JPH0864661A - X−yステージ及びこれを有する荷電粒子ビーム露光装置 - Google Patents
X−yステージ及びこれを有する荷電粒子ビーム露光装置Info
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- JPH0864661A JPH0864661A JP19444194A JP19444194A JPH0864661A JP H0864661 A JPH0864661 A JP H0864661A JP 19444194 A JP19444194 A JP 19444194A JP 19444194 A JP19444194 A JP 19444194A JP H0864661 A JPH0864661 A JP H0864661A
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Abstract
要求を満足することのできるX−Yステージを実現す
る。 【構成】 第1のガイドレール5と直交する第2のガイ
ドレール6を有する、ベース1に対して、X方向及びY
方向へ移動可能に設けられたステージ2と、ベースとス
テージとの間に配置され、第1のガイドレールに対して
複数設けられた第1の車輪15と、第2のガイドレール
に対して複数設けられた第2の車輪16とを有するスラ
イダ3とからなる。スライダは、少なくとも3箇所に配
置される。
Description
荷電粒子ビーム露光装置に係り、特に高精度及び高速度
の移動及びコンパクト化が求められる半導体製造装置や
工作機械等で使用されるX−Yステージ及びX−Yステ
ージを有する荷電粒子ビーム露光装置に関する。
機械等で、X−Yステージ上に載置された、処理を施さ
れる部材を移動するのに使用される。近年、この様なX
−Yステージに対して、高精度及び高速度の移動及びコ
ンパクト化の要求が高まっている。
示す斜視図である。同図中、X−Yステージは、大略ベ
ース100と、Xステージ101と、Yステージ102
とからなる。処理を施される部材(図示せず)は、Yス
テージ102上に載置される。ベース100には、溝1
11内に一対のリテーナ112と、上面100aに一対
のリテーナ113とが配置されている。各リテーナ11
2,113には、複数の円柱又は球114が回転可能に
設けられている。これらのリテーナ112,113は、
夫々X方向へ移動可能である。
されており、この状態でリテーナ112はXステージ1
01の凸部115を案内し、リテーナ113はXステー
ジ101の底面を案内する。つまり、リテーナ112は
Xステージ101を正確にX方向へ案内し、リテーナ1
13はXステージ101の荷重を支える。尚、Xステー
ジ101は、ロッド116の一端に固定されており、ロ
ッド116の他端に設けられたアクチュエータ(図示せ
ず)によりX方向へ移動される。リテーナ112,11
3は、夫々Xステージ101の移動と共にX方向へ移動
する。
のリテーナ118と、上面101aに一対のリテーナ1
19とが配置されている。各リテーナ118,119に
は、複数の円柱又は球114が回転可能に設けられてい
る。これらのリテーナ118,119は、夫々Y方向へ
移動可能である。
載置されており、この状態でリテーナ118はYステー
ジ102の凸部120を案内し、リテーナ119はYス
テージ102の底面を案内する。つまり、リテーナ11
8はYステージ102を正確にY方向へ案内し、リテー
ナ119はYステージ102の荷重を支える。尚、Yス
テージ102は、ロッド122の一端にYステージ10
2のX方向の移動を可能とする摺動機構121を介して
接続されており、ロッド122の他端に設けられたアク
チュエータ(図示せず)によりY方向へ移動される。リ
テーナ118,119は、夫々Yステージ102の移動
と共にY方向へ移動する。
ッド116,122の移動方向及び移動量に応じてX−
Y方向へ移動する。
−Yステージで高精度及び高速度の移動及びコンパクト
化の要求を満足させようとすると、次の様な問題があっ
た。
には、大量に使用する円柱又は球114が高い精度及び
高い均一性を有することが要求されるが、この様な要求
を満たす円柱又は球の製造は非常に困難であった。
2は、いずれも円柱又は球114で支持されているの
で、所謂多点接触となり、Xステージ101及びYステ
ージ102をガタを生じることなく正確に平面上を移動
させることは難しかった。これは、上記の如く、円柱又
は球114の精度にバラツキが不可避的に生じることに
もよる。そこで、各円柱又は球114を多少弾性変形す
る材質で形成し、ガタを無くすことが考えられる。この
場合、円柱又は球114は、Xステージ101又はYス
テージ102の荷重によって弾性変形する。しかし、X
ステージ101又はYステージ102が、その荷重か加
わっていない(即ち、弾性変形していない)円柱又は球
114を乗り越える際、乗り越える先端部分及び反対側
の後端部分が多少上下にぶれるピッチングを引き起こし
てしまう。このため、特に円柱又は球114が細かい間
隔(ピッチ)で設けられているので、Xステージ101
及びYステージ102の移動が不連続となってしまうと
いう新たな問題が生じてしまい、安定、且つ、一定な移
動は期待できない。
部品点数も多いため、X−Yステージ全体が重くなって
しまい、X−Yステージを高速で移動することは困難で
あった。つまり、Xステージ101を移動するには、X
ステージ101及びYステージ102の両方の荷重に対
して駆動力を加える必要があった。
119は、Xステージ101及びYステージ102を転
がり摩擦を利用して移動するために、対応するXステー
ジ101及びYステージ102の移動に同期して移動す
る構成となっている。このため、X−Yステージの端部
では、リテーナはリテーナ止め(図示せず)に当接して
落下しないようにされている。しかし、Xステージ10
1及び/又はYステージ102の移動中にリテーナがリ
テーナ止めに当接すると、その衝撃でX−Yステージの
位置を検出するためのカウンタ(図示せず)のカウント
値に誤りが生じてしまい、X−Yステージの連続移動の
継続は不可能となり、処理を一旦停止する必要があっ
た。又、リテーナが出来るだけリテーナ止めに当接しな
いようにするためには、X−Yステージ全体を大きくす
る必要があり、この場合にはX−Yステージのコンパク
ト化は不可能であった。
ベース100とXステージ101とYステージ102か
らなる三重構造を有していた。つまり、Xステージ10
1はベース100上に配置され、Yステージ102はX
ステージ上に配置されていた。このため、Yステージ1
02の下には案内機構等が配置されており、Yステージ
102上に載置された、処理を施される部材に対して、
Yステージ102の下方から処理を施すことは不可能で
あった。又、下方からの処理を施すために、ベース10
0の中央部分に開口部を設けることも、対向する部分に
案内機構等があるために不可能であった。
ンパクト化の要求を満足することのできるX−Yステー
ジを実現しようとする。
第1のガイドレールを有するベースと、前記第1のガイ
ドレールと直交する方向に延在する第2のガイドレール
を有し、前記ベースに対して互いに直交するX方向及び
Y方向へ移動可能に設けられたステージと、前記ベース
と前記ステージとの間に配置され、前記第1のガイドレ
ールに対して複数設けられ、且つ、これに案内されて回
転する第1の車輪と、前記第2のガイドレールに対して
複数設けられ、且つ、これに案内されて回転する第2の
車輪とを有するスライダとからなり、前記第1の車輪
は、前記ステージの前記第2のガイドレールの延在する
方向への移動時に、前記第1のガイドレールとの係合に
より、前記スライダの前記第2のガイドレールの延在す
る方向への移動を阻止し、前記第2の車輪は、前記ステ
ージの前記第1のガイドレールの延在する方向への移動
時に、前記第2のガイドレールとの係合により、前記ス
ライダの前記第1のガイドレールの延在する方向への移
動を阻止し、前記スライダは、少なくとも3箇所に配置
される。
は、X方向上対向する2箇所と、Y方向上対向する2箇
所の、合計4箇所に配置されている。
は、X方向上前記ステージの一端に対応する1箇所と、
Y方向上前記ステージの一端に対応する1箇所と、前記
ステージの二端で挟まれた角部と対角線上の1箇所の、
合計3箇所に配置されている。請求項4記載の発明で
は、前記第1のガイドレールは第1の溝を有し、前記第
1の車輪は第1の溝内を案内されて前記第1のガイドレ
ールの延在方向に沿って回転する。
ドレールは第2の溝を有し、前記第2の車輪は第2の溝
内を案内されて前記第2のガイドレールの延在方向に沿
って回転する。
2の車輪は、夫々ラジアル荷重及びスラスト荷重を個別
に受けるベアリングを介して前記スライダに取付られて
いる。
2の車輪は、夫々対応する前記第1及び第2のガイドレ
ールと接触する方向上の位置を調整する機構を介して前
記スライダに取付られている。
は、前記第1のガイドレールを挟み込んで前記第1のガ
イドレールの延在方向に沿って回転する。
は、前記第2のガイドレールを挟み込んで前記第2のガ
イドレールの延在方向に沿って回転する。
中央部分には開口部が設けられている。
0のうち一項記載のX−Yステージに載置された基板に
対して荷電粒子ビームを照射する荷電粒子ビーム露光装
置において、絞りを介して得た荷電粒子ビームを、その
磁場中で集束、結像させるインレンズ型イマージョンレ
ンズを有する。請求項12記載の発明では、前記インレ
ンズ型イマージョンレンズは、前記X−Yステージを挟
むように配置された一対の電磁レンズからなる。
た円柱又は球の如き精度の高い部品を使用する必要がな
く、1枚のステージがX−Y方向に移動する簡単な構成
を用いている。このため、ステージの高精度及び高速度
の移動をガタを生ずることなく連続的に行うことができ
る。又、部品点数も少なく、X−Yステージ全体を小型
化及び軽量化できる。更に、ステージの中央部分に対応
するベースの部分に開口部を設けることもできる。
4点で支持されるので、安定したステージ移動が可能で
ある。
3点で支持されるので、案内機構がより簡単となり、X
−Yステージの更なる小型化及び軽量化が可能である。
案内機構の部品点数が少なくて済み、X−Yステージの
構成が非常に簡単となる。
案内機構の部品点数が少なくて済み、X−Yステージの
構成が非常に簡単となる。
確実に、且つ、ガタを生ずることなく移動することがで
きる。
バラツキや取付け誤差等が生じても、ステージを安定に
案内することができる。
寿命が長く、且つ、精度の高い案内機構により案内でき
る。
寿命が長く、且つ、精度の高い案内機構により案内でき
る。
テージを、ベースの下側からも処理を施すような装置に
適用可能である。
のボケ)を少なくすることができるので解像度が向上で
き、又、従来と同程度の解像度を得る場合には絞りの径
を大きくすることができるのでその分荷電粒子ビームの
照射時間を短くでき、スループットの大幅向上が可能と
なる。
成で荷電粒子ビームをレンズの磁場中で集束、結像させ
ることができる。
施例を図1と共に説明する。図1は、第1実施例を示
し、同図(a)は平面図、同図(b)は正面図を示す。
と、上板(ステージ)2と、スライダ3−1〜3−4と
からなる。本実施例では、4つのスライダ3−1〜3−
4が設けられ、上板2はこれらのスライダ3−1〜3−
4を介して下板1に対して互いに直交するX方向及びY
方向へ移動可能である。4つのスライダ3−1〜3−4
の内、2つのスライダ3−3,3−4はX方向上対向す
る左右の位置に配置され、残りの2つのスライダ3−
1,3−2はY方向上対向する上下の位置に配置され
る。
構成を有する。図2は、説明の便宜上、スライダ3−3
を示す。同図中、(a)はスライダ3−1の平面図、
(b)はスライダ3−3の正面図を示す。
の支持部材14と、この支持部材14の互いに直交する
方向に延在する部分に設けられた車輪15,16とから
なる。車輪15は、同図では見えないベアリングを介し
てネジ15aにより支持部材14に回転可能に取付けら
れている。同様に、車輪16は、同図では見えないベア
リングを介してネジ16aにより支持部材14に回転可
能に取付けられている。本実施例では、2つの車輪15
と2つの車輪16の、合計4つの車輪が設けられている
が、車輪の数は勿論これに限定されるものではない。
図1に示す下板1の対応するガイドレール6の溝6aに
沿って回転可能であり、これによりスライダ3−3,3
−4はX方向へ移動可能である。他方、スライダ3−
3,3−4の各車輪15は、図1に示す下板1の対応す
るガイドレール5の溝5aに沿って回転可能であり、こ
れによりスライダ3−3,3−4はY方向へ移動可能で
ある。
対応するガイドレール5の溝5a内で案内されつつ回転
するので、スライダ3−3,3−4、即ち、上板2のX
方向のブレやズレは生じない。他方、スライダ3−3,
3−4の各車輪16は、対応するガイドレール6の溝6
a内で案内されつつ回転するので、スライダ3−3,3
−4、即ち、上板2のY方向のブレやズレは生じない。
つまり、上板2がX方向へ移動する場合は、スライダ3
−3,3−4の各車輪15が対応するガイドレール5の
溝5aと係合してX方向に関してはロックされているの
で、スライダ3−3,3−4の各車輪16が対応するガ
イドレール6の溝6aに沿って案内される状態でスライ
ダ3−3,3−4及び上板2が一体となって移動する。
又、上板2がY方向へ移動する場合は、スライダ3−
3,3−4の各車輪16が対応するガイドレール6の溝
6aと係合してY方向に関してはロックされているの
で、スライダ3−3,3−4の各車輪15が対応するガ
イドレール5の溝5aに沿って案内される状態でスライ
ダ3−3,3−4及び上板2が一体となって移動する。
同様に、スライダ3−1,3−2の各車輪16は、図1
に示す下板1の対応するガイドレール5の溝5aに沿っ
て回転可能であり、これによりスライダ3−1,3−2
はY方向へ移動可能である。他方、スライダ3−1,3
−2の各車輪15は、図1に示す下板1の対応するガイ
ドレール6の溝6aに沿って回転可能であり、これによ
りスライダ3−1,3−2はX方向へ移動可能である。
対応するガイドレール6の溝6a内で案内されつつ回転
するので、スライダ3−1,3−2、即ち、上板2のY
方向のブレやズレは生じない。他方、スライダ3−1,
3−2の各車輪16は、対応するガイドレール5の溝5
a内で案内されつつ回転するので、スライダ3−1,3
−2、即ち、上板2のX方向のブレやズレは生じない。
つまり、上板2がY方向へ移動する場合は、スライダ3
−1,3−2の各車輪15が対応するガイドレール6の
溝6aと係合してX方向に関してはロックされているの
で、スライダ3−1,3−2の各車輪16が対応するガ
イドレール5の溝5aに沿って案内される状態でスライ
ダ3−1,3−1及び上板2が一体となって移動する。
又、上板2がX方向へ移動する場合は、スライダ3−
1,3−2の各車輪16が対応するガイドレール5の溝
5aと係合してY方向に関してはロックされているの
で、スライダ3−1,3−2の各車輪15が対応するガ
イドレール6の溝6aに沿って案内される状態でスライ
ダ3−1,3−2及び上板2が一体となって移動する。
車輪15の間隔及び車輪16の間隔は、夫々上記図7の
従来例における円柱又は球114の間隔に比べて大きい
ので、車輪15,16の製造バラツキや取付誤差が生じ
ても、従来の如きピッチングの問題は実質的に無視し得
る。又、車輪15,16の数は上記従来例における円柱
又は球114の数に比べて極めて少ないので、X−Yス
テージの部品点数も少なく、構成も簡単である。
ール5,6の溝5a,6aの形状は、特に限定されない
が、これらの間の摩擦をできるだけ少なくして車輪1
5,16の回転を円滑にすると共に、車輪15,16の
移動方向以外の方向への移動を確実に阻止する形状とす
ることが望ましい。
ように車輪15にテーパ15bを設け、対応するガイド
レール5の溝5aにテーパ5a−1を形成することによ
り、図3(b)の正面図に示すように車輪15のX方向
の移動は確実にロックされる。又、車輪15と溝5aと
の間の摩擦は、テーパ15b,5a−1の作用により軽
減されているので、車輪15は円滑に回転してスライダ
3のY方向への円滑な移動を可能とする。
aとの関係も、図3に示した車輪15と対応するガイド
レール5の溝5aとの関係と同様に設定可能である。
れる。このため、取付誤差や各部品の製造バラツキ等に
より、上板2もスライダ3−1〜3−4の内3点(3つ
の車輪)を介して下板1上に支持される場合もある。こ
の場合、上板2の移動に伴いX−Yステージの重心が移
動すると、上板2にガタが生じてしまう。
う上板2にガタは、図4に示す如き車輪の高さ位置が調
整可能な構成を用いることにより防止できる。図4は、
便宜上、車輪16と対応するガイドレール6の溝6aと
の横から見た断面を示すが、車輪15と対応するガイド
レール5の溝5aともこれらと同様の構成とすることが
できる。
1及びスラスト球22からなるベアリング及びリテーナ
23を介して軸24,25に回転可能に支持されてい
る。軸24,25は、ネジ16aにより固定されてい
る。又、車輪16の回転中心O1と軸24,25の中心
O2とは偏心している。この様な球21,22の配置に
より、ラジアル荷重及びスラスト荷重を個別に受けるベ
アリングが構成される。ネジ16aを締めることによ
り、スラスト球22に充分な余圧がかけられる。更に、
ラジアル球21に関しては、軸24寸法及び車輪16の
外径を適切に設定することにより、充分な余圧をかけら
れる。軸24は、例えば図2に示した支持部材14に取
付けられる。
レール6と係合する。具体的には、車輪16のテーパ1
6aが対応するガイドレール6のテーパ6a−1と当接
する。このため、車輪16はガイドレール6によりY方
向に関してはロックされ、X方向に関しては溝6aに沿
って円滑に回転移動可能である。
れば、上板2が確実に4点で支持されるので、X−Yス
テージの重心の移動に伴う上板2にガタを防止すること
ができる。
エータ等の駆動手段がロッド7,8を駆動して上板2を
X−Y方向へ移動させる。上板2をX方向へ移動するロ
ッド7は例えば同図中RXで示す位置でスライダ3−4
に接続される。又、上板2をY方向へ移動するロッド8
は例えば同図中RYで示す位置でスライダ3−2に接続
される。しかし、ロッド7,8を上記RX,RYで示す
位置で直接上板2に接続することも可能である。いずれ
にしても、ロッド7,8の接続位置は、RX,RYで示
す位置に限定されず、結果的に上板2をX−Y方向に移
動できればどの位置に接続しても良い。
上板2とからなる二重構造を有し、従来例の三重構造と
比較すると構成が簡単であると共に、重量も軽い。この
ため、上板2を容易に高速で移動することができる。
又、1枚の上板2がX−Y方向に移動する構成であるた
め、X−Yステージ全体の小型化が可能である。更に、
上板2は簡単な構成のスライダ3−1〜3−4を介して
X−Y方向に移動する構造を取っているので、上板2の
中央部分の下には案内機構等が配置されておらず、上板
2上に載置された、処理を施される部材に対して、上板
2の下方から処理を施すことも可能である。又、電子ビ
ーム露光装置等の荷電粒子ビーム露光装置においてX−
Yステージを上下のコラムで挟み込み下方からの処理を
施すために、下板1の中央部分に図1(b)に破線で示
すように開口部1aを設けることも、対向する部分に案
内機構等が存在しないために可能である。更に、上板2
の中央部分と下板1との間に、必要に応じて空間を設け
ることもできる。
実施例を図5と共に説明する。図5は、第2実施例を示
し、同図(a)は平面図、同図(b)は正面図を示す。
図5中、図1と同一部分は同一符号を付し、その説明は
省略する。
れていない。つまり、上板2は、スライダ3−2,3−
4,3−5の3点(3つの車輪)を介して下板1上に支
持される。図5に示すように、1つのスライダ3−4は
左端の位置、1つのスライダ3−2は上端の位置、残り
の1つのスライダ3−5は斜め右下の位置に配置され
る。
す下板1の対応するガイドレール6−1の溝6−1aに
沿って回転可能であり、これによりスライダ3−5はX
方向と45度を成す方向へ移動可能である。他方、スラ
イダ3−5の各車輪15は、図5に示す下板1の対応す
るガイドレール5−1の溝5−1aに沿って回転可能で
あり、これによりスライダ3−5はY方向と45度を成
す方向へ移動可能である。スライダ3−5及びガイドレ
ール5−1,6−1自体の構成は、上記スライダ3−1
〜3−4及びガイドレール5,6の構成と同じである。
部品の製造バラツキ等があっても、上板2は常に3点
(3つの車輪)を介して下板1上に支持されるので、上
板2の移動に伴いX−Yステージの重心が移動しても、
上板2にガタが生じることはない。従って、図4の如き
車輪の高さ位置の調整機能がなくとも、X−Yステージ
の重心の移動に伴い上板2のガタが生じることはない。
エータ等の駆動手段がロッドを駆動して上板2をX−Y
方向へ移動させる。上板2をX方向へ移動するロッドは
例えば同図中RXで示す位置でスライダ3−4に接続さ
れる。又、上板2をY方向へ移動するロッドは例えば同
図中RYで示す位置でスライダ3−2に接続される。し
かし、ロッドを上記RX,RYで示す位置で直接上板2
に接続することも可能である。いずれにしても、ロッド
の接続位置は、RX,RYで示す位置に限定されず、結
果的に上板2をX−Y方向に移動できればどの位置に接
続しても良い。更に、X−Y方向に駆動される単一のロ
ッドを例えば同図中RZで示す位置でスライダ3−4又
は上板2に直接接続しても良い。
施例を図6と共に説明する。図6(a)はスライダ及び
ガイドレールの平面図、同図(b)はスライダ及びガイ
ドレールの正面図である。尚、説明の便宜上、図6は図
1に示すスライダ3−3に対応するスライダを示すもの
とする。又、図6中、図1及び図2と同一部分には同一
符号を付し、その説明は省略する。
4と、この支持部材44に回転可能に設けられた車輪4
5,46,47,48とからなる。各車輪45は、同図
では見えないベアリングを介してネジ45aにより支持
部材44に回転可能に取付けられている。同様に、各車
輪46は、同図では見えないベアリングを介してネジ4
6aにより支持部材44に回転可能に取付けられてい
る。各車輪47は、同図では見えないベアリングを介し
てネジ47aにより支持部材44に回転可能に取付けら
れている。同様に、各車輪48は、同図では見えないベ
アリングを介してネジ48aにより支持部材44に回転
可能に取付けられている。本実施例では、4つの車輪4
5と4つの車輪46と、2つの車輪47と、2つの車輪
48の、合計12個の車輪が設けられているが、車輪の
数は勿論これに限定されるものではない。
応するガイドレール36を挟んだ状態でガイドレール3
6に沿って回転可能であり、これによりスライダ3−3
はX方向へ移動可能である。又、スライダ3−3がX方
向へ移動する際、各車輪48は、ガイドレール36の上
をこのガイドレール36に沿って回転する。他方、スラ
イダ3−3の各車輪45は、下板1の対応するガイドレ
ール35を挟んだ状態でガイドレール35に沿って回転
可能であり、これによりスライダ3−3はY方向へ移動
可能である。又、スライダ3−3がY方向へ移動する
際、各車輪47は、ガイドレール35の上をこのガイド
レール35に沿って回転する。
ガイドレール35に案内されつつ回転するので、スライ
ダ3−3、即ち、上板2のX方向のブレやズレは生じな
い。他方、スライダ3−3の各車輪46は、対応するガ
イドレール36に案内されつつ回転するので、スライダ
3−3、即ち、上板2のY方向のブレやズレは生じな
い。つまり、上板2がX方向へ移動する場合は、スライ
ダ3−3の各車輪45が対応するガイドレール35と係
合してX方向に関してはロックされているので、スライ
ダ3−3の各車輪46が対応するガイドレール36に沿
って案内される状態でスライダ3−3及び上板2が一体
となって移動する。又、上板2がY方向へ移動する場合
は、スライダ3−3の各車輪46が対応するガイドレー
ル36と係合してY方向に関してはロックされているの
で、スライダ3−3の各車輪45が対応するガイドレー
ル35に沿って案内される状態でスライダ3−3及び上
板2が一体となって移動する。
荷重を下板1に対して支える機能を有する。つまり、図
2に示すスライダの構成では、各車輪15,16が対応
するガイドレール5,6に沿ってスライダを案内する機
能と上板2の荷重を支える機能との両方を兼ね備えてい
るが、図6に示すスライダの構成では、対応するガイド
レール35,36に沿ってスライダを案内する機能と上
板2の荷重を支える機能とを、別々の車輪で受けもって
いる。具体的には、各車輪45,46が対応するガイド
レール35,36に沿ってスライダを案内する機能を有
し、各車輪47,48が上板2の荷重を支える機能を有
する。
び第2実施例の各スライダ3−1〜3−5として使用し
得るが、動作は基本的には上記と同様であるので、その
説明は省略する。
るガイドレールの溝との接触により、双方の摩耗はある
程度避けられない。しかし、図6に示すスライダでは、
車輪がガイドレールを両側から挟む構成となっているの
で、摩耗は極めて少なく、X−Yステージの移動精度を
長期間にわたって維持することができる。
混在させて使用しても良い。又、一つのスライダに、一
方のガイドレールの溝に案内される車輪と、他方のガイ
ドレールを挟み込む車輪とを混在させて設けても良い。
限定されないが、硬度の高い材料を使用することが望ま
しい。硬度の高い材料の一例としては、超硬合金や窒化
ケイ素等のセラミックスが挙げられる。又、X−Yステ
ージを高真空中で使用する場合や磁性を嫌う電子ビーム
露光装置等で使用する場合は、各車輪を非磁性材料で形
成することが望ましい。又、ガイドレールの材質も特に
限定されないが、例えば超硬合金や窒化ケイ素等のセラ
ミックスといった硬度の高い材料を使用することが望ま
しい。
ジ)の形状は、言うまでもなく実施例のものに限定され
ない。
ズは、例えば図7に示す如き構成を有する。つまり、電
磁レンズ61は、ウエハ62を載置されたX−Yステー
ジ63の上方に配置されており、絞り64を介して得ら
れる電子ビームをウエハ62上に集束、結像させる。
尚、MFIは磁場強度、Iは電磁レンズ61の磁場強度
を示す。
ムは電磁レンズの磁場外で集束、結像される。これに対
して、図8に示すように電子ビームを電磁レンズの磁場
中で集束、結像させるインレンズ型イマージョンレンズ
が考えられる。
置の一実施例の要部を示す。図8において、第1及び第
2の電磁レンズ71,72は、ウエハ74を載置された
X−Yステージ73を挾むように配置されており、絞り
75を介して得られる電子ビームをウエハ74上に集
束、結像させる。尚、MFIは磁場強度、I1は第1の
電磁レンズ71の磁場強度、I2は第2の電磁レンズ7
2の磁場強度、I3は第1及び第2の電磁レンズ71,
72による合成磁場強度を示す。
によれば、電磁レンズの性能を示す数値である収差(像
のボケ)が少ない。図7の従来例で例えば0.03μm
程度のボケが生じるものとすると、図8のインレンズ型
イマージョンレンズによれば例えば0.01μm程度の
ボケに抑えることができ、解像度が約3倍に向上され
る。
ズによれば、図7の従来例と同じ解像度であれば、絞り
の径を大きくすることができる。一般に、絞りを大きく
すると、像が明るくなるのでその分電子ビームの照射時
間を短くすることができるが、像のボケは大きくなって
しまう。しかし、インレンズ型イマージョンレンズでは
上記の如くボケが小さいので、絞りを大きくしても所望
の解像度を確保することができる。例えば図8の構成で
図7の従来例と同程度のボケを許容した場合、絞りの径
を約1.3倍にすることができ、電子ビームの照射時間
は約60%に低下するので、スループットが向上可能と
なる。
を電磁レンズの磁場中で集束、結像させることは不可能
である。しかし、図8に示すインレンズ型イマージョン
レンズの場合でも、X−Yステージ73が図9に示す如
き三重構造を有していたのでは、X−Yステージ自体の
厚さ及び重量が大であり、又、X−Yステージの中央部
分の下方に案内機構等が設けられているために、電子ビ
ームを電磁レンズの磁場中で集束、結像することはでき
ない。そこで、X−Yステージ73として上記各実施例
の如き小型である本発明になるX−Yステージを用いる
ことにより、電子ビームを電磁レンズの磁場中に良好に
集束、結像させることができる。
等の荷電粒子ビーム露光装置に限定されず、X−Yステ
ージを必要とする各種加工装置にも適用可能である。
本発明はこれらの実施例に限定されるものではなく、本
発明の範囲内で種々の変形及び改良が可能であることは
言うまでもない。
していた円柱又は球の如き精度の高い部品を使用する必
要がなく、1枚のステージがX−Y方向に移動する簡単
な構成を用いている。このため、ステージの高精度及び
高速度の移動をガタを生ずることなく連続的に行うこと
ができる。又、部品点数も少なく、X−Yステージ全体
を小型化及び軽量化できる。更に、ステージの中央部分
に対応するベースの部分に開口部を設けることもでき
る。請求項2記載の発明によれば、ステージが4点で支
持されるので、安定したステージ移動が可能である。
3点で支持されるので、案内機構がより簡単となり、X
−Yステージの更なる小型化及び軽量化が可能である。
案内機構の部品点数が少なくて済み、X−Yステージの
構成が非常に簡単となる。
案内機構の部品点数が少なくて済み、X−Yステージの
構成が非常に簡単となる。
確実に、且つ、ガタを生ずることなく移動することがで
きる。
バラツキや取付け誤差等が生じても、ステージを安定に
案内することができる。
寿命が長く、且つ、精度の高い案内機構により案内でき
る。
寿命が長く、且つ、精度の高い案内機構により案内でき
る。
テージを、ベースの下側からも処理を施すような装置に
適用可能である。
のボケ)を少なくすることができるので解像度が向上で
き、又、従来と同程度の解像度を得る場合には絞りの径
を大きくすることができるのでその分荷電粒子ビームの
照射時間を短くでき、スループットの大幅向上が可能と
なる。
成で荷電粒子ビームをレンズの磁場中で集束、結像させ
ることができる。
す図である。
る。
る。
す図である。
例の要部を示す図である。
Claims (12)
- 【請求項1】 第1のガイドレールを有するベースと、 該第1のガイドレールと直交する方向に延在する第2の
ガイドレールを有し、該ベースに対して互いに直交する
X方向及びY方向へ移動可能に設けられたステージと、 該ベースと該ステージとの間に配置され、該第1のガイ
ドレールに対して複数設けられ、且つ、これに案内され
て回転する第1の車輪と、該第2のガイドレールに対し
て複数設けられ、且つ、これに案内されて回転する第2
の車輪とを有するスライダとからなり、 該第1の車輪は、該ステージの該第2のガイドレールの
延在する方向への移動時に、該第1のガイドレールとの
係合により、該スライダの該第2のガイドレールの延在
する方向への移動を阻止し、 該第2の車輪は、該ステージの該第1のガイドレールの
延在する方向への移動時に、該第2のガイドレールとの
係合により、該スライダの該第1のガイドレールの延在
する方向への移動を阻止し、 該スライダは、少なくとも3箇所に配置される、X−Y
ステージ。 - 【請求項2】 前記スライダは、X方向上対向する2箇
所と、Y方向上対向する2箇所の、合計4箇所に配置さ
れている、請求項1記載のX−Yステージ。 - 【請求項3】 前記スライダは、X方向上該ステージの
一端に対応する1箇所と、Y方向上該ステージの一端に
対応する1箇所と、該ステージの二端で挟まれた角部と
対角線上の1箇所の、合計3箇所に配置されている、請
求項1記載のX−Yステージ。 - 【請求項4】 前記第1のガイドレールは第1の溝を有
し、前記第1の車輪は第1の溝内を案内されて該第1の
ガイドレールの延在方向に沿って回転する、請求項1〜
3のうちいずれか一項記載のX−Yステージ。 - 【請求項5】 前記第2のガイドレールは第2の溝を有
し、前記第2の車輪は第2の溝内を案内されて該第2の
ガイドレールの延在方向に沿って回転する、請求項1〜
4のうちいずれか一項記載のX−Yステージ。 - 【請求項6】 前記第1及び第2の車輪は、夫々ラジア
ル荷重及びスラスト荷重を個別に受けるベアリングを介
して前記スライダに取付られている、請求項1〜5のう
ちいずれか一項記載のX−Yステージ。 - 【請求項7】 前記第1及び第2の車輪は、夫々対応す
る前記第1及び第2のガイドレールと接触する方向上の
位置を調整する機構を介して前記スライダに取付られて
いる、請求項6記載のX−Yステージ。 - 【請求項8】 前記第1の車輪は、前記第1のガイドレ
ールを挟み込んで該第1のガイドレールの延在方向に沿
って回転する、請求項1〜3のうちいずれか一項記載の
X−Yステージ。 - 【請求項9】 前記第2の車輪は、前記第2のガイドレ
ールを挟み込んで該第2のガイドレールの延在方向に沿
って回転する、請求項1〜3及び8のうちいずれか一項
記載のX−Yステージ。 - 【請求項10】 前記ベースの中央部分には開口部が設
けられている、請求項1〜9のうちいずれか一項記載の
X−Yステージ。 - 【請求項11】 請求項1〜10のうち一項記載のX−
Yステージに載置された基板に対して荷電粒子ビームを
照射する荷電粒子ビーム露光装置において、 絞りを介して得た荷電粒子ビームを、その磁場中で集
束、結像させるインレンズ型イマージョンレンズを有す
る、荷電粒子ビーム露光装置。 - 【請求項12】 前記インレンズ型イマージョンレンズ
は、前記X−Yステージを挟むように配置された一対の
電磁レンズからなる、請求項11記載の荷電粒子ビーム
露光装置。
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19444194A JP3342584B2 (ja) | 1994-08-18 | 1994-08-18 | X−yステージ及びこれを有する荷電粒子ビーム露光装置 |
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ID=16324644
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1994
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-
1995
- 1995-07-25 US US08/506,641 patent/US5561299A/en not_active Expired - Lifetime
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