JPH086262A - 水溶性フォトレジストの硬膜方法 - Google Patents
水溶性フォトレジストの硬膜方法Info
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- JPH086262A JPH086262A JP16276794A JP16276794A JPH086262A JP H086262 A JPH086262 A JP H086262A JP 16276794 A JP16276794 A JP 16276794A JP 16276794 A JP16276794 A JP 16276794A JP H086262 A JPH086262 A JP H086262A
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 エッチング時間が長くなってもレジスト膜の
欠けを生じることがなく、耐エッチング性及び金属薄板
との密着性の良好なレジスト膜を形成でき、レジスト膜
の解像度を落としたり生産性を低下させたり大きなバー
ニング炉を必要としたりすることがない硬膜方法を提供
する。 【構成】 現像処理部12で現像処理された金属薄板30を
硬膜液38中に浸漬させ水洗部16で水洗し水切り部18で水
切りした後、第1のバーニング処理部20において金属薄
板を伸長させた状態で第1回目の加熱処理を行ない、そ
の加熱処理された金属薄板をコイル54の形態に巻き取
り、第2のバーニング処理部24においてコイルの形態で
第2回目の加熱処理を行なう。
欠けを生じることがなく、耐エッチング性及び金属薄板
との密着性の良好なレジスト膜を形成でき、レジスト膜
の解像度を落としたり生産性を低下させたり大きなバー
ニング炉を必要としたりすることがない硬膜方法を提供
する。 【構成】 現像処理部12で現像処理された金属薄板30を
硬膜液38中に浸漬させ水洗部16で水洗し水切り部18で水
切りした後、第1のバーニング処理部20において金属薄
板を伸長させた状態で第1回目の加熱処理を行ない、そ
の加熱処理された金属薄板をコイル54の形態に巻き取
り、第2のバーニング処理部24においてコイルの形態で
第2回目の加熱処理を行なう。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、カラーCRT用シャ
ドウマスクなどをフォトエッチング法により製造する一
連の工程において、長尺帯状をなす金属薄板の表面に被
着された現像処理後の水溶性フォトレジスト(以下、単
に「レジスト」と称す)を硬膜処理する硬膜方法に関す
る。
ドウマスクなどをフォトエッチング法により製造する一
連の工程において、長尺帯状をなす金属薄板の表面に被
着された現像処理後の水溶性フォトレジスト(以下、単
に「レジスト」と称す)を硬膜処理する硬膜方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】フォトエッチング法における一連の工程
について、シャドウマスクを製造する場合を例にとって
説明する。
について、シャドウマスクを製造する場合を例にとって
説明する。
【0003】シャドウマスクは、一般に、大量かつ連続
して製造されており、鋼板メーカーからは1〜2トンの
重量のコイルの形態でシャドウマスク材がシャドウマス
クメーカーへ送られ、シャドウマスクメーカーでは、コ
イルから繰り出されるシャドウマスク材に対し長尺帯状
のままで各種処理を施し、フォトエッチングの一連の工
程が終わった後に長尺帯状物を切断して枚葉形態にする
のが一般的である。
して製造されており、鋼板メーカーからは1〜2トンの
重量のコイルの形態でシャドウマスク材がシャドウマス
クメーカーへ送られ、シャドウマスクメーカーでは、コ
イルから繰り出されるシャドウマスク材に対し長尺帯状
のままで各種処理を施し、フォトエッチングの一連の工
程が終わった後に長尺帯状物を切断して枚葉形態にする
のが一般的である。
【0004】まず、長尺帯状をなし、板厚が0.05〜
0.3mmの低炭素アルミキルド鋼やニッケルを36%含
有するインバー型合金等のシャドウマスク材を脱脂し
て、表面の防錆油を除去し、水洗した後、酸性溶液又は
アルカリ性溶液を用いて整面処理し、水洗する(整面工
程)。次に、シャドウマスク材の表裏両面にレジスト、
例えばカゼイン又はPVA(ポリビニルアルコール)か
らなる基材にセンシタイザとして重クロム酸塩又はアジ
ド化合物を添加したレジストを塗布し、それを乾燥させ
て、シャドウマスクの表裏両面にそれぞれ厚みが数μm
のレジスト膜を被着形成する(コーティング工程)。次
に、シャドウマスク材の表裏両面に被着形成された各レ
ジスト膜の表面に、形成しようとする電子ビーム通過孔
に対応した所要の画像を有する各マスターパターンを、
表・裏で画像位置を一致させてそれぞれ密着させ、露光
を行なう(焼付け工程)。続いて、温水等を使用してレ
ジスト膜を現像し、シャドウマスク材の両主面に所要の
パターン画像を有するレジスト膜をそれぞれ形成する
(現像工程)。シャドウマスク材を硬膜液、例えば無水
クロム酸溶液中に浸漬させた後、150〜280℃の温
度の熱風や赤外線ヒータによるバーニング処理(加熱処
理)を施すことにより、レジスト膜を乾燥させて強化す
る(硬膜工程)。塩化第二鉄水溶液を使用し、シャドウ
マスク材の両主面に対しスプレイエッチングを行なって
多数の透孔を形成した後、シャドウマスク材の両面から
レジスト膜をそれぞれ剥離する(エッチング工程)。最
後に、シャドウマスク材を1枚ずつに切断して枚葉形態
のシャドウマスクを得る(シャーリング工程)。
0.3mmの低炭素アルミキルド鋼やニッケルを36%含
有するインバー型合金等のシャドウマスク材を脱脂し
て、表面の防錆油を除去し、水洗した後、酸性溶液又は
アルカリ性溶液を用いて整面処理し、水洗する(整面工
程)。次に、シャドウマスク材の表裏両面にレジスト、
例えばカゼイン又はPVA(ポリビニルアルコール)か
らなる基材にセンシタイザとして重クロム酸塩又はアジ
ド化合物を添加したレジストを塗布し、それを乾燥させ
て、シャドウマスクの表裏両面にそれぞれ厚みが数μm
のレジスト膜を被着形成する(コーティング工程)。次
に、シャドウマスク材の表裏両面に被着形成された各レ
ジスト膜の表面に、形成しようとする電子ビーム通過孔
に対応した所要の画像を有する各マスターパターンを、
表・裏で画像位置を一致させてそれぞれ密着させ、露光
を行なう(焼付け工程)。続いて、温水等を使用してレ
ジスト膜を現像し、シャドウマスク材の両主面に所要の
パターン画像を有するレジスト膜をそれぞれ形成する
(現像工程)。シャドウマスク材を硬膜液、例えば無水
クロム酸溶液中に浸漬させた後、150〜280℃の温
度の熱風や赤外線ヒータによるバーニング処理(加熱処
理)を施すことにより、レジスト膜を乾燥させて強化す
る(硬膜工程)。塩化第二鉄水溶液を使用し、シャドウ
マスク材の両主面に対しスプレイエッチングを行なって
多数の透孔を形成した後、シャドウマスク材の両面から
レジスト膜をそれぞれ剥離する(エッチング工程)。最
後に、シャドウマスク材を1枚ずつに切断して枚葉形態
のシャドウマスクを得る(シャーリング工程)。
【0005】上記した一連のフォトエッチング工程にお
いて、現像処理後にシャドウマスク材を硬膜液中に浸漬
させた後バーニング処理するのは、未反応のカゼインや
PVAを硬化させて、エッチング時におけるレジスト膜
の耐エッチング性を良くするためであり、この硬膜処理
では、カゼインやPVAが熱により硬化することと、6
価のクロムが3価のクロムになってカゼインやPVAと
架橋することを利用している。
いて、現像処理後にシャドウマスク材を硬膜液中に浸漬
させた後バーニング処理するのは、未反応のカゼインや
PVAを硬化させて、エッチング時におけるレジスト膜
の耐エッチング性を良くするためであり、この硬膜処理
では、カゼインやPVAが熱により硬化することと、6
価のクロムが3価のクロムになってカゼインやPVAと
架橋することを利用している。
【0006】硬膜処理の方法としては、例えば特開昭5
7−148859号公報に、現像処理後にレジスト膜の
表面に無水クロム酸溶液又は重クロム酸塩溶液をディッ
プ又はスプレイで塗布し、水洗後、水をアルコールで置
換し、乾燥させた後、バーニング処理を施すようにする
方法が開示されている。また、特公平3−62264号
公報には、露光されたレジストを水洗し、現像した後、
絞りローラ又はエアーナイフによって水切りし、次いで
無水クロム酸水溶液中にレジストを浸漬させるととも
に、この浸漬の前後においてスプレイ方式又はシャワー
方式により無水クロム酸水溶液をレジストに吹き付ける
ようにし、次いでレジストを水洗、洗浄した後、絞りロ
ールで水切りを行ない、さらに熱風式エアーナイフで水
分を除去させ、その後にレジストのバーニングを行なう
ようにする方法が開示されている。これらの方法では、
無水クロム酸又は重クロム酸塩の6価のクロムをバーニ
ングによって3価のクロムに還元し、この還元された3
価のクロムとカゼインとの結合による架橋反応により、
レジストを硬化させるようにしている。
7−148859号公報に、現像処理後にレジスト膜の
表面に無水クロム酸溶液又は重クロム酸塩溶液をディッ
プ又はスプレイで塗布し、水洗後、水をアルコールで置
換し、乾燥させた後、バーニング処理を施すようにする
方法が開示されている。また、特公平3−62264号
公報には、露光されたレジストを水洗し、現像した後、
絞りローラ又はエアーナイフによって水切りし、次いで
無水クロム酸水溶液中にレジストを浸漬させるととも
に、この浸漬の前後においてスプレイ方式又はシャワー
方式により無水クロム酸水溶液をレジストに吹き付ける
ようにし、次いでレジストを水洗、洗浄した後、絞りロ
ールで水切りを行ない、さらに熱風式エアーナイフで水
分を除去させ、その後にレジストのバーニングを行なう
ようにする方法が開示されている。これらの方法では、
無水クロム酸又は重クロム酸塩の6価のクロムをバーニ
ングによって3価のクロムに還元し、この還元された3
価のクロムとカゼインとの結合による架橋反応により、
レジストを硬化させるようにしている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、カラ
ーCRTは、大画面、高輝度及び高精細の要求が高くな
ってきている。そして、このようなカラーCRTにおい
て使用されるシャドウマスクは、CRTの使用中におけ
る熱膨張や振動による画像の揺れを防止するために、板
厚が厚くなる傾向になる。シャドウマスクの板厚が厚く
なると、それを製造する場合においてシャドウマスク材
のエッチングに要する時間がそれだけ長くなる。ここ
で、シャドウマスクの製造には、一般にカゼインと重ク
ロム酸塩とからなるレジストが使用されるが、シャドウ
マスク材のエッチング時間が長くなると、前記レジスト
を用いてシャドウマスク材の表面に被着形成されたレジ
スト膜が長時間のエッチングに耐えられなくなる、とい
った問題がある。すなわち、図2に部分拡大断面図を示
すように、表面に所要のパターン画像のレジスト膜2が
被着されたシャドウマスク材1をエッチングしている間
にレジスト膜2の一部に欠け3が生じ、そのままエッチ
ングを続けると、欠け3を生じた部分のシャドウマスク
材1が余分にエッチングされて、正常な孔よりも大きく
なった孔4が形成され、シャドウマスクの不良の原因に
なる、といった問題がある。
ーCRTは、大画面、高輝度及び高精細の要求が高くな
ってきている。そして、このようなカラーCRTにおい
て使用されるシャドウマスクは、CRTの使用中におけ
る熱膨張や振動による画像の揺れを防止するために、板
厚が厚くなる傾向になる。シャドウマスクの板厚が厚く
なると、それを製造する場合においてシャドウマスク材
のエッチングに要する時間がそれだけ長くなる。ここ
で、シャドウマスクの製造には、一般にカゼインと重ク
ロム酸塩とからなるレジストが使用されるが、シャドウ
マスク材のエッチング時間が長くなると、前記レジスト
を用いてシャドウマスク材の表面に被着形成されたレジ
スト膜が長時間のエッチングに耐えられなくなる、とい
った問題がある。すなわち、図2に部分拡大断面図を示
すように、表面に所要のパターン画像のレジスト膜2が
被着されたシャドウマスク材1をエッチングしている間
にレジスト膜2の一部に欠け3が生じ、そのままエッチ
ングを続けると、欠け3を生じた部分のシャドウマスク
材1が余分にエッチングされて、正常な孔よりも大きく
なった孔4が形成され、シャドウマスクの不良の原因に
なる、といった問題がある。
【0008】レジスト膜に欠けが発生する原因として
は、バーニング時におけるカゼインの熱変性によりレジ
ストが硬くなり過ぎるとともに炭化が生じ、レジスト膜
が却って脆くなるためであると考えられる。従って、こ
の対策として、バーニングの温度を下げてカゼインの熱
変性が起こらないようにするといったことが考えられ、
これにより実際にレジスト膜の欠けの発生は少なくな
る。ところが、バーニングの温度を下げると、バーニン
グ時に重クロム酸塩のクロムが6価から3価へ完全には
還元されなくなり、クロムとカゼインとの架橋が不十分
となる。この結果、エッチング時にレジスト膜がエッチ
ング液に溶解したり、レジスト膜とシャドウマスク材と
の密着性が悪くなったりして、エッチングによってシャ
ドウマスク材に形成された透孔が大きくなってしまう、
といった新たな問題が生じることになる。
は、バーニング時におけるカゼインの熱変性によりレジ
ストが硬くなり過ぎるとともに炭化が生じ、レジスト膜
が却って脆くなるためであると考えられる。従って、こ
の対策として、バーニングの温度を下げてカゼインの熱
変性が起こらないようにするといったことが考えられ、
これにより実際にレジスト膜の欠けの発生は少なくな
る。ところが、バーニングの温度を下げると、バーニン
グ時に重クロム酸塩のクロムが6価から3価へ完全には
還元されなくなり、クロムとカゼインとの架橋が不十分
となる。この結果、エッチング時にレジスト膜がエッチ
ング液に溶解したり、レジスト膜とシャドウマスク材と
の密着性が悪くなったりして、エッチングによってシャ
ドウマスク材に形成された透孔が大きくなってしまう、
といった新たな問題が生じることになる。
【0009】この場合、バーニングの温度を下げてもバ
ーニング時間を長くすれば、完全に6価のクロムを3価
のクロムに還元することは可能である。しかしながら、
例えば熱風によりバーニングを行なう場合、240℃の
温度で2分間バーニング処理すれば3価のクロムへの還
元が可能であるのに対し、エッチング時にレジスト膜の
欠けを生じない200℃の温度でバーニングを行なうよ
うにすると、処理に10分以上もの時間がかかってしま
う。そして、バーニング時間を長くするために、シャド
ウマスク製造ラインにおけるシャドウマスク材の搬送速
度を下げると、温水等を使用してレジスト膜を現像処理
する時間が長くなり過ぎるためにレジスト膜の解像度が
悪くなるとともに、生産性が大きく低下することにな
る。一方、シャドウマスク材の搬送速度を下げないでバ
ーニング炉を長くすることによってバーニング時間を長
くする方法では、非常に大きなバーニング炉が必要にな
る、といった問題がある。このように、バーニングの温
度を下げてバーニング時間を長くする方法は、現実的に
みて従来は採用することができなかった。
ーニング時間を長くすれば、完全に6価のクロムを3価
のクロムに還元することは可能である。しかしながら、
例えば熱風によりバーニングを行なう場合、240℃の
温度で2分間バーニング処理すれば3価のクロムへの還
元が可能であるのに対し、エッチング時にレジスト膜の
欠けを生じない200℃の温度でバーニングを行なうよ
うにすると、処理に10分以上もの時間がかかってしま
う。そして、バーニング時間を長くするために、シャド
ウマスク製造ラインにおけるシャドウマスク材の搬送速
度を下げると、温水等を使用してレジスト膜を現像処理
する時間が長くなり過ぎるためにレジスト膜の解像度が
悪くなるとともに、生産性が大きく低下することにな
る。一方、シャドウマスク材の搬送速度を下げないでバ
ーニング炉を長くすることによってバーニング時間を長
くする方法では、非常に大きなバーニング炉が必要にな
る、といった問題がある。このように、バーニングの温
度を下げてバーニング時間を長くする方法は、現実的に
みて従来は採用することができなかった。
【0010】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、エッチングの時間が長くなってもエ
ッチング時にレジスト膜の欠けが生じるようなことがな
く、かつ、耐エッチング性及び金属薄板との密着性の良
好なレジスト膜を形成することができるとともに、レジ
スト膜の解像度を落としたり生産性を低下させたりする
ことがなく、また非常に大きなバーニング炉を必要とす
るといったこともない水溶性フォトレジストの硬膜方法
を提供することを目的とする。
されたものであり、エッチングの時間が長くなってもエ
ッチング時にレジスト膜の欠けが生じるようなことがな
く、かつ、耐エッチング性及び金属薄板との密着性の良
好なレジスト膜を形成することができるとともに、レジ
スト膜の解像度を落としたり生産性を低下させたりする
ことがなく、また非常に大きなバーニング炉を必要とす
るといったこともない水溶性フォトレジストの硬膜方法
を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】この発明では、長尺帯状
の金属薄板に硬膜液を供給した後、金属薄板を加熱処理
する場合に、金属薄板を伸長させた状態で金属薄板に対
し加熱処理を施す第1の加熱処理工程と、その加熱処理
が施された伸長状態の金属薄板をコイル状に巻き取る巻
取り工程と、金属薄板をコイル状に巻き取った状態で金
属薄板に対し加熱処理を施す第2の加熱処理工程とを経
るようにした。
の金属薄板に硬膜液を供給した後、金属薄板を加熱処理
する場合に、金属薄板を伸長させた状態で金属薄板に対
し加熱処理を施す第1の加熱処理工程と、その加熱処理
が施された伸長状態の金属薄板をコイル状に巻き取る巻
取り工程と、金属薄板をコイル状に巻き取った状態で金
属薄板に対し加熱処理を施す第2の加熱処理工程とを経
るようにした。
【0012】
【作用】上記したような方法でレジストを硬膜処理する
場合、第1の加熱処理工程では、レジストが硬くなり過
ぎたり炭化が生じたりしないような温度、例えば200
℃の温度で、従来通りの時間、例えば2分間、金属薄板
に対して加熱処理が施される。この加熱処理は、温度を
下げて従来通りの処理時間で行なわれるため、この加熱
処理によっては重クロム酸塩や無水クロム酸の6価のク
ロムが3価のクロムに完全には還元されないで一部のク
ロムが6価の状態のまま残ることになるが、伸長状態の
金属薄板は、一旦コイル状に巻き取られる。そして、第
2の加熱処理工程において、コイル状に巻かれた金属薄
板の全長にわたり一括して加熱処理が行なわれる。この
工程でも、レジストが硬くなり過ぎたり炭化が生じたり
しないような温度、例えば180℃の温度で金属薄板の
加熱処理が行なわれるが、その処理は比較的長時間、例
えば30分〜5時間行なわれる。
場合、第1の加熱処理工程では、レジストが硬くなり過
ぎたり炭化が生じたりしないような温度、例えば200
℃の温度で、従来通りの時間、例えば2分間、金属薄板
に対して加熱処理が施される。この加熱処理は、温度を
下げて従来通りの処理時間で行なわれるため、この加熱
処理によっては重クロム酸塩や無水クロム酸の6価のク
ロムが3価のクロムに完全には還元されないで一部のク
ロムが6価の状態のまま残ることになるが、伸長状態の
金属薄板は、一旦コイル状に巻き取られる。そして、第
2の加熱処理工程において、コイル状に巻かれた金属薄
板の全長にわたり一括して加熱処理が行なわれる。この
工程でも、レジストが硬くなり過ぎたり炭化が生じたり
しないような温度、例えば180℃の温度で金属薄板の
加熱処理が行なわれるが、その処理は比較的長時間、例
えば30分〜5時間行なわれる。
【0013】以上のように、この発明に係る硬膜方法で
は、比較的低い温度で加熱処理を行なうことができるの
で、レジストが硬くなり過ぎたり炭化が生じたりしてレ
ジスト膜が脆くなるといったことがない。一方、第2の
加熱処理工程において、完全にクロムが3価になるのに
十分な処理時間をかけて金属薄板を加熱処理することが
できるので、レジスト膜の耐エッチング性並びにレジス
ト膜と金属薄板との密着性を向上させることができる。
そして、第1の加熱処理工程での加熱処理は、シャドウ
マスク製造ラインにおける金属薄板の搬送速度を下げな
い範囲で行なうようにすればよいので、現像処理時間が
長くなり過ぎたり生産性が低下したりするといったこと
もなくなり、また、第1の加熱処理工程での加熱処理
は、従来通りのバーニング炉を使用して行なうようにす
ればよい。また、第2の加熱処理工程では、コイル状に
巻かれた金属薄板を、複数コイルまとめて加熱処理する
ようにすることができるので、生産性を落とすことなく
一連の加工処理を行なうことができる。
は、比較的低い温度で加熱処理を行なうことができるの
で、レジストが硬くなり過ぎたり炭化が生じたりしてレ
ジスト膜が脆くなるといったことがない。一方、第2の
加熱処理工程において、完全にクロムが3価になるのに
十分な処理時間をかけて金属薄板を加熱処理することが
できるので、レジスト膜の耐エッチング性並びにレジス
ト膜と金属薄板との密着性を向上させることができる。
そして、第1の加熱処理工程での加熱処理は、シャドウ
マスク製造ラインにおける金属薄板の搬送速度を下げな
い範囲で行なうようにすればよいので、現像処理時間が
長くなり過ぎたり生産性が低下したりするといったこと
もなくなり、また、第1の加熱処理工程での加熱処理
は、従来通りのバーニング炉を使用して行なうようにす
ればよい。また、第2の加熱処理工程では、コイル状に
巻かれた金属薄板を、複数コイルまとめて加熱処理する
ようにすることができるので、生産性を落とすことなく
一連の加工処理を行なうことができる。
【0014】
【実施例】以下、この発明の好適な実施例について図1
を参照しながら説明する。
を参照しながら説明する。
【0015】図1は、この発明に係る硬膜方法を実施す
るための装置構成の1例を示し、シャドウマスクの製造
装置のうちの現像・硬膜処理部の構成を模式的に示す概
略図である。この装置は、長尺帯状の金属薄板(シャド
ウマスク材)の供給部10、現像処理部12、硬膜液供給部
14、水洗部16、水切り部18、第1のバーニング処理部20
及び金属薄板の巻取り部22、並びに、第2のバーニング
処理部24から構成されている。そして、第1のバーニン
グ処理部20と第2のバーニング処理部24との両場所が、
コイル搬送機26によって連絡されている。
るための装置構成の1例を示し、シャドウマスクの製造
装置のうちの現像・硬膜処理部の構成を模式的に示す概
略図である。この装置は、長尺帯状の金属薄板(シャド
ウマスク材)の供給部10、現像処理部12、硬膜液供給部
14、水洗部16、水切り部18、第1のバーニング処理部20
及び金属薄板の巻取り部22、並びに、第2のバーニング
処理部24から構成されている。そして、第1のバーニン
グ処理部20と第2のバーニング処理部24との両場所が、
コイル搬送機26によって連絡されている。
【0016】金属薄板の供給部10には、焼付けの終わっ
たレジスト膜が表面に被着された金属薄板がコイル28の
形態で保持され、そのコイル28から金属薄板30が連続し
て繰り出されるようになっている。金属薄板の供給部10
から繰り出された金属薄板30は、現像処理部12へ搬送さ
れる。現像処理部12には、現像槽32が配設されており、
その現像槽32の内部へ金属薄板30が導入され、金属薄板
30が現像槽32内を通過する間に、金属薄板30の搬送路に
沿ってその両側にそれぞれ列設された複数個のスプレイ
ノズル34から金属薄板30の両主面に対し温水、例えば4
0℃の温水が吹き付けられ、現像処理される。現像処理
された金属薄板30は、硬膜液供給部14へ搬送される。硬
膜液供給部14には、硬膜液、例えば無水クロム酸水溶液
38が収容された硬膜液槽36が配設されており、その硬膜
液槽36内の無水クロム酸水溶液38中に金属薄板30を浸漬
させるようになっている。また、硬膜液槽36の上方に
は、金属薄板30を挾んでその両側に一対のシャワーノズ
ル40が配設されており、硬膜液槽36内の無水クロム酸水
溶液38中へ金属薄板を浸漬させるのに先立って、一対の
シャワーノズル40から金属薄板30の両主面に無水クロム
酸水溶液が吹き掛けられるようになっている。尚、硬膜
液を金属薄板に供給する手段として、図示例のものでは
浸漬方式とシャワーノズルからの垂れ掛け塗布方式とを
併用しているが、何れか一方の方式のみによって硬膜液
を金属薄板に供給するようにしてもよいし、また、スプ
レイ方式を採用するようにしてもよい。
たレジスト膜が表面に被着された金属薄板がコイル28の
形態で保持され、そのコイル28から金属薄板30が連続し
て繰り出されるようになっている。金属薄板の供給部10
から繰り出された金属薄板30は、現像処理部12へ搬送さ
れる。現像処理部12には、現像槽32が配設されており、
その現像槽32の内部へ金属薄板30が導入され、金属薄板
30が現像槽32内を通過する間に、金属薄板30の搬送路に
沿ってその両側にそれぞれ列設された複数個のスプレイ
ノズル34から金属薄板30の両主面に対し温水、例えば4
0℃の温水が吹き付けられ、現像処理される。現像処理
された金属薄板30は、硬膜液供給部14へ搬送される。硬
膜液供給部14には、硬膜液、例えば無水クロム酸水溶液
38が収容された硬膜液槽36が配設されており、その硬膜
液槽36内の無水クロム酸水溶液38中に金属薄板30を浸漬
させるようになっている。また、硬膜液槽36の上方に
は、金属薄板30を挾んでその両側に一対のシャワーノズ
ル40が配設されており、硬膜液槽36内の無水クロム酸水
溶液38中へ金属薄板を浸漬させるのに先立って、一対の
シャワーノズル40から金属薄板30の両主面に無水クロム
酸水溶液が吹き掛けられるようになっている。尚、硬膜
液を金属薄板に供給する手段として、図示例のものでは
浸漬方式とシャワーノズルからの垂れ掛け塗布方式とを
併用しているが、何れか一方の方式のみによって硬膜液
を金属薄板に供給するようにしてもよいし、また、スプ
レイ方式を採用するようにしてもよい。
【0017】両主面に硬膜液が供給された金属薄板30
は、水洗部16へ搬送される。水洗部16には、水洗槽42が
配設されており、水洗槽42内には、金属薄板30の搬送路
に沿ってその両側にそれぞれ複数個のスプレイノズル44
が列設されている。そして、金属薄板30は、水洗槽42内
を通過している間に、複数個のスプレイノズル44から両
主面に対し温水、例えば40℃の温水が吹き付けられる
ことにより水洗される。水洗槽42の出口部分には、一対
の絞りローラ46が配設されており、その絞りローラ46の
搬送方向後側に一対のエアーナイフ48が並設されてい
る。これら絞りローラ46及びエアーナイフ48が配設され
た水切り部18を金属薄板30が通過する際に、水洗後の金
属薄板30の水切りが行なわれる。尚、水切りの手段とし
て、フィルム又はゴム板によって金属薄板の表面をスキ
ージするような方式を採用するようにしてもよい。
は、水洗部16へ搬送される。水洗部16には、水洗槽42が
配設されており、水洗槽42内には、金属薄板30の搬送路
に沿ってその両側にそれぞれ複数個のスプレイノズル44
が列設されている。そして、金属薄板30は、水洗槽42内
を通過している間に、複数個のスプレイノズル44から両
主面に対し温水、例えば40℃の温水が吹き付けられる
ことにより水洗される。水洗槽42の出口部分には、一対
の絞りローラ46が配設されており、その絞りローラ46の
搬送方向後側に一対のエアーナイフ48が並設されてい
る。これら絞りローラ46及びエアーナイフ48が配設され
た水切り部18を金属薄板30が通過する際に、水洗後の金
属薄板30の水切りが行なわれる。尚、水切りの手段とし
て、フィルム又はゴム板によって金属薄板の表面をスキ
ージするような方式を採用するようにしてもよい。
【0018】水切りされた金属薄板30は、第1のバーニ
ング処理部20へ搬送される。第1のバーニング処理部20
には、バーニングチャンバ50が配設されており、バーニ
ングチャンバ50の内部には、金属薄板30の搬送路に沿っ
てその両側にそれぞれ多数個の赤外線ヒータ52が列設さ
れている。そして、バーニングチャンバ50内を金属薄板
30が通過する間に、金属薄板30は、レジストが硬くなり
過ぎたり炭化したりしないような温度、例えば200℃
程度まで加熱される。この第1のバーニング処理部20で
は、次に説明するように金属薄板30をコイル形態に巻き
取った際にレジストが互いに密着しない程度に加熱処理
されればよく、金属薄板30は、例えば2分間程度でバー
ニングチャンバ50内を通過するようにされている。尚、
金属薄板を加熱するのに、熱風を用いるようにしてもよ
いし、また誘導加熱方式などを利用するようにしてもよ
い。
ング処理部20へ搬送される。第1のバーニング処理部20
には、バーニングチャンバ50が配設されており、バーニ
ングチャンバ50の内部には、金属薄板30の搬送路に沿っ
てその両側にそれぞれ多数個の赤外線ヒータ52が列設さ
れている。そして、バーニングチャンバ50内を金属薄板
30が通過する間に、金属薄板30は、レジストが硬くなり
過ぎたり炭化したりしないような温度、例えば200℃
程度まで加熱される。この第1のバーニング処理部20で
は、次に説明するように金属薄板30をコイル形態に巻き
取った際にレジストが互いに密着しない程度に加熱処理
されればよく、金属薄板30は、例えば2分間程度でバー
ニングチャンバ50内を通過するようにされている。尚、
金属薄板を加熱するのに、熱風を用いるようにしてもよ
いし、また誘導加熱方式などを利用するようにしてもよ
い。
【0019】第1のバーニング処理部20で第1回目の加
熱処理が施された金属薄板30は、駆動用ローラ56を経
て、金属薄板の巻取り部22で一旦コイル54の形態に巻き
取られる。図中の58は、金属薄板の搬送用ローラであ
る。
熱処理が施された金属薄板30は、駆動用ローラ56を経
て、金属薄板の巻取り部22で一旦コイル54の形態に巻き
取られる。図中の58は、金属薄板の搬送用ローラであ
る。
【0020】金属薄板のコイル54は、コイル搬送機26に
移載され、コイル搬送機26によって第2のバーニング処
理部24へ搬送される。第2のバーニング処理部24には、
熱処理室60が配設されており、この熱処理室60内には複
数のコイル54を同時に収容することができる。熱処理室
60には、蒸気発生ボイラー64、熱交換器66及びファン68
を備えた熱風供給装置62が併設されており、その熱風供
給装置62によって熱処理室60内へ熱風を供給することに
より、熱処理室60内の雰囲気温度を例えば180℃に保
持することができるようになっている。そして、熱処理
室60内に複数のコイル54を同時に収容し、熱処理室60の
内部を180℃の温度に保ち、コイル54の形態の金属薄
板に対し、例えば30分〜5時間第2回目の加熱処理が
施され、硬膜処理が終了する。
移載され、コイル搬送機26によって第2のバーニング処
理部24へ搬送される。第2のバーニング処理部24には、
熱処理室60が配設されており、この熱処理室60内には複
数のコイル54を同時に収容することができる。熱処理室
60には、蒸気発生ボイラー64、熱交換器66及びファン68
を備えた熱風供給装置62が併設されており、その熱風供
給装置62によって熱処理室60内へ熱風を供給することに
より、熱処理室60内の雰囲気温度を例えば180℃に保
持することができるようになっている。そして、熱処理
室60内に複数のコイル54を同時に収容し、熱処理室60の
内部を180℃の温度に保ち、コイル54の形態の金属薄
板に対し、例えば30分〜5時間第2回目の加熱処理が
施され、硬膜処理が終了する。
【0021】以上のような構成の装置を使用し、焼付け
の終わったレジスト膜が両主面に被着された金属薄板30
を伸長させた状態で現像処理部12、硬膜液供給部14、水
洗部16、水切り部18及び第1のバーニング処理部20へ順
次搬送しながら処理し、コイル54の形態の金属薄板を第
2のバーニング処理部24へ搬送して処理することによ
り、金属薄板30の両主面に被着されたレジスト膜が現像
及び硬膜処理され、所要のパターン画像を有するレジス
ト膜が両主面に被着形成された金属薄板が得られる。そ
して、この硬膜方法では、バーニング処理を2回に分け
て200〜180℃といった比較的低い温度で行なうよ
うにし、また、第2のバーニング処理部24での第2回目
の加熱処理では、完全にクロムが3価になるのに十分な
処理時間をかけて金属薄板を加熱処理するようにしてい
る。このため、レジストが硬くなり過ぎたり炭化が生じ
たりしてレジスト膜が脆くなるといったことがなく、ま
た、耐エッチング性並びに金属薄板との密着性に優れた
レジスト膜が得られることになる。そして、現像処理か
ら第1回目の加熱処理までの一連の工程は、金属薄板30
の搬送速度を従来通りのままにして行なえばよいため、
現像処理時間が長くなり過ぎたりすることはなく、ま
た、従来の設備をそのまま使用して処理を行なうことが
できる。さらに、第2のバーニング処理部24では、複数
のコイル54をまとめて金属薄板の加熱処理が行なわれる
ため、生産性を落とさないで処理することができる。
の終わったレジスト膜が両主面に被着された金属薄板30
を伸長させた状態で現像処理部12、硬膜液供給部14、水
洗部16、水切り部18及び第1のバーニング処理部20へ順
次搬送しながら処理し、コイル54の形態の金属薄板を第
2のバーニング処理部24へ搬送して処理することによ
り、金属薄板30の両主面に被着されたレジスト膜が現像
及び硬膜処理され、所要のパターン画像を有するレジス
ト膜が両主面に被着形成された金属薄板が得られる。そ
して、この硬膜方法では、バーニング処理を2回に分け
て200〜180℃といった比較的低い温度で行なうよ
うにし、また、第2のバーニング処理部24での第2回目
の加熱処理では、完全にクロムが3価になるのに十分な
処理時間をかけて金属薄板を加熱処理するようにしてい
る。このため、レジストが硬くなり過ぎたり炭化が生じ
たりしてレジスト膜が脆くなるといったことがなく、ま
た、耐エッチング性並びに金属薄板との密着性に優れた
レジスト膜が得られることになる。そして、現像処理か
ら第1回目の加熱処理までの一連の工程は、金属薄板30
の搬送速度を従来通りのままにして行なえばよいため、
現像処理時間が長くなり過ぎたりすることはなく、ま
た、従来の設備をそのまま使用して処理を行なうことが
できる。さらに、第2のバーニング処理部24では、複数
のコイル54をまとめて金属薄板の加熱処理が行なわれる
ため、生産性を落とさないで処理することができる。
【0022】尚、レジストとしては、牛乳カゼインやP
VAの他にも、フィッシュグルー、ゼラチン、卵白など
の天然高分子、或いはポリアクリルアミドなどの合成高
分子に、重クロム酸塩、ジアゾニウム塩、アジド化合物
などをセンシタイザーとして加えたものが一般に使用さ
れるが、これらのレジストの耐エッチング性及び基板と
の密着性の向上を目的として、現像処理後において重ク
ロム酸塩、ジアゾニウム塩類、アジド化合物、アルデヒ
ド類などの溶液を使用して硬膜処理するようにしてもよ
い。これらの場合にも、高分子化合物の熱硬化と硬膜剤
による架橋反応とを利用する点では同じであり、この発
明を同様に適用することができる。
VAの他にも、フィッシュグルー、ゼラチン、卵白など
の天然高分子、或いはポリアクリルアミドなどの合成高
分子に、重クロム酸塩、ジアゾニウム塩、アジド化合物
などをセンシタイザーとして加えたものが一般に使用さ
れるが、これらのレジストの耐エッチング性及び基板と
の密着性の向上を目的として、現像処理後において重ク
ロム酸塩、ジアゾニウム塩類、アジド化合物、アルデヒ
ド類などの溶液を使用して硬膜処理するようにしてもよ
い。これらの場合にも、高分子化合物の熱硬化と硬膜剤
による架橋反応とを利用する点では同じであり、この発
明を同様に適用することができる。
【0023】
【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
かつ作用するので、この発明に係る硬膜方法によりレジ
ストの硬膜処理を行なうようにしたときは、エッチング
の時間が長くなってもエッチング時にレジスト膜の欠け
が生じるようなことがなく、かつ、耐エッチング性及び
金属薄板との密着性の良好なレジスト膜を形成すること
ができ、また、現像処理時間は従来通りであってレジス
ト膜の解像度は低下することがなく、このため、適正な
透孔が形成された良好なシャドウマスクが得られる。ま
た、生産性を高く維持することができ、さらに、非常に
大きなバーニング炉を必要とするといったこともなく、
第2の加熱処理工程を実施するための熱処理設備を付加
するだけで、従来の設備をそのまま使用することができ
る。そして、第2回目の加熱処理は金属薄板をコイル状
に巻き取った状態で行なわれるため、付加する熱処理設
備もコンパクト化することができる。
かつ作用するので、この発明に係る硬膜方法によりレジ
ストの硬膜処理を行なうようにしたときは、エッチング
の時間が長くなってもエッチング時にレジスト膜の欠け
が生じるようなことがなく、かつ、耐エッチング性及び
金属薄板との密着性の良好なレジスト膜を形成すること
ができ、また、現像処理時間は従来通りであってレジス
ト膜の解像度は低下することがなく、このため、適正な
透孔が形成された良好なシャドウマスクが得られる。ま
た、生産性を高く維持することができ、さらに、非常に
大きなバーニング炉を必要とするといったこともなく、
第2の加熱処理工程を実施するための熱処理設備を付加
するだけで、従来の設備をそのまま使用することができ
る。そして、第2回目の加熱処理は金属薄板をコイル状
に巻き取った状態で行なわれるため、付加する熱処理設
備もコンパクト化することができる。
【図1】この発明に係る水溶性フォトレジストの硬膜方
法を実施するための装置構成の1例を示し、シャドウマ
スクの製造装置のうちの現像・硬膜処理部の構成を模式
的に示す概略図である。
法を実施するための装置構成の1例を示し、シャドウマ
スクの製造装置のうちの現像・硬膜処理部の構成を模式
的に示す概略図である。
【図2】従来の硬膜方法における問題点を説明するため
の図であって、シャドウマスク材の部分拡大断面図であ
る。
の図であって、シャドウマスク材の部分拡大断面図であ
る。
12 現像処理部 14 硬膜液供給部 16 水洗部 18 水切り部 20 第1のバーニング処理部 22 金属薄板の巻取り部 24 第2のバーニング処理部 30 伸長状態の金属薄板 32 現像槽 34 スプレイノズル 36 硬膜液槽 38 硬膜液(無水クロム酸水溶液) 40 シャワーノズル 42 水洗槽 44 スプレイノズル 46 絞りローラ 48 エアーナイフ 50 バーニングチャンバ 52 赤外線ヒータ 54 金属薄板が巻き取られたコイル 60 熱処理室 62 熱風供給装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浜田 雄志 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神 北町1番地の1 大日本スクリーン製造株 式会社内
Claims (1)
- 【請求項1】 表面に現像処理を終えた水溶性フォトレ
ジスト膜が被着された長尺帯状の金属薄板に硬膜液を供
給した後、金属薄板を加熱処理する水溶性フォトレジス
トの硬膜方法において、 金属薄板の加熱処理を、 金属薄板を伸長させた状態で金属薄板に対し加熱処理を
施す第1の加熱処理工程と、 この第1の加熱処理工程で加熱処理が施された伸長状態
の金属薄板をコイル状に巻き取る巻取り工程と、 金属薄板をコイル状に巻き取った状態で金属薄板に対し
加熱処理を施す第2の加熱処理工程とを経ることによっ
て行なうことを特徴とする水溶性フォトレジストの硬膜
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16276794A JPH086262A (ja) | 1994-06-20 | 1994-06-20 | 水溶性フォトレジストの硬膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16276794A JPH086262A (ja) | 1994-06-20 | 1994-06-20 | 水溶性フォトレジストの硬膜方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH086262A true JPH086262A (ja) | 1996-01-12 |
Family
ID=15760840
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16276794A Pending JPH086262A (ja) | 1994-06-20 | 1994-06-20 | 水溶性フォトレジストの硬膜方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH086262A (ja) |
-
1994
- 1994-06-20 JP JP16276794A patent/JPH086262A/ja active Pending
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