JPH08511552A - 新規ホスホノコハク酸誘導体、その製造方法及びこれらの化合物を含有する製剤 - Google Patents
新規ホスホノコハク酸誘導体、その製造方法及びこれらの化合物を含有する製剤Info
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Abstract
(57)【要約】
I式:
(式中、R1、R2は互いに別々に水素、低級アルキル、シクロアルキル又はアリールメチルであり;R3、R4は互いに別々に水素、低級アルキルあるいは−OR6又は−NR7R8基の1つ、もしくは一緒にそれらが結合する原子であって、5〜7員カルボ環式環又は1〜2個の異種原子を含有する複素環式環を形成し、低級アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、一環式アリールアルキル、二環式アリール、二アリール、あるいはa)又はb)式の基:
を示すか、もしくは一緒にR4及びそれが結合する炭素原子を示し、所望により置換される5〜7員カルボ環式又は複素環式環を形成し:R6は水素、低級アルキル又はアリールメチルを表し;R7、R8は互いに別々に水素又は低級アルキル、あるいは一緒にそれらが結合する窒素原子を示し、5〜6員複素環式環を形成し;R9は水素、低級アルキル、低級アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、一環式又は二環式アリール、二アリールを示し;R10はa)式の基を示し;Xは原子価ダッシュ、酸素又は硫黄を示し;Qは酸素、硫黄又は窒素を示し;alkは原子価ダッシュ、メチレン鎖、2〜6個の炭素原子を有する飽和又は不飽和アルキレン鎖を示し;n=0〜3;m=0〜2;及びp=0〜5)の化合物、並びに製薬上許容可能なその塩及びR3が水素又はC1〜C3アルキルを示し、R4が水素を示し、R5が水素、ヒドロキシ、メトキシ、C1〜C3アルキル又はアリールでない場合の、並びにXが硫黄を示し、R4がOR6又はNR7R8基の1つを示し、alkが原子価ダッシュでないばあいの光学異性体、その製造方法、並びにカルシウム代謝障害を治療するためのこれらの化合物を含有する製剤。
Description
【発明の詳細な説明】
新規ホスホノコハク酸誘導体、その製造方法及びこれらの化合物を含有する製剤
本発明は、新規のホスホノコハク酸誘導体、その製造方法並びにこれらの物質
を含有する製剤に関する。
本発明のホスホノコハク酸誘導体はカルシウム代謝に優れた作用を示し、した
がってカルシウム代謝の障害を治療するのに適していることが判明した。それら
は、骨形成及び骨分解が障害を受けた場合に何にも増して用いられ、即ちそれら
は骨格系の疾患、例えば骨粗鬆症、パジェット病、ベヒテレフ病等の治療に適し
ている。
これらの特性により、それらは尿結石治療に、並びに異所性骨形成の防止に用
い得る。さらにそれらは、カルシウム代謝に及ぼすそれらの作用により慢性関節
リウマチ、変形性関節症及び変性関節炎を治療する為の基礎を形成する。
本発明は、一般式I:
(式中、
R1、R2は互いに別々に水素、低級アルキル、シクロアルキル又はアリールメ
チルであり;
R3、R4は互いに別々に水素、低級アルキルあるいは−OR6又は−NR7R8
基の1つであるか、もしくはそれらが結合する原子と一緒に5〜7員カルボ環式
環又は1〜2個の異種原子を含有する複素環式環を形成し;
R5は低級アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、一環式アリール
アルキル、二環式アリール、二アリール、あるいはa)又はb)式の基:
を示すか、もしくはR4及びそれが結合する炭素原子と一緒に、所望により置換
され得る5〜7員カルボ環式又は複素環式環を形成し:
R6は水素、低級アルキル又はアリールメチルを表し;
R7、R8は互いに別々に水素又は低級アルキル、あるいはそれらが結合する窒
素原子と一緒に5〜6員複素環式環を形成し;
R9は水素、低級アルキル、低級アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケ
ニル、一環式又は二環式アリール、二アリールを示し;
R10はa)式の基を示し;
Xは原子価ダッシュ、酸素又は硫黄を示し;
Qは酸素、硫黄又は窒素を示し;
alkは原子価ダッシュ、メチレン鎖、2〜6個の炭素原子を有する飽和又は
不飽和アルキレン鎖を示し;
n=0〜3;
m=0〜2;及び
p=0〜5)
の化合物、並びに製薬上許容可能なその塩及び
R3が水素又はC1〜C3アルキルを示し、R4が水素を示し、R5が水素、ヒド
ロキシ、メトキシ、C1〜C3アルキル又はアリールでない場合の、並びに
Xが硫黄を示し、R4がOR6又はNR7R8基の1つを示し、alkが原子価ダ
ッシュでないばあいの光学異性体に関する。
I式のホスホノコハク酸誘導体はDE-A-23 60 797に既に記載されており、この
場合発泡可溶性カルシウム塩の沈殿及び溶解に影響を及ぼすためにR3は水素又
はC1〜C3アルキルを示し、R4は水素を示し、R5は水素又はC1〜C3アルキル
を示す。
I式の別の化合物を、以下のケミカルアブストラクトに記載するが、製剤とし
て考え得る使用についての情報は示さない:
R3=H又はCH3;R4=H及びR5=OCH3の化合物(CA,105(5):42932
x 及びCA,104(1):5939)。
R3=H;R4−H及びR5=置換され得るフェニルの化合物(CA,115(23):2
55757 n 及びCA,106(21):176504 p)。
低級アルキルは、すべての場合、直鎖又は分枝鎖C1〜C6アルキル基、例えば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ペンチル又はヘキシル、特にメチル
、エチル、プロピル、イソプロピル及びペンチルを示す。
低級アルケニルは、3〜6個の炭素原子を有する不飽和残基、例えばアリル、
ブト−2−エニル、ヘキシ−2,4−ジエニル、上記の全アリルを示す。
シクロアルキルは、所望により置換される3〜7員環、例えばシクロプロピル
、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル又
はシクロヘプチル環、特にシクロプロピル、シクロペンチル及びシクロヘキシル
環を示す。これらのシクロアルキル残基は、C1〜C6アルキル基、好ましくはメ
チル、エチル又はイソプロピル基により、並びにヒドロキシ、メトキシ、ベンジ
ルオキシ、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ベンジルアミノ基により、
あるいは塩素又は臭素により1回又は2回置換され得る。
シクロアルケニルは、所望により置換されるシクロペンテニル、シクロヘキセ
ニル又はシクロペプテニル環を示す。これらの環は、C1〜C6アルキル基、好ま
しくはメチル、エチル又はイソプロピル基、並びに塩素、臭素、又はヒドロキシ
、メトキシ、ベンジルオキシ、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ又はベン
ジルアミノ基により1回又は2回置換される。
残基R3及びR4がそれらが結合する炭素原子と一緒にカルボ環式又は複素環式
環を形成する場合は、これは飽和又は不飽和5〜7員環、例えばシクロペンチル
、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ピロリドン、ピペリジン、アゼピン、テト
ラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、モルフォリン、ジオキサン、シクロペン
テニル、シクロヘキセニル、ピロリン、ジヒドロフラン又はジヒドロピラン環、
特にシクロペンチル、シクロヘキシル、テトラヒドロフラン、モルフォリン、シ
クロヘキセニル又はジヒドロピラン環である。
R4及びR5がそれらが結合する炭素原子と一緒にカルボ環式又は複素環式環を
形成する場合、これは飽和又は不飽和5〜7員環、例えばシクロペンチル、シク
ロヘキシル、シクロヘプチル、ピロリドン、ピペリジン、アゼピン、テトラヒド
ロフラン、テトラヒドロピラン、モルフォリン、ジオキサン、シクロペンテニル
、シクロヘキセニル、ピロリン、ジヒドロフラン又はジヒドロピラン環、特にシ
クロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、ピロリジン
、ピペリジン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、又はモルフォリン環
である。
カルボ環式及び複素環式環は所望により、C1〜C6アルキル基、好ましくはメ
チル、エチル又はイソプロピル基により、並びに塩素、臭素又はヒドロキシ、メ
トキシ、ベンジルオキシ、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ又はベンジル
アミノ基により、1回又は2回置換され得る。
アリールは通常、所望により1回又は数回置換されるフェニル残基を示す。
二環式アリールは通常、所望により1回又は数回置換されるインダン、ナフタ
レン又はアントラセンを示し、好ましくはナフタレン残基を示す。
ビアリールは通常、所望により1回又は数回置換されるビフェニル残基を示す
。
アリール、二環式アリール及びビアリール残基は、C1〜C6アルキル基、好ま
しくはメチル、エチル又はイソプロピル基により、並びに塩素、臭素、フッ素又
はヒドロキシ、アルコキシ、例えばメトキシ、ベンジルオキシ、アセチルオキシ
、カルボキシ、エトキシカルボニル、アミノカルボニル、メチルアミノカルボニ
ル、ジメチルアミノカルボニル、シアノ、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、ベンジルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ及びアミジノ基により
、所望により1回又は数回置換される。
アリールアルキルは通常、非置換あるいは1回又は数回置換されるベンジル、
フェネチル、フェニルプロピル、フェニルブチル又はフェニルペンチル残基、好
ましくはベンジル、フェネチル又はフェニルペンチル残基を示す。C1〜C6アル
キル残基、好ましくはメチル、エチル又はイソプロピル、並びに塩素、臭素、フ
ッ素又はヒ
ドロキシ、メトキシ、ベンジルオキシ、アセチルオキシ、カルボキシ、エトキシ
カルボニル、アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカル
ボニル、シアノ、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ベンジルアミノ、ア
セチルアミノ、ベンゾイルアミノ及びアミジノ基が置換基として考慮される。
alkが飽和又は不飽和、直鎖又は分枝鎖アルキレン鎖である場合、それは例
えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、2−メチル−プロピレン、ペ
ンチレン、1,1−ジメチルプロピレン、2,3−ジメチルプロピレン、2,2
−ジメチルプロピレン、2−メチル−ブチレン、ヘキシレン、2,3−ジメチル
ブチレン、2−メチルペンチレン、2−ブテニレン、2−ブチニレン、特にメチ
レン、エチレン、プロピレン、ブチレン、二−メチルプロピレン、ペンチレン、
ヘキシレン及び2−ブテニレンのような残基を表す。
一般式Iの化合物は少なくとも2個の不斉炭素原子を含有し、したがって一般
式Iの光学的に活性な化合物も本出願の対象物質である。
一般式Iの化合物は、公知の方法に従って、一般式II:
(式中、R1、R2、R3、R4、R5は上記の意味を有し、R11はメチル、エチル
又はベンジル残基を示す)のホスホノコハク酸エステルから鹸化により調製する
。
一般式IIの化合物は、公知の方法に従って、好ましくは
a)一般式III:
(式中、R4、R5及びR1は上記と同じ意味を有し、Yは脱離基、例えばHal
又はO−SO2−Z(ここでHalは塩素、臭素又はヨウ素であり、Zはメチル
、フェニル、p−メチル−フェニル又はp−ニトロフェニルである)を示す)の
カルボン酸誘導体を一般式IV:
(式中、R2、R3及びR11は上記の意味を有する)のホスホノ酢酸エステルと反
応させ、一般式IIIの化合物中のR5が遊離ヒドロキシル基を示す場合は、こ
れは例えばアシルオキシ基、トリアルキルシリルオキシ又はベンゾイル基のよう
な保護化形態で存在しなければならず、所望により生成されるエステルは部分的
に又は完全に鹸化されて一般式Iの対応する酸を生成し、あるいはR4が水素を
示す場合には;
b)一般式V:
(式中、R5、R1、R2及びR3は上記の意味を有する)の化合物を一般式VI:
H−P(O)(OR11)2 (VI)
(式中、R11は上記の意味を有する)のジアルキルホスフィットと反応させ、所
望により生成されるエステルは部分的に又は完全に鹸化されて対応する酸を生成
するか、あるいはR3=R4=Hの場合には;
c)一般式VII:
(式中、R1、R2及びRNは上記の意味を有する)の化合物を公知の方法で一般
式VIII:
R5−M (VIII)
(式中、R5は上記の意味を有し、Mは水素あるいはアルカリ金属又はアルカリ
土類金属を示す)の化合物と反応させ、所望により生成されるエステルは部分的
に又は完全に鹸化されて一般式Iの対応する酸を生成し、所望により製薬上許容
可能な塩に変換するか、あるいは;
d)一般式IX:
(式中、R1、R3、R4、R5及びR11は上記の意味を有する)の化合物を順次塩
基、及び一般式X:
(式中、R2は上記の意味を有する)のクロロカルボン酸エステルと反応させる
か、あるいは;
e)一般式XI:
(式中、R1、R2、R3、R4及びR5は上記の意味を有する)の化合物を順次塩
基、及び一般式XII:
CIP(O)(OR11)2 (XII)
(式中、R11は上記の意味を有する)の化合物と反応させて調製する。
R3が水素で、工程c)〜e)に従って調製される一般式Iの化合物は、所望
により、それらを塩基次いで一般式XIII:
R3−Y (XIII)
(式中、R3及びYは上記の意味を有する)の化合物で処理することにより一般
式Iの他の化合物に変換し得る。
f)R3及びR4がそれらが結合する炭素原子と一緒に環を形成する一般式Iの
化合物は、一般式XIV又はXV:
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R11及びYは上記の意味を有する)の化合
物を反応させることにより得られる。
一般式IIIの化合物は、Y=Halである場合には、一般式XVI:
R5−CHR4CO2R1 (XVI)
(式中、R1、R4及びR5は上記の意味を有する)の化合物を文献から公知の方
法に従ってハロゲン化するか、あるいはIII式中のYがO−SO2−Z基を示
す場合には、一般式XVII:
(式中、R1、R4及びR5は上記の意味を有する)の化合物のヒドロキシル基を
対応するスルホン酸エステルに変換するといった方
法で調製する。
一般式IVの化合物のいくつかは市販されており(Aldrich-Chemie GmbH u.C
o.KG)、特別な場合には公知の方法に従って、一般式XVIII:
(式中、Hal、R1及びR5は上記の意味を有する)のハロゲン酢酸誘導体を一
般式XIX:
P(OR11)3 (XIX)
(式中、R11は上記の意味を有する)のトリホスフィットと反応させることによ
り調製する。
一般式Vの化合物は、公知の方法に従って、一般式XX:
(式中、R1、R2、R3及びR5は上記の意味を有する)の化合物を脱水すること
により調製する。
一般式VIの化合物は市販されている(Aldrich Co.)。
一般式VIIの化合物は、十分公知の方法で、一般式XXI:
(式中、R1及びR2は上記の意味を有する)の化合物を一般式XIXの化合物と
反応させることにより調製する。
Mが水素を示さない場合は、一般式VIIIの化合物を文献の方法に従って金
属化する。一般式IXのかごは、公知の方法に従って、一般式XXII:
(式中、R1、R4及びR5は上記の意味を有する)の化合物を一般式XXIII
:
Hal−CH2−P(O)(OR11)2 (XXIII)
(式中、Hal及びRNは上記の意味を有する)の化合物でアルキル化すること
により得られる。
一般式Xのクロロカルボン酸エステルは市販されている(Aldrich Co.)。
一般式XIのコハク酸誘導体は、公知の方法により、一般式XXIIの化合物
を一般式XXIV:
Hal−CH2−CO2R2 (XXIV)
(式中、Hal及びR2は上記の意味を有する)のハロ酢酸エステルでアルキル
化することにより調製する。
一般式XIIの化合物は市販されている(Aldrich Co.)。
Y=Halである場合、一般式XIIIの化合物は市販されている;YがO−
SO2−Z基を示す場合には、一般式XXV:
R3−OH (XXV)
(式中、R3は上記の意味を有する)の市販されているアルコールのヒドロキシ
ル基を対応するスルホン酸エステルに変換する。
一般式XIV又はXVの化合物は、一般式XXVI又はXXVII:
(式中、R1、R2、R3、R4、R5及びRNは上記の意味を有する)の化合物の
ヒドロキシル基を公知の方法に従って、ハロゲン又は一般式XVIのスルホン酸
エステルに変換する。一般式XVIのカルボン酸エステルは、公知の方法に従っ
て、一般式XXVIII:
R5−CH2−CO2R1 (XXVIII)
(式中、R1及びR5は上記の意味を有する)のカルボン酸エステルをアルキル
化することにより得られる。
一般式XVIIの化合物は、文献の方法に従って、一般式XVIの適切な化合
物を酸化することにより得られる。
一般式XVIIIの化合物は、文献からの公知の方法によりハロゲン化する。
一般式XXの化合物は、公知の方法で、一般式XXVIIIの化合物を一般式
XXIX:
(式中、R2及びR3は上記の意味を有する)の化合物と反応させることにより調
製する。
一般式XXIの化合物は、公知の方法に従って、一般式XXX:
(式中、R1及びR2は上記の意味を有する)の化合物のアリル臭化により得られ
る。
一般式XXVIの化合物は、一般式IVの化合物(式中、R3は水素を示す)
を一般式XXXI:
(式中、Hal、R1、R4及びR5は上記の意味を有し、Tはヒドロキシ保護基
、例えばベンジル、トリメチルシリル又はtert−ブチルジメチルシリル基を
示す)の化合物でアルキル化することにより得られ、保護基Tは文献から公知の
方法により反応物質から除去される。
一般式XXVIIの化合物は、一般式XXXII:
(式中、R2、R3、R11及びTは上記の意味を有する)の化合物を一般式XVI
IIの化合物でアルキル化し、次いで保護基Tを除去することにより得られる。
一般式XXXIの化合物は、公知の方法に従って、一般式XXXIII:
(式中、R1、R4、R5及びTは上記の意味を有する)の化合物をハロゲン化す
ることにより得られる。
一般式XXXIIの化合物は、一般式IV(式中、R3は水素を示す)の化合
物を一般式XXXIV:
T−O−R3−Y (XXXIV)
(式中、R3、T及びYは上記の意味を有する)の化合物でアルキル化すること
により調製する。
一般式XVIの又は式XXXIIIの化合物は、溶媒をもちいずに、又は不活
性溶媒、例えば塩化メチレン、クロロホルム又は四塩化炭素、好ましくは四塩化
炭素中で、赤リン、三塩化リン又は三臭化リンを付加して、室温〜100℃、好ま
しくは90℃で、それを分子ハロゲン(塩素、臭素、ヨウ素)、好ましくは臭素と
反応させることによりハロゲン化する(K.Stoh,Chem.Pharm.Bull.34,2078
(1986);H.J.Ziegler,Synthsis 1969,39)。さらに一般式XVIの化合物は
、非プロトン性溶媒、例えばテトラヒドロフラン中で、低温で、好ましくは-78
℃で、リチウムアミド、例えばリチウムジイソプロピルアミドを用いてそれらを
金属化し、次いで”a”位
置で金属化される一般式XVIの化合物を臭素、ヨウ素、四塩化炭素又は四臭化
炭素と(M.Hesse,Helv.Chim.Acta 72,847(1989)R.T.Arnold,J.Org.C
hem.43,3687(1978))、あるいはN−クロロスクシンイミド又はN−ブロモス
クシンイミドと(W.Oppolzer,Tetrahedron Lett.26,5037(1985))反応させ
ることによりハロゲン化する。
一般式XVII、XXV、XXVI又はXXVIIの化合物のヒドロキシル基
のスルホン酸エステルへの変換は、通常の方法に従って、例えば補助塩基、例え
ばトリメチルアミノ又はトリエチルアミン、あるいはピリジン、好ましくはトリ
エチルアミンを用いて、0℃〜室温の温度で、不活性溶媒中、例えばメチレンク
ロリド、テトラヒドロフラン又はジエチルエーテル、好ましくはメチレンクロリ
ド中のスルホン酸クロリド、例えばメタン−、ベンゼン−、p−トルエン−、又
はp−ニトロベンゼンスルホン酸クロリド、好ましくはメタン−又はp−トルエ
ンスルホン酸クロリドと縮合することにより、実施する。
III式の化合物のIV式の化合物との反応、又はIX式の化合物のX式の化
合物との反応、又はXI式の化合物のXII式の化合物との反応、あるいはXX
II式の化合物のXXIII式又はXXIV式の化合物によるアルキル化、ある
いはIV式の化合物のXXXI式の化合物による又はXXXII式の化合物のX
VIII式の化合物によるアルキル化、あるいは一般式XIV又はXVの化合物
の環化は、通常、非プロトン性溶媒中で、例えばトルエン、テトラヒドロフラン
、ジエチルエーテル又はジメチルホルムアミド、好ましくはジメチルホルムアミ
ド又はテトラヒドロフラン中で、強塩基、例えば水素化カリウム、水素化ナトリ
ウム、リチウムジイソプロピルアミド又はリチウムヘキサメチルジシリルアミド
、好ましくは
水素化ナトリウム又はリチウムジイソプロピルアミドを用いて、-78℃〜90℃、
好ましくは-10℃〜室温で実施する。
一般式Vの化合物の一般式VIの化合物との反応は、メタノール、エタノール
、トルエン、テトラヒドロフラン又はジメチルホルムアミド、好ましくはメタノ
ール、テトラヒドロフラン又はジメチルホルムアミドのような溶媒中で、さらな
る添加剤を用いずに又は水素化ナトリウム、水素化カリウム、リチウムジイソプ
ロピルアミド、ブチルリチウム、臭化エチルマグネシウムのような塩基を用いて
、必要な場合には一般式VIIIの化合物のそれぞれの銅塩を生成するために銅
塩、例えば塩化銅又は臭化銅を用いて(G.H.Posner,Tetrahedron Letters 37
,3215(1977)と比較)、-78℃〜90℃、好ましくは-78℃〜室温でのミハエル付加
の条件下で実施する。
一般式XVIIIの化合物は、通常、溶媒を用いずに、室温〜150℃、好まし
くは130℃の温度で、30分〜30時間、好ましくは18時間の反応時間で、一般式X
IXの化合物と反応させる。
一般式XXの化合物は、通常、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム
又は塩化メチル、好ましくはトルエン又は塩化メチルのような溶媒中で、脱水剤
、例えば硫酸、リン酸、p−トルエンスルホン酸、好ましくはp−トルエンスル
ホン酸を付加して、室温〜使用する溶媒の還流温度で、好ましくは100℃で脱水
する。
化合物XIXは、通常、溶媒を用いずに、50℃〜180℃、好ましくは150℃の温
度で、化合物XXIと反応させる。
一般式XXVIIIのカルボン酸エステルのXXIX式のケトンとの縮合は、
通常、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジエチルエステル又はジ
メチルホルムアミド、好ましくはメタノオール又はテトラヒドロフランのような
溶媒中で、塩基縮合剤、例えばナトリウムメチレート又はナトリウムエチレート
、カリウムt
ert.−ブチレート、水素化ナトリウム又はリチウムジイソプロピルアミド、
好ましくはナトリウムメチレート、カリウムtert.−ブチレート又はリチウ
ムジイソプロピルアミドの存在下で、-78℃〜60℃、好ましくは-78℃〜室温で実
施する。
2−メチルフマル酸又はマレイン酸及びその誘導体のアリル臭化に関しては、
J.Org.Chem.34,1228(1969)を参照して頂きたい。一般式XVIの化合物の一
般式XVIIの化合物への酸化は、酸化剤、例えばオキサジリジン誘導体、過酸
化モリブデン又は大気中酸素を用いて、-78℃〜室温で、好ましくは50℃で、グ
テトラヒドロフランのような溶媒中で、リチウムジイソプロピルアミド又はリチ
ウム−N−イソプロピル−N−シクロヘキシルアミドのような塩基を加えること
により実施する(C.Tamm.Tetrahedron Lett.26,203(1985);F.A.Davis I.O
rg.Chem.51,2402(1986);C.Winotai Synth.Commun.18,2141(1988))。
一般式IIの化合物中のホスホン酸エステル基の対応する遊離ホスホン酸への
加水分解は、通常、溶媒を用いずに、又は塩化メチレンのような不活性溶媒中で
、トリメチルシリルハロゲニド、例えばトリメチルシリルブロミド又はトリメチ
ルシリルヨージドを用いて、-50℃〜室温で、好ましくは0℃で達成される。
一般式I又はIIの化合物中のカルボン酸エステル基は、通常の方法に従って
、水中又は水、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール又はエタノールの
混合物中で、好ましくは水/テトラヒドロフランの混合物中で、室温〜80℃、好
ましくは室温で、一般式I又はIIのカルボン酸エステルを水酸化物、例えばナ
トリウム、カリウム又はリチウムの水酸化物で、好ましくは水酸化ナトリウム又
は水酸化リチウムで処理することにより鹸化される。
一般式III又はXXXIの化合物中のヒドロキシル基の保護基
は、一般式III又はXXXIの化合物を水性無機酸又は無機塩基、例えば塩酸
又は硫酸又は水酸化ナトリウム溶液又は水酸化カリウム溶液で処理することによ
り、あるいはそれをフッ化物、例えば水性フッ化水素酸又はフッ化テトラブチル
アンモニウムと反応させることにより、あるいは例えばパラジウム/炭素/水素
でそれに触媒的水素添加を施して、除去し得る。
I式の化合物の純粋鏡像体は、ラセメート分割(光学的に活性な酸又は塩基を
用いる塩の生成により)により、又は光学的に活性な出発物質を合成に用いるこ
とにより得られる。
さらに、一般式I又はIIの化合物中のホスホン酸及びカルボン酸エステル基
は、塩酸又は臭化水素酸で煮沸することにより鹸化される。一般式I又はIIの
化合物中にベンジルエステルが存在する場合、それらは水添分解的に対応する遊
離ホスホン酸又はカルボン酸に変換される。
通常の方法で、例えば無機又は有機塩基、例えばナトリウム又はカリウムの重
炭酸塩、水酸化ナトリウム溶液又は水酸化カリウム溶液、水性アンモニア又はあ
明、例えばトリメチルアミン又はトリエチルアミンで化合物を滴定することによ
り生成される薬理学的耐容塩として、一又は二アルカリ又はアンモニウム塩が特
に用いられる。塩は通常、水/アセトンからの沈殿により精製される。
本発明のI式の新規の物質及びその塩は、液体又は固体形態で、経腸的に又は
非経口的に投与し得る。投与の通常形態の例としては、錠剤、カプセル、被覆錠
剤、シロップ、溶液、懸濁液等が挙げられる。注射液用の通常添加剤、例えば安
定化剤、可溶化剤及び緩衝剤を含有する注射液としては水を用いるのが好ましい
。
このような添加剤としては、例えば酒石酸塩及びクエン酸塩緩衝液、エタノー
ル、錯生成剤(例えばエチレンジアミン四酢酸及びそ
の非毒性塩)、粘度を調節するための高分子ポリマー(例えば液体ポリエチレン
オキシド)が挙げられる。
注射溶液用の液体担体物質は滅菌性でなければならず、好ましくはアンプル中
に処方される。固体担体は、例えばデンプン、ラクトース、マンニトール、メチ
ルセルロース、タルク、高度分散ケイ酸、高分子脂肪酸(例えばステアリン酸)
、ゼラチン、寒天、リン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、動物又は植
物脂肪、固体高分子ポリマー(例えばポリエチレングリコール)である。経口使
用に適した製剤は、所望により風味剤及び甘味剤を含有し得る。
用量は、投与手段、種、年齢及び/又は個々の症状といった種々の因子に依っ
ている。投与される1日用量は、約10〜1000mg/ヒト、好ましくは100〜500mg/
ヒトであって、1回又は数回に分けて投与し得る。
実施例に記載の化合物及び請求の範囲に記載の全ての意図置換基を組合せて得
られる化合物の他に、以下のコハク酸誘導体並びにそれらのナトリウム及びカリ
ウム塩、メチル、エチル又はベンジルエステルが、本発明の意味内で好ましい:
好ましい化合物(PC):
1) 2−ホスホノ−2−メチル−3−ブチル−コハク酸;
2) 2−ホスホノ−3−ブチル−コハク酸,融点157〜9℃(decomp.);
3) 2−ホスホノ−3−ペンチル−コハク酸;
4) 2−ホスホノ−3−(3−メチル−1−ブチル)−コハク酸,融点151
〜2℃(decomp.);
5) 2−ホスホノ−3−メチル−3−ブチル−コハク酸;
6) 2−ホスホノ−3−(2−プロペン−1−イル)−コハク酸;
7) 2−ホスホノ−3−(2−メチル−2−プロペン−1−イル)−コハク
酸;
8) 2−ホスホノ−3−シクロヘキシル−コハク酸;
9) 2−ホスホノ−3−(2−シクロヘキセン−1−イル)−コハク酸;
10) 2−ホスホノ−3−(フェニルメチル)−コハク酸ナトリウム塩:1
H−NMR(D2O):3.35(dd,1H),3.25-3.0(m,3H),2.92-2.80(m,1H);31
P−NMR(D2O):18.01(s),16.99(s).
11) 2−ホスホノ−3−(4−ヒドロキシシクロヘキシル)−コハク酸;
12) 2−ホスホノ−3−(4−アミノシクロヘキシル)−コハク酸;
13) 2−ホスホノ−3−(4−ジメチルアミノシクロヘキシル)−コハク
酸;
14) 2−ホスホノ−3−(4−ヒドロキシ−シクロヘキ−2−エン−1−
イル)−コハク酸;
15) 2−ホスホノ−3−(2−ヒドロキシシクロペンチル)−コハク酸;
16) 2−ホスホノ−3−(4−イソプロピルシクロヘキシル)−コハク酸
;
17) 2−ホスホノ−3−シクロヘプチルーコハク酸;
18) 2−ホスホノ−3−(2−フェニルエチル)−コハク酸;
19) 2−ホスホノ−3−(3−フェニルプロピル)−コハク酸;
20) 2−ホスホノ−3−(4−メトキシフェニルメチル)−
コハク酸;
21) 2−ホスホノ−3−(4−ヒドロキシフェニルメチル)−コハク酸;
22) 2−ホスホノ−3−(4−ジメチルアミノフェニルメチル)−コハク
酸;
23) 2−ホスホノ−3−(4−アミノフェニルメチル)−コハク酸;
24) 2−ホスホノ−3−(4−メチルフェニルメチル)−コハク酸;
25) 2−ホスホノ−3−(3−クロロフェニルメチル)−コハク酸;
26) 2−ホスホノ−3−(2−メトキシフェニルメチル)−コハク酸;
27) 2−ホスホノ−3−(4−アミノカルボニルフェニルメチル)−コハ
ク酸;
28) 2−ホスホノ−3−(4−アミジノフェニルメチル)−コハク酸;
29) 2−ホスホノ−3−(4−シアノフェニルメチル)−コハク酸;
30) 2−ホスホノ−3−(3,4−ジメトキシフェニルメチル)−コハク
酸;
31) 2−ホスホノ−3−(2−(3,4−ジメトキシフェニル)−エチル
)−コハク酸;
32) 2−ホスホノ−3−(2−(4−アミノフェニル)エチル)−コハク
酸;
33) 2−ホスホノ−3−(1−ナフチル)−コハク酸;
34) 2−ホスホノ−3−(2−ナフチル)−コハク酸,融点
180〜2℃(decomp.);
35) 2−ホスホノ−3−(4−フェニルフェニル)−コハク酸;
36) 2−ホスホノ−3−(4−(4−アミジノフェニル)フェニル)−コ
ハク酸;
37) 2−ホスホノ−2−アミノ−3−メチルーコハク酸;
38) 2−ホスホノ−2−ヒドロキシ−3−メチルーコハク酸;
39) 2−ホスホノ−3−アミノ−3−メチル−コハク酸;
40) 2−ホスホノ−3−ヒドロキシ−3−メチルーコハク酸;
41) 2−ホスホノ−2−アミノ−3−エチル−コハク酸;
42) 2−ホスホノ−2−メトキシ−3−エチル−コハク酸;
43) 2−ホスホノ−3−アミノ−3−エチル−コハク酸;
44) 2−ホスホノ−3−メトキシ−3−エチル−コハク酸;
45) 2−ホスホノ−2−アミノ−3−フェニル−コハク酸;
46) 2−ホスホノ−3−アミノ−3−フェニル−コハク酸;
47) 2−ホスホノ−2−メトキシ−3−フェニル−コハク酸;
48) 2−ホスホノ−2−アミノ−3−フェニルメチル−コハク酸;
49) 2−ホスホノ−3−メトキシ−3−フェニルメチル−コハク酸;
50) 2,3−ジメトキシ−2−ホスホノ−コハク酸;
51) 2−ホスホノ−2−メトキシ−3−(4−フェニル)フェニル−コハ
ク酸;
52) 2−ホスホノ−3−(2−シクロヘキシル)エチル−コ
ハク酸;
53) 2−ホスホノ−3−エチルオキシ−コハク酸;
54) 2−ホスホノ−3−ブチルオキシ−コハク酸;
55) 2−ホスホノ−3−シクロヘキシルオキシ−コハク酸;
56) 2−ホスホノ−3−フェニルオキシ−コハク酸;
57) 2−ホスホノ−3−(4−ヒドロキシフェニルオキシ−コハク酸;
58) 2−ホスホノ−3−(4−ジメチルアミノフェニルオキシ)−コハク
酸;
59) 2−ホスホノ−3−(1−ナフチルオキシ)−コハク酸;
60) 2−ホスホノ−3−(4−(1−ピロリジノプロピル)フェニルオキ
シ)−コハク酸;
61) 2−ホスホノ−3−(4−(1−ピロリジノプロピルオキシ)フェニ
ルオキシ)−コハク酸;
62) 2−ホスホノ−3−(4−フェニル)フェニルオキシ−コハク酸;
63) 2−ホスホノ−3−(4−(4−アミノフェニル)フェニルオキシ)
−コハク酸;
64) 2−ホスホノ−3−ヒドロキシメチル−コハク酸;
65) 2−ホスホノ−3−メトキシメチル−コハク酸;
66) 2−ホスホノ−3−プロポキシメチル−コハク酸;
67) 2−ホスホノ−3−シクロヘキシルオキシメチル−コハク酸;
68) 2−ホスホノ−3−フェノキシメチル−コハク酸;
69) 2−ホスホノ−3−(4−ヒドロキシフェニル)オキシメチル−コハ
ク酸;
70) 2−ホスホノ−3−(4−ジメチルアミノフェニル)−コハク酸;
71) 2−ホスホノ−3−(1−ナフチルオキシメチル)−コハク酸;
72) 2−ホスホノ−3−(4−(フェニル)フェニル)オキシメチル−コ
ハク酸;
73) 2−ホスホノ−3−(2−ヒドロキシエチル)−コハク酸;
74) 2−ホスホノ−3−(3メトキシプロピル)−コハク酸;
75) 2−ホスホノ−3−(3−フェノキシプロピル)−コハク酸;
76) 2−ホスホノ−3−(4−(4−メトキシフェニルメチルオキシ)ブ
チル)−コハク酸;
77) 2−ホスホノ−3−メチルチオ−コハク酸;
78) 2−ホスホノ−3−プロピルチオ−コハク酸,融点154〜5℃;
79) 2−ホスホノ−3−プロピル−チオメチル−コハク酸,融点80℃(de
comp.);
80) 2−ホスホノ−3−フェニルチオ−コハク酸,融点149〜50℃;
81) 2−ホスホノ−3−メチルチオメチル−コハク酸;
82) 2−ホスホノ−3−エチルチオ−コハク酸,融点160〜2℃;
83) 2−ホスホノ−3−エチルチオメチル−コハク酸,融点176〜7℃;
84) 2−ホスホノ−3−フェニルチオメチル−コハク酸,融
点171〜2℃;
85) 2−ホスホノ−3−(4−(4−メトキシフェニル)チオブチル−コ
ハク酸;
86) 2−ホスホノ−3−(2−ピペリジノ)−コハク酸;
87) 2−ホスホノ−3−(2−テトラヒドロピラニル)−コハク酸;
88) 2−ホスホノ−3−(2−メトキシ)ピペリジノ)−コハク酸;
89) 2−ホスホノ−3−(3−フェノキシエチル)−コハク酸ナトリウム
塩:1H−NMR(D2O):7.40(dd,2H),7.05(m,3H),4.20(m,2H),3.50-3
.15(m,2H),2.65(m,1H),2.22(m,1H);31P−NMR(D2O):15.17(s),14.
53(s);
90) 2−ホスホノ−3−((2−ピペリジノ)メチル)−コハク酸;
91) 2−ホスホノ−3−((2−テトラヒドロピラニル)メチル)−コハ
ク酸;
92) 2−ホスホノ−3−(2−(2−ピペリジノ)−エチル)−コハク酸
;
93) 2−ホスホノ−3−(2−ピロリジノ)−コハク酸;
94) 2−ホスホノ−3−(2−(4−ヒドロキシ)ピロリジノ)−コハク
酸;
95) 2−ホスホノ−3−(2−テトラヒドロフラニル)−コハク酸;
96) 2−ホスホノ−3−(2−テトラヒドロチオフェニル)−コハク酸;
97) 2−ホスホノ−3−((2−テトラヒドロフラニル)メチル)−コハ
ク酸;
98) 2−ホスホノ−3−((2−テトラヒドロチオフェニル)メチル)−
コハク酸;
99) 2−ホスホノ−3−((2−ピロリジノ)メチル)−コハク酸;
100) 2−ホスホノ−3−(3−(2−ピロリジノ)プロピル)−コハク
酸;
101) 1−ホスホノ−1,2−シクロヘキサン−ジカルボン酸;
102) 1−ホスホノ−1,2−シクロペンタン−ジカルボン酸;
103) 3−ホスホノ−2,3−ピペリジン−ジカルボン酸;
104) 3−ホスホノ−2,3−ピロリジン−カルボン酸;
105) 3−ホスホノ−2,3−テトラヒドロピラン−ジカルボン酸;
106) 3−ホスホノ−2,3−テトラヒドロフラン−ジカルボン酸;
107) 2−ホスホノ−2,3−モルフォリン−ジカルボン酸;
108) 2−ホスホノ−3−(4−ヒドロキシフェニルメチル)−コハク酸
:1H−NMR(D2O):7.26(d,1H),7.22(d,1H),6.90(d,2H),3.12-2.98
(m,2H),2.93-2.80(m,2H);31P−NMR(D2O):17.82(s),15.93(s);
以下の実施例は、本発明の化合物を合成するために用い得る方法のいくつかの
変法を示す。しかしそれらは本発明の対象物質を限定するものではない。化合物
の構造は、1H−、31Pにより、必要な場合には13C−NMR分光分析により確
証した。物質の純度は、C、H、N、P及び必要な場合にはNa分析により、並
びに薄層クロ
マトグラフィー又は薄層電気泳動(セルロース,オキサレート緩衝液,pH=4.0
)により確定した。
実施例1
2−ホスホノ−3−シクロヘキシルメチル−コハク酸
a)臭素8.2ml(l60mmol)を80℃に加熱した四塩化炭素40ml中の3−シクロヘキ
シルプロピオン酸6.8ml(40mmol)及び赤リン0.8g(26mmol)の混合物中に2時間以
内に滴下した。その後、反応混合物を還流しながらさらに15時間加熱し、次い
で冷却して、回転蒸発器で溶媒を除去した。残渣を氷上で冷却しながらエタノー
ル50mlと混合し、得られた溶液を還流しながら1時間加熱した。その後、反応溶
液を蒸発させて脱水し、残渣を飽和重炭酸ナトリウム溶液30ml中に取って、この
方法で得られた水性溶液を毎回エーテル50mlで3回抽出した。併合エーテル相を
飽和チオ硫酸ナトリウム溶液10mlと一緒に振盪して、硫酸ナトリウム上で脱水し
た。エーテルを除去後、2−ブロモ−2−シクロヘキシルプロピオン酸エチルエ
ステルを黄色油として得た。1H−NMR(CDCl3):δ−4.33ppm(t,1H);4
.16(q,2H);1.85(t,2H);1.73-1.28(m,6H);1.23(t,3H);1.22-0.74(m,5H)
.
b)無水ジメチルホルムアミド(無水DMF)30mlに溶解したホスホノ酢酸ト
リエチルエステル4ml(20mmol)の溶液を室温で水素化ナトリウム0.48g(20mmo
l)と混合して、水素の生成が完了するまで(30分間)攪拌した。上記で調製し
た無水DMF 20ml中の2−ブロモ−3−シクロヘキシル−プロピオン酸エチル
エステル5.26g(20mmol)をこの溶液に滴下し、次いで反応混合液を室温で8時
間攪拌した。回転蒸発器でDMFを除去後、残渣を飽和塩化アンモニウム溶液20
ml中に取って、得られた水性溶液を毎回酢酸エチル50
mlで3回抽出した。併合エーテル相を硫酸ナトリウム上で脱水し、溶媒を除去し
、シリカゲル上でのカラムクロマトグラフィー(移動溶媒:酢酸エチル/イソヘ
キサン=2/1)により粗生成物を精製した。2−ホスホノ−3−シクロヘキシ
ルメチルコハク酸テトラエチルエステル3.5gを無色油として得た。1H−NMR
(CDCl3):δ=4ppm(m,8H);3.26(q,1H);3.15-2.97(m,1H);1.99-1.4(
m,6H);1.33-1.0(m,17H);0.97-0.68(m,2H);(生成物は、1:1の比のジア
ステレオマー混合物として存在した).31P−NMR(CDCl3):δ=19.88
ppm;δ=18.61ppm.
c)2−ホスホノ−3−シクロヘキシルメチルコハク酸テトラエチルエステル
2.5g(6.2mmol)を6N塩酸50ml中に懸濁した。次に懸濁液を還流しながら24時間
加熱し、その後冷却水性溶液を酢酸エチル50mlと一緒に二回振盪した。水性相を
蒸発後、2−ホスホノ−3−シクロヘキシルメチルコハク酸1.3gを得た。これ
を水10mlに溶解し、この方法で得られた酸性溶液を1N水酸化ナトリウム溶液で
pH7(pH電極)に調整した。水を除去後、残渣をジエチルエーテルに懸濁し、懸
濁液を濾過した。2−ホスホノ−3−シクロヘキシルメチルコハク酸三ナトリウ
ム塩1.2gをこの方法で得た。融点〉250℃.C,H分析:C11H16Na3O7Px2
.5H2O計算値C32.60,H5.52;実測値 C32.63,H5.25.
3−フェニルプロピオン酸で出発して実施例1と同様に2−ホスホノ−3−フ
ェニルメチルーコハク酸を調製した。化合物は、1:1の比のジアステレオマー
混合物として存在した。1H−NMR((D2O):δ=7.4ppm(m,5H);3.5-2.85
(m,2H);31P−NMR(D2O):δ=15.25ppm(s).
実施例2
2−ホスホノ−3−(3,4−ジメトキシフェニル)メチル−コハク酸
a)ヘキサン(0.136 mol)に溶解した1.6Nブチルリチウム溶液85.68mlを−1
0℃の窒素下でジイソプロピルアミン19.27 ml(0.136mol)と混合した。その後、
白色懸濁液を−10℃で30分間攪拌し、無水テトラヒドロフラン(無水THF)20
0mlと混合して、得られたリチウムジイソプロピルアミド溶液を−78℃に冷却し
た。次いで20mlの無水THFに溶解した新たに蒸留したクロロトリメチルシラン
25.6ml(0.2mol)の溶液を迅速に加え、次に無水THF50mlに溶解した3−(3,
4−ジメトキシフェニル)−プロピオン酸メチルエステル24.5g(0.109mol)の溶
液を10分以内に滴下し、その後反応混合物を−78℃で一時間攪拌した。次に、N
−ブロモスクシンイミド22.6g(0.127mol)を加えて、反応混合物を室温にして(
1時間)、それをさらに8時間攪拌した。生成した沈殿物を濾過により除去後、
母液を真空濃縮し、残渣を100mlジエチルエーテル中に取って、エーテル溶液を
飽和チオ硫酸ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で脱水した。エーテル
除去後、2−ブロモ−3−(3,4−ジメトキシフェニル)−プロピオン酸メチ
ルエステルを明褐色油として得た。1H−NMR(CDCl3):δ=6.75(m,3H)
;4.35(dd,1H);3.85(s,3H);3.83(s,3H);3.7(s,3H);3.4(dd,1H);3.15(dd,1H
).
b)2−ブロモ−3−(3,4−ジメトキシフェニル)−プロピオン酸メチル
エステルによるホスホノ酢酸トリエチルエステルのアルキル化を、実施例1b)
と同様に実施して、2−ジエチルホスホノ−3−(3,4−ジメトキシフェニル
)メチル−コハク酸メチルエチルエステルを生成した。これは1/2の比のジア
ステレオマー混合物として存在した。1H−NMR(CDCl3):δ=6.73p
pm(d,1H);6.68(s,1H);6.67(s,1H);4.14(m,6H);3.78(2つのs,2x3H);3.47
(s,3H);3.39-3.187(m,3H);2.97-2.70(m,1H);1.22(m,9H).31P−NMR
(CDCl3):δ=18.34ppm(s);δ=18.17ppm(s).
c)2−ジエチル−ホスホノ−3−(3,4−ジメトキシ−フェニル)メチル
コハク酸メチルジエチルエステル中のエステル基を実施例1と同様に鹸化して、
遊離2−ホスホノ−3−(3,4−ジメトキシ−フェニル)メチルコハク酸を得
た。融点195℃(decomp.).
実施例3
2−ホスホノ−3−(4−ヒドロキシブチル)コハク酸
a)メタノール50ml中のe−カプロラクトン10.6ml(0.1mol)及び炭酸カリウム
1.97g(0.015 mol)の混合物を室温で1時間攪拌し、次いで炭酸カリウムを濾過に
より除去し、母液を真空蒸発、脱水した。残渣を飽和塩化アンモニウム溶液20ml
中に取って、溶液を毎回50mlのジエチルエーテルで3回抽出した。併合有機相を
硫酸ナトリウム上で脱水後、溶媒を除去して、6−ヒドロキシカプロン酸メチル
エステル12.2gを得て、これをさらに精製せずに反応させた。
b)ドライジメチルホルムアミド(DMF)50mlに溶解した6−ヒドロキシカ
プロン酸メチルエステル5.8g(40mmol)及びイミダゾール8.2g(120mmol)の溶液を
tert.−ブチルジメチルシリルクロリド6.8g(45mmol)と一緒に混合した。次
いで反応混合物を室温で4時間攪拌して、DMFを真空除去し、残渣を水500ml
に取って水性溶液を毎回100mlのジエチルエーテルと一緒に3回振盪した。併合
エーテル相を硫酸ナトリウム上で脱水し、溶媒を除去した
後、粗生成物をシリカゲル上でのカラムクロマトグラフィーにより精製した(移
動溶媒:酢酸エチル/イソヘキサン=1/10)。この方法で6−tert.−ブ
チル−ジメチルシリルオキシカプロン酸メチルエステルを得た。1H−NMR(
CDCl3):δ=3.61ppm(s,3H);3.55(t,2H);2.26(t,2H);1.60(m,2H);1.
49(m,2H);1.30(m,2H);0.85(s,9H);0.001(s,6H).
c)6−tert.−ブチル−ジメチルシリルオキシカプロン酸メチルエステ
ルの低温臭素化を実施例2a)と同様に実施して、2−ブロモ−6−tert.
−ブチルジメチルシリルオキシカプロン酸メチルエステルを得た。1H−NMR
(CDCl3):δ=4.19ppm(dd,1H);3.70(s,3H);3.52(t,2H);2.0(m,2H);1
.52-1.40(m,4H);0.83(s,9H);0.001(s,6H).
d)2−ブロモ−6−tert.−ブチルジメチルシリルオキシ−カプロン酸
メチルエステルによるホスホノ酢酸トリエチルエステルのアルキル化を、実施例
1b)と同様に実施して、2−ホスホノ−3−(4−tert.−ブチルジメチ
ルシリルオキシブチル)−コハク酸メチルトリエチルエステルを明黄色油として
得た。1H−NMR(DMSO−d6)(ジアステレオマー混合物1/1):4.05
(m,6H);3.55(s,3H);3.50(m,2H);3.15(m,1H);2.85(m,1H);1.40(m,2H);
1.15(m,4H+9H);0.85(s,9H);0.001(s,6H).31P−NMR(DMSO−d6)
:δ=24.79ppm(s);δ=24.18ppm(s).
e)アセトニトリル 5mlに溶解した2−ホスホノ−3−(4−tert.−
ブチルジメチルシリルオキシブチル)−コハク酸メチルトリエチルエステル 1.
4g(2.9mmol)の溶液を2%(アセトニトリル中)水性フッ化水素酸 3mlと混合
した。次いで反応混合物を室温で2時間攪拌し、その後溶媒を真空除去して、残
渣を飽和重
炭酸ナトリウム溶液 10ml中に取って、水性溶液を毎回20mlの酢酸エチルで3回
抽出した。併合有機相を硫酸ナトリウム上で脱水し、溶媒を除去した後、2−ホ
スホノ−3−(4−ヒドロキシブチル)−コハク酸メチルトリエチルエステル
0.6gを無色粘性油として得た。1H−NMR(CDCl3)(ジアステレオマー
混合物1/1):δ=4.05ppm(m,6H);3.60(s,3H);3.55(m,2H);3.31(m,1H)
;3.20(m,1H);1.85(m,1H);1.65-1.32(m,5H);1.22(m,9H);31P−NMR(
CDCl3):δ=20.05ppm(s);δ=19.90ppm(s).
f)2−ホスホノ−3−(4−ヒドロキシブチル)−コハク酸メチルトリエチ
ルエステル中のエステル基を実施例1c)と同様に鹸化して、遊離2−ホスホノ
−3−(4−ヒドロキシブチル)−コハク酸を生成し、1N NaOHを用いてこ
れを四ナトリウム塩に変換した。C,H分析:C8H11O8PNa4 x 2.5H2O
(分子量=403)計算値 C23.82;H3.97;P7.69; 実測値 C23.75;H3.90
;P7.69.
実施例4
2−ホスホノ−3−(3−ヒドロキシプロピル)−コハク酸
a)5−ヒドロキシ吉草酸メチルエステルを実施例3a)と同様にしてδ−バ
レロラクトンから調製し、これをさらに精製せずに反応させた。
b)実施例3b)と同様に、ヒドロキシル基に対するシリル保護基を5−ヒド
ロキシ吉草酸メチルエステル中に導入して、5−tert.−ブチルジメチルシ
リルオキシ吉草酸メチルエステルを明黄色油として得た。1H−NMR(CDC
l3):δ=3.67ppm(s,3H);3.54(t,2H);1.95(t,2H);1.57(m,2H);1.48(m,2
H);0.82(s
,9H);0.01(s,6H).
c)5−tert.−ブチル−ジメチルシリルオキシ吉草酸メチルエステルの
低温臭素化を実施例2a)と同様に実施して、2−ブロモ−5−tert.−ブ
チルジメチルシリルオキシ吉草酸メチルエステルを黄色油として得た。1H−N
MR(DMSO−d6):δ=4.5ppm(dd,1H);3.67(s,3H);3.54(t,2H);1.95(
m,2H);1.48(m,2H);0.80(s,9H);0.01(s,6H).
d)2−ブロモ−5−tert.−ブチルジメチルシリルオキシ−吉草酸メチ
ルエステルによるホスホノ酢酸トリエチルエステルのアルキル化を、実施例1b
)と同様に実施して、2−ホスホノ−3−(3−tert.−ブチルジメチルシ
リルオキシプロピル)−コハク酸メチルトリエチルエステルを淡黄色油として得
た。1H−NMR(DMSO−d6)(ジアステレオマー混合物1/1):4.0ppm
(m,6H);3.58(s,3H);3.47(m,2H);3.17(m,1H);2.83(m,1H);1.38(m,2H);1.
13(m,2H+9H);0.81(s,9H);0.01(s,6H).31P−NMR(DMSO−d6):δ
=24.72 ppm(s);δ=24.21ppm(s).
e)実施例3e)と同様にして2−ホスホノ−3−(3−tert.−ブチル
ジメチルシリルオキシプロピル)−コハク酸メチルトリエチルエステルからシリ
ル保護基を除去して、2−ホスホノ−3−(3−ヒドロキシプロピル)−コハク
酸メチルトリエチルエステルを得た。1H−NMR(DMSO−d6)(ジアステ
レオマー混合物1/1):δ=4.38ppm(t,1H;OH);4.05(m,6H);3.5(s,3H);
3.30(m,2H);3.15(m,1H);3.0(m,1H);1.62-1.20(m,4H);1.17(m,9H).
f)2−ホスホノ−3−(3−ヒドロキシプロピル)−コハク酸メチルトリエ
チルエステル中のエステル基を実施例1c)と同様に
加水分解して、遊離2−ホスホノ−(3−ヒドロキシプロピル)−コハク酸を生
成し、1N NaOHを用いてこれを三ナトリウム塩に変換した。C,H分析:
C7H10O8Na3P x 0.5H2O(分子量=331)計算値 C25.39;H3.75;P9.
37; 実測値 C25.27;H3.51;P9.60.
実施例5
a)2−ブロモメチルフマル酸メチルエステル(J.Org.Chem.34,1228(1969)
)7.19 g(30 mmol)を100mlのメタノールに溶解した33mmolのナトリウムの溶液に
加え、還流しながら12時間加熱した。蒸留してメタノールを除去し、残渣をシリ
カゲル上(移動溶媒 ジエチルエーテル/ヘプタン 1:4)で精製した。この
方法で3−メトキシメチルフマル酸ジメチルエステル2.82gを得た。
b)3−メトキシメチルフマル酸ジメチルエステル900mg(5mmol)をトルエンに
溶解した5mmolのNaOHの溶液に加え、亜リン酸ジメチルエステル 0.55g(5m
mol)を徐々に滴下した。室温で1時間後、それを蒸発させて濃縮し、混合物をシ
リカゲル上でのクロマトグラフィー処理(移動溶媒 アセトン/トルエン 1:
1)により精製した。無色油0.9g(60%)を得た。3−メトキシメチル−2−ジエ
チル−ホスホノ−コハク酸ジメチルエステル800mg(2.5mmol)を6N HCl 70ml
中で140℃で6時間加熱した。溶液を蒸発させて濃縮し、残渣を水/アセトンか
ら沈殿させた。非晶質白色粉末540mg(79%)を得た。この構造は、NMR及び質
量分光分析により確証した。f.p.144℃(decomp.).
実施例6
1−ホスホノ−1,2−シクロヘキサン−ジカルボン酸
a)ジエチルエーテル 20mlに溶解した2−ホスホノ−3−(4−ヒドロキシ
ブチル)−コハク酸エステル(実施例3e)にしたがって調製)1.2g(3.3mmol)
及びトリエチルアミン0.73ml(5.0mmol)の溶液を室温で滴下してジエチルエーテ
ル5ml中のメタンスルホン酸クロリド0.3ml(3.9mmol)と混ぜ合わせ、次いで反応
混合物を30分間攪拌した。その後、沈殿物を濾過して除去し、エーテル溶液を順
次10ml希塩酸、20ml飽和重炭酸ナトリウム及び20ml水で洗浄して、硫酸ナトリウ
ム上で脱水した。溶媒除去後、2−ホスホノ−3−(4−メタン−スルホニルオ
キシブチル)−コハク酸メチルトリエチルエステル 1.2gを得た。1H−NMR
(CDCl3):δ=4.1ppm(m,6H+2H);3.65(s,3H);3.48-3.03(m,2H);2.92(
s,3H);1.85(m,2H);1.78-1.40(m,4H);1.22(m,9H).
b)水素化ナトリウム60mg(2.5mmol)をドライジメチルホルムアミド50mlに溶
解した2−ホスホノ−3−(4−メタン−スルホニルオキシブチル)−コハク酸
メチルトリエチルエステル1.1g(2.5mmol)の溶液に加え、反応混合物を50℃で2
時間加熱した。次いで溶媒を真空除去し、残渣を5mlの飽和塩化アンモニウム溶
液中に取って、生成した水性溶液を毎回10mlの酢酸エチルで2回抽出した。脱水
後、併合有機相を硫酸ナトリウム上で脱水し、溶媒を除去した後、粗生成物をシ
リカゲル上でのカラムクロマトグラフィー(移動溶媒:酢酸エチル)により精製
した。1−ジエチルホスホノ−2−メトキシカルボニル−シクロヘキサン−カル
ボン酸エチルエステル520mgをこの方法で得た。1H−NMR(CDCl3)(ジ
アステレオマー1/3の混合物):δ=4.1ppm(m,6H);3.60(s,3H);3.40(m,1H
);2.11(m,2H);1.86(m,2H);1.61-1.35(m,4H);1.22(m,9H).31P−NMR(
CDCl3):δ=23.5ppm(s);δ=22.97ppm(s).
c)1−次エチルホスホノ−2−メトキシカルボニル−シクロヘキサン−カル
ボン酸エチルエステル中のエステル基を実施例1c)と同様に加水分解して、遊
離1−ホスホノ−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸を生成し、1N NaO
Hを用いてこれを四ナトリウム塩に変換した。1H−NMR(D2O):δ=2.80
ppm(m,1H);2.45(m,1H);2.02(m,1H);1.9-1.29(m,6H);31P−NMR(D2
O):δ=18.05ppm(s).
実験プロトコール
尿中〔3H〕−テトラサイクリン排出の測定による非剌激性骨吸収の阻害:
出生時からラットに、679mCi/mmolの特異活性を有する3.7x105Bq/ml(10μCi/
ml)の〔7−3H〕−テトラサイクリン(〔3H〕TC;NewEnglandNuclear,Bos
ton,MA)の漸増量の溶液を毎週注射する。用量は、50μl/週注射から生後5
週目に250μlに増量して、さらに1週間保持する。投与〔3H〕TCの総量は、2
0μCi/ラットである。生後51日目のラットを個別代謝ケージに入れ換えて、1
群は0.5% Ca及び0.35% Pを含有する餌を摂取する。この餌は適量のグルコン
酸カルシウム及び中性リン酸ナトリウムを、カルシウム及びリン酸塩含量が低い
餌(SODI 2134,Klingenthalmuhle)に加えて調製した。実験の全工程中、動物
は蒸留水を自由に飲めた。10日後、24時間尿の採集を開始した。動物には毎日11
時に餌を与えた。この時に尿も採集した。被験物質を毎日2回皮下注射した(午
前8時と午後5時)。10mlのシンチレーターPico-Fluor 30(Packard Internati
onal,Zurich,Switzerland)を尿1mlに加えることにより、液体シンチレーシ
ョンによって尿中の3H−TCを測定した。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI
C07F 9/6553 9450−4H C07F 9/6553
// C07M 7:00
(72)発明者 ツィメルマン,ゲルト
ドイツ連邦共和国,デー―68309 マンハ
イム,ドルンハイマー リンク 4
(72)発明者 バウス,フリーダー
ドイツ連邦共和国,デー―67245 ランブ
シャイム,フュエレンベーク 5
【要約の続き】
C1〜C3アルキルを示し、R4が水素を示し、R5が水
素、ヒドロキシ、メトキシ、C1〜C3アルキル又はアリ
ールでない場合の、並びにXが硫黄を示し、R4がOR6
又はNR7R8基の1つを示し、alkが原子価ダッシュ
でないばあいの光学異性体、その製造方法、並びにカル
シウム代謝障害を治療するためのこれらの化合物を含有
する製剤。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.I式: (式中、 R1、R2は互いに別々に水素、低級アルキル、シクロアルキル又はアリールメ チルであり; R3、R4は互いに別々に水素、低級アルキルあるいは−OR6又は−NR7R8 基の1つ、もしくはそれらが結合する原子と一緒に5〜7員カルボ環式環又は1 〜2個の異種原子を含有する複素環式環を形成し; R5は低級アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、一環式アリール アルキル、二環式アリール、ニアリール、あるいはa)又はb)式の基: を示すか、もしくはR4及びそれが結合する炭素原子と一緒に所望により置換さ れる5〜7員カルボ環式又は複素環式環を形成し: R6は水素、低級アルキル又はアリールメチルを表し; R7、R8は互いに別々に水素又は低級アルキル、あるいはそれらが結合する窒 素原子と一緒に5〜6員複素環式環を形成し; R9は水素、低級アルキル、低級アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケ ニル、一環式又は二環式アリール、二アリールを示し; R10はa)式の基を示し; Xは原子価ダッシュ、酸素又は硫黄を示し; Qは酸素、硫黄又は窒素を示し; alkは原子価ダッシュ、メチレン鎖、2〜6個の炭素原子を有する飽和又は 不飽和アルキレン鎖を示し; n=0〜3; m=0〜2;及び p=0〜5) の化合物、並びに製薬上許容可能なその塩及び R3が水素又はC1〜C3アルキルを示し、R4が水素を示し、R5が水素、ヒド ロキシ、メトキシ、C1〜C3アルキル又はアリールでない場合の、並びに Xが硫黄を示し、R4がOR6又はNR7R8基の1つを示し、alkが原子価ダ ッシュでないばあいの光学異性体。 2.I式: (式中、 R1、R2は互いに別々に水素、低級アルキル、シクロアルキル又はアリールメ チルであり; R3、R4は互いに別々に水素、低級アルキルあるいは−OR6又は−NR7R8 基の1つ、もしくはそれらが結合する原子と一緒に5〜7員カルボ環式環又は1 〜2個の異種原子を含有する複素環式環を形成し; R5は低級アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、一環式アリール アルキル、二環式アリール、ニアリール、あるいはa)又はb)式の基: を示すか、もしくはR4及びそれが結合する炭素原子と一緒に所望により置換さ れる5〜7員カルボ環式又は複素環式環を形成し: R6は水素、低級アルキル又はアリールメチルを表し; R7、R8は互いに別々に水素又は低級アルキル、あるいはそれらが結合する窒 素原子と一緒に5〜6員複素環式環を形成し; R9は水素、低級アルキル、低級アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケ ニル、一環式又は二環式アリール、二アリールを示し; R10はa)式の基を示し; Xは原子価ダッシュ、酸素又は硫黄を示し; Qは酸素、硫黄又は窒素を示し; alkは原子価ダッシュ、メチレン鎖、2〜6個の炭素原子を有する飽和又は 不飽和アルキレン鎖を示し; n=0〜3; m=0〜2;及び p=0〜5) の化合物、並びに製薬上許容可能なその塩及び R3が水素又はC1〜C3アルキルを示し、R4が水素を示し、R5が水素、ヒド ロキシ、メトキシ、C1〜C3アルキル又はアリールでない場合の、並びに Xが硫黄を示し、R4がOR6又はNR7R8基の1つを示し、alkが原子価ダ ッシュでない場合の光学異性体であって、 A)一般式III: (式中、R4、R5及びR1は上記と同じ意味を有し、Yは脱離基、例えばHal 又はO−SO2−Z(ここでHalは塩素、臭素又はヨウ素であり、Zはメチル 、フェニル、p−メチル−フェニル又はp−ニトロフェニルである)を示す)の カルボン酸誘導体を十分公知の方法で一般式IV: (式中、R2、R3及びR11は上記の意味を有する)のホスホノ酢酸エステルと反 応させ、一般式IIIの化合物中のR5が遊離ヒド ロキシル基を示す場合は、これは例えばアシルオキシ基、トリアルキルシリルオ キシ又はベンゾイル基のような保護化形態で存在しなければならず、所望により 生成されるエステルは部分的に又は完全に鹸化されて一般式Iの対応する酸を生 成し、あるいはR4が水素を示す場合には; B)一般式V: (式中、R5、R1、R2及びR3は上記の意味を有する)の化合物を十分公知の方 法で一般式VI: H−P(O)(OR11)2 (VI) (式中、R11は上記の意味を有する)のジアルキルホスフィットと反応させ、所 望により生成されるエステルは部分的に又は完全に鹸化されて一般式Iの対応す る酸を生成するか、あるいはR3=R4=Hの場合には; C)一般式VII: (式中、R1、R2及びR11は上記の意味を有する)の化合物を十分公知の方法で 一般式VIII: R5−M (VIII) (式中、R5は上記の意味を有し、Mは水素あるいはアルカリ金属又はアルカリ 土類金属を示す)の化合物と反応させ、所望により生成されるエステルは部分的 に又は完全に鹸化されて一般式Iの対応する酸を生成し、所望により製薬上許容 可能な塩に変換するか、 あるいはR3及びR4がそれら結合する炭素原子と一緒に環を形成する場合には ; D)式XIV又はXV: (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R11及びYは上記の意味を有する)の化合 物を塩基と反応させ、 その後得られた化合物を所望によりそれらの光学異性体に変換する方法。 3.通常の担体及び補助剤の他に請求項1記載のI式の化合物の少なくとも1 つを含有する製剤。 4.カルシウム代謝障害を治療するための製剤の製造のための請求項1記載の I式の化合物の使用。
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