JPH0853409A - 5−アルキルスルホニル安息香酸誘導体の製造方法 - Google Patents
5−アルキルスルホニル安息香酸誘導体の製造方法Info
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- JPH0853409A JPH0853409A JP21045894A JP21045894A JPH0853409A JP H0853409 A JPH0853409 A JP H0853409A JP 21045894 A JP21045894 A JP 21045894A JP 21045894 A JP21045894 A JP 21045894A JP H0853409 A JPH0853409 A JP H0853409A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 20
- IOHPVZBSOKLVMN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1CCC1=CC=CC=C1 IOHPVZBSOKLVMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 6
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 claims description 5
- 125000006527 (C1-C5) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical class ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 abstract description 5
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 abstract description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 abstract description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 abstract description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 abstract description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 abstract 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 6
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 6
- BXWLVQXAFBWKSR-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-5-methylsulfonylbenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(S(C)(=O)=O)C=C1C(O)=O BXWLVQXAFBWKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-5,5-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CC1(C)N(Cl)C(=O)N(Cl)C1=O KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NBFYWQQYIJTQQV-UHFFFAOYSA-N 5-ethylsulfonyl-2-methoxybenzoic acid Chemical compound CCS(=O)(=O)C1=CC=C(OC)C(C(O)=O)=C1 NBFYWQQYIJTQQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N chlorosulfonic acid Substances OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006114 decarboxylation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 3
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 3
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 2
- -1 alkyl mercaptan Chemical compound 0.000 description 2
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MONMFXREYOKQTI-UHFFFAOYSA-N 2-bromopropanoic acid Chemical compound CC(Br)C(O)=O MONMFXREYOKQTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPYHBPSMQJMBHF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-3-methylsulfonylbenzoic acid Chemical compound COC1=C(C(O)=O)C=CC=C1S(C)(=O)=O XPYHBPSMQJMBHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000911 decarboxylating effect Effects 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
本発明は医薬品等を製造するために有用な中間体の改良
された製造法に関する。 【構成】 一般式(2) (式中、R1 、R2 はそれぞれ独立に水素原子、C1 〜
C4 のアルキル基、Xはハロゲン原子、ヒドロキシ基又
はC1 〜C5 のアルコキシ基を表わす)で示される安息
香酸誘導体を、115℃以上の温度で脱炭酸することを
特徴とするアルキルスルホニル安息香酸誘導体の製造方
法。 【効果】本発明の方法によれば、目的とするアルキルス
ルホニル安息香酸誘導体を収率良く、工業的に極めて有
利に製造することができる。
された製造法に関する。 【構成】 一般式(2) (式中、R1 、R2 はそれぞれ独立に水素原子、C1 〜
C4 のアルキル基、Xはハロゲン原子、ヒドロキシ基又
はC1 〜C5 のアルコキシ基を表わす)で示される安息
香酸誘導体を、115℃以上の温度で脱炭酸することを
特徴とするアルキルスルホニル安息香酸誘導体の製造方
法。 【効果】本発明の方法によれば、目的とするアルキルス
ルホニル安息香酸誘導体を収率良く、工業的に極めて有
利に製造することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は医薬品等を製造するため
の中間体として有用な5−アルキルスルホニル安息香酸
誘導体の製造方法の改良に関する。
の中間体として有用な5−アルキルスルホニル安息香酸
誘導体の製造方法の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】一般式(1)
【0003】
【化−3】
【0004】(式中、RはC1 〜C5 アルキル基、Xは
ハロゲン原子、ヒドロキシ基又はC1〜C5 のアルコキ
シ基を表わす)
ハロゲン原子、ヒドロキシ基又はC1〜C5 のアルコキ
シ基を表わす)
【0005】で示される2−アルコキシ−5−アルキル
スルホニル安息香酸誘導体は医薬品等の製造に有用な中
間体として重要な化合物である。
スルホニル安息香酸誘導体は医薬品等の製造に有用な中
間体として重要な化合物である。
【0006】特開昭49−85044号公報には、5−
メチルスルホニル−2−メトキシ安息香酸、5−エチル
スルホニル−2−メトキシ安息香酸の製造法を教示して
いるが、この方法はアルキルメルカプタンを使用する方
法であることから臭気の点で問題であると共に、収率も
低いことが難点である。また、特公昭54−41584
号公報も5−メチルスルホニル−2−メトキシ安息香
酸、5−エチルスルホニル−2−メトキシ安息香酸の製
造法を教示しているが、製造工程が7工程と長く、収率
も約20%と相当低い。さらに、J.Org.Che
m.56,4974(1991)では5−カルボキシメ
チルスルホニル−2−メトキシ安息香酸からの5−メチ
ルスルホニル−2−メトキシ安息香酸の製造法を教示し
ているが、反応温度105℃で47時間と長時間要する
ため実用的でなく、収率も77%とあまり高くない。
メチルスルホニル−2−メトキシ安息香酸、5−エチル
スルホニル−2−メトキシ安息香酸の製造法を教示して
いるが、この方法はアルキルメルカプタンを使用する方
法であることから臭気の点で問題であると共に、収率も
低いことが難点である。また、特公昭54−41584
号公報も5−メチルスルホニル−2−メトキシ安息香
酸、5−エチルスルホニル−2−メトキシ安息香酸の製
造法を教示しているが、製造工程が7工程と長く、収率
も約20%と相当低い。さらに、J.Org.Che
m.56,4974(1991)では5−カルボキシメ
チルスルホニル−2−メトキシ安息香酸からの5−メチ
ルスルホニル−2−メトキシ安息香酸の製造法を教示し
ているが、反応温度105℃で47時間と長時間要する
ため実用的でなく、収率も77%とあまり高くない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、前記一
般式(1)で示される5−アルキルスルホニル安息香酸
誘導体の工業的に有利な製造方法を確立するために鋭
意、研究検討の結果、特定の反応条件を採用することに
より、工業的に有利な5−アルキルスルホニル安息香酸
誘導体の製造方法を見出し、本発明を完成するに至っ
た。
般式(1)で示される5−アルキルスルホニル安息香酸
誘導体の工業的に有利な製造方法を確立するために鋭
意、研究検討の結果、特定の反応条件を採用することに
より、工業的に有利な5−アルキルスルホニル安息香酸
誘導体の製造方法を見出し、本発明を完成するに至っ
た。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式(2)
【0009】
【化−4】
【0010】(式中、R1 、R2 はそれぞれ独立に水素
原子、C1 〜C4 のアルキル基、Xはハロゲン原子、ヒ
ドロキシ基又はC1 〜C5 のアルコキシ基を表わす)
原子、C1 〜C4 のアルキル基、Xはハロゲン原子、ヒ
ドロキシ基又はC1 〜C5 のアルコキシ基を表わす)
【0011】で示される安息香酸誘導体を、115℃以
上の温度で脱炭酸することを特徴とする一般式(1)
上の温度で脱炭酸することを特徴とする一般式(1)
【0012】
【化−5】
【0013】(式中、RはC1 〜C5 アルキル基、Xは
ハロゲン原子、ヒドロキシ基又はC1〜C5 のアルコキ
シ基を表わす)で示される5−アルキルスルホニル安息
香酸誘導体の製造方法である。
ハロゲン原子、ヒドロキシ基又はC1〜C5 のアルコキ
シ基を表わす)で示される5−アルキルスルホニル安息
香酸誘導体の製造方法である。
【0014】以下、本発明についてさらに詳しく説明す
る。本発明の方法に用いられる一般式(2)で示される
安息香酸誘導体は、以下に示す工程によって容易に製造
される。
る。本発明の方法に用いられる一般式(2)で示される
安息香酸誘導体は、以下に示す工程によって容易に製造
される。
【0015】
【化−6】
【0016】(式中、Xはハロゲン原子、ヒドロキシ基
又はC1 〜C5 のアルコキシ基を表わす)
又はC1 〜C5 のアルコキシ基を表わす)
【0017】すなわち、上記一般式(5)で示される安
息香酸誘導体をクロルスルホン酸又はクロルスルホン酸
と塩化チオニルによりクロルスルホン化して、上記一般
式(4)で示されるスルホニルクロライド誘導体を得、
次いで亜硫酸塩及び重炭酸塩とにより処理して一般式
(3)で示されるスルホニル誘導体とし、更に該スルホ
ニル誘導体(3)に一般式(A) Y−CR1 R2 COOH (A)
息香酸誘導体をクロルスルホン酸又はクロルスルホン酸
と塩化チオニルによりクロルスルホン化して、上記一般
式(4)で示されるスルホニルクロライド誘導体を得、
次いで亜硫酸塩及び重炭酸塩とにより処理して一般式
(3)で示されるスルホニル誘導体とし、更に該スルホ
ニル誘導体(3)に一般式(A) Y−CR1 R2 COOH (A)
【0018】(式中、Yはハロゲン原子、R1 、R2 は
独立に水素原子又はC1 〜C4 アルキル基を表わす)で
示されるハロゲン化脂肪酸誘導体を反応させることによ
り、前記一般式(2)で示される安息香酸誘導体を製造
することができる。
独立に水素原子又はC1 〜C4 アルキル基を表わす)で
示されるハロゲン化脂肪酸誘導体を反応させることによ
り、前記一般式(2)で示される安息香酸誘導体を製造
することができる。
【0019】本発明者らは、前記一般式(1)で示され
る5−アルキルスルホニル安息香酸誘導体の工業的製造
方法を確立するべく、反応系内の水量を変化させ、前駆
体である一般式(2)で示される安息香酸誘導体の濃度
及び反応温度と反応速度の関係を詳細に検討した結果、
反応速度に対しては反応温度が支配的であることを見出
した。
る5−アルキルスルホニル安息香酸誘導体の工業的製造
方法を確立するべく、反応系内の水量を変化させ、前駆
体である一般式(2)で示される安息香酸誘導体の濃度
及び反応温度と反応速度の関係を詳細に検討した結果、
反応速度に対しては反応温度が支配的であることを見出
した。
【0020】すなわち、反応温度105℃では50時間
以上でも反応完結に至らないのに対し115℃では約2
0時間、120℃では約10時間で反応完結することを
認めた。
以上でも反応完結に至らないのに対し115℃では約2
0時間、120℃では約10時間で反応完結することを
認めた。
【0021】本発明の特質は、前記反応温度を115℃
以上に上げることにより、反応速度が飛躍的に向上し高
い収率が得られることを見出したことにある。
以上に上げることにより、反応速度が飛躍的に向上し高
い収率が得られることを見出したことにある。
【0022】本発明において、反応温度を115℃以上
に上げる手段としては、常圧の場合、水性溶媒中であれ
ば反応液中の水を留出させて濃縮することにより容易に
達せられる。また、非水性溶媒の場合は、沸点115℃
以上の溶媒であれば使用可能であり、例えば、キシレ
ン、クロロベンゼン、スルホラン、エチレングリコール
等があげられる。また、水性溶媒、非水性溶媒の如何に
かかわらず、耐圧反応容器であるオートクレーブを使用
することによって、反応温度を115℃以上に上げるこ
とにより容易に達せられる。
に上げる手段としては、常圧の場合、水性溶媒中であれ
ば反応液中の水を留出させて濃縮することにより容易に
達せられる。また、非水性溶媒の場合は、沸点115℃
以上の溶媒であれば使用可能であり、例えば、キシレ
ン、クロロベンゼン、スルホラン、エチレングリコール
等があげられる。また、水性溶媒、非水性溶媒の如何に
かかわらず、耐圧反応容器であるオートクレーブを使用
することによって、反応温度を115℃以上に上げるこ
とにより容易に達せられる。
【0023】以下、本発明の方法について更に詳細に説
明する。本発明によって、一般式(2)で示される安息
香酸誘導体を脱炭酸する反応は、通常、アルカリの存在
下で実施される。ここで、アルカリとしては水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化
カルシウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水
酸化物及びアンモニア等があげられる。アルカリの使用
量は、一般式(2)で示される安息香酸誘導体に対し
て、1.0〜3.0、好ましくは1.2〜1.8であ
る。
明する。本発明によって、一般式(2)で示される安息
香酸誘導体を脱炭酸する反応は、通常、アルカリの存在
下で実施される。ここで、アルカリとしては水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化
カルシウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水
酸化物及びアンモニア等があげられる。アルカリの使用
量は、一般式(2)で示される安息香酸誘導体に対し
て、1.0〜3.0、好ましくは1.2〜1.8であ
る。
【0024】なお、原料として用いられる前記一般式
(2)の前駆体である一般式(3)で示されるスルホニ
ル誘導体と前記一般式(A)との反応混合物を酸析、ろ
過し、取り出してから、次の脱炭酸反応に使用すること
もできるし、一般式(3)の化合物と前記一般式(A)
との反応混合物にアルカリを加えて、引続き脱炭酸を行
うことも可能である。
(2)の前駆体である一般式(3)で示されるスルホニ
ル誘導体と前記一般式(A)との反応混合物を酸析、ろ
過し、取り出してから、次の脱炭酸反応に使用すること
もできるし、一般式(3)の化合物と前記一般式(A)
との反応混合物にアルカリを加えて、引続き脱炭酸を行
うことも可能である。
【0025】
【発明の効果】本発明の方法によれば、目的とするアル
キルスルホニル安息香酸誘導体を収率良く、工業的に極
めて有利に製造することができる。
キルスルホニル安息香酸誘導体を収率良く、工業的に極
めて有利に製造することができる。
【0026】
【実施例】以下に本発明の方法を実施例により、更に具
体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定される
ものではない。
体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定される
ものではない。
【0027】実施例1 300mlのガラス製四ツ口フラスコにクロルスルホン
酸128g、1,2−ジクロルエタン70gを仕込み、
0−アニス酸70gを少しずつ添加する。添加終了後5
0〜60℃に昇温し、同温度で30分攪拌する。次に塩
化チオニル70.8gを滴下する。滴下終了後、60℃
に昇温し、同温度で2時間保温する。保温終了後40℃
まで冷却したのち氷水400gを仕込み、氷浴で冷却し
た1リットルのガラス製四ツ口フラスコへ攪拌下、温度
を10℃以下に保ちながら、少しずつ注加する。注加終
了後30分間同温度で攪拌したのち、析出した白色結晶
をろ過し、氷水350gで洗浄したのち減圧乾燥する。
スルホニルクロライド体の得量110.3g、収率9
5.3%。
酸128g、1,2−ジクロルエタン70gを仕込み、
0−アニス酸70gを少しずつ添加する。添加終了後5
0〜60℃に昇温し、同温度で30分攪拌する。次に塩
化チオニル70.8gを滴下する。滴下終了後、60℃
に昇温し、同温度で2時間保温する。保温終了後40℃
まで冷却したのち氷水400gを仕込み、氷浴で冷却し
た1リットルのガラス製四ツ口フラスコへ攪拌下、温度
を10℃以下に保ちながら、少しずつ注加する。注加終
了後30分間同温度で攪拌したのち、析出した白色結晶
をろ過し、氷水350gで洗浄したのち減圧乾燥する。
スルホニルクロライド体の得量110.3g、収率9
5.3%。
【0028】次に300mlガラス製四ツ口フラスコに
亜硫酸ナトリウム15.78g、重炭酸ナトリウム30
g、上水105gを仕込み、攪拌下前記のスルホニルク
ロライド体30gを添加する。添加終了後、50℃まで
昇温し、同温度で1時間攪拌する。次にクロロ酢酸1
5.2gを仕込み、50℃で1時間攪拌したのち、47
%水酸化ナトリウム13.6gを滴下する。滴下終了後
フラスコに蒸留装置を取付け昇温する。水を留出させな
がら、内温120℃まで昇温したのち、蒸留装置を還流
装置に取りかえる。120℃で10時間保温したのち、
90〜100℃の熱水135gを滴下する。滴下終了後
30℃まで冷却し、35%塩酸でPH1まで酸析する。
析出した白色結晶をろ過し、上水150gで洗浄したの
ち、100℃で乾燥する。2−メトキシ−5−メチルス
ルホニル安息香酸の得量25.2g、収率91.4%、
純度(LC面積百分率値)99.3%。
亜硫酸ナトリウム15.78g、重炭酸ナトリウム30
g、上水105gを仕込み、攪拌下前記のスルホニルク
ロライド体30gを添加する。添加終了後、50℃まで
昇温し、同温度で1時間攪拌する。次にクロロ酢酸1
5.2gを仕込み、50℃で1時間攪拌したのち、47
%水酸化ナトリウム13.6gを滴下する。滴下終了後
フラスコに蒸留装置を取付け昇温する。水を留出させな
がら、内温120℃まで昇温したのち、蒸留装置を還流
装置に取りかえる。120℃で10時間保温したのち、
90〜100℃の熱水135gを滴下する。滴下終了後
30℃まで冷却し、35%塩酸でPH1まで酸析する。
析出した白色結晶をろ過し、上水150gで洗浄したの
ち、100℃で乾燥する。2−メトキシ−5−メチルス
ルホニル安息香酸の得量25.2g、収率91.4%、
純度(LC面積百分率値)99.3%。
【0029】比較例1 300mlのガラス製四ツ口フラスコに亜硫酸ナトリウ
ム15.78g、重炭酸ナトリウム30g、上水105
gを仕込み、攪拌下、実施例1の方法で得られたスルホ
ニルクロライド体30gを添加する。添加終了後、50
℃まで昇温し、同温度で1時間攪拌する。次にクロロ酢
酸15.2gを仕込み、50℃で1時間攪拌した後、4
7%水酸化ナトリウム13.6gを滴下する。滴下終了
後、還流温度(105℃)まで昇温する。同温度で47
時間保温したのち、上水65.6gを滴下する。滴下終
了後30℃まで冷却し、35%塩酸でpH1まで酸析す
る。析出した白色結晶を濾過し、上水150gで洗浄し
た後、100℃で乾燥する。2−メトキシ−5−メチル
スルホニル安息香酸の得量20.5g、収率74.5
%、純度(LC面積百分率値)95.9%
ム15.78g、重炭酸ナトリウム30g、上水105
gを仕込み、攪拌下、実施例1の方法で得られたスルホ
ニルクロライド体30gを添加する。添加終了後、50
℃まで昇温し、同温度で1時間攪拌する。次にクロロ酢
酸15.2gを仕込み、50℃で1時間攪拌した後、4
7%水酸化ナトリウム13.6gを滴下する。滴下終了
後、還流温度(105℃)まで昇温する。同温度で47
時間保温したのち、上水65.6gを滴下する。滴下終
了後30℃まで冷却し、35%塩酸でpH1まで酸析す
る。析出した白色結晶を濾過し、上水150gで洗浄し
た後、100℃で乾燥する。2−メトキシ−5−メチル
スルホニル安息香酸の得量20.5g、収率74.5
%、純度(LC面積百分率値)95.9%
【0030】実施例2 500mlのガラス製四ツ口フラスコに亜硫酸ナトリウ
ム17.7g、重炭酸ナトリウム35.3g、上水12
3gを仕込み、攪拌下実施例に記載の方法によって得ら
れたスルホニルクロライド体35gを添加する。添加終
了後、50℃まで昇温し、同温度で1時間攪拌する。次
にα−ブロモプロピオン酸32gを滴下し、50℃で1
時間攪拌したのち、85%水酸化カリウム15.3gを
添加する。添加終了後、30分攪拌したのち、1lのオ
ートクレーブ(耐圧50Kg/cm2)に移し、攪拌下
150℃まで昇温する。昇温後、同温度で5時間保温
(この時の圧力は4.5〜5.3Kg/cm2)したの
ち、30℃まで冷却する。1lのガラス製四ツ口フラス
コに移し、35%塩酸でPH1まで酸析する。析出した
白色結晶をろ過し、上水100gで洗浄したのち、80
℃で乾燥する。2−メトキシ−5−エチルスルホニル安
息香酸の得量29.8g、収率87.4%、純度(LC
面積百分率値)98.6%。
ム17.7g、重炭酸ナトリウム35.3g、上水12
3gを仕込み、攪拌下実施例に記載の方法によって得ら
れたスルホニルクロライド体35gを添加する。添加終
了後、50℃まで昇温し、同温度で1時間攪拌する。次
にα−ブロモプロピオン酸32gを滴下し、50℃で1
時間攪拌したのち、85%水酸化カリウム15.3gを
添加する。添加終了後、30分攪拌したのち、1lのオ
ートクレーブ(耐圧50Kg/cm2)に移し、攪拌下
150℃まで昇温する。昇温後、同温度で5時間保温
(この時の圧力は4.5〜5.3Kg/cm2)したの
ち、30℃まで冷却する。1lのガラス製四ツ口フラス
コに移し、35%塩酸でPH1まで酸析する。析出した
白色結晶をろ過し、上水100gで洗浄したのち、80
℃で乾燥する。2−メトキシ−5−エチルスルホニル安
息香酸の得量29.8g、収率87.4%、純度(LC
面積百分率値)98.6%。
Claims (4)
- 【請求項1】 一般式(2) 【化−1】 (式中、R1 、R2 はそれぞれ独立に水素原子、C1 〜
C4 のアルキル基、Xはハロゲン原子、ヒドロキシ基又
はC1 〜C5 のアルコキシ基を表わす)で示される安息
香酸誘導体を、115℃以上の温度で脱炭酸することを
特徴とする一般式(1) 【化−2】 (式中、RはC1 〜C5 アルキル基、Xはハロゲン原
子、ヒドロキシ基又はC1〜C5 のアルコキシ基を表わ
す)で示される5−アルキルスルホニル安息香酸誘導体
の製造方法。 - 【請求項2】水性溶媒中、アルカリの存在下に反応させ
ることを特徴とする請求項1に記載の5−アルキルスル
ホニル安息香酸誘導体の製造方法。 - 【請求項3】水を留出させながら反応させることを特徴
とする請求項2に記載の5−アルキルスルホニル安息香
酸誘導体の製造方法。 - 【請求項4】加圧反応釜を用いて行う請求項1〜請求項
3のいずれかに記載の5−アルキルスルホニル安息香酸
誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21045894A JPH0853409A (ja) | 1994-08-10 | 1994-08-10 | 5−アルキルスルホニル安息香酸誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21045894A JPH0853409A (ja) | 1994-08-10 | 1994-08-10 | 5−アルキルスルホニル安息香酸誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0853409A true JPH0853409A (ja) | 1996-02-27 |
Family
ID=16589671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21045894A Pending JPH0853409A (ja) | 1994-08-10 | 1994-08-10 | 5−アルキルスルホニル安息香酸誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0853409A (ja) |
-
1994
- 1994-08-10 JP JP21045894A patent/JPH0853409A/ja active Pending
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