン; 3−(R)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(ベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズアゼピ ン−2−オン; 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −アミノ〕−1−(p−メトキシベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ− ベンズアゼピン−2−オン; 3−(R)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) アミノ〕−1−(p−メトキシベンジル)−2,3,4,5−テトラヒドロ−ベ ンズアゼピン−2−オン;及び 3−(S)−〔(1−(S)−カルボキシ−3−シクロヘキシル−プロピル) −N−アセチルアミノ〕−1−(p−イソプロピルベンジル)−2,3,4,5 −テトラヒドロ−ベンズアゼピン−2−オン; 又はそれらの塩。 12.動物又は人体の治療的又は予防的処置に使用するための請求項1〜11のい ずれか1項に記載の化合物。 13.式(I)の化合物、その立体異性体、又はその塩の製造方法であって、 a)次の式: (式中、X1は基R3に変換され得る基である) で表わされる化合物、又はその塩において、X1を基R3に変換し; b)R1が水素である式(I)の化合物又はその塩の製造のために、次の式: (式中、X2はアミノ保護基である) により表わされる化合物又はその塩において、アミノ保護基を除去 し;あるいは、 c)次の式: で表わされる化合物を、次の式: (式中、X5は離核性脱離基である) により表わされる化合物、又は式: R2−CO−R3 (IVc) 又はその塩と反応せしめ;あるいは、 d)次の式: で表わされる化合物を、次の式: X6−X−Ar (Vb) (式中X6は離核性脱離基である) で表わされる化合物又はその塩と反応せしめ;あるいは、 e)次の式: (式中、X7は(i)オキソ、又は(ii)水素と共に反応性エステル化ヒドロ キシ基である) で表わされる化合物を、次の式: で表わされる化合物又はその塩と反応せしめ; そして、所望により、上記の方法又は他の方法により得られた遊離形又は塩の 形の式(I)の化合物を、式(I)の他の化合物に転換し、こうして得られた異 性体混合物を分離し、そして所望の異性体を単離し、そして/又は上記のように して得られた式(I)の遊離化合物を塩に、上記のようにして得られた式(I) の化合物の塩を式(I)の遊離化合物又は他の塩に変換する; ことを特徴とする方法。 14.活性成分として請求項1〜12のいずれか1項に記載の化合物、その立体異 性体又はその医薬として許容される塩、及び場合によっては常用の助剤を含んで 成る医薬製剤。 15.AT2−リセプターの変更により惹起される疾患の治療のための医薬製剤の 製造のための、請求項1〜12のいずれか1項に記載の化合物、その立体異性体又 はその医薬として許容される塩の使用。 16.請求項1に記載の式(I)の化合物、その立体異性体又はその塩の療法的 有効量の投与により、AT2−リセプターの変更により 惹起される人体の病的徴候を治療する方法。
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