JPH0859837A - アルコキシシランの製造方法 - Google Patents
アルコキシシランの製造方法Info
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- JPH0859837A JPH0859837A JP24830094A JP24830094A JPH0859837A JP H0859837 A JPH0859837 A JP H0859837A JP 24830094 A JP24830094 A JP 24830094A JP 24830094 A JP24830094 A JP 24830094A JP H0859837 A JPH0859837 A JP H0859837A
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- alkoxysilane
- polysiloxane
- producing
- mol
- acid
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W30/00—Technologies for solid waste management
- Y02W30/50—Reuse, recycling or recovery technologies
- Y02W30/62—Plastics recycling; Rubber recycling
Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
- Separation, Recovery Or Treatment Of Waste Materials Containing Plastics (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 この出願発明は、室温のおだやかな条件で反
応させ、副反応を抑制しながら、塩化水素、クロルシラ
ン等のハロゲン化合物を生成しないハロゲンフリーなア
ルコキシシランを高収率で製造することを目的とする。 【構成】 オルトエステルとシロキサンもしくはポリシ
ロキサンとを、活性水素基含有化合物及び触媒の存在下
に反応させることを特徴とするアルコキシシランの製造
方法。
応させ、副反応を抑制しながら、塩化水素、クロルシラ
ン等のハロゲン化合物を生成しないハロゲンフリーなア
ルコキシシランを高収率で製造することを目的とする。 【構成】 オルトエステルとシロキサンもしくはポリシ
ロキサンとを、活性水素基含有化合物及び触媒の存在下
に反応させることを特徴とするアルコキシシランの製造
方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この出願発明は、シリコーン工業
における重要な中間体の１つであるアルコキシシランの
製造方法に関するものであり、さらに詳しくは、目的と
するアルコキシシランを比較的温和な条件でハロゲンフ
リープロセスによりクリーンに高収率で製造する方法に
関するものである。
における重要な中間体の１つであるアルコキシシランの
製造方法に関するものであり、さらに詳しくは、目的と
するアルコキシシランを比較的温和な条件でハロゲンフ
リープロセスによりクリーンに高収率で製造する方法に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】特開平１−１３２５９０号公報には、一
般式 Ｒ1 aＳｉ（ＯＲ2）4-a （式中、Ｒ1は置換または非置換の１価の炭化水素基を
表し、Ｒ2はアルキル基を表し、ａは、０、１、２また
は３を表す）で示されるアルコキシシランとポリシロキ
サンとを、チタン化合物触媒存在下に反応させ、一般式 Ｒ3 bＳｉＨｃ（ＯＲ2）4-(b+c) （式中、Ｒ2は上記と同じ、Ｒ3は置換または非置換の１
価の炭化水素基を表し、ｂは１、２または３を表し、ｃ
は０、１または２を表す）で示されるアルコキシシラン
を得る方法が開示されている。この方法によれば、例え
ば、テトラメトキシシランと式Ｍｅ3ＳｉＯ−（ＭｅＨ
ＳｉＯ）40−ＳｉＯＭｅ3で表されるポリメチルハイド
ロジェンシロキサンを反応させ、ジメトキシメチルシラ
ンを得ることができ、また、テトラエトキシシランと式
（Ｍｅ2ＳｉＯ）4で表されるオクタメチルシクロテトラ
シロキサンを反応させ、ジエトキシジメチルシランを得
ることができる。この方法においては、触媒として用い
られるチタン化合物によるポリシロキサンのＳｉ−Ｏ結
合の開裂と、その部分への原料アルコキシシランからの
アルコキシ基の挿入反応（解重合反応）により目的とす
るアルコキシシランが生成するといわれている。
般式 Ｒ1 aＳｉ（ＯＲ2）4-a （式中、Ｒ1は置換または非置換の１価の炭化水素基を
表し、Ｒ2はアルキル基を表し、ａは、０、１、２また
は３を表す）で示されるアルコキシシランとポリシロキ
サンとを、チタン化合物触媒存在下に反応させ、一般式 Ｒ3 bＳｉＨｃ（ＯＲ2）4-(b+c) （式中、Ｒ2は上記と同じ、Ｒ3は置換または非置換の１
価の炭化水素基を表し、ｂは１、２または３を表し、ｃ
は０、１または２を表す）で示されるアルコキシシラン
を得る方法が開示されている。この方法によれば、例え
ば、テトラメトキシシランと式Ｍｅ3ＳｉＯ−（ＭｅＨ
ＳｉＯ）40−ＳｉＯＭｅ3で表されるポリメチルハイド
ロジェンシロキサンを反応させ、ジメトキシメチルシラ
ンを得ることができ、また、テトラエトキシシランと式
（Ｍｅ2ＳｉＯ）4で表されるオクタメチルシクロテトラ
シロキサンを反応させ、ジエトキシジメチルシランを得
ることができる。この方法においては、触媒として用い
られるチタン化合物によるポリシロキサンのＳｉ−Ｏ結
合の開裂と、その部分への原料アルコキシシランからの
アルコキシ基の挿入反応（解重合反応）により目的とす
るアルコキシシランが生成するといわれている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この方法はハロゲンフ
リープロセスであるため塩化水素やクロルシランを副生
しない長所があるが、副反応が多く目的物の収率が低下
する上、反応工程で面倒な分留操作が必要であり、副生
成物のポリシロキサンが多量に残渣として生成するとい
う問題点があった。
リープロセスであるため塩化水素やクロルシランを副生
しない長所があるが、副反応が多く目的物の収率が低下
する上、反応工程で面倒な分留操作が必要であり、副生
成物のポリシロキサンが多量に残渣として生成するとい
う問題点があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この出願発明は、このよ
うな従来技術の欠点を解決し、目的物のアルコキシシラ
ンを高収率で製造する方法を提供することを目的とす
る。この出願発明者等は、このような目的を達成するた
めに種々の方法を検討した結果、活性水素基含有化合物
及び触媒、とくに酸の存在下に、オルトカルボン酸エス
テルとポリシロキサンとを反応させると、主として解重
合反応が進行し、また従来法に比べて副生成物が少な
く、目的のアルコキシシランを高収率で製造することが
できることを見い出し、この出願発明を完成したもので
ある。
うな従来技術の欠点を解決し、目的物のアルコキシシラ
ンを高収率で製造する方法を提供することを目的とす
る。この出願発明者等は、このような目的を達成するた
めに種々の方法を検討した結果、活性水素基含有化合物
及び触媒、とくに酸の存在下に、オルトカルボン酸エス
テルとポリシロキサンとを反応させると、主として解重
合反応が進行し、また従来法に比べて副生成物が少な
く、目的のアルコキシシランを高収率で製造することが
できることを見い出し、この出願発明を完成したもので
ある。
【０００５】すなわち、この出願発明は、オルトエステ
ルとシロキサンもしくはポリシロキサンとを、活性水素
基含有化合物及び触媒、とくに酸の存在下に反応させる
ことを特徴とするアルコキシシランの製造方法である。
ルとシロキサンもしくはポリシロキサンとを、活性水素
基含有化合物及び触媒、とくに酸の存在下に反応させる
ことを特徴とするアルコキシシランの製造方法である。
【０００６】この出願発明の方法に用いられるオルトエ
ステルとしては、オルトギ酸メチル、オルトギ酸エチ
ル、オルトギ酸プロピル、オルトギ酸ブチル、オルトギ
酸オクチル等のオルトギ酸エステル、オルト酢酸メチ
ル、オルト酢酸エチル、オルト酢酸プロピル、オルト酢
酸ブチル、オルト酢酸オクチル等のオルト酢酸エステ
ル、オルト安息香酸メチル等が例示されるが、これらに
限定されるものではない。これらの中で、オルトギ酸メ
チル、オルト酢酸メチル等のオルトメチルエステルが反
応性の点で好ましい。
ステルとしては、オルトギ酸メチル、オルトギ酸エチ
ル、オルトギ酸プロピル、オルトギ酸ブチル、オルトギ
酸オクチル等のオルトギ酸エステル、オルト酢酸メチ
ル、オルト酢酸エチル、オルト酢酸プロピル、オルト酢
酸ブチル、オルト酢酸オクチル等のオルト酢酸エステ
ル、オルト安息香酸メチル等が例示されるが、これらに
限定されるものではない。これらの中で、オルトギ酸メ
チル、オルト酢酸メチル等のオルトメチルエステルが反
応性の点で好ましい。
【０００７】この出願発明の方法で用いられるシロキサ
ンもしくはポリシロキサンとしては、分子内に２個以上
のケイ素原子が酸素原子を介して結合している化合物で
ある。
ンもしくはポリシロキサンとしては、分子内に２個以上
のケイ素原子が酸素原子を介して結合している化合物で
ある。
【０００８】ケイ素上の置換基としては、水素原子、ア
ルキル基、クロルメチル基のような置換アルキル基、ビ
ニル基、アリル基などのようなアルケニル基、フェニル
基、トリル基などのようなアリール基などがあげられ
る。これらのシロキサンもしくはポリシロキサンの中
で、その分子中にＳｉ−Ｈ結合を有するものが反応が早
いので好ましい。
ルキル基、クロルメチル基のような置換アルキル基、ビ
ニル基、アリル基などのようなアルケニル基、フェニル
基、トリル基などのようなアリール基などがあげられ
る。これらのシロキサンもしくはポリシロキサンの中
で、その分子中にＳｉ−Ｈ結合を有するものが反応が早
いので好ましい。
【０００９】この出願発明において、目的とするアルコ
キシシランがその分子中にＳｉ−Ｈ結合を有するもので
ある場合には、原料として用いられるポリシロキサンは
分子中にＳｉ−Ｈ結合を有するものが用いられる。この
ようなポリシロキサンの構造は、直鎖状、分岐状、環状
のいずれでもよく、これらの混合物でもよい。このよう
なポリシロキサンにおいて、ケイ素原子に結合した水素
原子以外の有機基としては、アルキル基、クロロメチル
基のような置換アルキル基、ビニル基、アリル基などの
ようなアルケニル基、フェニル基、トリル基などのよう
なアリール基などをあげることができる。これらのポリ
シロキサンの例としては次のようなものがあげられる。
キシシランがその分子中にＳｉ−Ｈ結合を有するもので
ある場合には、原料として用いられるポリシロキサンは
分子中にＳｉ−Ｈ結合を有するものが用いられる。この
ようなポリシロキサンの構造は、直鎖状、分岐状、環状
のいずれでもよく、これらの混合物でもよい。このよう
なポリシロキサンにおいて、ケイ素原子に結合した水素
原子以外の有機基としては、アルキル基、クロロメチル
基のような置換アルキル基、ビニル基、アリル基などの
ようなアルケニル基、フェニル基、トリル基などのよう
なアリール基などをあげることができる。これらのポリ
シロキサンの例としては次のようなものがあげられる。
【００１０】
【化１】 （ただし、ｐおよびｑは０または整数を示す。）で表さ
れる直鎖状ポリシロキサン。
れる直鎖状ポリシロキサン。
【００１１】
【化２】 （ただし、ｐおよびｑは０または整数を示す。）で表さ
れる直鎖状ポリシロキサン。
れる直鎖状ポリシロキサン。
【００１２】
【化３】 （ただし、ｍおよびｎは０または整数であって、ｍ＋ｎ
は２以上の整数を示す。）で表される環状ポリシロキサ
ン。
は２以上の整数を示す。）で表される環状ポリシロキサ
ン。
【００１３】
【化４】 （ただし、Ｐｈはフェニル基を示す。）
【００１４】
【化５】 （ただし、Ｐｈはフェニル基を示す。）
【００１５】このようなポリシロキサン中のＳｉ−Ｈ結
合の含有量は、とくに制限されるものではないが、分子
中にＳｉ−Ｈ結合を有するアルコキシシランの製造を目
的とする場合、この結合が多い方が目的とするアルコキ
シシランの収率が向上するので好ましい。前記のポリシ
ロキサンのさらに具体的な例としてはつぎのようなもの
があげられる。
合の含有量は、とくに制限されるものではないが、分子
中にＳｉ−Ｈ結合を有するアルコキシシランの製造を目
的とする場合、この結合が多い方が目的とするアルコキ
シシランの収率が向上するので好ましい。前記のポリシ
ロキサンのさらに具体的な例としてはつぎのようなもの
があげられる。
【００１６】
【化６】
【００１７】
【化７】 （ＣＨ3）2ＨＳｉＯ0.5単位とＳｉＯ2単位とからなり、
水素原子の含有量が１．０３重量％で、２５℃における
粘度が２４ｃＳｔの分岐状ポリメチルハイドロジェンシ
ロキサン、および
水素原子の含有量が１．０３重量％で、２５℃における
粘度が２４ｃＳｔの分岐状ポリメチルハイドロジェンシ
ロキサン、および
【００１８】
【化８】 （ｎは２以上の整数を示す。）
【００１９】この出願発明で用いられる活性水素基含有
化合物とは、オルトエステルと反応してアルコールを生
成するもの、もしくは分子中に水酸基、カルボキシル
基、メルカプト基、アミノ等を含む化合物であり、具体
的には、水、アルコール、カルボン酸、メカルプタン、
アミン等が上げられるが、とくに、水、アルコール、カ
ルボン酸が好ましい。
化合物とは、オルトエステルと反応してアルコールを生
成するもの、もしくは分子中に水酸基、カルボキシル
基、メルカプト基、アミノ等を含む化合物であり、具体
的には、水、アルコール、カルボン酸、メカルプタン、
アミン等が上げられるが、とくに、水、アルコール、カ
ルボン酸が好ましい。
【００２０】この出願発明で用いられるアルコールとし
ては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノ
ール等の一価のアルコール、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、グリセリン等の多価アルコールが例
示でき、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプ
ロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｎ−ブタ
ノールが好ましく、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、ｎ−ブタノールがとくに好ましいが、これらに限定
されるものではない。カルボン酸としては、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸、アクリル酸等が例示され、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸が好ましく、酢酸がとくに好ましい
が、これらに限定されるものではない。
ては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノ
ール等の一価のアルコール、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、グリセリン等の多価アルコールが例
示でき、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプ
ロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｎ−ブタ
ノールが好ましく、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、ｎ−ブタノールがとくに好ましいが、これらに限定
されるものではない。カルボン酸としては、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸、アクリル酸等が例示され、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸が好ましく、酢酸がとくに好ましい
が、これらに限定されるものではない。
【００２１】触媒としては、酸が好ましく、硫酸、ｐ−
トルエンスルホン酸、塩酸、リン酸、酢酸、塩化アルミ
ニウム等が例示され、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸が
好ましく、硫酸がとくに好ましいが、これらに限定され
るものではない。
トルエンスルホン酸、塩酸、リン酸、酢酸、塩化アルミ
ニウム等が例示され、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸が
好ましく、硫酸がとくに好ましいが、これらに限定され
るものではない。
【００２２】この出願発明は、活性水素基含有化合物を
使用することが必須である。活性水素基含有化合物を使
用しない場合には、反応は進行しないかもしくは著しく
遅い。反応速度は、活性水素基含有化合物の使用量に比
例して大きくすることができる。この出願発明で用いら
れる活性水素基含有化合物の量は、必ずしも量論的な量
を必要としない。この点もこの出願発明の大きな特徴で
ある。すなわち、活性水素基含有化合物の使用量は、い
わゆる開始剤的な量でよく、用いるポリシロキサンのケ
イ素原子またはオルトエステル分子の１／１０以下のモ
ル数でも室温で反応を開始し、定量的に目的とするアル
コキシシランを得ることができる。したがって、反応液
から目的物のアルコキシシランを高純度に蒸留分離する
ことが容易である利点を有している。
使用することが必須である。活性水素基含有化合物を使
用しない場合には、反応は進行しないかもしくは著しく
遅い。反応速度は、活性水素基含有化合物の使用量に比
例して大きくすることができる。この出願発明で用いら
れる活性水素基含有化合物の量は、必ずしも量論的な量
を必要としない。この点もこの出願発明の大きな特徴で
ある。すなわち、活性水素基含有化合物の使用量は、い
わゆる開始剤的な量でよく、用いるポリシロキサンのケ
イ素原子またはオルトエステル分子の１／１０以下のモ
ル数でも室温で反応を開始し、定量的に目的とするアル
コキシシランを得ることができる。したがって、反応液
から目的物のアルコキシシランを高純度に蒸留分離する
ことが容易である利点を有している。
【００２３】この出願発明の反応は、室温でも反応が進
行するため、特に加熱する必要がないことも特徴であ
る。従って、反応温度は、室温〜１５０℃で行うが、好
ましくは、室温〜１２０℃である。
行するため、特に加熱する必要がないことも特徴であ
る。従って、反応温度は、室温〜１５０℃で行うが、好
ましくは、室温〜１２０℃である。
【００２４】この出願発明は、室温という、おだやかな
条件で反応させることができ、塩化水素やクロルシラン
を副生せず、好ましくない副反応生成物が殆どなく反応
工程での面倒な分留操作も不必要であることから、ハロ
ゲンフリーなアルコキシシランを高収率で容易に製造す
ることができる。とくに、分子中にＳｉ−Ｈ結合を有す
るアルコキシシランを高収率で容易に製造することがで
きる。
条件で反応させることができ、塩化水素やクロルシラン
を副生せず、好ましくない副反応生成物が殆どなく反応
工程での面倒な分留操作も不必要であることから、ハロ
ゲンフリーなアルコキシシランを高収率で容易に製造す
ることができる。とくに、分子中にＳｉ−Ｈ結合を有す
るアルコキシシランを高収率で容易に製造することがで
きる。
【００２５】
【実施例】つぎに実施例および比較例によってこの出願
発明を具体的に説明する。 実施例１ リフラックスコンデンサーを備えた容量１００ｍｌの２
口フラスコ中で、Ｍｅ3ＳｉＯ−（ＭｅＨＳｉＯ）40−
ＳｉＯＭｅ3（重合度は平均）のポリメチルハイドロジ
ェンシロキサン１０．５６ｇ（Ｓｉ−Ｈ結合換算で０．
１６４ｍｏｌ）、オルトギ酸メチル１８．０５ｇ（０．
１７０ｍｏｌ）、メタノール０．４６ｇ（０．０１４ｍ
ｏｌ）および硫酸２０．５ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ）の
混合物を室温で攪拌した。攪拌すると内温が少し（約５
℃）下がるのが観察された。そのまま６時間攪拌後、反
応液をガスクロマトグラフィーと1Ｈ ＮＭＲによって
分析した結果、原料ポリシロキサン中のＳｉ−Ｈ基を基
準に、Ｍｅ（ＭｅＯ）2ＳｉＨがほぼ１００％収率で生
成していた。この反応液２２．７ｇを５０ｍｌなす型フ
ラスコに取り、精留塔（内径１．５ｃｍ、高さ９ｃｍ、
金属コイル充填）を通して蒸留した。まず油浴温度を５
０〜７５℃に保ち、沸点約３０℃の留分６．９ｇをとっ
た。その後、沸点が上がりはじめたので受器をかえ、沸
点約５０〜６０℃の無色液体１１．７ｇを得た。前留の
主成分はギ酸メチルであり、中にＭｅ（ＭｅＯ）2Ｓｉ
Ｈが１．４５ｇ（０．０１４ｍｏｌ）含まれていた。本
留中にはＭｅ（ＭｅＯ）ＳｉＨが１１．４ｇ（０．１０
８ｍｏｌ）含まれており、単離収率は８１％、純度は９
８％であった。
発明を具体的に説明する。 実施例１ リフラックスコンデンサーを備えた容量１００ｍｌの２
口フラスコ中で、Ｍｅ3ＳｉＯ−（ＭｅＨＳｉＯ）40−
ＳｉＯＭｅ3（重合度は平均）のポリメチルハイドロジ
ェンシロキサン１０．５６ｇ（Ｓｉ−Ｈ結合換算で０．
１６４ｍｏｌ）、オルトギ酸メチル１８．０５ｇ（０．
１７０ｍｏｌ）、メタノール０．４６ｇ（０．０１４ｍ
ｏｌ）および硫酸２０．５ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ）の
混合物を室温で攪拌した。攪拌すると内温が少し（約５
℃）下がるのが観察された。そのまま６時間攪拌後、反
応液をガスクロマトグラフィーと1Ｈ ＮＭＲによって
分析した結果、原料ポリシロキサン中のＳｉ−Ｈ基を基
準に、Ｍｅ（ＭｅＯ）2ＳｉＨがほぼ１００％収率で生
成していた。この反応液２２．７ｇを５０ｍｌなす型フ
ラスコに取り、精留塔（内径１．５ｃｍ、高さ９ｃｍ、
金属コイル充填）を通して蒸留した。まず油浴温度を５
０〜７５℃に保ち、沸点約３０℃の留分６．９ｇをとっ
た。その後、沸点が上がりはじめたので受器をかえ、沸
点約５０〜６０℃の無色液体１１．７ｇを得た。前留の
主成分はギ酸メチルであり、中にＭｅ（ＭｅＯ）2Ｓｉ
Ｈが１．４５ｇ（０．０１４ｍｏｌ）含まれていた。本
留中にはＭｅ（ＭｅＯ）ＳｉＨが１１．４ｇ（０．１０
８ｍｏｌ）含まれており、単離収率は８１％、純度は９
８％であった。
【００２６】実施例２ 実施例１と同様な装置を用い、ポリメチルハイドロジェ
ンシロキサン９．６５ｇ（Ｓｉ−Ｈ結合換算で０．１５
０ｍｏｌ）、オルトギ酸メチル１６．９３ｇ（０．１５
９ｍｏｌ）、メタノール１０．０１ｇ（０．３１２ｍｏ
ｌ）および硫酸０．１９ｍｇ（０．１９ｍｍｏｌ）を室
温で攪拌した。攪拌すると内温が少し低下した。２時間
攪拌を続けた後、反応液をガスクロマトグラフィーで測
定したところ、ほぼ１００％収率（Ｓｉ−Ｈ基準）でＭ
ｅ（ＭｅＯ）2ＳｉＨが生成していた。
ンシロキサン９．６５ｇ（Ｓｉ−Ｈ結合換算で０．１５
０ｍｏｌ）、オルトギ酸メチル１６．９３ｇ（０．１５
９ｍｏｌ）、メタノール１０．０１ｇ（０．３１２ｍｏ
ｌ）および硫酸０．１９ｍｇ（０．１９ｍｍｏｌ）を室
温で攪拌した。攪拌すると内温が少し低下した。２時間
攪拌を続けた後、反応液をガスクロマトグラフィーで測
定したところ、ほぼ１００％収率（Ｓｉ−Ｈ基準）でＭ
ｅ（ＭｅＯ）2ＳｉＨが生成していた。
【００２７】実施例３ 実施例１と同様な装置を用い、ポリジメチルシロキサン
１０．０２ｇ（Ｓｉ換算で０．１３５ｍｏｌ）、オルト
ギ酸メチル１５．４７ｇ（０．１４６ｍｏｌ）、メタノ
ール０．７４ｇ（０．０２３ｍｏｌ）、硫酸２０ｍｇ
（０．２０ｍｍｏｌ）を室温で攪拌した。３時間攪拌し
た後、ガスクロマトグラフィーで測定したところ、Ｍｅ
2Ｓｉ（ＯＭｅ）2の生成は認められなかった。そこで、
さらにメタノールと硫酸を追加し、合計がそれぞれ、メ
タノール４．９４ｇ（０．１５４ｍｏｌ）、硫酸６０ｍ
ｇ（０．６１ｍｍｏｌ）とした。５０℃で８時間攪拌し
た後、反応液をガスクロマトグラフィーで測定したとこ
ろ９１％収率（Ｓｉ基準）でＭｅ2Ｓｉ（ＯＭｅ）2が生
成していた。
１０．０２ｇ（Ｓｉ換算で０．１３５ｍｏｌ）、オルト
ギ酸メチル１５．４７ｇ（０．１４６ｍｏｌ）、メタノ
ール０．７４ｇ（０．０２３ｍｏｌ）、硫酸２０ｍｇ
（０．２０ｍｍｏｌ）を室温で攪拌した。３時間攪拌し
た後、ガスクロマトグラフィーで測定したところ、Ｍｅ
2Ｓｉ（ＯＭｅ）2の生成は認められなかった。そこで、
さらにメタノールと硫酸を追加し、合計がそれぞれ、メ
タノール４．９４ｇ（０．１５４ｍｏｌ）、硫酸６０ｍ
ｇ（０．６１ｍｍｏｌ）とした。５０℃で８時間攪拌し
た後、反応液をガスクロマトグラフィーで測定したとこ
ろ９１％収率（Ｓｉ基準）でＭｅ2Ｓｉ（ＯＭｅ）2が生
成していた。
【００２８】実施例４ 実施例１と同様な装置を用い、１，３，５，７−テトラ
メチルシロキサン３．０３ｇ（１２．６ｍｍｏｌ、Ｓｉ
−Ｈ結合換算で５０．４ｍｍｏｌ）、オルトギ酸メチル
５．７１ｇ（５３．８ｍｍｏｌ）、硫酸０．０２ｇ
（０．２０ｍｍｏｌ）、メタノール０．１４ｇ（４．４
ｍｍｏｌ）を室温で３時間攪拌した。ガスクロマトグラ
フィーで測定すると、Ｍｅ（ＭｅＯ）2ＳｉＨが９８％
収率（Ｓｉ−Ｈ基準）で生成していた。
メチルシロキサン３．０３ｇ（１２．６ｍｍｏｌ、Ｓｉ
−Ｈ結合換算で５０．４ｍｍｏｌ）、オルトギ酸メチル
５．７１ｇ（５３．８ｍｍｏｌ）、硫酸０．０２ｇ
（０．２０ｍｍｏｌ）、メタノール０．１４ｇ（４．４
ｍｍｏｌ）を室温で３時間攪拌した。ガスクロマトグラ
フィーで測定すると、Ｍｅ（ＭｅＯ）2ＳｉＨが９８％
収率（Ｓｉ−Ｈ基準）で生成していた。
【００２９】実施例５ リフラックスコンデンサーを備えた２００ｍｌの３口フ
ラスコに、ポリメチルハイドロジエンシロキサン５０．
０ｇ（Ｓｉ−Ｈ結合換算で０．７８ｍｏｌ）、オルトギ
酸メチル９９．２ｇ（０．９４ｍｏｌ）、メタノール
２．５０ｇ（０．０７８ｍｏｌ）、硫酸０．５４ｍｇ
（５．５ｍｍｏｌ）を加え、５０℃の油浴中で１８０分
攪拌した。反応液をガスクロマトグラフィーによって分
析したところ、原料ポリシロキサン中のＳｉ−Ｈ基を基
準にＭｅ（ＭｅＯ）2ＳｉＨが９３％収率で生成してい
た。この反応液１４６．６ｇを用い、精留塔（内径１．
５ｃｍ、高さ５０ｃｍ、ガラスビーズ充填）を通して蒸
留した。まず、油浴温度を４５〜７０℃に保ち、沸点３
２〜３７℃の前留分４３．４ｇを得た。その後、沸点３
５〜５５℃の中間留分１０．１ｇを取った後、沸点５９
〜６１℃の本留分６７．５ｇを得た。前留分の主成分は
ギ酸メチルであり、中間留分は、ギ酸メチルとＭｅ（Ｍ
ｅＯ）2ＳｉＨがほぼ半々であった。本留分中にＭｅ
（ＭｅＯ）2ＳｉＨは６５．４ｇ（０．６２ｍｏｌ）、
Ｍｅ3ＳｉＯＭｅが１．６ｇ（０．０１５ｍｏｌ）、メ
タノールが０．１ｇ（０．００３ｍｏｌ）含まれてお
り、単離収率は７９％、純度は９７％であった。
ラスコに、ポリメチルハイドロジエンシロキサン５０．
０ｇ（Ｓｉ−Ｈ結合換算で０．７８ｍｏｌ）、オルトギ
酸メチル９９．２ｇ（０．９４ｍｏｌ）、メタノール
２．５０ｇ（０．０７８ｍｏｌ）、硫酸０．５４ｍｇ
（５．５ｍｍｏｌ）を加え、５０℃の油浴中で１８０分
攪拌した。反応液をガスクロマトグラフィーによって分
析したところ、原料ポリシロキサン中のＳｉ−Ｈ基を基
準にＭｅ（ＭｅＯ）2ＳｉＨが９３％収率で生成してい
た。この反応液１４６．６ｇを用い、精留塔（内径１．
５ｃｍ、高さ５０ｃｍ、ガラスビーズ充填）を通して蒸
留した。まず、油浴温度を４５〜７０℃に保ち、沸点３
２〜３７℃の前留分４３．４ｇを得た。その後、沸点３
５〜５５℃の中間留分１０．１ｇを取った後、沸点５９
〜６１℃の本留分６７．５ｇを得た。前留分の主成分は
ギ酸メチルであり、中間留分は、ギ酸メチルとＭｅ（Ｍ
ｅＯ）2ＳｉＨがほぼ半々であった。本留分中にＭｅ
（ＭｅＯ）2ＳｉＨは６５．４ｇ（０．６２ｍｏｌ）、
Ｍｅ3ＳｉＯＭｅが１．６ｇ（０．０１５ｍｏｌ）、メ
タノールが０．１ｇ（０．００３ｍｏｌ）含まれてお
り、単離収率は７９％、純度は９７％であった。
【００３０】比較例１ 実施例１と同様な装置を用い、ポリメチルハイドロジェ
ンシロキサン１０．０５ｇ（０．１５６ｍｏｌ）、オル
トギ酸メチル２１．９ｇ（０．２０６ｍｏｌ）および硫
酸４１ｍｇ（０．４１ｍｍｏｌ）を攪拌した。８０℃に
加熱しながら３時間攪拌したが、Ｍｅ（ＭｅＯ）2Ｓｉ
Ｈの生成はほとんど認められなかった。ギ酸メチルの留
去も起こらず反応は進行しなかった。
ンシロキサン１０．０５ｇ（０．１５６ｍｏｌ）、オル
トギ酸メチル２１．９ｇ（０．２０６ｍｏｌ）および硫
酸４１ｍｇ（０．４１ｍｍｏｌ）を攪拌した。８０℃に
加熱しながら３時間攪拌したが、Ｍｅ（ＭｅＯ）2Ｓｉ
Ｈの生成はほとんど認められなかった。ギ酸メチルの留
去も起こらず反応は進行しなかった。
【００３１】実施例６〜１０、比較例２ ヘキサメチルジシロキサン６１．６ｇ（０．３８ｍｏ
ｌ）とオルトギ酸メチル４０．５ｇ（０．３８ｍｏｌ）
を混合してＡ液とした。Ａ液を一部ガラス容器にとり、
ここに活性水素基含有化合物として水、メタノール、エ
タノール、１−ブタノール、酢酸等と硫酸触媒を加え室
温で反応を行い、1Ｈ ＮＭＲで２０時間後、１００時間
後の生成物のＭｅ3ＳｉＯＭｅ収率（Ｓｉ基準）を求め
た。結果を表に示す。
ｌ）とオルトギ酸メチル４０．５ｇ（０．３８ｍｏｌ）
を混合してＡ液とした。Ａ液を一部ガラス容器にとり、
ここに活性水素基含有化合物として水、メタノール、エ
タノール、１−ブタノール、酢酸等と硫酸触媒を加え室
温で反応を行い、1Ｈ ＮＭＲで２０時間後、１００時間
後の生成物のＭｅ3ＳｉＯＭｅ収率（Ｓｉ基準）を求め
た。結果を表に示す。
【００３２】
【表１】
【００３３】比較例３ リフラックスコンデンサーを備えた５０ｍｌの２口フラ
スコにポリメチルハイドロジエンシロキサン１０．１ｇ
（Ｓｉ−Ｈ結合換算で０．１６ｍｏｌ）、硫酸２０ｍｇ
（０．２０ｍｍｏｌ）、メタノール８．７ｇ（０．２７
ｍｏｌ）を加え、８５℃の油浴で１１５分加熱、攪拌し
た。Ｓｉ−Ｈ価は１．０１ｍｍｏｌ／ｇであり、初期の
８８％が消失したが、ガスクロマトグラフィーによる分
析の結果Ｍｅ（ＭｅＯ）2ＳｉＨ収率は２％（Ｓｉ−Ｈ
基準）であった。
スコにポリメチルハイドロジエンシロキサン１０．１ｇ
（Ｓｉ−Ｈ結合換算で０．１６ｍｏｌ）、硫酸２０ｍｇ
（０．２０ｍｍｏｌ）、メタノール８．７ｇ（０．２７
ｍｏｌ）を加え、８５℃の油浴で１１５分加熱、攪拌し
た。Ｓｉ−Ｈ価は１．０１ｍｍｏｌ／ｇであり、初期の
８８％が消失したが、ガスクロマトグラフィーによる分
析の結果Ｍｅ（ＭｅＯ）2ＳｉＨ収率は２％（Ｓｉ−Ｈ
基準）であった。
【００３４】比較例４ ２００ｍｌの２口フラスコにポリメチルハイドロジエン
シロキサン１０．０ｇ（Ｓｉ−Ｈ結合換算で０．１６ｍ
ｏｌ）、硫酸７０ｍｇ（０．７０ｍｍｏｌ）、メタノー
ル４２．２ｇ（１．３２ｍｏｌ）を加え、８０℃の油浴
加熱、攪拌しながら精留塔（内径１．５ｃｍ、高さ９ｃ
ｍ、金属コイル充填）を通して沸点６０〜６３℃の液体
３４．２ｇを留去した。ガスクロマトグラフィーの分析
の結果、留去された液体は３．１ｇのＭｅ（ＭｅＯ）2
ＳｉＨが含まれ、他はメタノールであった。Ｍｅ（Ｍｅ
Ｏ）2ＳｉＨの収率（Ｓｉ−Ｈ基準）は１９％であっ
た。
シロキサン１０．０ｇ（Ｓｉ−Ｈ結合換算で０．１６ｍ
ｏｌ）、硫酸７０ｍｇ（０．７０ｍｍｏｌ）、メタノー
ル４２．２ｇ（１．３２ｍｏｌ）を加え、８０℃の油浴
加熱、攪拌しながら精留塔（内径１．５ｃｍ、高さ９ｃ
ｍ、金属コイル充填）を通して沸点６０〜６３℃の液体
３４．２ｇを留去した。ガスクロマトグラフィーの分析
の結果、留去された液体は３．１ｇのＭｅ（ＭｅＯ）2
ＳｉＨが含まれ、他はメタノールであった。Ｍｅ（Ｍｅ
Ｏ）2ＳｉＨの収率（Ｓｉ−Ｈ基準）は１９％であっ
た。
【００３５】
【発明の効果】以上のように、この出願発明はオルトエ
ステルとシロキサンもしくはポリシロキサンとをアルコ
ール及び触媒存在下に室温のおだやかな条件下で反応さ
せることができるので、好ましくない副反応生成物が殆
どなく、反応工程での面倒な分留操作が不要であり、多
量の残渣が生成しない。また、ハロゲンフリープロセス
であるので、塩化水素やクロルシラン等のハロゲン化合
物を生成しない。従って、ハロゲンフリーなアルコキシ
シランを高収率で容易に製造することができる。
ステルとシロキサンもしくはポリシロキサンとをアルコ
ール及び触媒存在下に室温のおだやかな条件下で反応さ
せることができるので、好ましくない副反応生成物が殆
どなく、反応工程での面倒な分留操作が不要であり、多
量の残渣が生成しない。また、ハロゲンフリープロセス
であるので、塩化水素やクロルシラン等のハロゲン化合
物を生成しない。従って、ハロゲンフリーなアルコキシ
シランを高収率で容易に製造することができる。
Claims (8)
- 【請求項１】 オルトエステルと、シロキサンもしくは
ポリシロキサンとを、活性水素基含有化合物及び触媒の
存在下に反応させることを特徴とするアルコキシシラン
の製造方法。 - 【請求項２】 シロキサンもしくはポリシロキサンが分
子中にＳｉ−Ｈ結合を有するものであることを特徴とす
る請求項１に記載のアルコキシシランの製造方法。 - 【請求項３】 触媒が酸であることを特徴とする請求項
１に記載のアルコキシシランの製造方法。 - 【請求項４】 オルトエステルがオルトメチルエステル
であることを特徴とする請求項１に記載のアルコキシシ
ランの製造方法。 - 【請求項５】 活性水素基含有化合物がオルトエステル
と反応してアルコールを生成するものであることを特徴
とする請求項１に記載のアルコキシシランの製造方法。 - 【請求項６】 活性水素基含有化合物が水、カルボン酸
またはアルコールであることを特徴とする請求項１に記
載のアルコキシシランの製造方法。 - 【請求項７】 アルコキシシランが分子中にＳｉ−Ｈ結
合を有するものであることを特徴とする請求項１に記載
のアルコキシシランの製造方法。 - 【請求項８】 アルコキシシランがジメトキシメチルシ
ランであることを特徴とする請求項１に記載のアルコキ
シシランの製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24830094A JP3529858B2 (ja) | 1994-06-15 | 1994-09-19 | アルコキシシランの製造方法 |
| US08/479,194 US5504235A (en) | 1994-06-15 | 1995-06-07 | Method for decomposing polysiloxane |
| DE69522745T DE69522745T2 (de) | 1994-06-15 | 1995-06-14 | Verfahren zum Abbau von Polysiloxanen |
| EP95109228A EP0687679B1 (en) | 1994-06-15 | 1995-06-14 | Method for decomposing polysiloxane |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15543394 | 1994-06-15 | ||
| JP6-155433 | 1994-06-15 | ||
| JP24830094A JP3529858B2 (ja) | 1994-06-15 | 1994-09-19 | アルコキシシランの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0859837A true JPH0859837A (ja) | 1996-03-05 |
| JP3529858B2 JP3529858B2 (ja) | 2004-05-24 |
Family
ID=26483447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24830094A Expired - Lifetime JP3529858B2 (ja) | 1994-06-15 | 1994-09-19 | アルコキシシランの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3529858B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5804040A (en) * | 1995-09-08 | 1998-09-08 | Kaneka Corporation | Purification process for silane compound |
| CN115181123A (zh) * | 2022-06-30 | 2022-10-14 | 浙江皇马科技股份有限公司 | 裂解法制备甲基二甲氧基硅烷的方法及甲基二甲氧基硅烷 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3866220B8 (en) | 2018-10-11 | 2024-12-04 | Asahi Kasei Battery Separator Corporation | Lithium ion battery separator |
| HUE073012T2 (hu) | 2018-10-11 | 2025-12-28 | Asahi Kasei Battery Separator Corp | Térhálósított szeparátort alkalmazó lítium-ion akkumulátor |
| KR102465197B1 (ko) | 2019-09-13 | 2022-11-10 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 비수계 전해액 및 비수계 이차 전지 |
| WO2021210317A1 (ja) | 2020-04-13 | 2021-10-21 | 旭化成株式会社 | 複合型積層化学架橋セパレータ |
| EP4239721A4 (en) | 2020-10-30 | 2024-06-05 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Siloxane dispersed crosslinked separator |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5371262A (en) | 1993-03-10 | 1994-12-06 | Gelest, Inc. | Hydroxymethyltrialkoxysilanes and methods of making and using the same |
-
1994
- 1994-09-19 JP JP24830094A patent/JP3529858B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5804040A (en) * | 1995-09-08 | 1998-09-08 | Kaneka Corporation | Purification process for silane compound |
| CN115181123A (zh) * | 2022-06-30 | 2022-10-14 | 浙江皇马科技股份有限公司 | 裂解法制备甲基二甲氧基硅烷的方法及甲基二甲氧基硅烷 |
| CN115181123B (zh) * | 2022-06-30 | 2024-08-27 | 浙江皇马科技股份有限公司 | 裂解法制备甲基二甲氧基硅烷的方法及甲基二甲氧基硅烷 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3529858B2 (ja) | 2004-05-24 |
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