JPH0855518A - 誘電体磁器組成物 - Google Patents
誘電体磁器組成物Info
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- JPH0855518A JPH0855518A JP6190792A JP19079294A JPH0855518A JP H0855518 A JPH0855518 A JP H0855518A JP 6190792 A JP6190792 A JP 6190792A JP 19079294 A JP19079294 A JP 19079294A JP H0855518 A JPH0855518 A JP H0855518A
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- JP
- Japan
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- dielectric
- ceramic composition
- dielectric ceramic
- glass powder
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- Inorganic Insulating Materials (AREA)
- Control Of Motors That Do Not Use Commutators (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 比誘電率εr が大きく、かつ無負荷Q値も大
きく、しかも共振周波数の温度係数τf の小さい誘電体
磁器組成物を提供するものである。また、低温焼結が可
能であり、Ag、Ag−Pd、Cu等を内部電極とした
積層化が可能な誘電体磁器組成物を提供するものであ
る。 【構成】 主成分が組成式、xBaO−yTiO2 −z
Nd2 O3 −tSm2O3 −wBi2 O3 (式中、0.
1≦x≦0.2、0.5≦y≦0.8、0.01≦z≦
0.2、0.01≦t≦0.2、0.005≦w≦0.
05、x+y+z+t+w=1である。)で表されるバ
リウム、チタン、ネオジム、サマリウム、ビスマスおよ
び酸素からなる誘電体磁器組成物であり、かつ副成分と
してPbOおよびGeO2 から構成されるガラス粉末な
らびにCuOを含有し、主成分に対する副成分ガラス粉
末の含有量a(重量%)が1≦a≦25、CuOの含有
量b(重量%)が0.5≦b≦5である誘電体磁器組成
物。
きく、しかも共振周波数の温度係数τf の小さい誘電体
磁器組成物を提供するものである。また、低温焼結が可
能であり、Ag、Ag−Pd、Cu等を内部電極とした
積層化が可能な誘電体磁器組成物を提供するものであ
る。 【構成】 主成分が組成式、xBaO−yTiO2 −z
Nd2 O3 −tSm2O3 −wBi2 O3 (式中、0.
1≦x≦0.2、0.5≦y≦0.8、0.01≦z≦
0.2、0.01≦t≦0.2、0.005≦w≦0.
05、x+y+z+t+w=1である。)で表されるバ
リウム、チタン、ネオジム、サマリウム、ビスマスおよ
び酸素からなる誘電体磁器組成物であり、かつ副成分と
してPbOおよびGeO2 から構成されるガラス粉末な
らびにCuOを含有し、主成分に対する副成分ガラス粉
末の含有量a(重量%)が1≦a≦25、CuOの含有
量b(重量%)が0.5≦b≦5である誘電体磁器組成
物。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、誘電体共振器等の材料
として好適な誘電体磁器組成物に関する。
として好適な誘電体磁器組成物に関する。
【0002】
【従来技術およびその問題点】近年、マイクロ波回路の
集積化に伴い、小型で高性能の誘電体共振器が求められ
ている。このような誘電体共振器に使用される誘電体磁
器組成物には、比誘電率εr が大きいこと、無負荷Qが
大きいこと、共振周波数の温度係数τf が小さいこと等
の特性が要求されている。
集積化に伴い、小型で高性能の誘電体共振器が求められ
ている。このような誘電体共振器に使用される誘電体磁
器組成物には、比誘電率εr が大きいこと、無負荷Qが
大きいこと、共振周波数の温度係数τf が小さいこと等
の特性が要求されている。
【0003】このような誘電体磁器組成物として、Ba
O−TiO2 −Nd2 O3 系の誘電体磁器組成物につい
て提案〔Ber.Dt.Keram.Ges.,55(1978)Nr.7;特開昭60
−35406号公報〕、あるいはBaO−TiO2 −N
d2 O3 −Bi2 O3 系(特開昭62−72558号公
報)について提案されている。
O−TiO2 −Nd2 O3 系の誘電体磁器組成物につい
て提案〔Ber.Dt.Keram.Ges.,55(1978)Nr.7;特開昭60
−35406号公報〕、あるいはBaO−TiO2 −N
d2 O3 −Bi2 O3 系(特開昭62−72558号公
報)について提案されている。
【0004】最近、誘電体磁器組成物を積層した積層チ
ップコンデンサ、積層誘電体共振器等が開発されてお
り、磁器組成物と内部電極との同時焼成による積層化が
行われている。しかしながら、前記誘電体磁器組成物は
焼成温度が1300℃〜1400℃と高いため内部電極
との同時焼成を行うことは困難な面があり、積層化構造
とするためには電極材料として高温に耐えるパラジウム
(Pd)や白金(Pt)等の材料に限定されていた。こ
のため、電極材料として安価な銀(Ag)、銀−パラジ
ウム(Ag−Pd)、銅(Cu)を使用して1200℃
以下の低温で同時焼成できる誘電体磁器組成物が求めら
れている。
ップコンデンサ、積層誘電体共振器等が開発されてお
り、磁器組成物と内部電極との同時焼成による積層化が
行われている。しかしながら、前記誘電体磁器組成物は
焼成温度が1300℃〜1400℃と高いため内部電極
との同時焼成を行うことは困難な面があり、積層化構造
とするためには電極材料として高温に耐えるパラジウム
(Pd)や白金(Pt)等の材料に限定されていた。こ
のため、電極材料として安価な銀(Ag)、銀−パラジ
ウム(Ag−Pd)、銅(Cu)を使用して1200℃
以下の低温で同時焼成できる誘電体磁器組成物が求めら
れている。
【0005】
【発明の目的】本発明の目的は、誘電体共振器等の材料
として優れた特性、特に高誘電率で、無負荷Qが大き
く、共振周波数の温度変化が小さいという特性を有し、
しかも低温で焼成した場合にも焼結性が良好な誘電体磁
器組成物を提供することにある。
として優れた特性、特に高誘電率で、無負荷Qが大き
く、共振周波数の温度変化が小さいという特性を有し、
しかも低温で焼成した場合にも焼結性が良好な誘電体磁
器組成物を提供することにある。
【0006】
【問題点を解決するための手段】本発明は、主成分が組
成式、xBaO−yTiO2 −zNd2 O3 −tSm2
O3 −wBi2 O3 (式中、0.1≦x≦0.2、0.
5≦y≦0.8、0.01≦z≦0.2、0.01≦t
≦0.2、0.005≦w≦0.05、x+y+z+t
+w=1である。)で表されるバリウム、チタン、ネオ
ジム、サマリウム、ビスマスおよび酸素からなる誘電体
磁器組成物であり、かつ副成分としてPbOおよびGe
O2 から構成されるガラス粉末ならびにCuOを含有
し、主成分に対する副成分ガラス粉末の含有量a(重量
%)が1≦a≦25、CuOの含有量b(重量%)が
0.5≦b≦5であることを特徴とする誘電体磁器組成
物に関する。
成式、xBaO−yTiO2 −zNd2 O3 −tSm2
O3 −wBi2 O3 (式中、0.1≦x≦0.2、0.
5≦y≦0.8、0.01≦z≦0.2、0.01≦t
≦0.2、0.005≦w≦0.05、x+y+z+t
+w=1である。)で表されるバリウム、チタン、ネオ
ジム、サマリウム、ビスマスおよび酸素からなる誘電体
磁器組成物であり、かつ副成分としてPbOおよびGe
O2 から構成されるガラス粉末ならびにCuOを含有
し、主成分に対する副成分ガラス粉末の含有量a(重量
%)が1≦a≦25、CuOの含有量b(重量%)が
0.5≦b≦5であることを特徴とする誘電体磁器組成
物に関する。
【0007】本発明によれば、組成式xBaO−yTi
O2 −zNd2 O3 −tSm2 O3−wBi2 O3 で表
される誘電体磁器組成物に副成分としてPbOおよびG
eO 2 から構成されるガラス粉末ならびにCuOを含有
させることにより、低温焼結でき、かつ高誘電率で、無
負荷Qが大きく、共振周波数の温度変化が小さいという
特性を有する誘電体磁器組成物を得ることができる。
O2 −zNd2 O3 −tSm2 O3−wBi2 O3 で表
される誘電体磁器組成物に副成分としてPbOおよびG
eO 2 から構成されるガラス粉末ならびにCuOを含有
させることにより、低温焼結でき、かつ高誘電率で、無
負荷Qが大きく、共振周波数の温度変化が小さいという
特性を有する誘電体磁器組成物を得ることができる。
【0008】本発明において、BaOのモル分率が過度
に大きい場合には、共振しなくなり、過度に小さい場合
には、誘電率、無負荷Qが小さくなる。TiO2 のモル
分率が過度に大きい場合には、共振周波数の温度係数が
大きくなり、過度に小さい場合には、誘電率が小さくな
る。Nd2 O3 のモル分率が過度に大きい場合には、誘
電率、無負荷Qが小さくなり、過度に小さい場合には、
誘電率が小さくなる。Sm2 O3 のモル分率が過度に大
きい場合には、誘電率が小さくなり、過度に小さい場合
には、無負荷Qが小さくなる。Bi2 O3 のモル分率が
過度に大きい場合には、誘電率、無負荷Qが小さくな
り、過度に小さい場合には、共振周波数の温度係数が大
きくなる。
に大きい場合には、共振しなくなり、過度に小さい場合
には、誘電率、無負荷Qが小さくなる。TiO2 のモル
分率が過度に大きい場合には、共振周波数の温度係数が
大きくなり、過度に小さい場合には、誘電率が小さくな
る。Nd2 O3 のモル分率が過度に大きい場合には、誘
電率、無負荷Qが小さくなり、過度に小さい場合には、
誘電率が小さくなる。Sm2 O3 のモル分率が過度に大
きい場合には、誘電率が小さくなり、過度に小さい場合
には、無負荷Qが小さくなる。Bi2 O3 のモル分率が
過度に大きい場合には、誘電率、無負荷Qが小さくな
り、過度に小さい場合には、共振周波数の温度係数が大
きくなる。
【0009】また、本発明において、主成分に対する副
成分PbOおよびGeO2 から構成されるガラス粉末の
含有量a(重量%)ならびにCuOの含有量b(重量
%)が過度に大きい場合には、共振しなくなり、また、
PbOおよびGeO2 から構成されるガラス粉末ならび
にCuOの含有量が過度に小さいかゼロの場合には、1
200℃以下での低温焼成が困難になる。したがって、
副成分PbOおよびGeO2 から構成されるガラス粉末
の含有量aならびにCuOの含有量bは上記範囲に設定
される。副成分ガラス粉末において、PbOとGeO2
との構成割合は特に限定されないが、GeO2 の含有量
が過度に小さい場合にはガラスの生成が困難になるた
め、ガラス粉末中のGeO2 の含有量は10重量%以上
が好ましい。
成分PbOおよびGeO2 から構成されるガラス粉末の
含有量a(重量%)ならびにCuOの含有量b(重量
%)が過度に大きい場合には、共振しなくなり、また、
PbOおよびGeO2 から構成されるガラス粉末ならび
にCuOの含有量が過度に小さいかゼロの場合には、1
200℃以下での低温焼成が困難になる。したがって、
副成分PbOおよびGeO2 から構成されるガラス粉末
の含有量aならびにCuOの含有量bは上記範囲に設定
される。副成分ガラス粉末において、PbOとGeO2
との構成割合は特に限定されないが、GeO2 の含有量
が過度に小さい場合にはガラスの生成が困難になるた
め、ガラス粉末中のGeO2 の含有量は10重量%以上
が好ましい。
【0010】なお、本発明において、第三成分としてN
b2 O5 、MnO、Al2 O3 およびZnOのうち少な
くとも一種を含有させることにより共振周波数の温度係
数τ f の絶対値をさらに小さくすることができる。主成
分に対する第三成分の含有量c(重量%)は過度に大き
い場合には共振周波数の温度係数τf が大きくなるの
で、その含有量cは0≦c≦2、好ましくは0.1≦c
≦2である。
b2 O5 、MnO、Al2 O3 およびZnOのうち少な
くとも一種を含有させることにより共振周波数の温度係
数τ f の絶対値をさらに小さくすることができる。主成
分に対する第三成分の含有量c(重量%)は過度に大き
い場合には共振周波数の温度係数τf が大きくなるの
で、その含有量cは0≦c≦2、好ましくは0.1≦c
≦2である。
【0011】本発明の誘電体磁器組成物の好適な製造法
の一例を次に説明する。炭酸バリウム、酸化チタン、酸
化ネオジム、酸化サマリウムおよび酸化ビスマスの出発
原料を各所定量ずつ水、アルコ−ル等の溶媒と共に湿式
混合する。続いて、水、アルコ−ル等を除去した後、粉
砕し、酸素含有ガス雰囲気(例えば空気雰囲気)下に1
000〜1200℃で約1〜5時間程度仮焼する。この
ようにして得られた仮焼粉と副成分PbOおよびGeO
2 から構成されるガラス粉末、副成分CuO、ならびに
第三成分としてNb2 O5 、MnO、Al2 O3 および
ZnOのうち少なくとも一種類以上とを、アルコ−ル等
の溶媒と共に湿式混合する。続いて、水、アルコ−ル等
を除去した後、粉砕する。更に、ポリビニルアルコ−ル
の如き有機バインダと共に混合して均質にし、乾燥、粉
砕、加圧成型(圧力100〜1000Kg/cm2 程
度)する。得られた成形物を空気の如き酸素含有ガス雰
囲気下に850℃〜1100℃で焼成することにより上
記組成式で表される誘電体磁器組成物が得られる。
の一例を次に説明する。炭酸バリウム、酸化チタン、酸
化ネオジム、酸化サマリウムおよび酸化ビスマスの出発
原料を各所定量ずつ水、アルコ−ル等の溶媒と共に湿式
混合する。続いて、水、アルコ−ル等を除去した後、粉
砕し、酸素含有ガス雰囲気(例えば空気雰囲気)下に1
000〜1200℃で約1〜5時間程度仮焼する。この
ようにして得られた仮焼粉と副成分PbOおよびGeO
2 から構成されるガラス粉末、副成分CuO、ならびに
第三成分としてNb2 O5 、MnO、Al2 O3 および
ZnOのうち少なくとも一種類以上とを、アルコ−ル等
の溶媒と共に湿式混合する。続いて、水、アルコ−ル等
を除去した後、粉砕する。更に、ポリビニルアルコ−ル
の如き有機バインダと共に混合して均質にし、乾燥、粉
砕、加圧成型(圧力100〜1000Kg/cm2 程
度)する。得られた成形物を空気の如き酸素含有ガス雰
囲気下に850℃〜1100℃で焼成することにより上
記組成式で表される誘電体磁器組成物が得られる。
【0012】このようにして得られた誘電体磁器組成物
は、必要により適当な形状およびサイズに加工、あるい
はドクタ−ブレ−ド法等によるシ−ト成形およびシ−ト
と電極による積層化により、誘電体共振器、誘電体基
板、積層素子等の材料として利用できる。
は、必要により適当な形状およびサイズに加工、あるい
はドクタ−ブレ−ド法等によるシ−ト成形およびシ−ト
と電極による積層化により、誘電体共振器、誘電体基
板、積層素子等の材料として利用できる。
【0013】なお、バリウム、チタン、ネオジム、サマ
リウム、ビスマス、鉛、ゲルマニウム、銅、ニオブ、マ
ンガン、アルミニウム、亜鉛の原料としては、BaCO
3 、TiO2 、Nd2 O3 、Sm2 O3 、Bi2 O3 、
PbO、GeO2 、CuO、Nb2 O5 、MnO、Al
2 O3 、ZnOの他に、焼成時に酸化物となる硝酸塩、
水酸化物等を使用することができる。
リウム、ビスマス、鉛、ゲルマニウム、銅、ニオブ、マ
ンガン、アルミニウム、亜鉛の原料としては、BaCO
3 、TiO2 、Nd2 O3 、Sm2 O3 、Bi2 O3 、
PbO、GeO2 、CuO、Nb2 O5 、MnO、Al
2 O3 、ZnOの他に、焼成時に酸化物となる硝酸塩、
水酸化物等を使用することができる。
【0014】
【実施例】以下に実施例および比較例を示し、本発明を
さらに具体的に説明する。 実施例1 炭酸バリウム粉末(BaCO3 )0.15モル、酸化チ
タン粉末(TiO2 )0.675モル、酸化ネオジム紛
末(Nd2 O3 )0.13モル、酸化サマリウム紛末
(Sm2 O3 )0.02モル、酸化ビスマス紛末(Bi
2 O3 )0.025モルをエタノ−ルと共にボ−ルミル
に入れ、12時間湿式混合した。溶液を脱媒後、粉砕
し、空気雰囲気下1100℃で仮焼した。また、酸化鉛
(PbO)76wt%および酸化ゲルマニウム(GeO
2 )24wt%から構成されるガラス粉末Aを常法によ
り調製した。上記で得られた仮焼物にこの酸化鉛(Pb
O)および酸化ゲルマニウムから構成されるガラス粉末
A2wt%ならびに酸化銅粉末(CuO)1wt%を添
加しエタノ−ルと共にボ−ルミルに入れ、12時間湿式
混合した。溶液を脱媒後、粉砕し、この粉砕物に適量の
ポリビニルアルコ−ル溶液を加えて乾燥後、直径12m
mφ、厚み4mmtのペレットに成形し、空気雰囲気下
において1150℃で2時間焼成した。
さらに具体的に説明する。 実施例1 炭酸バリウム粉末(BaCO3 )0.15モル、酸化チ
タン粉末(TiO2 )0.675モル、酸化ネオジム紛
末(Nd2 O3 )0.13モル、酸化サマリウム紛末
(Sm2 O3 )0.02モル、酸化ビスマス紛末(Bi
2 O3 )0.025モルをエタノ−ルと共にボ−ルミル
に入れ、12時間湿式混合した。溶液を脱媒後、粉砕
し、空気雰囲気下1100℃で仮焼した。また、酸化鉛
(PbO)76wt%および酸化ゲルマニウム(GeO
2 )24wt%から構成されるガラス粉末Aを常法によ
り調製した。上記で得られた仮焼物にこの酸化鉛(Pb
O)および酸化ゲルマニウムから構成されるガラス粉末
A2wt%ならびに酸化銅粉末(CuO)1wt%を添
加しエタノ−ルと共にボ−ルミルに入れ、12時間湿式
混合した。溶液を脱媒後、粉砕し、この粉砕物に適量の
ポリビニルアルコ−ル溶液を加えて乾燥後、直径12m
mφ、厚み4mmtのペレットに成形し、空気雰囲気下
において1150℃で2時間焼成した。
【0015】こうして得られた磁器組成物を直径7mm
φ、厚み約3mmtの大きさに加工したのち、誘電共振
法によって測定し、共振周波数(3〜5GHz)におけ
る無負荷Q、比誘電率および共振周波数の温度係数を求
めた。その結果を表2に示す。
φ、厚み約3mmtの大きさに加工したのち、誘電共振
法によって測定し、共振周波数(3〜5GHz)におけ
る無負荷Q、比誘電率および共振周波数の温度係数を求
めた。その結果を表2に示す。
【0016】実施例2〜14および比較例1〜19 実施例1の炭酸バリウム、酸化チタン、酸化ネオジム、
酸化サマリウムおよび酸化ビスマスの混合割合と、副成
分であるPbOおよびGeO2 から構成されるガラス粉
末の種類(ガラス粉末B:PbO65wt%,GeO2
35wt%)とその添加量、副成分CuOの添加量なら
びに第三成分の添加量とを表1記載にように代えた他
は、実施例1と同様にして誘電体磁器組成物を製造し、
特性を測定した。その結果を表2に示す。
酸化サマリウムおよび酸化ビスマスの混合割合と、副成
分であるPbOおよびGeO2 から構成されるガラス粉
末の種類(ガラス粉末B:PbO65wt%,GeO2
35wt%)とその添加量、副成分CuOの添加量なら
びに第三成分の添加量とを表1記載にように代えた他
は、実施例1と同様にして誘電体磁器組成物を製造し、
特性を測定した。その結果を表2に示す。
【0017】
【表1】
【0018】
【表2】
【0019】
【発明の効果】本発明によれば、比誘電率εr が大き
く、かつ無負荷Q値も大きく、しかも共振周波数の温度
係数τf の小さい誘電体磁器組成物を提供することがで
きる。また、低温焼結が可能であり、Ag、Ag−P
d、Cu等を内部電極とした積層化が可能な誘電体磁器
組成物を提供することができる。
く、かつ無負荷Q値も大きく、しかも共振周波数の温度
係数τf の小さい誘電体磁器組成物を提供することがで
きる。また、低温焼結が可能であり、Ag、Ag−P
d、Cu等を内部電極とした積層化が可能な誘電体磁器
組成物を提供することができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 主成分が組成式、xBaO−yTiO
2 −zNd2 O3 −tSm2 O3 −wBi2 O3 (式
中、0.1≦x≦0.2、0.5≦y≦0.8、0.0
1≦z≦0.2、0.01≦t≦0.2、0.005≦
w≦0.05、x+y+z+t+w=1である。)で表
されるバリウム、チタン、ネオジム、サマリウム、ビス
マスおよび酸素からなる誘電体磁器組成物であり、かつ
副成分としてPbOおよびGeO2 から構成されるガラ
ス粉末ならびにCuOを含有し、主成分に対する副成分
ガラス粉末の含有量a(重量%)が1≦a≦25、Cu
Oの含有量b(重量%)が0.5≦b≦5であることを
特徴とする誘電体磁器組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6190792A JPH0855518A (ja) | 1994-08-12 | 1994-08-12 | 誘電体磁器組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6190792A JPH0855518A (ja) | 1994-08-12 | 1994-08-12 | 誘電体磁器組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0855518A true JPH0855518A (ja) | 1996-02-27 |
Family
ID=16263821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6190792A Pending JPH0855518A (ja) | 1994-08-12 | 1994-08-12 | 誘電体磁器組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0855518A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6340649B1 (en) | 1999-03-16 | 2002-01-22 | Tdk Corporation | Composition of dielectric ceramics and producing method thereof |
| KR100444224B1 (ko) * | 2001-11-13 | 2004-08-16 | 삼성전기주식회사 | 유전체 세라믹 조성물 |
| KR100444225B1 (ko) * | 2001-05-01 | 2004-08-16 | 삼성전기주식회사 | 유전체 자기 조성물, 이를 이용한 자기 커패시터 및 그 제조방법 |
| WO2007119312A1 (ja) | 2006-03-15 | 2007-10-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | セラミック積層デバイスおよびその製造方法 |
-
1994
- 1994-08-12 JP JP6190792A patent/JPH0855518A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6340649B1 (en) | 1999-03-16 | 2002-01-22 | Tdk Corporation | Composition of dielectric ceramics and producing method thereof |
| KR100444225B1 (ko) * | 2001-05-01 | 2004-08-16 | 삼성전기주식회사 | 유전체 자기 조성물, 이를 이용한 자기 커패시터 및 그 제조방법 |
| KR100444224B1 (ko) * | 2001-11-13 | 2004-08-16 | 삼성전기주식회사 | 유전체 세라믹 조성물 |
| WO2007119312A1 (ja) | 2006-03-15 | 2007-10-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | セラミック積層デバイスおよびその製造方法 |
| US7826196B2 (en) | 2006-03-15 | 2010-11-02 | Panasonic Corporation | Ceramic laminated device and method for manufacturing same |
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