JPH0876102A - 基板保持装置 - Google Patents
基板保持装置Info
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- JPH0876102A JPH0876102A JP6234202A JP23420294A JPH0876102A JP H0876102 A JPH0876102 A JP H0876102A JP 6234202 A JP6234202 A JP 6234202A JP 23420294 A JP23420294 A JP 23420294A JP H0876102 A JPH0876102 A JP H0876102A
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- Japan
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- substrate
- plate
- holder
- holding device
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- Liquid Crystal (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】基板保持装置において、基板上の基板の位置決
め検出機構を簡素化すると共に、プリアライメント精度
を向上し得る。 【構成】基板に当接する当接部材22に位置検出用のプ
リアライメントマーク25を設け、基板を保持するホル
ダ手段及び駆動手段23と独立して設けられた位置検出
手段によつてプリアライメントマーク25の位置を検出
することとしたため、ホルダ手段上には簡素化された駆
動手段23のみを設置するだけでよくなる。また、当接
部材22や駆動手段23の構成も簡素化される。
め検出機構を簡素化すると共に、プリアライメント精度
を向上し得る。 【構成】基板に当接する当接部材22に位置検出用のプ
リアライメントマーク25を設け、基板を保持するホル
ダ手段及び駆動手段23と独立して設けられた位置検出
手段によつてプリアライメントマーク25の位置を検出
することとしたため、ホルダ手段上には簡素化された駆
動手段23のみを設置するだけでよくなる。また、当接
部材22や駆動手段23の構成も簡素化される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は基板保持装置に関して、
例えば液晶基板等の大型の基板を露光する露光装置の基
板ホルダに適用し得る。
例えば液晶基板等の大型の基板を露光する露光装置の基
板ホルダに適用し得る。
【0002】
【従来の技術】従来、図3に示すように、露光装置に用
いられる基板保持装置1では、感光基板(以下プレート
という)2に所定パターンを転写する際、プレート2を
プレートホルダ3によつて保持して位置決めステージ4
の上に搭載する。プレートホルダ3は位置決めステージ
4上の平面内をXY軸方向に沿つて移動し、さらにXY
平面上をθ軸を中心として回転されることにより、位置
決めされる。位置決めステージ4の上に搭載されたプレ
ート2はプレート2のエツジに当接するピンを含む位置
決め機構5によつて大まかに位置合わせされた後、プレ
ート2上に設けられたアライメントマークを検出するな
どして露光位置に正確に位置決めされる。
いられる基板保持装置1では、感光基板(以下プレート
という)2に所定パターンを転写する際、プレート2を
プレートホルダ3によつて保持して位置決めステージ4
の上に搭載する。プレートホルダ3は位置決めステージ
4上の平面内をXY軸方向に沿つて移動し、さらにXY
平面上をθ軸を中心として回転されることにより、位置
決めされる。位置決めステージ4の上に搭載されたプレ
ート2はプレート2のエツジに当接するピンを含む位置
決め機構5によつて大まかに位置合わせされた後、プレ
ート2上に設けられたアライメントマークを検出するな
どして露光位置に正確に位置決めされる。
【0003】プレート2をプリアライメントする際にプ
レート2のエツジ2Aを検出する位置決め機構5は、プ
レートホルダ3上に設置され、図4に示すような制御装
置6によつて制御される。位置決め機構5は、エツジ2
Aに当接する基準ピン7、当接した基準ピン7の位置を
検出するポテンシヨメータ8、基準ピン7を案内するガ
イド9及び基準ピン7を移動する駆動部10で構成され
ている。位置検出に用いられるポテンシヨメータ8は基
準ピン7の位置に応じて変化する抵抗値を電圧値に変換
し、これを基準ピン7に当接するエツジ2Aの位置とし
て出力する。
レート2のエツジ2Aを検出する位置決め機構5は、プ
レートホルダ3上に設置され、図4に示すような制御装
置6によつて制御される。位置決め機構5は、エツジ2
Aに当接する基準ピン7、当接した基準ピン7の位置を
検出するポテンシヨメータ8、基準ピン7を案内するガ
イド9及び基準ピン7を移動する駆動部10で構成され
ている。位置検出に用いられるポテンシヨメータ8は基
準ピン7の位置に応じて変化する抵抗値を電圧値に変換
し、これを基準ピン7に当接するエツジ2Aの位置とし
て出力する。
【0004】プレート2のプリアライメントは、先ずプ
レートホルダ3によつて保持されたプレート2のエツジ
2Aに基準ピン7を当接させる。次にエツジ2Aに当接
した基準ピン7の位置をポテンシヨメータ8により検出
し、この検出結果に基づいて位置決めステージ4のXY
θ軸の各方向にプレート2を移動することにより行う。
レートホルダ3によつて保持されたプレート2のエツジ
2Aに基準ピン7を当接させる。次にエツジ2Aに当接
した基準ピン7の位置をポテンシヨメータ8により検出
し、この検出結果に基づいて位置決めステージ4のXY
θ軸の各方向にプレート2を移動することにより行う。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが位置決め機構
5には、位置検出のポテンシヨメータ8、基準ピン7に
加え基準ピン7を駆動する駆動部10が必要なため、機
構全体が大型になつてしまうという問題があつた。さら
に、位置決め機構5が大型であるが故に位置決め機構5
の配置の自由度が小さくなることや、装置全体の大きさ
の制約から使用可能なプレート2の最大面積が制限され
てしまうという問題があつた。
5には、位置検出のポテンシヨメータ8、基準ピン7に
加え基準ピン7を駆動する駆動部10が必要なため、機
構全体が大型になつてしまうという問題があつた。さら
に、位置決め機構5が大型であるが故に位置決め機構5
の配置の自由度が小さくなることや、装置全体の大きさ
の制約から使用可能なプレート2の最大面積が制限され
てしまうという問題があつた。
【0006】また、位置決め機構5ではポテンシヨメー
タ8を基準ピン7と直結するのが難しいので、間接的な
機構を介して接続される。このため位置検出にはガイド
のエラー等の基準ピン7の駆動機構を原因とする機械的
な誤差が入り込むのを避け得ず、ポテンシヨメータ8の
検出結果の精度を悪くさせ、プリアライメント精度の向
上を妨げるという問題があつた。
タ8を基準ピン7と直結するのが難しいので、間接的な
機構を介して接続される。このため位置検出にはガイド
のエラー等の基準ピン7の駆動機構を原因とする機械的
な誤差が入り込むのを避け得ず、ポテンシヨメータ8の
検出結果の精度を悪くさせ、プリアライメント精度の向
上を妨げるという問題があつた。
【0007】また、プリアライメント後の露光のプロセ
スでは、以降の工程でプレートをフアインにアライメン
トするためのアライメントマークをプレートに露光す
る。このアライメントマークの周囲(近傍)に実デバイ
スのパターンが露光されていると誤検出の元となり正確
にアライメントできなくなる。そこで通常、レチクルを
設計する場合にはアライメントマークの周囲にパターン
を設けない領域を設ける。ところが、このパターンを設
けない領域はプリアライメント精度に対するマージンで
あるため、プリアライメント精度が悪ければ、パターン
を設けない領域を小さくすることができないという問題
があつた。
スでは、以降の工程でプレートをフアインにアライメン
トするためのアライメントマークをプレートに露光す
る。このアライメントマークの周囲(近傍)に実デバイ
スのパターンが露光されていると誤検出の元となり正確
にアライメントできなくなる。そこで通常、レチクルを
設計する場合にはアライメントマークの周囲にパターン
を設けない領域を設ける。ところが、このパターンを設
けない領域はプリアライメント精度に対するマージンで
あるため、プリアライメント精度が悪ければ、パターン
を設けない領域を小さくすることができないという問題
があつた。
【0008】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、プレートホルダ上のプレートの位置決め機構を簡素
化すると共に、プリアライメント精度の高い基板保持装
置を提案しようとするものである。
で、プレートホルダ上のプレートの位置決め機構を簡素
化すると共に、プリアライメント精度の高い基板保持装
置を提案しようとするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】基板(2)を保持するホ
ルダ手段(3)と、ホルダ手段(3)を平面内で移動さ
せるホルダ駆動手段とを備え、基板をホルダ駆動手段に
よつて所定位置に位置決めする基板保持装置(20)に
おいて、基板(2)の端面(2A)の少なくとも3か所
に当接し、それぞれ上面に位置検出に用いる指標(2
5)が設けられた複数の当接部材(22)と、指標(2
5)の位置を検出し、該位置の所定位置からの偏差に基
づいて基板(2)の位置ずれを検出する位置検出手段
(26)と、位置ずれに基づいてホルダ手段(3)をホ
ルダ駆動手段により移動させることにより、基板(2)
の位置ずれを補正する制御手段(27)とを備える。
ルダ手段(3)と、ホルダ手段(3)を平面内で移動さ
せるホルダ駆動手段とを備え、基板をホルダ駆動手段に
よつて所定位置に位置決めする基板保持装置(20)に
おいて、基板(2)の端面(2A)の少なくとも3か所
に当接し、それぞれ上面に位置検出に用いる指標(2
5)が設けられた複数の当接部材(22)と、指標(2
5)の位置を検出し、該位置の所定位置からの偏差に基
づいて基板(2)の位置ずれを検出する位置検出手段
(26)と、位置ずれに基づいてホルダ手段(3)をホ
ルダ駆動手段により移動させることにより、基板(2)
の位置ずれを補正する制御手段(27)とを備える。
【0010】また本発明においては、当接部材(22)
には基板(2)の端面と当接する部分に端面(2A)の
形状に応じた切り欠きが設けられ、指標(25)は切り
欠きとほぼ平行に設けられる。
には基板(2)の端面と当接する部分に端面(2A)の
形状に応じた切り欠きが設けられ、指標(25)は切り
欠きとほぼ平行に設けられる。
【0011】
【作用】基板(2)に当接する当接部材(22)上に位
置検出用のマーク(25)を設け、基板(2)を保持す
るホルダ手段(3)及び駆動手段(23)と独立して設
けられた位置検出手段(26)によつてマーク(25)
の位置を検出することとしたため、ホルダ手段(3)上
には簡素化された駆動手段(23)のみを設置するだけ
でよくなり、ホルダ手段(3)での当接部材の配置が制
約を受けることがなくなる。また、当接部材(22)や
駆動手段の構成も簡素化されるため、機械的な誤差が減
少し、基板の位置検出精度を向上し得る。
置検出用のマーク(25)を設け、基板(2)を保持す
るホルダ手段(3)及び駆動手段(23)と独立して設
けられた位置検出手段(26)によつてマーク(25)
の位置を検出することとしたため、ホルダ手段(3)上
には簡素化された駆動手段(23)のみを設置するだけ
でよくなり、ホルダ手段(3)での当接部材の配置が制
約を受けることがなくなる。また、当接部材(22)や
駆動手段の構成も簡素化されるため、機械的な誤差が減
少し、基板の位置検出精度を向上し得る。
【0012】さらに当接部材(22)には基板(2)の
端面と当接する部分に端面(2A)の形状に応じた切り
欠きを設け、指標(25)を切り欠きとほぼ平行に設け
たため、当接部材(22)に基板(2)を安定して当接
することができ、指標(25)により端面(2A)の向
きを検出できる。
端面と当接する部分に端面(2A)の形状に応じた切り
欠きを設け、指標(25)を切り欠きとほぼ平行に設け
たため、当接部材(22)に基板(2)を安定して当接
することができ、指標(25)により端面(2A)の向
きを検出できる。
【0013】
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
する。
【0014】図3及び図4との対応部分に同一符号を付
して示す図1及び図2において、20は露光装置の基板
保持装置を示し、基板露光の際にプレート2を保持する
プレートホルダ3が位置決めステージ4上に設置されて
いる。プレートホルダ3は位置決めステージ4上を平面
内のXY軸の方向に移動すると共に、θ軸を中心に回転
することができる。
して示す図1及び図2において、20は露光装置の基板
保持装置を示し、基板露光の際にプレート2を保持する
プレートホルダ3が位置決めステージ4上に設置されて
いる。プレートホルダ3は位置決めステージ4上を平面
内のXY軸の方向に移動すると共に、θ軸を中心に回転
することができる。
【0015】プレートホルダ3上にはプレート2のエツ
ジ位置を検出する3組の位置決め機構21が、搭載され
る矩形のプレート2の隣合う2辺に対してそれぞれ、1
組と2組とに分けられて配置されている。この3組の位
置決め機構21がプレート2のエツジ2Aに当接するこ
とにより、プレートホルダ3上の平面内でのプレート2
の位置を特定することができる。
ジ位置を検出する3組の位置決め機構21が、搭載され
る矩形のプレート2の隣合う2辺に対してそれぞれ、1
組と2組とに分けられて配置されている。この3組の位
置決め機構21がプレート2のエツジ2Aに当接するこ
とにより、プレートホルダ3上の平面内でのプレート2
の位置を特定することができる。
【0016】この3組の位置決め機構21のそれぞれ
は、図2(A)及び(B)に示すような構造となつてい
る。尚図2(B)は平面図、図2(A)は側面図であ
る。即ち、支持台28上に軸22A周りに回動自在に基
準ピン22を設ける。この基準ピン22は、エツジ2A
に当接してエツジ2Aの位置検出に用いられる。また、
支持台28を介して基準ピン22の移動を案内するガイ
ド23と、基準ピン22をガイド23に沿つて移動させ
るエアシリンダでなる駆動部24からなる。
は、図2(A)及び(B)に示すような構造となつてい
る。尚図2(B)は平面図、図2(A)は側面図であ
る。即ち、支持台28上に軸22A周りに回動自在に基
準ピン22を設ける。この基準ピン22は、エツジ2A
に当接してエツジ2Aの位置検出に用いられる。また、
支持台28を介して基準ピン22の移動を案内するガイ
ド23と、基準ピン22をガイド23に沿つて移動させ
るエアシリンダでなる駆動部24からなる。
【0017】基準ピン22の上面には周囲との反射率が
異なる線状のプリアライメントマーク25が設けられ、
このプリアライメントマーク25を図1に示すマーク検
出用センサ26で検出することによつて、基準ピン22
の位置を求める。この基準ピン22の軸22Aとプレー
ト2に当接する部分との間にはベアリングが装着され、
これにより当接する部分が緩衝される。
異なる線状のプリアライメントマーク25が設けられ、
このプリアライメントマーク25を図1に示すマーク検
出用センサ26で検出することによつて、基準ピン22
の位置を求める。この基準ピン22の軸22Aとプレー
ト2に当接する部分との間にはベアリングが装着され、
これにより当接する部分が緩衝される。
【0018】位置決め機構21の上方には、プリアライ
メントマーク25を検出することにより基準ピン22の
プレートホルダ3上の平面内での位置を求めるマーク検
出用センサ26がそれぞれ設置されている。この3組の
マーク検出用センサ26は、プレートホルダ3とは独立
して設置されている。
メントマーク25を検出することにより基準ピン22の
プレートホルダ3上の平面内での位置を求めるマーク検
出用センサ26がそれぞれ設置されている。この3組の
マーク検出用センサ26は、プレートホルダ3とは独立
して設置されている。
【0019】マーク検出用センサ26のセンサ部はCC
Dカメラでなり、アライメントすべき理想的なエツジの
位置に対してほぼ平行に配されたスリツト状の検出部か
らプリアライメントマーク25を検出する。基準ピン2
2がエツジ2Aに当接する部分にエツジ2Aの形状に沿
つた切り欠きが形成されていれば、基準ピン22に当接
するプレート2がずれにくくなる。これにより基準ピン
22に対してプレート2をより安定して当接させること
ができる。また、この切欠きとプリアライメントマーク
25とを平行に配置すれば、エツジ2Aの向きを検出す
ることもでき、プリアライメントマーク25の位置検出
精度を高めることができる。これにより位置決め機構2
1は基準ピン22に当接するプリアライメントマーク2
5に平行なエツジ2Aの向きを読み取りながら、プレー
ト2の位置補正ができる。
Dカメラでなり、アライメントすべき理想的なエツジの
位置に対してほぼ平行に配されたスリツト状の検出部か
らプリアライメントマーク25を検出する。基準ピン2
2がエツジ2Aに当接する部分にエツジ2Aの形状に沿
つた切り欠きが形成されていれば、基準ピン22に当接
するプレート2がずれにくくなる。これにより基準ピン
22に対してプレート2をより安定して当接させること
ができる。また、この切欠きとプリアライメントマーク
25とを平行に配置すれば、エツジ2Aの向きを検出す
ることもでき、プリアライメントマーク25の位置検出
精度を高めることができる。これにより位置決め機構2
1は基準ピン22に当接するプリアライメントマーク2
5に平行なエツジ2Aの向きを読み取りながら、プレー
ト2の位置補正ができる。
【0020】基準ピン22はマーク検出用センサ26に
よるプリアライメントマーク25の検出結果に基づいた
制御装置27の制御により位置を補正制御され、プレー
ト2のエツジ2Aに当接される。制御装置27はプレー
トホルダ3上の基準ピン22の位置がマーク検出用セン
サ26により検出されると、この検出結果に基づいて、
プレートホルダ3を移動させ、プレート2のプリアライ
メントすべき位置に対する位置ずれを補正する。
よるプリアライメントマーク25の検出結果に基づいた
制御装置27の制御により位置を補正制御され、プレー
ト2のエツジ2Aに当接される。制御装置27はプレー
トホルダ3上の基準ピン22の位置がマーク検出用セン
サ26により検出されると、この検出結果に基づいて、
プレートホルダ3を移動させ、プレート2のプリアライ
メントすべき位置に対する位置ずれを補正する。
【0021】以上の構成において、基板のプリアライメ
ントの一連の動作を説明する。先ず、搬送されてきたプ
レート2がプレートホルダ3上に搭載されると、制御装
置27は位置決め機構21のプリアライメント基準ピン
22を移動し、プレート2のエツジ2Aにプレート2が
変形しない程度の低圧で当接させる。すなわち3つの基
準ピン22の内の1つがプレート2のエツジ2Aに当接
し、残る2つの基準ピン22が隣り合うエツジ2Aにお
いてプレート2に当接される。
ントの一連の動作を説明する。先ず、搬送されてきたプ
レート2がプレートホルダ3上に搭載されると、制御装
置27は位置決め機構21のプリアライメント基準ピン
22を移動し、プレート2のエツジ2Aにプレート2が
変形しない程度の低圧で当接させる。すなわち3つの基
準ピン22の内の1つがプレート2のエツジ2Aに当接
し、残る2つの基準ピン22が隣り合うエツジ2Aにお
いてプレート2に当接される。
【0022】3組の基準ピン22をそれぞれプレート2
のエツジ2Aに当接させるとともに、マーク検出用セン
サ26でプリアライメントマーク25を検出する。そし
て、このときマーク検出用センサ26によつて求めたプ
リアライメントマーク25の位置と、プリアライメント
すべき所定の位置とのずれに基づいて、制御装置27は
プレートホルダ3を平面上でXY軸方向に移動させると
共に、θ軸を中心に回転させる。このようにして、マー
ク検出用センサ26によるプレート2のプレートホルダ
3上での位置を表すプリアライメントマーク25の検出
結果に基づいてプリアライメントすべき位置に対するず
れが補正されてプレート2は位置決めされる。
のエツジ2Aに当接させるとともに、マーク検出用セン
サ26でプリアライメントマーク25を検出する。そし
て、このときマーク検出用センサ26によつて求めたプ
リアライメントマーク25の位置と、プリアライメント
すべき所定の位置とのずれに基づいて、制御装置27は
プレートホルダ3を平面上でXY軸方向に移動させると
共に、θ軸を中心に回転させる。このようにして、マー
ク検出用センサ26によるプレート2のプレートホルダ
3上での位置を表すプリアライメントマーク25の検出
結果に基づいてプリアライメントすべき位置に対するず
れが補正されてプレート2は位置決めされる。
【0023】以上の構成によれば、プレートホルダ3上
にプレート2のエツジ位置検出用のポテンシヨメータを
設置せず、プレートホルダ3とは独立して設置されるマ
ーク検出用センサ26によつて光学的にプレート2のエ
ツジ2Aの位置を検出するようにしたことにより、プレ
ートホルダ3上の位置決め機構21を簡素化することが
できる。さらに、位置決め機構21が簡素化されたこと
により、プレートホルダ3上の自由度を大きくすること
ができる。また位置決め機構21がプレートホルダ3の
駆動部24と独立して設置されるため、プリアライメン
トマーク25の検出の際、基準ピン及びポテンシヨメー
タのガイドのエラー等の機械的な精度誤差の影響を受け
ることなく、高精度なプリアライメントが可能になる。
にプレート2のエツジ位置検出用のポテンシヨメータを
設置せず、プレートホルダ3とは独立して設置されるマ
ーク検出用センサ26によつて光学的にプレート2のエ
ツジ2Aの位置を検出するようにしたことにより、プレ
ートホルダ3上の位置決め機構21を簡素化することが
できる。さらに、位置決め機構21が簡素化されたこと
により、プレートホルダ3上の自由度を大きくすること
ができる。また位置決め機構21がプレートホルダ3の
駆動部24と独立して設置されるため、プリアライメン
トマーク25の検出の際、基準ピン及びポテンシヨメー
タのガイドのエラー等の機械的な精度誤差の影響を受け
ることなく、高精度なプリアライメントが可能になる。
【0024】また、プリアライメント精度の向上によつ
て、プリアライメント後の露光のプロセスではプレート
をフアインにアライメントする際にプレートに露光する
アライメントマークの周囲のパターンを設けない領域を
小さくすることができ、レチクル設計の自由度が大きく
なるという利点がある。
て、プリアライメント後の露光のプロセスではプレート
をフアインにアライメントする際にプレートに露光する
アライメントマークの周囲のパターンを設けない領域を
小さくすることができ、レチクル設計の自由度が大きく
なるという利点がある。
【0025】なお、上述の実施例においては、マーク検
出用センサとしてCCDカメラを用いた場合について述
べたが、本発明はこれに限らず、例えばフオトマルチメ
ータ等を用いても良い。
出用センサとしてCCDカメラを用いた場合について述
べたが、本発明はこれに限らず、例えばフオトマルチメ
ータ等を用いても良い。
【0026】また上述の実施例においては、基準ピン上
面に設ける指標を周囲部分と反射率の異なるプリアライ
メントマークとした場合について述べたが、本発明はこ
れに限らず、例えば、指標とする部分と周囲部分との間
に段差を設けてこの段差にレーザ光を照射し、この段差
のエツジで発生する回折光を検出することによりプリア
ライメントマークを検出するようにしても良い。
面に設ける指標を周囲部分と反射率の異なるプリアライ
メントマークとした場合について述べたが、本発明はこ
れに限らず、例えば、指標とする部分と周囲部分との間
に段差を設けてこの段差にレーザ光を照射し、この段差
のエツジで発生する回折光を検出することによりプリア
ライメントマークを検出するようにしても良い。
【0027】さらに上述の実施例においては、基板保持
装置を基板の露光装置において基板を位置決めするもの
に用いた場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、例えば基板の検査装置等における基板の保持装置に
も同様に用いることができる。
装置を基板の露光装置において基板を位置決めするもの
に用いた場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、例えば基板の検査装置等における基板の保持装置に
も同様に用いることができる。
【0028】また上述の実施例においては、位置決めす
る基板の形状を矩形のものとした場合について述べた
が、本発明はこれに限らず、例えば、半導体ウエハのよ
うにほぼ円形の基板としても良い。
る基板の形状を矩形のものとした場合について述べた
が、本発明はこれに限らず、例えば、半導体ウエハのよ
うにほぼ円形の基板としても良い。
【0029】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、基板に当
接する当接部材上に位置検出用のマークを設け、基板を
保持するホルダ手段及び駆動手段と独立して設けられた
位置検出手段によつてマークの位置を検出することとし
たため、ホルダ手段上には簡素化された駆動手段のみを
設置するだけでよくなり、ホルダ手段での当接部材の配
置が制約を受けることがなくなる。また、当接部材や駆
動手段の構成も簡素化されるため、機械的な誤差が減少
し、基板の位置検出精度を向上し得る基板保持装置を実
現し得る。
接する当接部材上に位置検出用のマークを設け、基板を
保持するホルダ手段及び駆動手段と独立して設けられた
位置検出手段によつてマークの位置を検出することとし
たため、ホルダ手段上には簡素化された駆動手段のみを
設置するだけでよくなり、ホルダ手段での当接部材の配
置が制約を受けることがなくなる。また、当接部材や駆
動手段の構成も簡素化されるため、機械的な誤差が減少
し、基板の位置検出精度を向上し得る基板保持装置を実
現し得る。
【図1】本発明による一実施例の全体構成を示す略線的
斜視図である。
斜視図である。
【図2】実施例の位置決め機構を示す略線的側面図
(A)及び略線的上面図(B)である。
(A)及び略線的上面図(B)である。
【図3】従来の基板保持装置を示す略線的斜視図であ
る。
る。
【図4】従来の位置決め機構を示す略線的上面図であ
る。
る。
1、20……基板保持装置、2……プレート、3……プ
レートホルダ、4……位置決めステージ、5、21……
位置決め機構、6、27……制御装置、7、22……基
準ピン、10、24……駆動部、23……ガイド、25
……プリアライメントマーク、26……マーク検出用セ
ンサ。
レートホルダ、4……位置決めステージ、5、21……
位置決め機構、6、27……制御装置、7、22……基
準ピン、10、24……駆動部、23……ガイド、25
……プリアライメントマーク、26……マーク検出用セ
ンサ。
Claims (2)
- 【請求項1】基板を保持するホルダ手段と、前記ホルダ
手段を平面内で移動させるホルダ駆動手段とを備え、前
記基板を前記ホルダ駆動手段によつて所定位置に位置決
めする基板保持装置において、 前記基板の端面の少なくとも3か所に当接し、それぞれ
上面に位置検出に用いる指標が設けられた複数の当接部
材と、 前記指標の位置を検出し、該位置の前記所定位置からの
偏差に基づいて前記基板の位置ずれを検出する位置検出
手段と、 前記位置ずれに基づいて前記ホルダ手段を前記ホルダ駆
動手段により移動させることにより、前記基板の前記位
置ずれを補正する制御手段とを具えることを特徴とする
基板保持装置。 - 【請求項2】前記当接部材には前記基板の端面と当接す
る部分に前記端面の形状に応じた切り欠きが設けられ、
前記指標は前記切り欠きとほぼ平行に設けられることを
特徴とする請求項1に記載の基板保持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6234202A JPH0876102A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | 基板保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6234202A JPH0876102A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | 基板保持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0876102A true JPH0876102A (ja) | 1996-03-22 |
Family
ID=16967295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6234202A Pending JPH0876102A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | 基板保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0876102A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6787930B1 (en) | 1999-07-29 | 2004-09-07 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Alignment marks and manufacturing method for the same |
| JP2019135791A (ja) * | 2010-08-05 | 2019-08-15 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | インプリントリソグラフィ |
-
1994
- 1994-09-02 JP JP6234202A patent/JPH0876102A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6787930B1 (en) | 1999-07-29 | 2004-09-07 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Alignment marks and manufacturing method for the same |
| US7008829B2 (en) | 1999-07-29 | 2006-03-07 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Alignment marks and manufacturing method for the same |
| JP2019135791A (ja) * | 2010-08-05 | 2019-08-15 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | インプリントリソグラフィ |
| US10890851B2 (en) | 2010-08-05 | 2021-01-12 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
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