JPH0873201A - 水素分離膜ユニット - Google Patents
水素分離膜ユニットInfo
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- JPH0873201A JPH0873201A JP21259694A JP21259694A JPH0873201A JP H0873201 A JPH0873201 A JP H0873201A JP 21259694 A JP21259694 A JP 21259694A JP 21259694 A JP21259694 A JP 21259694A JP H0873201 A JPH0873201 A JP H0873201A
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Landscapes
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 水素精製装置や水素製造装置に適用される水
素分離膜ユニットに関する。 【構成】 金属又は合金箔製の水素透過膜の周囲を両面
から金属製の枠ではさんで固定し、前記水素透過膜の少
くとも精製水素側の面を周囲が前記金属製の枠に接合さ
れた金属多孔質材からなる支持板で支持した水素分離膜
ユニットにおいて、前記水素透過膜として水素の透過部
分に多数の凹部を設けた金属又は合金箔製の水素透過膜
を使用したことを特徴とする水素分離膜ユニット。 【効果】 従来の水素分離膜ユニットに比較し水素透過
性能は同等以上であり、強度が著しく改善され、長時間
の繰返し使用に対する耐性が格段に優れている。
素分離膜ユニットに関する。 【構成】 金属又は合金箔製の水素透過膜の周囲を両面
から金属製の枠ではさんで固定し、前記水素透過膜の少
くとも精製水素側の面を周囲が前記金属製の枠に接合さ
れた金属多孔質材からなる支持板で支持した水素分離膜
ユニットにおいて、前記水素透過膜として水素の透過部
分に多数の凹部を設けた金属又は合金箔製の水素透過膜
を使用したことを特徴とする水素分離膜ユニット。 【効果】 従来の水素分離膜ユニットに比較し水素透過
性能は同等以上であり、強度が著しく改善され、長時間
の繰返し使用に対する耐性が格段に優れている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は水素精製装置や水素製造
装置に適用される水素分離膜ユニットに関する。
装置に適用される水素分離膜ユニットに関する。
【0002】
【従来の技術】図8に従来の水素分離膜ユニットの断面
図の1例を示す。図8の水素分離膜ユニットでは枠4に
溶接部5′で溶接され補強された金属多孔質材(金網を
含む)からなる支持板2の間に水素(H2 )のみを透過
する性質を有するPd又はPd合金箔からなる水素透過
膜1をはさみ、接合部5でろう付、拡散接合、溶接等に
より接合されている。稼動時には高温下で原料ガス側に
水素を含む原料ガスを流すことにより、水素のみが選択
的に水素透過膜を通過して原料ガス側から精製水素側へ
拡散、移動し、精製水素側で高純度の水素が得られる。
このときの水素の透過速度は水素透過膜の厚さtに反比
例し、膜の厚さtが薄ければ薄いほど高い水素分離性能
が得られる。また、原料ガス側の圧力P1 と精製水素側
の圧力P2 との差圧△P=P1 −P 2 が大きい方が水素
透過速度が大きくなり、高性能となる。
図の1例を示す。図8の水素分離膜ユニットでは枠4に
溶接部5′で溶接され補強された金属多孔質材(金網を
含む)からなる支持板2の間に水素(H2 )のみを透過
する性質を有するPd又はPd合金箔からなる水素透過
膜1をはさみ、接合部5でろう付、拡散接合、溶接等に
より接合されている。稼動時には高温下で原料ガス側に
水素を含む原料ガスを流すことにより、水素のみが選択
的に水素透過膜を通過して原料ガス側から精製水素側へ
拡散、移動し、精製水素側で高純度の水素が得られる。
このときの水素の透過速度は水素透過膜の厚さtに反比
例し、膜の厚さtが薄ければ薄いほど高い水素分離性能
が得られる。また、原料ガス側の圧力P1 と精製水素側
の圧力P2 との差圧△P=P1 −P 2 が大きい方が水素
透過速度が大きくなり、高性能となる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】図8に示すような水素
分離膜ユニットにおいては、支持板2は枠4に溶接によ
り接合されている。このような接合の場合、通常図8の
A部の使用時の状態を示す拡大図である図7に示すよう
に枠4の水素透過膜1に接する面と支持板2の水素透過
膜1に平行な面との間に段差aが生じる。また、金網を
含む金属多孔板で形成される支持板2の表面には多数の
凹凸がある。このような水素分離膜ユニットにおいて、
水素分離性能を向上させるため△Pを大きくし、tを小
さくしようとすると次のような問題がある。 (1)段差a部で水素透過膜1に局部的な歪6が加わり
破断する恐れがある。 (2)水素透過膜1が支持板2に押しつけられ、支持板
表面の凹部にくい込み、大きな歪を受けて破断する恐れ
がある。
分離膜ユニットにおいては、支持板2は枠4に溶接によ
り接合されている。このような接合の場合、通常図8の
A部の使用時の状態を示す拡大図である図7に示すよう
に枠4の水素透過膜1に接する面と支持板2の水素透過
膜1に平行な面との間に段差aが生じる。また、金網を
含む金属多孔板で形成される支持板2の表面には多数の
凹凸がある。このような水素分離膜ユニットにおいて、
水素分離性能を向上させるため△Pを大きくし、tを小
さくしようとすると次のような問題がある。 (1)段差a部で水素透過膜1に局部的な歪6が加わり
破断する恐れがある。 (2)水素透過膜1が支持板2に押しつけられ、支持板
表面の凹部にくい込み、大きな歪を受けて破断する恐れ
がある。
【0004】本発明は前記技術水準に鑑み、従来技術に
おける水素透過膜の破断を防止することができる水素分
離膜ユニットを提供しようとするものである。
おける水素透過膜の破断を防止することができる水素分
離膜ユニットを提供しようとするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は(1)金属又は
合金箔製の水素透過膜の周囲を両面から金属製の枠では
さんで固定し、前記水素透過膜の少くとも精製水素側の
面を周囲が前記金属製の枠に接合された金属多孔質材か
らなる支持板で支持した水素分離膜ユニットにおいて、
前記水素透過膜として水素の透過部分に多数の凹部を設
けた金属又は合金箔製の水素透過膜を使用したことを特
徴とする水素分離膜ユニット及び(2)水素透過膜に設
けた凹部がディンプル状又は升目状に形成されているこ
とを特徴とする前記(1)の水素分離膜ユニットであ
る。
合金箔製の水素透過膜の周囲を両面から金属製の枠では
さんで固定し、前記水素透過膜の少くとも精製水素側の
面を周囲が前記金属製の枠に接合された金属多孔質材か
らなる支持板で支持した水素分離膜ユニットにおいて、
前記水素透過膜として水素の透過部分に多数の凹部を設
けた金属又は合金箔製の水素透過膜を使用したことを特
徴とする水素分離膜ユニット及び(2)水素透過膜に設
けた凹部がディンプル状又は升目状に形成されているこ
とを特徴とする前記(1)の水素分離膜ユニットであ
る。
【0006】本発明の水素分離膜ユニットにおいては、
従来この種の水素分離膜ユニットに使用されている厚さ
約20μmの水素透過膜に代えて厚さ30〜50μmの
水素透過膜を使用する。これによって水素透過膜の強度
が増加するので、枠と支持板との接合部の段差による局
部的な歪による破断を防ぐことができ、また支持板表面
の凹部へのくい込みを少くすることができる。厚みが3
0μm未満では強度向上の効果がなく、50μmを超え
ると凹部を薄く加工することが困難である。
従来この種の水素分離膜ユニットに使用されている厚さ
約20μmの水素透過膜に代えて厚さ30〜50μmの
水素透過膜を使用する。これによって水素透過膜の強度
が増加するので、枠と支持板との接合部の段差による局
部的な歪による破断を防ぐことができ、また支持板表面
の凹部へのくい込みを少くすることができる。厚みが3
0μm未満では強度向上の効果がなく、50μmを超え
ると凹部を薄く加工することが困難である。
【0007】このように水素透過膜の厚みを厚くすると
水素透過性が悪くなるので水素透過部分の表面に多数の
凹部、すなわち膜厚の薄い部分を設け水素の透過性を確
保する。凹部の深さt1 は、凹部のない部分の膜厚をt
3 、凹部における膜厚をt2、従来方法における膜厚を
t0 とした場合にt0 >t2 =t3 −t1 となるように
するのが望ましい。凹部の形状としては特に制限はな
く、図4に示す升目状、図5に示すディンプル状など膜
の材質、形状等に応じて適当な形状とすればよい。水素
透過膜の凹部のピッチ(l1 )は凹部の面積の水素透過
面全体の面積に対する割合と膜全体の強度等を考慮して
適宜定めればよい。なお、支持板として使用する金属支
持板の表面にも凹凸がある。通常、金属多孔板の凹部の
ピッチは明確ではないが、大まかな傾向としてそのピッ
チを(l2 )とした場合l2 <l1 となると水素透過膜
が破損しやすくなる恐れがあるので、(l1 )は支持板
表面の凹部のピッチ(l 2 )より小さくなるようにする
のが望ましい。また、凹部の面積は水素透過面全体の面
積の30〜90%程度とする。30%未満では水素透過
性が悪く、90%を超えると強度が低下するので好まし
くない。
水素透過性が悪くなるので水素透過部分の表面に多数の
凹部、すなわち膜厚の薄い部分を設け水素の透過性を確
保する。凹部の深さt1 は、凹部のない部分の膜厚をt
3 、凹部における膜厚をt2、従来方法における膜厚を
t0 とした場合にt0 >t2 =t3 −t1 となるように
するのが望ましい。凹部の形状としては特に制限はな
く、図4に示す升目状、図5に示すディンプル状など膜
の材質、形状等に応じて適当な形状とすればよい。水素
透過膜の凹部のピッチ(l1 )は凹部の面積の水素透過
面全体の面積に対する割合と膜全体の強度等を考慮して
適宜定めればよい。なお、支持板として使用する金属支
持板の表面にも凹凸がある。通常、金属多孔板の凹部の
ピッチは明確ではないが、大まかな傾向としてそのピッ
チを(l2 )とした場合l2 <l1 となると水素透過膜
が破損しやすくなる恐れがあるので、(l1 )は支持板
表面の凹部のピッチ(l 2 )より小さくなるようにする
のが望ましい。また、凹部の面積は水素透過面全体の面
積の30〜90%程度とする。30%未満では水素透過
性が悪く、90%を超えると強度が低下するので好まし
くない。
【0008】本発明の水素分離膜ユニットにおける水素
透過膜の材質としてはPdのほかPd−Ag,Pd−
Y,Pd−Ni,Pd−CuなどのPd合金あるいはP
dに前記のAgなどの添加金属を複合して加えた三元合
金なども使用することができる。
透過膜の材質としてはPdのほかPd−Ag,Pd−
Y,Pd−Ni,Pd−CuなどのPd合金あるいはP
dに前記のAgなどの添加金属を複合して加えた三元合
金なども使用することができる。
【0009】前記の凹部は水素透過膜の原料ガス側、精
製水素側のどちらに設けてもよく、両面に設けてもよ
い。このような凹部はパターニング後エッチングするな
どの方法により形成させることができる。
製水素側のどちらに設けてもよく、両面に設けてもよ
い。このような凹部はパターニング後エッチングするな
どの方法により形成させることができる。
【0010】本発明の水素分離膜ユニットは前記の凹部
を設けた水素透過膜の周囲の凹部が形成されていない部
分を、両面から金属多孔質材からなる支持板が接合され
た金属製の枠ではさみ、ろう付け、拡散接合あるいは溶
接により固定した構成となっている。なお、使用条件等
により原料ガス側の支持板は省略してもよい。また、こ
こでいう金属多孔質材とは金網状あるいは不織布の形状
を含むものである。
を設けた水素透過膜の周囲の凹部が形成されていない部
分を、両面から金属多孔質材からなる支持板が接合され
た金属製の枠ではさみ、ろう付け、拡散接合あるいは溶
接により固定した構成となっている。なお、使用条件等
により原料ガス側の支持板は省略してもよい。また、こ
こでいう金属多孔質材とは金網状あるいは不織布の形状
を含むものである。
【0011】本発明の水素分離膜ユニットの1例につい
て、その断面図を図1に示す。図1において升目状の凹
部3が形成された水素透過膜1が、金属多孔材からなる
支持板2が接合された金属製の枠4により凹部が形成さ
れていない部分ではさまれ、接合部5で接合されてい
る。この例では凹部は原料ガス側に形成されている。
て、その断面図を図1に示す。図1において升目状の凹
部3が形成された水素透過膜1が、金属多孔材からなる
支持板2が接合された金属製の枠4により凹部が形成さ
れていない部分ではさまれ、接合部5で接合されてい
る。この例では凹部は原料ガス側に形成されている。
【0012】図2及び図3にそれぞれ本発明の水素分離
膜ユニットの他の例を示す。図2は水素透過膜1の升目
状の凹部3が精製水素側に形成された例である。水素透
過膜1の保持形態としては図1のように原料ガス側に凹
部3を設け、精製水素側を平坦にし、その面を支持板2
に接触させて保持するのが望ましいが、水素の透過性能
には差はない。図3は図1の構造の原料ガス側の支持板
2が省略された例であるが、水素の透過性能、膜の保持
効果は変わらない。
膜ユニットの他の例を示す。図2は水素透過膜1の升目
状の凹部3が精製水素側に形成された例である。水素透
過膜1の保持形態としては図1のように原料ガス側に凹
部3を設け、精製水素側を平坦にし、その面を支持板2
に接触させて保持するのが望ましいが、水素の透過性能
には差はない。図3は図1の構造の原料ガス側の支持板
2が省略された例であるが、水素の透過性能、膜の保持
効果は変わらない。
【0013】
【作用】水素透過膜として従来使用されているものより
厚いものを用いるようにしたことにより、図1のB部の
使用時の拡大図である図6に示すように、図7に見られ
る局部的な歪6の発現が抑制され、△Pをより大きくし
ても破断し難くなる。また、水素透過部分に凹部を設け
ることにより、凸部の厚さt3 に相当する厚みを有する
水素透過膜に近い剛性が得られ、かつ、凹部の厚さt1
に相当する厚さの水素透過膜に近い優れた水素透過性能
が得られる。
厚いものを用いるようにしたことにより、図1のB部の
使用時の拡大図である図6に示すように、図7に見られ
る局部的な歪6の発現が抑制され、△Pをより大きくし
ても破断し難くなる。また、水素透過部分に凹部を設け
ることにより、凸部の厚さt3 に相当する厚みを有する
水素透過膜に近い剛性が得られ、かつ、凹部の厚さt1
に相当する厚さの水素透過膜に近い優れた水素透過性能
が得られる。
【0014】
【実施例】以下実施例により本発明をさらに具体的に説
明する。図1の形状の水素分離膜ユニットを作製し性能
評価試験を行った。先ずSUS316製の枠4とSUS
316製で厚さ0.8mmで平均孔径(凹部のピッチ)
l2 が約30μmの金属多孔体(平均繊維径1.5μ
m、平均孔径30μmの不織布)からなる支持板2を溶
接により接合した。この支持板2を接合した枠4の間
に、図4に示すように一辺15μmの正方形で深さ25
μmの升目状の凹部を25μmのピッチで形成させた厚
さ40μmのPd−20wt%Ag合金圧廷箔からなる
水素透過膜1をはさんで接合し、約120mm×70m
mの大きさの水素分離膜ユニットを作製した。この例で
は図6のaに相当する段差は20μmであった。
明する。図1の形状の水素分離膜ユニットを作製し性能
評価試験を行った。先ずSUS316製の枠4とSUS
316製で厚さ0.8mmで平均孔径(凹部のピッチ)
l2 が約30μmの金属多孔体(平均繊維径1.5μ
m、平均孔径30μmの不織布)からなる支持板2を溶
接により接合した。この支持板2を接合した枠4の間
に、図4に示すように一辺15μmの正方形で深さ25
μmの升目状の凹部を25μmのピッチで形成させた厚
さ40μmのPd−20wt%Ag合金圧廷箔からなる
水素透過膜1をはさんで接合し、約120mm×70m
mの大きさの水素分離膜ユニットを作製した。この例で
は図6のaに相当する段差は20μmであった。
【0015】凹部を形成させた水素透過膜は次のように
して作製した。すなわち、厚さ40μmのPd−20w
t%Ag合金圧廷箔をアルカリ洗浄液中で超音波洗浄
し、真空中で乾燥後、ポジタイプのレジスト材(東京応
化製TSMR8800)を両面にコーターで塗付し、9
0℃で30分間加熱乾燥後、ピッチ25μm、一辺15
μmの正方形のマスクを用い、片面に紫外線を露光した
後、レジスト剥離液(東京応化製NMD−W)中で一辺
15μmの正方形部のレジスト材を除去した。その後、
120℃のフッ酸中で30分間保持し、一辺15μmの
正方形部をエッチング除去した。その結果、正方形凹部
の深さは約25μmであった。
して作製した。すなわち、厚さ40μmのPd−20w
t%Ag合金圧廷箔をアルカリ洗浄液中で超音波洗浄
し、真空中で乾燥後、ポジタイプのレジスト材(東京応
化製TSMR8800)を両面にコーターで塗付し、9
0℃で30分間加熱乾燥後、ピッチ25μm、一辺15
μmの正方形のマスクを用い、片面に紫外線を露光した
後、レジスト剥離液(東京応化製NMD−W)中で一辺
15μmの正方形部のレジスト材を除去した。その後、
120℃のフッ酸中で30分間保持し、一辺15μmの
正方形部をエッチング除去した。その結果、正方形凹部
の深さは約25μmであった。
【0016】比較試料として水素透過膜1を厚さ20μ
mのPd−20wt%Ag合金圧廷箔としたほかは前記
と同様にして図8の構造の水素分離膜ユニットを作製し
た。
mのPd−20wt%Ag合金圧廷箔としたほかは前記
と同様にして図8の構造の水素分離膜ユニットを作製し
た。
【0017】このようにして作製した試料について箔の
破断試験及び水素透過性能により性能評価を行った。ま
ず箔の破断については、Ar中で原料側(P1 )と精製
水素側(P2 )の差圧△P=P1 −P2 =9kgf/c
m2 として(P2 は真空)昇温速度300℃/Hrで6
00℃に加熱し、30分間保持後、冷却速度300℃/
Hrで室温まで下げる履歴を繰返した。また、水素透過
性能は差圧を9kgf/cm2 とし、原料ガス側を99
%以上の水素を含む標準水素ガスとし、550℃で精製
水素側に透過してくる水素の量から水素透過速度を測定
した。
破断試験及び水素透過性能により性能評価を行った。ま
ず箔の破断については、Ar中で原料側(P1 )と精製
水素側(P2 )の差圧△P=P1 −P2 =9kgf/c
m2 として(P2 は真空)昇温速度300℃/Hrで6
00℃に加熱し、30分間保持後、冷却速度300℃/
Hrで室温まで下げる履歴を繰返した。また、水素透過
性能は差圧を9kgf/cm2 とし、原料ガス側を99
%以上の水素を含む標準水素ガスとし、550℃で精製
水素側に透過してくる水素の量から水素透過速度を測定
した。
【0018】試験に用いた試料の形状及び性能評価試験
結果を表1に示す。表1からわかるように破断試験にお
いては従来方法による比較例の試料では、9回目に箔が
破断しP2 の圧力が上昇した。これに対し本発明による
実施例の試料では、50回の繰返しによっても破断しな
かった。また、水素透過速度は比較例では180cm3
/(cm2 ・min・atm0. 5 )であるのに対し、本
発明の実施例では230cm3 /(cm2 ・min・a
tm0.5 )と高い値が得られた。
結果を表1に示す。表1からわかるように破断試験にお
いては従来方法による比較例の試料では、9回目に箔が
破断しP2 の圧力が上昇した。これに対し本発明による
実施例の試料では、50回の繰返しによっても破断しな
かった。また、水素透過速度は比較例では180cm3
/(cm2 ・min・atm0. 5 )であるのに対し、本
発明の実施例では230cm3 /(cm2 ・min・a
tm0.5 )と高い値が得られた。
【0019】
【表1】
【0020】
【発明の効果】本発明の水素分離膜ユニットは、従来の
水素分離膜ユニットに比較すると、強度が著しく改善さ
れ、長時間の繰返し使用に対する耐性が格段に優れてお
り、しかも水素透過性能は同等以上である。
水素分離膜ユニットに比較すると、強度が著しく改善さ
れ、長時間の繰返し使用に対する耐性が格段に優れてお
り、しかも水素透過性能は同等以上である。
【図1】本発明の水素分離膜ユニットの1例を示す断面
図。
図。
【図2】本発明の水素分離膜ユニットの他の1例を示す
断面図。
断面図。
【図3】本発明の水素分離膜ユニットの他の1例を示す
断面図。
断面図。
【図4】本発明に係る水素透過膜の升目状凹部の1例を
示す拡大図。
示す拡大図。
【図5】本発明に係る水素透過膜のディンプル状凹部の
1例を示す拡大図。
1例を示す拡大図。
【図6】図1のB部の使用時の状態を示す拡大図。
【図7】図8のA部の使用時の状態を示す拡大図。
【図8】従来の水素分離膜ユニットの1例を示す断面
図。
図。
Claims (2)
- 【請求項1】 金属又は合金箔製の水素透過膜の周囲を
両面から金属製の枠ではさんで固定し、前記水素透過膜
の少くとも精製水素側の面を周囲が前記金属製の枠に接
合された金属多孔質材からなる支持板で支持した水素分
離膜ユニットにおいて、前記水素透過膜として水素の透
過部分に多数の凹部を設けた金属又は合金箔製の水素透
過膜を使用したことを特徴とする水素分離膜ユニット。 - 【請求項2】 水素透過膜に設けた凹部がディンプル状
又は升目状に形成されていることを特徴とする請求項1
に記載の水素分離膜ユニット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21259694A JPH0873201A (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 水素分離膜ユニット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21259694A JPH0873201A (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 水素分離膜ユニット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0873201A true JPH0873201A (ja) | 1996-03-19 |
Family
ID=16625320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21259694A Withdrawn JPH0873201A (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 水素分離膜ユニット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0873201A (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1994
- 1994-09-06 JP JP21259694A patent/JPH0873201A/ja not_active Withdrawn
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