JPH0867965A - 被覆基体及びその形成方法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学的性質の変化を最小にしながら改良され
た化学的及び機械的耐久性を被覆基体に与えることにあ
る。 【解決手段】 被覆基体は、基体及びその上に形成した
少なくとも一つの主被覆層を含む。この製品は、その上
に陰極真空スパッタリングによって形成した露出した保
護追加層を有することを特徴としている。保護層は、ケ
イ素の酸化物及びオキシ窒化物、及びケイ素の酸化物、
窒化物及びオキシ窒化物の１種以上の混合物から選択
し、１〜１０ｎｍの厚さ及び１．７未満の屈折率を有す
る。
た化学的及び機械的耐久性を被覆基体に与えることにあ
る。 【解決手段】 被覆基体は、基体及びその上に形成した
少なくとも一つの主被覆層を含む。この製品は、その上
に陰極真空スパッタリングによって形成した露出した保
護追加層を有することを特徴としている。保護層は、ケ
イ素の酸化物及びオキシ窒化物、及びケイ素の酸化物、
窒化物及びオキシ窒化物の１種以上の混合物から選択
し、１〜１０ｎｍの厚さ及び１．７未満の屈折率を有す
る。
Description
【０００１】本発明は、基体及びその上に形成した少な
くとも一つの主被覆層を含む被覆基体、及びかかる被覆
基体を形成する方法に関する。
くとも一つの主被覆層を含む被覆基体、及びかかる被覆
基体を形成する方法に関する。
【０００２】被覆基体は種々な目的のため種々な分野で
の用途が見出されている。例えば被覆ガラスは鏡に、装
飾製品に及び建築物及び自動車に使用するための太陽遮
蔽パネルに使用される。産業上利用しうる太陽遮蔽パネ
ルは、単一又は多重被覆を担持するガラスシートであ
り、外側被覆層は一般に、酸化物、窒化物又は金属被覆
例えば窒化チタン、酸化錫、酸化チタン又はクロムであ
る。これらの外側層は、特に真空蒸着法によって形成し
たとき、非常に薄く、使用中化学的侵害を受ける傾向が
あり、そして／又は使用中機械的侵害（例えば耐摩耗
性）に対して比較的敏感である。
の用途が見出されている。例えば被覆ガラスは鏡に、装
飾製品に及び建築物及び自動車に使用するための太陽遮
蔽パネルに使用される。産業上利用しうる太陽遮蔽パネ
ルは、単一又は多重被覆を担持するガラスシートであ
り、外側被覆層は一般に、酸化物、窒化物又は金属被覆
例えば窒化チタン、酸化錫、酸化チタン又はクロムであ
る。これらの外側層は、特に真空蒸着法によって形成し
たとき、非常に薄く、使用中化学的侵害を受ける傾向が
あり、そして／又は使用中機械的侵害（例えば耐摩耗
性）に対して比較的敏感である。
【０００３】被覆基体は、それらの有効寿命を限定する
傾向のある多くの条件に暴露されうる。貯蔵中、輸送中
及び窓ガラスに組立中、かかる被覆基体は機械的作用を
受け、これは擦傷又は他の欠陥の出現をもたらすことが
ある。周囲雰囲気に暴露中、被覆試料は大気中の汚染物
からの化学作用を受けることがある。被覆はまた皮膚と
の接触の結果として汗によっても損傷されることがあ
る。窓ガラス装置に組立てる前に、被覆を損傷すること
のある洗剤で被覆基体を洗うのが普通である。
傾向のある多くの条件に暴露されうる。貯蔵中、輸送中
及び窓ガラスに組立中、かかる被覆基体は機械的作用を
受け、これは擦傷又は他の欠陥の出現をもたらすことが
ある。周囲雰囲気に暴露中、被覆試料は大気中の汚染物
からの化学作用を受けることがある。被覆はまた皮膚と
の接触の結果として汗によっても損傷されることがあ
る。窓ガラス装置に組立てる前に、被覆を損傷すること
のある洗剤で被覆基体を洗うのが普通である。
【０００４】一定の被覆の耐久性は、中でも被覆の組成
及び各種被覆層が付着させられる方法によって決まる。
ある場合においては、外側被覆層の組成が、いくらか改
良された耐久性を与えるようである。更に外側被覆層の
厚さを増大させることによって耐久性を改良することを
望むならば、一般にこれは、受け入れられる許容度範囲
外で試料の光学的性質に変化をもたらすことが見出され
る。
及び各種被覆層が付着させられる方法によって決まる。
ある場合においては、外側被覆層の組成が、いくらか改
良された耐久性を与えるようである。更に外側被覆層の
厚さを増大させることによって耐久性を改良することを
望むならば、一般にこれは、受け入れられる許容度範囲
外で試料の光学的性質に変化をもたらすことが見出され
る。
【０００５】ＥＰ−Ａ０５４８９７２には、薄い機能層
及び酸化物フィルム（酸化物が錫及びケイ素を含む）の
複合層を担持するガラスプレートの如き機能製品が記載
されている。複合酸化物フィルム層を要する目的は、製
品に耐摩耗性を与えることにある。実施例の全てが、複
合層中での錫の高割合（ケイ素に対して５０：５０以上
の割合で）を有しており、比較的高い屈折率（実施例の
大部分で１．６９、実施例３で１．７５）を与えてい
る。実施例は又５ｎｍ（実施例８における如く）から９
３ｎｍ（実施例３）の比較的厚い複合層に関するもので
あり、事実特許請求している複合材料の比較的厚い層の
付着は、合理的な程度の耐摩耗性を達成するのに必要で
あるようである。例えば複合層の５ｎｍの厚さは、外部
腐蝕に対する隣接層の満足できる保護を達成するための
最小値であると考えられる。更に錫及びケイ素酸化物の
特別の組合せは、全体としての製品の光学的性質を維持
するため隣接層の調整が要求される程度に、製品の光学
的性質を変化させるようである。従って前記明細書の教
示は、光学的性質を変化させることなくガラス製品上の
表面層を保護する目的に合格しない。
及び酸化物フィルム（酸化物が錫及びケイ素を含む）の
複合層を担持するガラスプレートの如き機能製品が記載
されている。複合酸化物フィルム層を要する目的は、製
品に耐摩耗性を与えることにある。実施例の全てが、複
合層中での錫の高割合（ケイ素に対して５０：５０以上
の割合で）を有しており、比較的高い屈折率（実施例の
大部分で１．６９、実施例３で１．７５）を与えてい
る。実施例は又５ｎｍ（実施例８における如く）から９
３ｎｍ（実施例３）の比較的厚い複合層に関するもので
あり、事実特許請求している複合材料の比較的厚い層の
付着は、合理的な程度の耐摩耗性を達成するのに必要で
あるようである。例えば複合層の５ｎｍの厚さは、外部
腐蝕に対する隣接層の満足できる保護を達成するための
最小値であると考えられる。更に錫及びケイ素酸化物の
特別の組合せは、全体としての製品の光学的性質を維持
するため隣接層の調整が要求される程度に、製品の光学
的性質を変化させるようである。従って前記明細書の教
示は、光学的性質を変化させることなくガラス製品上の
表面層を保護する目的に合格しない。
【０００６】本発明の目的は、製品の光学的性質におけ
る結果的変化を最小にしながら、改良された化学的及び
／又は機械的耐久性を有する被覆基体を提供することに
ある。
る結果的変化を最小にしながら、改良された化学的及び
／又は機械的耐久性を有する被覆基体を提供することに
ある。
【０００７】驚いたことに、本発明者等は、この目的が
特別の方法で付与された特別のケイ素化合物の外側被覆
を与えることによって達成できることをここに見出し
た。
特別の方法で付与された特別のケイ素化合物の外側被覆
を与えることによって達成できることをここに見出し
た。
【０００８】従って本発明の第一の観点によれば、基体
及びその上に形成した少なくとも一つの主被覆層を含む
被覆基体であり、その上に陰極真空スパッタリングによ
って形成した、１．７未満の屈折率を有し、ケイ素の酸
化物及びオキシ窒化物、及びケイ素の酸化物、窒化物及
びオキシ窒化物の１種以上の混合物から選択した材料の
露出した保護付加層で、前記保護層が１〜１０ｎｍの厚
みを有する被覆基体を提供する。
及びその上に形成した少なくとも一つの主被覆層を含む
被覆基体であり、その上に陰極真空スパッタリングによ
って形成した、１．７未満の屈折率を有し、ケイ素の酸
化物及びオキシ窒化物、及びケイ素の酸化物、窒化物及
びオキシ窒化物の１種以上の混合物から選択した材料の
露出した保護付加層で、前記保護層が１〜１０ｎｍの厚
みを有する被覆基体を提供する。
【０００９】本発明の第二の観点によれば、基体上に少
なくとも一つの主被覆層を形成することを含む被覆基体
を形成するための方法において、その上に陰極真空スパ
ッタリングによって、１．７未満の屈折率を有し、ケイ
素の酸化物及びオキシ窒化物、及びケイ素の酸化物、窒
化物及びオキシ窒化物の１種以上の混合物から選択した
材料の露出した保護付加層を形成し、前記保護層が１〜
１０ｎｍの厚さを有する被覆基体を形成する方法を提供
する。
なくとも一つの主被覆層を形成することを含む被覆基体
を形成するための方法において、その上に陰極真空スパ
ッタリングによって、１．７未満の屈折率を有し、ケイ
素の酸化物及びオキシ窒化物、及びケイ素の酸化物、窒
化物及びオキシ窒化物の１種以上の混合物から選択した
材料の露出した保護付加層を形成し、前記保護層が１〜
１０ｎｍの厚さを有する被覆基体を形成する方法を提供
する。
【００１０】本発明者等は、保護層が、被覆基体の化学
的及び／又は機械的耐久性を改良することを見出した。
特に保護層の厚さが小さい場合、製品の光学的性質につ
いてのその効果は最小であることができる。これは特
に、保護層の材料が１．６未満の屈折率を有するときそ
うである。１．５５未満の屈折率を有する材料、好まし
くは１．５０〜１．５２台のそして１．５未満でさえあ
る屈折率を有する材料が特に有利である。
的及び／又は機械的耐久性を改良することを見出した。
特に保護層の厚さが小さい場合、製品の光学的性質につ
いてのその効果は最小であることができる。これは特
に、保護層の材料が１．６未満の屈折率を有するときそ
うである。１．５５未満の屈折率を有する材料、好まし
くは１．５０〜１．５２台のそして１．５未満でさえあ
る屈折率を有する材料が特に有利である。
【００１１】保護層は２〜５ｎｍの厚さを有するのが好
ましい。厚さ２ｎｍ未満では、耐久性における改良はあ
るが、これらは幾つかの産業上の期待に合格するのには
充分でなくなることがある。特に驚いたことには、著し
く改良された耐久性は、ケイ素化合物のかかる薄い被覆
層で達成できることにある。
ましい。厚さ２ｎｍ未満では、耐久性における改良はあ
るが、これらは幾つかの産業上の期待に合格するのには
充分でなくなることがある。特に驚いたことには、著し
く改良された耐久性は、ケイ素化合物のかかる薄い被覆
層で達成できることにある。
【００１２】本発明は、保護層に隣接する主被覆層を、
窒化チタン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化チタン及びクロム
から選択する場合特に有利である。特別の利点は、それ
自体がスパッタリングによって付着せしめられた多重被
覆基体で現われる。金属酸化物又は窒化物の層の間に挟
まれた銀又は金の金属層を含む多重被覆基体も、ケイ素
特定化合物の薄い保護被覆層から有利である。
窒化チタン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化チタン及びクロム
から選択する場合特に有利である。特別の利点は、それ
自体がスパッタリングによって付着せしめられた多重被
覆基体で現われる。金属酸化物又は窒化物の層の間に挟
まれた銀又は金の金属層を含む多重被覆基体も、ケイ素
特定化合物の薄い保護被覆層から有利である。
【００１３】従って本発明は産業上の被覆ガラス質製品
の改良された品質を提供する、この場合光学的性質は良
く規定され、それらの光学的性質を大きく変化させるこ
となく、それらの寿命を延引することによって厳密な製
造許容度を受ける。本発明は、光学的性質を変えずに又
は殆ど変えずに化学的抵抗及び／又は機械的抵抗を改良
することによって、あらゆる種類の被覆、特に真空下に
陰極スパッタリングによって付着させた特定の被覆を保
護できる層を提供するのに特に有利である。従って本発
明は、同じ製造単位での順序における幾つかの異なる種
類の被覆の再現性及び工業的製造の観点から特に大きな
利点がある普遍的に適用できる保護層を提供する。
の改良された品質を提供する、この場合光学的性質は良
く規定され、それらの光学的性質を大きく変化させるこ
となく、それらの寿命を延引することによって厳密な製
造許容度を受ける。本発明は、光学的性質を変えずに又
は殆ど変えずに化学的抵抗及び／又は機械的抵抗を改良
することによって、あらゆる種類の被覆、特に真空下に
陰極スパッタリングによって付着させた特定の被覆を保
護できる層を提供するのに特に有利である。従って本発
明は、同じ製造単位での順序における幾つかの異なる種
類の被覆の再現性及び工業的製造の観点から特に大きな
利点がある普遍的に適用できる保護層を提供する。
【００１４】銀を含有する多重被覆製品についてみる
と、陰極スパッタリング法に関する理由のため、被覆工
程中に酸化物又は窒化物に変換されるようになる犠牲金
属の薄い層（バリヤー層）で銀が通常のように被覆され
ることを知るべきである。同じバリヤー層を銀層の下に
置くことができる。これらの犠牲層は製品の耐久性にい
くらかの改良を与え、更に犠牲層の厚さを増大させるこ
とによって化学的耐久性を改良するが、製品の視感透過
性を低下させる。本発明者等は、陰極スパッタリングに
よって付与した例えば２ｎｍのＳｉＯ2 の保護被覆層
が、貯蔵中の機械的損傷及び湿度に対する感度を減ずる
ことができ、皮膚と接触したとき汗に対する感度を減
じ、そして例えば二重窓ガラス装置における集成前に洗
剤で製品を洗ったときの被覆の耐久性を改良することを
見出した。更に厚いＳｉＯ2 層を適用でき、これは製品
の光学的性質に許される許容限度によってのみ制限を受
ける。
と、陰極スパッタリング法に関する理由のため、被覆工
程中に酸化物又は窒化物に変換されるようになる犠牲金
属の薄い層（バリヤー層）で銀が通常のように被覆され
ることを知るべきである。同じバリヤー層を銀層の下に
置くことができる。これらの犠牲層は製品の耐久性にい
くらかの改良を与え、更に犠牲層の厚さを増大させるこ
とによって化学的耐久性を改良するが、製品の視感透過
性を低下させる。本発明者等は、陰極スパッタリングに
よって付与した例えば２ｎｍのＳｉＯ2 の保護被覆層
が、貯蔵中の機械的損傷及び湿度に対する感度を減ずる
ことができ、皮膚と接触したとき汗に対する感度を減
じ、そして例えば二重窓ガラス装置における集成前に洗
剤で製品を洗ったときの被覆の耐久性を改良することを
見出した。更に厚いＳｉＯ2 層を適用でき、これは製品
の光学的性質に許される許容限度によってのみ制限を受
ける。
【００１５】理論に拘束されるのは望まぬのであるが、
本発明者等は、本発明による薄い被覆層が、下にある層
の多孔性を減じ、これによって製品を湿分及び洗剤の作
用に対する敏感性の小さいものにすると信ずる。又ケイ
素化合物の薄い層が潤滑作用を有し、これが製品の機械
的耐久性を改良するのを助けると信じられる。
本発明者等は、本発明による薄い被覆層が、下にある層
の多孔性を減じ、これによって製品を湿分及び洗剤の作
用に対する敏感性の小さいものにすると信ずる。又ケイ
素化合物の薄い層が潤滑作用を有し、これが製品の機械
的耐久性を改良するのを助けると信じられる。
【００１６】既知の多重被覆基体は、ケイ素の窒化物の
被覆層によってその上方被覆層を置換することによっ
て、特に窒化ケイ素によって２５ｎｍ未満の厚さを有す
る外側ＳｎＯ2 層を置換することによって更に耐性を与
えることができるが、窒化ケイ素層上のシリカの被覆層
によって、更なる耐久性の改良が本発明によって達成で
きる。
被覆層によってその上方被覆層を置換することによっ
て、特に窒化ケイ素によって２５ｎｍ未満の厚さを有す
る外側ＳｎＯ2 層を置換することによって更に耐性を与
えることができるが、窒化ケイ素層上のシリカの被覆層
によって、更なる耐久性の改良が本発明によって達成で
きる。
【００１７】保護層は、ケイ素の酸化物及びオキシ窒化
物、及びケイ素の酸化物、窒化物及びオキシ窒化物の混
合物から選択した材料から形成する。即ち他の成分はこ
の層中に存在しない、但し可能な例外として、陰極（標
的）としてケイ素を用いるスパッタリング法のため要求
されるとき、１５重量％までの、しかし好ましくは１０
重量％以下の、例えばアルミニウム、ニッケル、硼素及
びリンから選択したケイ素ドーパントの酸化物又は他の
ドーパント、例えばチタン又はジルコニウム、又はそれ
らの混合物が１．７未満の屈折率を有する層をもたら
す。理想的には保護層の材料はシリカである、この語は
理論的なＳｉＯ2 であるか否かは別にしてケイ素の酸化
物を意味するためにここでは使用する。ケイ素陰極を使
用するとき、できる限り純粋なシリカ又はＳｉＯx Ｎy
の層を得るため、できる限り純粋であるのが好ましい、
従って、使用する付着法のために必要な導電性を与える
のに必要な量より多くないドーパントを含有させるべき
である。
物、及びケイ素の酸化物、窒化物及びオキシ窒化物の混
合物から選択した材料から形成する。即ち他の成分はこ
の層中に存在しない、但し可能な例外として、陰極（標
的）としてケイ素を用いるスパッタリング法のため要求
されるとき、１５重量％までの、しかし好ましくは１０
重量％以下の、例えばアルミニウム、ニッケル、硼素及
びリンから選択したケイ素ドーパントの酸化物又は他の
ドーパント、例えばチタン又はジルコニウム、又はそれ
らの混合物が１．７未満の屈折率を有する層をもたら
す。理想的には保護層の材料はシリカである、この語は
理論的なＳｉＯ2 であるか否かは別にしてケイ素の酸化
物を意味するためにここでは使用する。ケイ素陰極を使
用するとき、できる限り純粋なシリカ又はＳｉＯx Ｎy
の層を得るため、できる限り純粋であるのが好ましい、
従って、使用する付着法のために必要な導電性を与える
のに必要な量より多くないドーパントを含有させるべき
である。
【００１８】本発明による方法は、ケイ素マグネトロン
スパッタリング源を含有し、入口及び出口ガスロック、
基体のためのコンベヤー、電力源、スパッタリングガス
入口及び排出出口を備えた加工室中に基体を導入するこ
とによって行うことができる。ケイ素陰極は、それを導
電性にするため、少量のドーパント、例えば５％のアル
ミニウムを含有する。基体は、活性化されたスパッタリ
ング源を通って送られ、基体上に酸化ケイ素層を与える
ため酸素ガスによって冷スパッターさせる。
スパッタリング源を含有し、入口及び出口ガスロック、
基体のためのコンベヤー、電力源、スパッタリングガス
入口及び排出出口を備えた加工室中に基体を導入するこ
とによって行うことができる。ケイ素陰極は、それを導
電性にするため、少量のドーパント、例えば５％のアル
ミニウムを含有する。基体は、活性化されたスパッタリ
ング源を通って送られ、基体上に酸化ケイ素層を与える
ため酸素ガスによって冷スパッターさせる。
【００１９】導電性を与えるため、アルミニウムの比較
的大量を用いたケイ素標的陰極の使用の別法として、で
きる限り純粋な酸化ケイ素を得、従って１．５未満の屈
折率、例えば１．４６〜１．４８台の屈折率を有する酸
化ケイ素を得るように、付着装置及びその使用方法によ
って要求される導電性と一致したできる限り高いケイ素
純度を有する陰極を使用できる。かかる代りの標的陰極
の例には、約１０-2Ω・ｃｍの固有抵抗を達成するため
硼素でドープした単結晶ケイ素を含み、例えばGesellsc
haft fuer Electrometallurgy（ドイツ国、Nuremburg
のＤ−９０４３１の）によって作られた５×１０-3〜
２×１０-2Ω・ｃｍの固有抵抗を有する６５〜４００ｐ
ｐｍの硼素でドープしたケイ素陰極（即ち＞９９．９９
％Ｓｉ）を含む。他の例では Vanderstraeten （ベルギ
ー国、 Deinze Ｂ−９８００の）によって作られた如
き、プラズマスプレーによって得られたドーパントとし
て０．０６％のアルミニウム及び０．０５％の鉄を有す
る少なくとも９９．６％の純度のケイ素を使用する。
的大量を用いたケイ素標的陰極の使用の別法として、で
きる限り純粋な酸化ケイ素を得、従って１．５未満の屈
折率、例えば１．４６〜１．４８台の屈折率を有する酸
化ケイ素を得るように、付着装置及びその使用方法によ
って要求される導電性と一致したできる限り高いケイ素
純度を有する陰極を使用できる。かかる代りの標的陰極
の例には、約１０-2Ω・ｃｍの固有抵抗を達成するため
硼素でドープした単結晶ケイ素を含み、例えばGesellsc
haft fuer Electrometallurgy（ドイツ国、Nuremburg
のＤ−９０４３１の）によって作られた５×１０-3〜
２×１０-2Ω・ｃｍの固有抵抗を有する６５〜４００ｐ
ｐｍの硼素でドープしたケイ素陰極（即ち＞９９．９９
％Ｓｉ）を含む。他の例では Vanderstraeten （ベルギ
ー国、 Deinze Ｂ−９８００の）によって作られた如
き、プラズマスプレーによって得られたドーパントとし
て０．０６％のアルミニウム及び０．０５％の鉄を有す
る少なくとも９９．６％の純度のケイ素を使用する。
【００２０】好ましくは基体は、ガラスの如きガラス質
材料を含む。他の基体材料にはできるならプラスチック
材料がある。
材料を含む。他の基体材料にはできるならプラスチック
材料がある。
【００２１】被覆基体は透明又は不透明であることがで
きる、後者の場合主被覆層又は主被覆層の一つが反射性
被覆層であることができる。
きる、後者の場合主被覆層又は主被覆層の一つが反射性
被覆層であることができる。
【００２２】被覆基体は、特に被覆した面が周囲環境に
暴露されるビルディングの窓ガラス装置、及びこれも被
覆した面が暴露される自動車のための外側鏡の如き種々
の目的の範囲に使用できる。
暴露されるビルディングの窓ガラス装置、及びこれも被
覆した面が暴露される自動車のための外側鏡の如き種々
の目的の範囲に使用できる。
【００２３】本発明を、ここに限定するのではない下記
実施例を参照して更に詳細に説明する。
実施例を参照して更に詳細に説明する。
【００２４】実施例 １〜９
【００２５】窒化チタン及びシリカを用いるガラス基体
の被覆（実施例１）を次の如く行った。
の被覆（実施例１）を次の如く行った。
【００２６】厚さ６ｍｍを有する強化ガラスのシート
を、それぞれケイ素及びチタンの標的を有する二つの平
板マグネトロンスパッタリング源を含有する処理室中に
導入し、そして入口及び出口ガスロック、基体のための
コンベヤー、電力源、スパッタリングガス入口及び排気
出口を設けた。室中の圧力は１０-3Ｐａに低下させた。
標的陰極のケイ素は５％のアルミニウムでドープし、そ
れを導電性にした。基体を活性化したチタン源を有する
スパッタリング源を通して輸送し、３×１０-1Ｐａの有
効蒸着圧力で窒素ガスで冷間スパッタリングし、反射率
η＝２．４、λ＝５５０ｎｍでκ＝１．４及び幾何学的
厚さ２２ｎｍを有する窒化チタン層を付与した、その後
チタン源を失活させた。事実、後で分析したとき、この
「窒化チタン」層は僅かに理論量より過剰のチタンを含
有することが判った。
を、それぞれケイ素及びチタンの標的を有する二つの平
板マグネトロンスパッタリング源を含有する処理室中に
導入し、そして入口及び出口ガスロック、基体のための
コンベヤー、電力源、スパッタリングガス入口及び排気
出口を設けた。室中の圧力は１０-3Ｐａに低下させた。
標的陰極のケイ素は５％のアルミニウムでドープし、そ
れを導電性にした。基体を活性化したチタン源を有する
スパッタリング源を通して輸送し、３×１０-1Ｐａの有
効蒸着圧力で窒素ガスで冷間スパッタリングし、反射率
η＝２．４、λ＝５５０ｎｍでκ＝１．４及び幾何学的
厚さ２２ｎｍを有する窒化チタン層を付与した、その後
チタン源を失活させた。事実、後で分析したとき、この
「窒化チタン」層は僅かに理論量より過剰のチタンを含
有することが判った。
【００２７】窒素を装置からパージし、酸素をスパッタ
リングガスとして３×１０-1Ｐａの圧力で導入した。ケ
イ素源を活性化させ、基体をそれを通して送り、厚さ３
ｎｍ及び屈折率１．５２を有する酸化ケイ素を含む層を
付着させた。
リングガスとして３×１０-1Ｐａの圧力で導入した。ケ
イ素源を活性化させ、基体をそれを通して送り、厚さ３
ｎｍ及び屈折率１．５２を有する酸化ケイ素を含む層を
付着させた。
【００２８】本発明により被覆した基体と比較するた
め、下表Ｉに示した如き他の被覆基体（Ａ〜Ｇ）を同様
の方法で作った。
め、下表Ｉに示した如き他の被覆基体（Ａ〜Ｇ）を同様
の方法で作った。
【００２９】例えば銀又はチタンの金属層の付着は不活
性雰囲気（銀に対しては窒素又はアルゴン、しかしチタ
ンに対してはアルゴンのみ）中で行った。反応性窒素雰
囲気中でケイ素陰極（導電性であるようにドープした）
から窒化ケイ素（Ｓｉ3 Ｎ4）を付着させる。ＺｎＯ及
びＳｎＯ2 は、反応性酸素雰囲気中で、それぞれ亜鉛陰
極及び錫陰極から得た。
性雰囲気（銀に対しては窒素又はアルゴン、しかしチタ
ンに対してはアルゴンのみ）中で行った。反応性窒素雰
囲気中でケイ素陰極（導電性であるようにドープした）
から窒化ケイ素（Ｓｉ3 Ｎ4）を付着させる。ＺｎＯ及
びＳｎＯ2 は、反応性酸素雰囲気中で、それぞれ亜鉛陰
極及び錫陰極から得た。
【００３０】 表 Ｉ 実施例 被覆層（厚さｎｍ） Ａ* TiN(22) １ TiN(22)/SiO2(3) Ｂ* TiN(22)/SnO2(15) ２ TiN(22)/SnO2(15)/SiO2(3) Ｃ* TiN(22)/Si3N4(15) ３ TiN(22)/Si3N4(15)/SiO2(3) Ｄ* ZnO(35)/Ag(10)/Ti(2)/ZnO(35) ４ ZnO(35)/Ag(10)/Ti(2)/ZnO(35)/SiO2(2) Ｅ* SnO2(12)/ZnO(23)/Ag(10)/Ti(2)/ZnO(23)/SnO2(12) ５ SnO2(12)/ZnO(23)/Ag(10)/Ti(2)/ZnO(23)/SnO2(12)/SiO2(2) Ｆ* ZnO(35)/Ag(10)/Zn(3)/ZnO(30) ６ ZnO(35)/Ag(10)/Zn(3)/ZnO(30)/SiO2(1.5) ７ ZnO(35)/Ag(10)/Zn(3)/ZnO(30)/SiO2(3) Ｇ* ZnO(35)/Ag(10)/Zn(3)/ZnO(15)/SiO2(3)/ZnO(15) ８ ZnO(35)/Ag(10)/Zn(3)/ZnO(30)/SiO2(10) ９ ZnO/SnO2(35)/Ag(10)/Ti(3)/ZnO/SnO2/ZnO(35)/SiO2(5) ＊＝比較例
【００３１】これらの製品に、それらの意図する用途に
従って選択した以下に記載した如き種々の試験の一つ以
上を受けさせた。
従って選択した以下に記載した如き種々の試験の一つ以
上を受けさせた。
【００３２】（１）７日クリーブランド試験 「クリーブランド」試験は、試料が屋根を形成し、被覆
面が内側に面するようガラス室を形成することからな
る。室は試料の直接雰囲気中に、５０℃で水蒸気を与え
るに充分な温度で水を含有する。低温である屋根は、水
蒸気の凝縮の形成を生ぜしめ、試料の被覆面上を水の連
続する流れを生ぜしめる。次に試料の被覆面を、布で擦
り、それを乾燥させる。それが布によって除去されたと
き、被覆は試験で残らなかった。
面が内側に面するようガラス室を形成することからな
る。室は試料の直接雰囲気中に、５０℃で水蒸気を与え
るに充分な温度で水を含有する。低温である屋根は、水
蒸気の凝縮の形成を生ぜしめ、試料の被覆面上を水の連
続する流れを生ぜしめる。次に試料の被覆面を、布で擦
り、それを乾燥させる。それが布によって除去されたと
き、被覆は試験で残らなかった。
【００３３】（２）７日塩噴霧試験 塩噴霧試験は、ＮａＣｌ溶液で試料を噴霧し、約３５℃
で塩噴霧を連続的にそれに受けさせることからなる。
で塩噴霧を連続的にそれに受けさせることからなる。
【００３４】（３）硫黄試験 試料を、４０℃に恒温制御した二酸化硫黄雰囲気でとり
まき、８時間は閉じた室中で、１６時間は開放した室中
に置き、この方法で２４時間合計４回繰返す。
まき、８時間は閉じた室中で、１６時間は開放した室中
に置き、この方法で２４時間合計４回繰返す。
【００３５】（４）耐候試験 試料を室中で空気でとりまき、その温度は１時間で４５
℃と５５℃の間で循環させ、合計２３時間行い、続いて
２５℃で１時間循環させ、これを７日間繰返す。
℃と５５℃の間で循環させ、合計２３時間行い、続いて
２５℃で１時間循環させ、これを７日間繰返す。
【００３６】（５）ルーサイト（Lucite）試験 この試験では少なくとも１２ｃｍ×２５ｃｍの寸法を有
する被覆基体の試料を使用する。試料はその試験面を最
上にしてクランプ中に置き、ルーサイト（DuPont de
Nemours 製）で１００ｇを散布した、この粒子材料は厳
密に制御された純度及び粒度を有し、ポリメチルメタク
リレートからなる。次に未被覆ガラスのシートを試験面
上に置く。組立体上に、次いで約３．９３８Ｋｇの重量
を有する往復加圧板を置く。板を３０００回往復させ
る。試験後、試料を取り出し、擦傷及び繊維マーク形成
のため透過及び反射によって試験する。
する被覆基体の試料を使用する。試料はその試験面を最
上にしてクランプ中に置き、ルーサイト（DuPont de
Nemours 製）で１００ｇを散布した、この粒子材料は厳
密に制御された純度及び粒度を有し、ポリメチルメタク
リレートからなる。次に未被覆ガラスのシートを試験面
上に置く。組立体上に、次いで約３．９３８Ｋｇの重量
を有する往復加圧板を置く。板を３０００回往復させ
る。試験後、試料を取り出し、擦傷及び繊維マーク形成
のため透過及び反射によって試験する。
【００３７】（６）洗浄試験 試験すべき試料を水平面上に置き、ピペットによってそ
の上に濃厚洗剤（ベルギー国、ブルッセルのChemical
Products Belgium のＲＢＳ５０）の１滴を付着させ
た。一定時間後に、洗剤の滴を払拭し、試料を反射によ
って試験する。この試験において悪い結果は、製品が、
若し洗浄機中に置いたとき欠陥を発現したことを示し、
これは結果としてこの処理を必要とする用途に有用でな
いことを示す。
の上に濃厚洗剤（ベルギー国、ブルッセルのChemical
Products Belgium のＲＢＳ５０）の１滴を付着させ
た。一定時間後に、洗剤の滴を払拭し、試料を反射によ
って試験する。この試験において悪い結果は、製品が、
若し洗浄機中に置いたとき欠陥を発現したことを示し、
これは結果としてこの処理を必要とする用途に有用でな
いことを示す。
【００３８】結 果：試験の結果、特別の比較実施例Ａ
〜Ｇよりも本発明による実施例１〜９の利点の証明は次
の通りであった。
〜Ｇよりも本発明による実施例１〜９の利点の証明は次
の通りであった。
【００３９】実施例１は、クリーブランド試験、硫黄試
験、及びルーサイト試験に合格した。他方実施例Ａは、
クリーブランド試験後、数箇所で被覆の劣化を示し、硫
黄試験後はぼやけを生じた。実施例Ａでのルーサイト試
験後、幾つかの擦傷が見られ、被覆は幾つかの箇所で基
体から浮き上がっていた。
験、及びルーサイト試験に合格した。他方実施例Ａは、
クリーブランド試験後、数箇所で被覆の劣化を示し、硫
黄試験後はぼやけを生じた。実施例Ａでのルーサイト試
験後、幾つかの擦傷が見られ、被覆は幾つかの箇所で基
体から浮き上がっていた。
【００４０】実施例２及び３による試料は、クリーブラ
ンド試験及び塩噴霧試験に合格した。実施例Ｂによる試
料は何れの試験にも合格しなかった。実施例Ｃによる試
料はクリーブランド試験に続いて色僅かな変化を示し、
塩噴霧試験には耐えた。色の比較をハンター法（ニュー
ヨーク市の John Wiley & Sons １９７５年発行、R.
S. Hunter 著、 The Measurement of Appearance
参照）により行った。製品のガラス側又は被覆側から測
定したハンター座標Ｌ，ａ及びｂの値を、最初本発明の
被覆でない被覆基体に対し、そして次に本発明の被覆で
被覆した基体に対して立証した。実施例Ｂ及び２の場合
において、ガラス側からの反射を測定し、ハンター値
Ｌ，ａ及びｂは次の如く変化した：
ンド試験及び塩噴霧試験に合格した。実施例Ｂによる試
料は何れの試験にも合格しなかった。実施例Ｃによる試
料はクリーブランド試験に続いて色僅かな変化を示し、
塩噴霧試験には耐えた。色の比較をハンター法（ニュー
ヨーク市の John Wiley & Sons １９７５年発行、R.
S. Hunter 著、 The Measurement of Appearance
参照）により行った。製品のガラス側又は被覆側から測
定したハンター座標Ｌ，ａ及びｂの値を、最初本発明の
被覆でない被覆基体に対し、そして次に本発明の被覆で
被覆した基体に対して立証した。実施例Ｂ及び２の場合
において、ガラス側からの反射を測定し、ハンター値
Ｌ，ａ及びｂは次の如く変化した：
【００４１】ＬRg＝44.7％→45.1％；ａ＝−3.6 →−3.
7 ；ｂ＝−10.3→−10.1。
7 ；ｂ＝−10.3→−10.1。
【００４２】ハンター値におけるこれらの変動は、上に
一連の被覆を付与したガラスの大きなシートの面を横切
り一点から他へと観察した差より明らかに小さく、従っ
て製造許容差内にあることは明らかである。
一連の被覆を付与したガラスの大きなシートの面を横切
り一点から他へと観察した差より明らかに小さく、従っ
て製造許容差内にあることは明らかである。
【００４３】実施例Ｄは＞８５％の視感透過率ＴL 及び
＜０．１０の正常輻射率を有する。この製品にルーサイ
ト試験を受けさせた。３０００サイクル後実施例Ｄの被
覆は擦傷されたことを示した。実施例ＤのＺｎＯ上に１
０ｎｍのＴｉＯ2 の被覆を重ねたときも、同じ結果が得
られた。しかしながら、追加シリカ保護層を含む実施例
４は被覆の擦傷は避けられた、これは光学的性質をその
まま維持しながら、耐摩耗性が改良されたことを示す。
＜０．１０の正常輻射率を有する。この製品にルーサイ
ト試験を受けさせた。３０００サイクル後実施例Ｄの被
覆は擦傷されたことを示した。実施例ＤのＺｎＯ上に１
０ｎｍのＴｉＯ2 の被覆を重ねたときも、同じ結果が得
られた。しかしながら、追加シリカ保護層を含む実施例
４は被覆の擦傷は避けられた、これは光学的性質をその
まま維持しながら、耐摩耗性が改良されたことを示す。
【００４４】実施例Ｅはルーサイト試験には耐えたが、
湿気及び洗剤には敏感である。実施例Ｅによる試料に洗
浄試験を受けさせたとき、被覆は２分後に溶解する。他
方、実施例５による試料は常に１０分後でも洗浄試験に
耐える。
湿気及び洗剤には敏感である。実施例Ｅによる試料に洗
浄試験を受けさせたとき、被覆は２分後に溶解する。他
方、実施例５による試料は常に１０分後でも洗浄試験に
耐える。
【００４５】実施例Ｆ及び６〜８で、実施例Ｅ及び５に
ついて使用したのと同じ洗浄試験を受けさせた。シリカ
保護層を有しない実施例Ｆでは、被覆は１０分後に除去
された。シリカの保護層を更に酸化亜鉛の層で上被覆し
た実施例Ｇでは、被覆は洗剤の滴の帯域で除去された。
これら二つの試料では、僅か２分後に被覆の劣化が既に
観察された。保護層が厚さ１．５ｎｍを有していた実施
例６は、３回の繰返しの中２回で１０分後に被覆の除去
を示さなかった、これはこの実施例において、一つが被
覆のための保護の限界があることを示している。それぞ
れ３ｎｍ及び１０ｎｍの厚さを保護層が有する実施例７
及び８の比較では、前者に比較して後者が僅かな変色を
示した、これは光学的性質における許容変化の限界に達
したことを示す。
ついて使用したのと同じ洗浄試験を受けさせた。シリカ
保護層を有しない実施例Ｆでは、被覆は１０分後に除去
された。シリカの保護層を更に酸化亜鉛の層で上被覆し
た実施例Ｇでは、被覆は洗剤の滴の帯域で除去された。
これら二つの試料では、僅か２分後に被覆の劣化が既に
観察された。保護層が厚さ１．５ｎｍを有していた実施
例６は、３回の繰返しの中２回で１０分後に被覆の除去
を示さなかった、これはこの実施例において、一つが被
覆のための保護の限界があることを示している。それぞ
れ３ｎｍ及び１０ｎｍの厚さを保護層が有する実施例７
及び８の比較では、前者に比較して後者が僅かな変色を
示した、これは光学的性質における許容変化の限界に達
したことを示す。
【００４６】実施例９は５ｎｍのシリカの保護層を加え
た低輻射率窓ガラスパネルである。１日塩噴霧試験を受
けさせた後、被覆はそのまま変化せずに残る。シリカの
被覆層がないと、同じ試験が被覆中に白点の出現を生ぜ
しめる。シリカ層は主反射波長を著しく変えることはな
く、色の純度も変えない。被覆側からの反射にて測定し
たハンター座標Ｌ，ａ及びｂの値は、次の如く本発明の
被覆のない被覆基体に対するものから、本発明の実施例
９の被覆を有する被覆基体に対するものに変化した：
た低輻射率窓ガラスパネルである。１日塩噴霧試験を受
けさせた後、被覆はそのまま変化せずに残る。シリカの
被覆層がないと、同じ試験が被覆中に白点の出現を生ぜ
しめる。シリカ層は主反射波長を著しく変えることはな
く、色の純度も変えない。被覆側からの反射にて測定し
たハンター座標Ｌ，ａ及びｂの値は、次の如く本発明の
被覆のない被覆基体に対するものから、本発明の実施例
９の被覆を有する被覆基体に対するものに変化した：
【００４７】ＬRc＝21.9％→21.8％；ａ＝−2.2 →−2.
5 ；ｂ＝−5.1 →−5.3 。
5 ；ｂ＝−5.1 →−5.3 。
【００４８】これらの変化は、許容しうる製造限界内で
あることは明らかである。
あることは明らかである。
【００４９】実施例 １０及び１１ 実施例１〜９との関連において説明した方法と同様の方
法を用い、下表IIに示す如き他の被覆基体を作った。こ
れらの実施例において、使用した陰極は１０％のアルミ
ニウムでドープしたケイ素から形成した。
法を用い、下表IIに示す如き他の被覆基体を作った。こ
れらの実施例において、使用した陰極は１０％のアルミ
ニウムでドープしたケイ素から形成した。
【００５０】
【００５１】アルコール試験を試料Ｈ及び１０について
行った、これは被覆の面上を、５０倍のアルコールに含
浸させた布を烈しく払拭することからなる。実施例Ｈに
よる試料の変色があったが、一方実施例１０による試料
はそのまま変化しなかった。
行った、これは被覆の面上を、５０倍のアルコールに含
浸させた布を烈しく払拭することからなる。実施例Ｈに
よる試料の変色があったが、一方実施例１０による試料
はそのまま変化しなかった。
【００５２】実施例Ｉ及び１１はテーバー摩耗試験機
（Taber Abraser Testing Instrumentsからの）を利
用するテーバー試験を受けさせた、これは回転支持テー
ブルを含み、その上に試料を固定し、その上にミルスト
ーンを適用し、これを支持テーブルに対して垂直な面で
回転させることからなる。ミルストーンはタイプＣＳ１
０Ｆ（研摩粒子で充填したゴム）のもので５００ｇを負
荷させる。試料の視感透過率は、３００回の前後で観察
する。両試料Ｉ及び１１の両方に対する試験前の視感透
過率は２％である。試験後、視感透過率の増大が見られ
る、即ち実施例Ｉについては３．３％であるが、実施例
１１については２．５％だけであり、擦傷は顕著でな
い。
（Taber Abraser Testing Instrumentsからの）を利
用するテーバー試験を受けさせた、これは回転支持テー
ブルを含み、その上に試料を固定し、その上にミルスト
ーンを適用し、これを支持テーブルに対して垂直な面で
回転させることからなる。ミルストーンはタイプＣＳ１
０Ｆ（研摩粒子で充填したゴム）のもので５００ｇを負
荷させる。試料の視感透過率は、３００回の前後で観察
する。両試料Ｉ及び１１の両方に対する試験前の視感透
過率は２％である。試験後、視感透過率の増大が見られ
る、即ち実施例Ｉについては３．３％であるが、実施例
１１については２．５％だけであり、擦傷は顕著でな
い。
【００５３】実施例 １２及び比較実施例 Ｊ及びＫ 再び実施例１〜９との関連において説明したのと同様の
方法を用い、ＥＰ−Ａ０５４８９７２の教示との比較を
与えるよう他の被覆基体を作った。実施例１２において
使用した陰極は実質的に純粋なケイ素から形成した（陰
極は Gesellschaft fuer Electrometallurgyから入手
した）。
方法を用い、ＥＰ−Ａ０５４８９７２の教示との比較を
与えるよう他の被覆基体を作った。実施例１２において
使用した陰極は実質的に純粋なケイ素から形成した（陰
極は Gesellschaft fuer Electrometallurgyから入手
した）。
【００５４】 実施例 被覆層（厚さｎｍ） Ｊ* ［ガラス］/TiN(24) Ｋ* ［ガラス］/TiN(24)/Sn:Siオキサイド[50:50](5) １２ ［ガラス］/TiN(24)/SiO2(5) ＊＝比較実施例
【００５５】実施例Ｊは基本製品を表す。それは視感透
過率（ＴL ）２９．１６％及び視感反射率（ＲL ）１
３．８％を有していた。ガラス側からの反射で測定した
そのハンター座標ａ及びｂの値はそれぞれ−０．７５及
び−９．７であった。
過率（ＴL ）２９．１６％及び視感反射率（ＲL ）１
３．８％を有していた。ガラス側からの反射で測定した
そのハンター座標ａ及びｂの値はそれぞれ−０．７５及
び−９．７であった。
【００５６】実施例ＫはＥＰ−Ａ０５４８９７２による
製品である。それは視感透過率（ＴL ）２９．５７％、
及び視感反射率（ＲL ）１４．８％を有していた。ガラ
ス側からの反射で測定したそのハンター座標ａ及びｂの
値はそれぞれ−１．１５及び−１０．４であった。製造
コースで生ずる変化に加えて、光学的性質におけるかか
る変化は、製造許容差より大きい程度に光学的性質を変
える。これらの許容差は一定製品品質を確実にし、製品
特性によって強力に決定される。この場合、許容差は次
の通りである：ＴL ±１．２％，ＲL ±０．５１％，ａ
±０．２及びｂ±０．４である。ＲL ，ａ及びｂに対す
る実施例Ｋの結果はこれらの限界外に入る。
製品である。それは視感透過率（ＴL ）２９．５７％、
及び視感反射率（ＲL ）１４．８％を有していた。ガラ
ス側からの反射で測定したそのハンター座標ａ及びｂの
値はそれぞれ−１．１５及び−１０．４であった。製造
コースで生ずる変化に加えて、光学的性質におけるかか
る変化は、製造許容差より大きい程度に光学的性質を変
える。これらの許容差は一定製品品質を確実にし、製品
特性によって強力に決定される。この場合、許容差は次
の通りである：ＴL ±１．２％，ＲL ±０．５１％，ａ
±０．２及びｂ±０．４である。ＲL ，ａ及びｂに対す
る実施例Ｋの結果はこれらの限界外に入る。
【００５７】実施例１２に対する同意義の結果は、視感
透過率（ＴL ）２９．４２％、視感反射率（ＲL ）１
４．３％であった。ガラス側からの反射で測定したハン
ター座標ａ及びｂの値はそれぞれ−０．９５及び−１
０．０であった。これらは基本製品の製造許容差内であ
る。
透過率（ＴL ）２９．４２％、視感反射率（ＲL ）１
４．３％であった。ガラス側からの反射で測定したハン
ター座標ａ及びｂの値はそれぞれ−０．９５及び−１
０．０であった。これらは基本製品の製造許容差内であ
る。
【００５８】ＥＰ−Ａ０５４８９７２による５０：５０
Ｓｎ：Ｓｉ酸化物の３ｎｍの層は、被覆した基本材料
の耐久性における著しい改良は何ら達成するのに充分で
ないこと、一方３ｎｍのシリカ（ＳｉＯ2 ）は製品の耐
久性を改良する良好な保護を確実にし、輸送及び取り扱
いによって生ずる摩耗に対して基本被覆を保護すること
も知ることができる。
Ｓｎ：Ｓｉ酸化物の３ｎｍの層は、被覆した基本材料
の耐久性における著しい改良は何ら達成するのに充分で
ないこと、一方３ｎｍのシリカ（ＳｉＯ2 ）は製品の耐
久性を改良する良好な保護を確実にし、輸送及び取り扱
いによって生ずる摩耗に対して基本被覆を保護すること
も知ることができる。
【００５９】実施例 １３ 再び前記各実施例に記載した方法と同様の方法を用い
て、銀層を有する太陽光線防止パネルに、本発明による
保護被覆を与えた。
て、銀層を有する太陽光線防止パネルに、本発明による
保護被覆を与えた。
【００６０】 実施例 被覆層（厚さｎｍ） １３ ［ガラス］/ZnO(40)/Ag(22)/Ti(3)/(ZnO/SnO2/ZnO)(65)/SiO2(5)
【００６１】かく被覆したパネルの性質を、ＳｉＯ2 で
被覆する前のパネルと比較した。ＳｉＯ2 被覆パネルの
視感透過率（ＴL ）は、ＳｉＯ2 を含まぬパネルより１
％小さかった、そしてその太陽光線防止率（ＦＳ）は変
化しなかった。視感反射率（ＲL ）は４０．７％（Ｓｉ
Ｏ2 不含）から４１．５％（ＳｉＯ2 被覆）に変化し
た。ガラス側からの反射で測定したそのハンター座標
Ｌ，ａ及びｂの値は、次の通り変化した（ＳｉＯ2 不含
からＳｉＯ2 被覆へ）。
被覆する前のパネルと比較した。ＳｉＯ2 被覆パネルの
視感透過率（ＴL ）は、ＳｉＯ2 を含まぬパネルより１
％小さかった、そしてその太陽光線防止率（ＦＳ）は変
化しなかった。視感反射率（ＲL ）は４０．７％（Ｓｉ
Ｏ2 不含）から４１．５％（ＳｉＯ2 被覆）に変化し
た。ガラス側からの反射で測定したそのハンター座標
Ｌ，ａ及びｂの値は、次の通り変化した（ＳｉＯ2 不含
からＳｉＯ2 被覆へ）。
【００６２】ＬRg＝63.8％→64.4％；ａ＝−2.3 →−2.
5 ；ｂ＝−2.7 →−2.3 。
5 ；ｂ＝−2.7 →−2.3 。
【００６３】これらの変化は製品の製造許容差内であ
る。ＳｉＯ2 層は製品の耐久性を著しく改良する。Ｓｉ
Ｏ2 層の存在しない洗浄試験においては、これらの層の
色において劣化が観察された、一方ＳｉＯ2 層が存在し
たとき変色はなかった。
る。ＳｉＯ2 層は製品の耐久性を著しく改良する。Ｓｉ
Ｏ2 層の存在しない洗浄試験においては、これらの層の
色において劣化が観察された、一方ＳｉＯ2 層が存在し
たとき変色はなかった。
Claims (13)
- 【請求項１】 基体及びその上に形成した少なくとも一
つの主被覆層を含む被覆基体において、陰極真空スパッ
タリングによってその上に形成した、１．７未満の屈折
率を有し、ケイ素の酸化物及びオキシ窒化物、及びケイ
素の酸化物、窒化物及びオキシ窒化物の１種以上の混合
物から選択した材料の露出保護付加層を有し、前記保護
層が１〜１０ｎｍの厚さを有することを特徴とする被覆
基体。 - 【請求項２】 前記保護層の材料が１．６未満、好まし
くは１．５５未満の屈折率を有することを特徴とする請
求項１の被覆基体。 - 【請求項３】 前記保護層が２〜５ｎｍの厚さを有する
ことを特徴とする請求項１又は２の被覆基体。 - 【請求項４】 前記保護層に隣接する主被覆層を、窒化
チタン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化チタン及びクロムから
選択することを特徴とする請求項１〜３の何れか１項の
被覆基体。 - 【請求項５】 前記保護層の材料がＳｉＯ2 であること
を特徴とする請求項１〜４の何れか１項の被覆基体。 - 【請求項６】 前記保護層が、更に１０重量％以下のケ
イ素ドーパントの酸化物又はオキシ窒化物を含むことを
特徴とする請求項１〜５の何れか１項の被覆基体。 - 【請求項７】 前記ケイ素ドーパントを、アルミニウ
ム、ニッケル、硼素及びリンから選択することを特徴と
する請求項６の被覆基体。 - 【請求項８】 基体がガラスを含むことを特徴とする請
求項１〜７の何れか１項の被覆基体。 - 【請求項９】 透明であることを特徴とする請求項１〜
８の何れか１項の被覆基体。 - 【請求項１０】 不透明であることを特徴とする請求項
１〜８の何れか１項の被覆基体。 - 【請求項１１】 前記少なくとも一つの主被覆層が、反
射被覆層を含むことを特徴とする請求項１０の被覆基
体。 - 【請求項１２】 基体上に少なくとも一つの主被覆層を
形成することを含む被覆基体の形成方法において、その
上に陰極真空スパッタリングによって、１．７未満の屈
折率を有し、ケイ素の酸化物及びオキシ窒化物、ケイ素
の酸化物、窒化物及びオキシ窒化物の１種以上の混合物
から選択した材料の露出保護付加層を形成し、前記保護
層が１〜１０ｎｍの厚さを有することを特徴とする被覆
基体の形成方法。 - 【請求項１３】 前記陰極真空スパッタリングが、所望
によってアルミニウム、ニッケル、硼素及びリンから選
択した酸化物形成ドーパントでドープされた、ケイ素陰
極を使用することを特徴とする請求項１２の方法。
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