JPH087798A - 静電気防止及び光吸収被膜を有する表示スクリーンを備えた表示装置及び被膜の製造方法 - Google Patents
静電気防止及び光吸収被膜を有する表示スクリーンを備えた表示装置及び被膜の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガラス表示スクリーンにしっかり付着し、均
一で、充分な光学特性を有する静電気防止、光吸収被膜
を有する表示スクリーンを備えた表示装置を提供する。 【構成】 陰極線管１の表示スクリーン３がＡＴＯ（Ｓ
ｂ：ＳｎＯ2 ）粒子及びポリピロール粒子からなる静電
気防止、光吸収被膜８を備える。前記被膜が、反射防止
及び輝き防止作用を得るために二酸化ケイ素の付加的な
層を備える。
一で、充分な光学特性を有する静電気防止、光吸収被膜
を有する表示スクリーンを備えた表示装置を提供する。 【構成】 陰極線管１の表示スクリーン３がＡＴＯ（Ｓ
ｂ：ＳｎＯ2 ）粒子及びポリピロール粒子からなる静電
気防止、光吸収被膜８を備える。前記被膜が、反射防止
及び輝き防止作用を得るために二酸化ケイ素の付加的な
層を備える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表示装置に関し、特
に、導電性ポリピロールのラテックス粒子を含有する静
電気防止及び光吸収被膜を有する表示スクリーンを備え
た陰極線管に関する。また、本発明は、表示スクリーン
上に静電気防止及び光吸収被膜を形成する方法に関す
る。
に、導電性ポリピロールのラテックス粒子を含有する静
電気防止及び光吸収被膜を有する表示スクリーンを備え
た陰極線管に関する。また、本発明は、表示スクリーン
上に静電気防止及び光吸収被膜を形成する方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】静電気防止被膜は表示装置、特に陰極線
管（ＣＲＴ）の表示スクリーン上にて使用される。前記
被膜は充分に導電性を有し、表示スクリーンの外側表面
上に存する高静電気電圧を数秒以内で確実に除去する。
従って、使用者は、スクリーンに触れた際の、不快なシ
ョックを体験しない。更に、大気中の塵の引付けも減じ
る。
管（ＣＲＴ）の表示スクリーン上にて使用される。前記
被膜は充分に導電性を有し、表示スクリーンの外側表面
上に存する高静電気電圧を数秒以内で確実に除去する。
従って、使用者は、スクリーンに触れた際の、不快なシ
ョックを体験しない。更に、大気中の塵の引付けも減じ
る。
【０００３】光透過を減じる光吸収層は、表示装置、例
えば、陰極線管及び液晶表示装置（ＬＣＤ及びＬＣ−Ｔ
Ｖ）の表示スクリーン上で使用され、画像再現のコント
ラストを改良する。これらの長所のために、表示スクリ
ーンのガラス組成変更の必要を回避し、及び簡易な方法
で所望の値に光透過を行う可能性を増加する。このよう
な濾過層は、入射周囲光のみならず内部光源、例えば、
ＣＲＴ蛍光体から生じる光の透過を減じる。入射周囲光
は、光吸収被膜及びガラス表示スクリーンを通過し、次
に、表示スクリーンの内側上の粗い蛍光体層で反射し、
再び、表示スクリーン及び光吸収被膜を通過する。光吸
収被膜の透過がＴに達すると、反射周囲光の強度はＴ2
のファクターで減じられる。ＣＲＴ蛍光体から生じる光
は光吸収被膜を１度だけ通過し、この光の強度はＴのフ
ァクターで減じられる。これらの作用の組み合わせによ
って、Ｔのファクターによるコントラストの増加を起こ
す。
えば、陰極線管及び液晶表示装置（ＬＣＤ及びＬＣ−Ｔ
Ｖ）の表示スクリーン上で使用され、画像再現のコント
ラストを改良する。これらの長所のために、表示スクリ
ーンのガラス組成変更の必要を回避し、及び簡易な方法
で所望の値に光透過を行う可能性を増加する。このよう
な濾過層は、入射周囲光のみならず内部光源、例えば、
ＣＲＴ蛍光体から生じる光の透過を減じる。入射周囲光
は、光吸収被膜及びガラス表示スクリーンを通過し、次
に、表示スクリーンの内側上の粗い蛍光体層で反射し、
再び、表示スクリーン及び光吸収被膜を通過する。光吸
収被膜の透過がＴに達すると、反射周囲光の強度はＴ2
のファクターで減じられる。ＣＲＴ蛍光体から生じる光
は光吸収被膜を１度だけ通過し、この光の強度はＴのフ
ァクターで減じられる。これらの作用の組み合わせによ
って、Ｔのファクターによるコントラストの増加を起こ
す。
【０００４】出願人により出願された、欧州特許出願Ｅ
Ｐ−Ａ−５３３２５６には、二酸化ケイ素の基質及び導
電性ポリピロール化合物からなるラテックス粒子の層か
らなる静電気防止、光吸収被膜の製造方法の記載があ
る。この既知の方法では、ポリピロールラテックス粒子
の水分散物を加水分解アルコキシシラン化合物の水溶液
に添加し、その後、その分散物を表示スクリーン上に適
用し、加水分解アルコキシシラン化合物、例えば、オル
トケイ酸テトラエチルを、１５０〜１７０℃で少なくと
も３０分間処理することにより二酸化ケイ素に転化す
る。ポリピロール分散物は、立体安定剤としての過剰の
水溶性ポリマー、例えば、ポリビニルアルコールの存在
下で調製される。導電性ポリピロールは黒いので、得ら
れた被膜も光吸収性及び薄い灰色外観を有する。
Ｐ−Ａ−５３３２５６には、二酸化ケイ素の基質及び導
電性ポリピロール化合物からなるラテックス粒子の層か
らなる静電気防止、光吸収被膜の製造方法の記載があ
る。この既知の方法では、ポリピロールラテックス粒子
の水分散物を加水分解アルコキシシラン化合物の水溶液
に添加し、その後、その分散物を表示スクリーン上に適
用し、加水分解アルコキシシラン化合物、例えば、オル
トケイ酸テトラエチルを、１５０〜１７０℃で少なくと
も３０分間処理することにより二酸化ケイ素に転化す
る。ポリピロール分散物は、立体安定剤としての過剰の
水溶性ポリマー、例えば、ポリビニルアルコールの存在
下で調製される。導電性ポリピロールは黒いので、得ら
れた被膜も光吸収性及び薄い灰色外観を有する。
【０００５】ポリピロールは導電性材料であるので、ポ
リピロール分散物の基礎上の被膜は結果として導電性層
になる。しかしながら、過剰の立体安定剤の存在は、層
が導電性であることを妨げる。既知の方法では、１時間
１１０００ｒ．ｐ．ｍ．の遠心分離処理により、過剰安
定剤を除去し、その後、ポリピロール粒子を再び水中に
分散することにより、被膜に導電性（静電気防止性）を
付与する。この方法は、付加的な工程のために時間を消
費する。
リピロール分散物の基礎上の被膜は結果として導電性層
になる。しかしながら、過剰の立体安定剤の存在は、層
が導電性であることを妨げる。既知の方法では、１時間
１１０００ｒ．ｐ．ｍ．の遠心分離処理により、過剰安
定剤を除去し、その後、ポリピロール粒子を再び水中に
分散することにより、被膜に導電性（静電気防止性）を
付与する。この方法は、付加的な工程のために時間を消
費する。
【０００６】必要に応じ、反射防止または輝き防止作用
を有する層あるいは耐引掻性を改良する層により、既知
の層を補足することができる。これらの付加的な層は、
通常、アルコール性アルコキシシラン化合物のスピンま
たはスプレイにより適用される。それ故に、付加的な層
を形成する際に第１被膜が洗浄除去されるのを予め排除
するために、ポリピロール分散物及びアルコキシシラン
化合物の水性混合物から形成された第１被膜を熱乾燥処
理する必要がしばしばある。
を有する層あるいは耐引掻性を改良する層により、既知
の層を補足することができる。これらの付加的な層は、
通常、アルコール性アルコキシシラン化合物のスピンま
たはスプレイにより適用される。それ故に、付加的な層
を形成する際に第１被膜が洗浄除去されるのを予め排除
するために、ポリピロール分散物及びアルコキシシラン
化合物の水性混合物から形成された第１被膜を熱乾燥処
理する必要がしばしばある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ガラ
ス表示スクリーンにしっかり付着し、均一で、充分な光
学特性を有する静電気防止、光吸収被膜を有する表示ス
クリーンを備えた表示装置を提供することである。この
層は簡易な組成で、且つ所望の値に光透過を行うのに適
していることを要する。また、反射防止及び輝き防止作
用を得るために、この層と付加的な層とを結合可能であ
ることを要する。また、本発明は、このような被膜の簡
易な製造方法を提供することを目的とし、この方法は、
特に、陰極線管の成分に損傷を与えることのない比較的
低温で実施可能であることを要する。更に、この方法
は、静電防止及び光吸収被膜の以前の熱処理なしで、付
加的な層を任意に形成するのに適していることを要す
る。
ス表示スクリーンにしっかり付着し、均一で、充分な光
学特性を有する静電気防止、光吸収被膜を有する表示ス
クリーンを備えた表示装置を提供することである。この
層は簡易な組成で、且つ所望の値に光透過を行うのに適
していることを要する。また、反射防止及び輝き防止作
用を得るために、この層と付加的な層とを結合可能であ
ることを要する。また、本発明は、このような被膜の簡
易な製造方法を提供することを目的とし、この方法は、
特に、陰極線管の成分に損傷を与えることのない比較的
低温で実施可能であることを要する。更に、この方法
は、静電防止及び光吸収被膜の以前の熱処理なしで、付
加的な層を任意に形成するのに適していることを要す
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的は、表示装置、
特に、陰極線管、前記した通り、前記ポリピロールのラ
テックス粒子及びアンチモンでドープした酸化スズ粒子
の混合物から主になる被膜を特徴とする本発明にかかる
表示装置により達成される。
特に、陰極線管、前記した通り、前記ポリピロールのラ
テックス粒子及びアンチモンでドープした酸化スズ粒子
の混合物から主になる被膜を特徴とする本発明にかかる
表示装置により達成される。
【０００９】ポリピロール化合物としては、ポリピロー
ル、即ち、Ｎ−置換ポリピロール及びβ−置換ポリピロ
ールを使用することができる。置換体としては、例え
ば、５までの炭素原子を有するアルキル基、アリール
基、アルコキシ基、ニトロ基及びハロゲン原子を使用す
ることができる。このような材料及びラテックス粒子、
とりわけ、静電気防止被膜としての使用は、米国特許明
細書ＵＳ−Ａ−４９５９１６２に記載がある。また、こ
の米国特許明細書には、調製されたラテックスを精製す
るための、遠心分離段階及び再分散段階の記載がある。
好ましくは、ラテックス粒子は、非置換ポリピロールか
らなる。
ル、即ち、Ｎ−置換ポリピロール及びβ−置換ポリピロ
ールを使用することができる。置換体としては、例え
ば、５までの炭素原子を有するアルキル基、アリール
基、アルコキシ基、ニトロ基及びハロゲン原子を使用す
ることができる。このような材料及びラテックス粒子、
とりわけ、静電気防止被膜としての使用は、米国特許明
細書ＵＳ−Ａ−４９５９１６２に記載がある。また、こ
の米国特許明細書には、調製されたラテックスを精製す
るための、遠心分離段階及び再分散段階の記載がある。
好ましくは、ラテックス粒子は、非置換ポリピロールか
らなる。
【００１０】層の光学特性並びに均一性及び均質性の観
点から、ポリピロールのラテックス粒子は均一な寸法を
有することが望ましい。ラテックス粒子は、球形で、平
均直径は、好ましくは３０〜８０ｎｍの範囲である。
点から、ポリピロールのラテックス粒子は均一な寸法を
有することが望ましい。ラテックス粒子は、球形で、平
均直径は、好ましくは３０〜８０ｎｍの範囲である。
【００１１】ポリピロール粒子に加えて、本発明にかか
る被膜は、アンチモンでドープした酸化スズ（ＡＴＯま
たはＳｂ：ＳｎＯ2 ）の粒子を含む。使用したＡＴＯ粒
子は非常に小さく、寸法は好ましくは３０ｎｍより小さ
い。ポリピロール粒子及びＡＴＯ粒子の両方が前記の非
常に小さい寸法を有しているために、可視光分散が起こ
らず、形成された被膜は透明である。Ｓｂ／Ｓｎのモル
比が０．３より小さければ、粒子は充分に導電性を有す
る。ＡＴＯ粒子の寸法が小さいために、ガラス基体への
ＡＴＯ粒子の充分に確実な付着が生じるファンデアワー
ルス力が起こる。ＡＴＯ粒子は、ポリピロール粒子をも
含んでなる、水性の安定なＡＴＯ懸濁液（ハイドロ−ゾ
ル）から、表示スクリーン上に供される。懸濁液では、
ＡＴＯ粒子は、立体的安定ではなく、電荷安定である。
このような懸濁液により、表面抵抗が約１ＭΩ／スクエ
アの非常に薄い導電性層の製造が可能となる。このよう
なＡＴＯ懸濁液の調製は、とりわけ、静電気防止被膜と
しての使用としては、米国特許明細書ＵＳ−Ａ−４７７
５４１２に記載がある。
る被膜は、アンチモンでドープした酸化スズ（ＡＴＯま
たはＳｂ：ＳｎＯ2 ）の粒子を含む。使用したＡＴＯ粒
子は非常に小さく、寸法は好ましくは３０ｎｍより小さ
い。ポリピロール粒子及びＡＴＯ粒子の両方が前記の非
常に小さい寸法を有しているために、可視光分散が起こ
らず、形成された被膜は透明である。Ｓｂ／Ｓｎのモル
比が０．３より小さければ、粒子は充分に導電性を有す
る。ＡＴＯ粒子の寸法が小さいために、ガラス基体への
ＡＴＯ粒子の充分に確実な付着が生じるファンデアワー
ルス力が起こる。ＡＴＯ粒子は、ポリピロール粒子をも
含んでなる、水性の安定なＡＴＯ懸濁液（ハイドロ−ゾ
ル）から、表示スクリーン上に供される。懸濁液では、
ＡＴＯ粒子は、立体的安定ではなく、電荷安定である。
このような懸濁液により、表面抵抗が約１ＭΩ／スクエ
アの非常に薄い導電性層の製造が可能となる。このよう
なＡＴＯ懸濁液の調製は、とりわけ、静電気防止被膜と
しての使用としては、米国特許明細書ＵＳ−Ａ−４７７
５４１２に記載がある。
【００１２】本発明にかかる被膜は、ＳｉＯ2 の基質を
含まない。層は、本質的には２成分のみから構成され
る。即ち、ＡＴＯ粒子及びポリピロール粒子であり、Ａ
ＴＯ粒子は層の静電気防止特性を与え、ポリピロール粒
子は層の光吸収特性を与える。両特性は、単一層中で結
合する。以下に記載の方法の結果として、被膜は両タイ
プの粒子の均一な混合物からなる。被膜の層厚さは５０
〜４００ｎｍの範囲である。被膜の色は薄い灰色であ
り、即ち、透過は波長に依存しない。しかし、透過は層
厚さ及び層中のポリピロール濃度に依存するので、必要
な静電気防止作用に有害に影響することなしに、例え
ば、透過を９０〜３０％に調製可能である。層の表面抵
抗が１０10Ω／スクエアより小さい場合は、被膜の充分
な静電気防止作用が達成される。
含まない。層は、本質的には２成分のみから構成され
る。即ち、ＡＴＯ粒子及びポリピロール粒子であり、Ａ
ＴＯ粒子は層の静電気防止特性を与え、ポリピロール粒
子は層の光吸収特性を与える。両特性は、単一層中で結
合する。以下に記載の方法の結果として、被膜は両タイ
プの粒子の均一な混合物からなる。被膜の層厚さは５０
〜４００ｎｍの範囲である。被膜の色は薄い灰色であ
り、即ち、透過は波長に依存しない。しかし、透過は層
厚さ及び層中のポリピロール濃度に依存するので、必要
な静電気防止作用に有害に影響することなしに、例え
ば、透過を９０〜３０％に調製可能である。層の表面抵
抗が１０10Ω／スクエアより小さい場合は、被膜の充分
な静電気防止作用が達成される。
【００１３】被膜は、好ましくは反射防止または輝き防
止作用を有する二酸化ケイ素の層により補われ、この付
加的な層は耐引掻性も増加する。反射防止層は表示スク
リーン上で使用され、妨害反射（鏡面反射）を抑制す
る。輝き防止層は使用されて、周囲光の鏡面反射を散乱
反射に転化する。
止作用を有する二酸化ケイ素の層により補われ、この付
加的な層は耐引掻性も増加する。反射防止層は表示スク
リーン上で使用され、妨害反射（鏡面反射）を抑制す
る。輝き防止層は使用されて、周囲光の鏡面反射を散乱
反射に転化する。
【００１４】ＡＴＯ及びポリピロール粒子の被膜の反射
指数は、付加的な二酸化ケイ素の層の反射指数より高
い。２層被膜の各層厚さは、弱め合う干渉が、例えば、
約５５０ｎｍの、中心波長λにて起こるように選択でき
る。この波長では、層の堆積（ｓｔａｃｋ）が反射防止
作用を有する。層の光学的な厚さｎ．ｔ（ここで、ｎは
反射指数及びｔは層厚さである）は、λ／４に等しいこ
とを要し、ここで、λは中心波長であるということは当
業者には知られている。このような二酸化ケイ素の付加
的な層は、アルコキシシラン化合物の水性またはアルコ
ール性溶液を適用し、その後上昇した温度にて処理して
二酸化ケイ素の層を形成することにより、製造できる。
付加的な層をスピンにより形成する場合は、得られた層
厚さは、とりわけ、回転速度及び溶液粘度に依存する。
指数は、付加的な二酸化ケイ素の層の反射指数より高
い。２層被膜の各層厚さは、弱め合う干渉が、例えば、
約５５０ｎｍの、中心波長λにて起こるように選択でき
る。この波長では、層の堆積（ｓｔａｃｋ）が反射防止
作用を有する。層の光学的な厚さｎ．ｔ（ここで、ｎは
反射指数及びｔは層厚さである）は、λ／４に等しいこ
とを要し、ここで、λは中心波長であるということは当
業者には知られている。このような二酸化ケイ素の付加
的な層は、アルコキシシラン化合物の水性またはアルコ
ール性溶液を適用し、その後上昇した温度にて処理して
二酸化ケイ素の層を形成することにより、製造できる。
付加的な層をスピンにより形成する場合は、得られた層
厚さは、とりわけ、回転速度及び溶液粘度に依存する。
【００１５】好ましくは、輝き防止作用を有する二酸化
ケイ素の第２の付加的な層を形成する。前記層は、第１
の付加的な層上にアルコキシシラン化合物の水性または
アルコール性溶液をスプレイすることにより形成され、
この後、上昇した温度にて処理し、これにより、二酸化
ケイ素の層を形成する。得られた層は耐引掻性を有し、
スプレイにより形成した表面構造のために輝き防止性能
を有する。輝き防止作用は、実質的に光の波長に依存し
ない。
ケイ素の第２の付加的な層を形成する。前記層は、第１
の付加的な層上にアルコキシシラン化合物の水性または
アルコール性溶液をスプレイすることにより形成され、
この後、上昇した温度にて処理し、これにより、二酸化
ケイ素の層を形成する。得られた層は耐引掻性を有し、
スプレイにより形成した表面構造のために輝き防止性能
を有する。輝き防止作用は、実質的に光の波長に依存し
ない。
【００１６】必要に応じ、付加的な層の一つに光透過に
選択的に影響を与えるために顔料または染料を与えるこ
とができる。このような顔料または染料は、陰極線管の
蛍光体により放射された光は選択的に透過するが、例え
ば、表示スクリーンの後側にて反射する周囲光は吸収す
るような方法で選択される。顔料の例としては、酸化鉄
及び酸化クロムのような遷移金属酸化物である。ローダ
ミンＢは好適な染料の例である。
選択的に影響を与えるために顔料または染料を与えるこ
とができる。このような顔料または染料は、陰極線管の
蛍光体により放射された光は選択的に透過するが、例え
ば、表示スクリーンの後側にて反射する周囲光は吸収す
るような方法で選択される。顔料の例としては、酸化鉄
及び酸化クロムのような遷移金属酸化物である。ローダ
ミンＢは好適な染料の例である。
【００１７】表示スクリーン上に静電気防止及び光吸収
被膜を製造する簡易な方法を提供する目的は、ポリピロ
ール化合物のラテックス粒子の水性懸濁液をアンチモン
ドープ酸化スズ粒子の水性懸濁液に混合し、その後、得
られた混合物の層を表示装置上にスピンし、乾燥し、こ
れにより、被膜を形成するという本発明において達成さ
れる。ポリピロール懸濁液及びＡＴＯ懸濁液の製造法及
び特性は前記の通りである。
被膜を製造する簡易な方法を提供する目的は、ポリピロ
ール化合物のラテックス粒子の水性懸濁液をアンチモン
ドープ酸化スズ粒子の水性懸濁液に混合し、その後、得
られた混合物の層を表示装置上にスピンし、乾燥し、こ
れにより、被膜を形成するという本発明において達成さ
れる。ポリピロール懸濁液及びＡＴＯ懸濁液の製造法及
び特性は前記の通りである。
【００１８】水性懸濁液の使用は、これの環境への害が
より少ないという点で有利である。水性懸濁液の別の利
点は、ＡＴＯ粒子及びポリピロール粒子の表示スクリー
ンへの付着が、層乾燥後の熱処理を省くのに充分であ
り、その結果、任意な、付加的な層をアルコキシシラン
化合物の溶液から直接形成することができるという点で
ある。アルコキシシラン化合物の溶液及びポリピロール
粒子から得られた既知の層の場合、層は１６０℃の上昇
した温度にて先ず硬化され、これにより、二酸化ケイ素
基質を形成する必要がある。
より少ないという点で有利である。水性懸濁液の別の利
点は、ＡＴＯ粒子及びポリピロール粒子の表示スクリー
ンへの付着が、層乾燥後の熱処理を省くのに充分であ
り、その結果、任意な、付加的な層をアルコキシシラン
化合物の溶液から直接形成することができるという点で
ある。アルコキシシラン化合物の溶液及びポリピロール
粒子から得られた既知の層の場合、層は１６０℃の上昇
した温度にて先ず硬化され、これにより、二酸化ケイ素
基質を形成する必要がある。
【００１９】更に、本発明の方法の利点は、過剰な立体
安定剤を除去するための遠心分離処理を省くことができ
ることである。本発明の方法の好ましい具体例は、アル
コキシシラン化合物の層を被膜上にスピンし、その後、
上昇した温度にて処理することにより、アルコキシシラ
ン化合物を二酸化ケイ素の付加的な層に転化し、被膜及
び付加的な層が一緒に反射防止作用を生ずる。アルコキ
シシラン溶液の層を、ＡＴＯ粒子及びポリピロール粒子
の被膜を乾燥すると同様早く形成することができる。ア
ルコキシシラン化合物に使用した溶媒は水またはアルコ
ールである。
安定剤を除去するための遠心分離処理を省くことができ
ることである。本発明の方法の好ましい具体例は、アル
コキシシラン化合物の層を被膜上にスピンし、その後、
上昇した温度にて処理することにより、アルコキシシラ
ン化合物を二酸化ケイ素の付加的な層に転化し、被膜及
び付加的な層が一緒に反射防止作用を生ずる。アルコキ
シシラン溶液の層を、ＡＴＯ粒子及びポリピロール粒子
の被膜を乾燥すると同様早く形成することができる。ア
ルコキシシラン化合物に使用した溶媒は水またはアルコ
ールである。
【００２０】二酸化ケイ素への転化は、例えば、１５０
℃〜１７０℃で少なくとも３０分間熱処理することによ
り起こる。アルコキシシラン化合物のアルコキシ基を、
酸性化した水によりヒドロキシ基に転化し、前記ヒドロ
キシ基を互いに及び表示スクリーンのガラス表面のヒド
ロキシ基と反応させる。乾燥及び加熱の間、二酸化ケイ
素の確かな付着網を重縮合により形成する。
℃〜１７０℃で少なくとも３０分間熱処理することによ
り起こる。アルコキシシラン化合物のアルコキシ基を、
酸性化した水によりヒドロキシ基に転化し、前記ヒドロ
キシ基を互いに及び表示スクリーンのガラス表面のヒド
ロキシ基と反応させる。乾燥及び加熱の間、二酸化ケイ
素の確かな付着網を重縮合により形成する。
【００２１】均一な、平滑な層をアルコキシシラン溶液
のスピンコーティングにより形成する。任意に、表面活
性物質を、例えば、０．００１〜５重量％の量で、溶液
に添加する。
のスピンコーティングにより形成する。任意に、表面活
性物質を、例えば、０．００１〜５重量％の量で、溶液
に添加する。
【００２２】上記の通り、被膜と二酸化ケイ素の付加的
な層の組み合わせは、光学的な層厚さがλ／４に等しい
場合、反射防止作用を示す。望ましい層厚さは実験的に
確立される。層厚さを決定する重要なプロセスパラメー
タはスピン中の回転速度、温度、濃度及び溶液の粘度で
ある。
な層の組み合わせは、光学的な層厚さがλ／４に等しい
場合、反射防止作用を示す。望ましい層厚さは実験的に
確立される。層厚さを決定する重要なプロセスパラメー
タはスピン中の回転速度、温度、濃度及び溶液の粘度で
ある。
【００２３】更に、本発明の方法の具体例は、アルコキ
シシラン化合物の溶液の層を、二酸化ケイ素の付加的な
層上にスプレイし、その後、アルコキシシラン化合物を
上昇した温度にて処理することにより二酸化ケイ素の更
なる付加的な層に転化し、前記更なる付加的な層に輝き
防止作用を与えることを特徴とする。マット表面構造
を、アルコキシシラン溶液のスプレイまたは霧化により
得、この結果として、得られた層は輝き防止作用を有す
る。従って、周囲光は散乱して反射される。
シシラン化合物の溶液の層を、二酸化ケイ素の付加的な
層上にスプレイし、その後、アルコキシシラン化合物を
上昇した温度にて処理することにより二酸化ケイ素の更
なる付加的な層に転化し、前記更なる付加的な層に輝き
防止作用を与えることを特徴とする。マット表面構造
を、アルコキシシラン溶液のスプレイまたは霧化により
得、この結果として、得られた層は輝き防止作用を有す
る。従って、周囲光は散乱して反射される。
【００２４】更に、二酸化ケイ素の付加的な層の利点
は、指紋感度が減じられ、硬度及び耐引掻性がより高い
ことである。
は、指紋感度が減じられ、硬度及び耐引掻性がより高い
ことである。
【００２５】本発明の方法に好適に使用されるアルコキ
シシラン化合物は、オルトケイ酸テトラエチル（ＴＥＯ
Ｓ）である。Ｓｉ（ＯＲ）4 型の他の既知のアルコキシ
シラン化合物及びこれらのオリゴマーを使用可能であ
り、ここにおいて、Ｒはアルキル基であり、好ましくは
Ｃ1 〜Ｃ5 のアルキル基である。溶媒としは、例えば、
水または、メタノール、エタノール、プロパノール及び
ブタノールのようなアルコールが使用される。
シシラン化合物は、オルトケイ酸テトラエチル（ＴＥＯ
Ｓ）である。Ｓｉ（ＯＲ）4 型の他の既知のアルコキシ
シラン化合物及びこれらのオリゴマーを使用可能であ
り、ここにおいて、Ｒはアルキル基であり、好ましくは
Ｃ1 〜Ｃ5 のアルキル基である。溶媒としは、例えば、
水または、メタノール、エタノール、プロパノール及び
ブタノールのようなアルコールが使用される。
【００２６】
【実施例】実施例１ １００ｍｌの水中で、０．９３８ｇのピロール、８．６
５ｇのＦｅＣｌ3 ・６Ｈ2 Ｏ及び１ｇのポリビニルアル
コール（立体安定剤）を少なくとも１０時間激しく攪拌
することにより、ポリピロールラテック粒子を調製す
る。混合物を暗化により、ポリピロール粒子の形成が認
められる。Ｆｅ2+及びＣｌ- イオンを除去するために、
得られた懸濁液を、脱イオン水で透析する。透析後、数
ミリリットルのエタノール、ブタノール及び酢酸エチル
を、懸濁液に添加する。最後に、懸濁液を、５μｍ及び
０．２μｍのポリアミドのフィルターで濾過する。電子
顕微鏡研究によると、ラテックス粒子は規則的な球形を
有することを示し、平均粒子大きさは６０ｎｍである単
分散であることを示す。
５ｇのＦｅＣｌ3 ・６Ｈ2 Ｏ及び１ｇのポリビニルアル
コール（立体安定剤）を少なくとも１０時間激しく攪拌
することにより、ポリピロールラテック粒子を調製す
る。混合物を暗化により、ポリピロール粒子の形成が認
められる。Ｆｅ2+及びＣｌ- イオンを除去するために、
得られた懸濁液を、脱イオン水で透析する。透析後、数
ミリリットルのエタノール、ブタノール及び酢酸エチル
を、懸濁液に添加する。最後に、懸濁液を、５μｍ及び
０．２μｍのポリアミドのフィルターで濾過する。電子
顕微鏡研究によると、ラテックス粒子は規則的な球形を
有することを示し、平均粒子大きさは６０ｎｍである単
分散であることを示す。
【００２７】ＡＴＯ懸濁液の調製法は、例えば、米国特
許明細書ＵＳ−Ａ−４７７５４１２に記載がある。前記
文献によると、ＳｎＣｌ2 、ＳｂＣｌ3 を、希釈した塩
酸中に溶解し、その後、重炭酸アンモニウムを溶液に添
加する。オートクレーブで、アンチモンでドープした酸
化スズのヒドロゾルを、熱水転化により形成した。ＡＴ
Ｏ粒子は３０ｎｍより小さい。典型的な例では、Ｓｂ／
Ｓｎのモル比は０．３である。水性ＡＴＯ懸濁液は５重
量％になる。
許明細書ＵＳ−Ａ−４７７５４１２に記載がある。前記
文献によると、ＳｎＣｌ2 、ＳｂＣｌ3 を、希釈した塩
酸中に溶解し、その後、重炭酸アンモニウムを溶液に添
加する。オートクレーブで、アンチモンでドープした酸
化スズのヒドロゾルを、熱水転化により形成した。ＡＴ
Ｏ粒子は３０ｎｍより小さい。典型的な例では、Ｓｂ／
Ｓｎのモル比は０．３である。水性ＡＴＯ懸濁液は５重
量％になる。
【００２８】等量の両懸濁液を混合し、これにより、Ａ
ＴＯ粒子及びポリピロール粒子の安定な懸濁液を形成す
る。続いて、スピンコーティングにより表示スクリーン
上にこの懸濁液を供する。乾燥後、均一、薄い灰色、層
厚さが１００ｎｍ、抵抗が１ＭΩ／スクエアの、被膜を
得た。これは、所望の静電気防止作用（表面抵抗が１０
10Ω／スクエア以下が好ましい）には充分であり、光透
過特性を、層厚さ及びポリピロール濃度の変化により、
所望の値にでき、一方、要求静電気防止作用を保つこと
ができる。得られた被膜の波長λ（ｎｍ）の関数として
の透過率Ｔ（％）を図１に示す。本発明の被膜の抵抗値
は、立体安定剤を有するＡＴＯ粒子またはポリピロール
粒子を分散した二酸化ケイ素の層を使用する場合に得ら
れる値よりかなり低い。
ＴＯ粒子及びポリピロール粒子の安定な懸濁液を形成す
る。続いて、スピンコーティングにより表示スクリーン
上にこの懸濁液を供する。乾燥後、均一、薄い灰色、層
厚さが１００ｎｍ、抵抗が１ＭΩ／スクエアの、被膜を
得た。これは、所望の静電気防止作用（表面抵抗が１０
10Ω／スクエア以下が好ましい）には充分であり、光透
過特性を、層厚さ及びポリピロール濃度の変化により、
所望の値にでき、一方、要求静電気防止作用を保つこと
ができる。得られた被膜の波長λ（ｎｍ）の関数として
の透過率Ｔ（％）を図１に示す。本発明の被膜の抵抗値
は、立体安定剤を有するＡＴＯ粒子またはポリピロール
粒子を分散した二酸化ケイ素の層を使用する場合に得ら
れる値よりかなり低い。
【００２９】実施例２ アルコキシシラン化合物の溶液を以下の組成で調製す
る：０．９モルのオルトケイ酸テトラエチル（ＴＥＯ
Ｓ）、３．６モルの水、５．１０-4モルの硝酸、これに
エタノールを添加して１リットルにする。
る：０．９モルのオルトケイ酸テトラエチル（ＴＥＯ
Ｓ）、３．６モルの水、５．１０-4モルの硝酸、これに
エタノールを添加して１リットルにする。
【００３０】ＴＥＯＳ溶液の層を実施例１で得られた被
膜上にスピンにて形成する。層を、１６０℃で３０分間
保持し、その結果として、しっかり付着した二酸化ケイ
素の平滑な層が形成される。二酸化ケイ素の付加的な層
は１３５ｎｍの層厚さ及び１．４４の反射指数を有す
る。この層は、１．６２の有効屈折指数及び６０ｎｍの
光学的層厚さを有するＡＴＯ及びポリピロール粒子の被
膜と共に、反射防止作用を有する。
膜上にスピンにて形成する。層を、１６０℃で３０分間
保持し、その結果として、しっかり付着した二酸化ケイ
素の平滑な層が形成される。二酸化ケイ素の付加的な層
は１３５ｎｍの層厚さ及び１．４４の反射指数を有す
る。この層は、１．６２の有効屈折指数及び６０ｎｍの
光学的層厚さを有するＡＴＯ及びポリピロール粒子の被
膜と共に、反射防止作用を有する。
【００３１】続いて、同様なＴＥＯＳ溶液及び類似の温
度処理により、二酸化ケイ素の第２の付加的な層をスプ
レイにより形成する。この層は、輝き防止作用を有する
マット表面構造を有する。このために、得られた被膜は
指紋感度が低い。加えて、反射は、入射光は散乱される
ので、波長による影響を受けにくい。
度処理により、二酸化ケイ素の第２の付加的な層をスプ
レイにより形成する。この層は、輝き防止作用を有する
マット表面構造を有する。このために、得られた被膜は
指紋感度が低い。加えて、反射は、入射光は散乱される
ので、波長による影響を受けにくい。
【００３２】図２は、上に二酸化ケイ素の付加的な層を
形成された上記のＡＴＯ及びポリピロール粒子の被膜か
らなる被膜の波長λ（ｎｍ）の関数としての相対反射率
Ｒ（％）（曲線Ａ）を示す。測定工程に使用した参照材
料は被膜のない表示スクリーンガラスである。曲線Ｂ
は、付加的な輝き防止層の作用を示す。被膜の反射防止
作用は、波長依存性が低くなった。
形成された上記のＡＴＯ及びポリピロール粒子の被膜か
らなる被膜の波長λ（ｎｍ）の関数としての相対反射率
Ｒ（％）（曲線Ａ）を示す。測定工程に使用した参照材
料は被膜のない表示スクリーンガラスである。曲線Ｂ
は、付加的な輝き防止層の作用を示す。被膜の反射防止
作用は、波長依存性が低くなった。
【００３３】最外層の耐引掻性を、５０ｇの力で表面上
を動かす円錐形のダイヤモンドにより試験し、肉眼で見
えるスクラッチは形成しなかった。異なる硬さの鉛筆を
４５℃の角度、０．０５ｍ／ｓの速度にて、層表面上で
７．５Ｎの力を作用させ動かす鉛筆硬度試験法により、
硬度を試験する。この試験によると、本発明の層は５Ｈ
〜６Ｈの硬度を有する。
を動かす円錐形のダイヤモンドにより試験し、肉眼で見
えるスクラッチは形成しなかった。異なる硬さの鉛筆を
４５℃の角度、０．０５ｍ／ｓの速度にて、層表面上で
７．５Ｎの力を作用させ動かす鉛筆硬度試験法により、
硬度を試験する。この試験によると、本発明の層は５Ｈ
〜６Ｈの硬度を有する。
【００３４】実施例３ 図３は、陰極線管１の部分切取図を示す。これは、それ
自体周知であり、表示スクリーン３、コーン４及びネッ
ク５を有するガラスエンベロープ２からなる。ネックに
は、電子ビームを生ずるための電子銃６を備える。前記
電子ビームは表示スクリーン３の内側７上の蛍光層上に
付勢される。電子ビームは、偏向コイル装置により２つ
の互いに直角方向に表示スクリーン３をよぎって偏向さ
れる。表示スクリーン３は、本発明の静電気防止、光吸
収被膜８を外側に備える。
自体周知であり、表示スクリーン３、コーン４及びネッ
ク５を有するガラスエンベロープ２からなる。ネックに
は、電子ビームを生ずるための電子銃６を備える。前記
電子ビームは表示スクリーン３の内側７上の蛍光層上に
付勢される。電子ビームは、偏向コイル装置により２つ
の互いに直角方向に表示スクリーン３をよぎって偏向さ
れる。表示スクリーン３は、本発明の静電気防止、光吸
収被膜８を外側に備える。
【００３５】本発明によると、効果的な静電気防止及び
光吸収被膜を、簡易な方法で、陰極線管の表示スクリー
ン上に形成し、備える。また、前記被膜は、光の波長の
関数であると否とにかかわらず、光透過特性を調整可能
である。
光吸収被膜を、簡易な方法で、陰極線管の表示スクリー
ン上に形成し、備える。また、前記被膜は、光の波長の
関数であると否とにかかわらず、光透過特性を調整可能
である。
【００３６】
【図１】本発明の被膜の波長λ（ｎｍ）の関数として透
過率Ｔ（％）を表す。
過率Ｔ（％）を表す。
【図２】曲線Ａは、上に二酸化ケイ素の付加的な層を形
成したＡＴＯ粒子及びポリピロール粒子からなる被膜の
波長λ（ｎｍ）の関数として相対反射率Ｒ（％）を示
し、曲線Ｂは、上に二酸化ケイ素の第２の付加的な輝き
防止層を形成した場合の相対反射率Ｒ（％）を示す。
成したＡＴＯ粒子及びポリピロール粒子からなる被膜の
波長λ（ｎｍ）の関数として相対反射率Ｒ（％）を示
し、曲線Ｂは、上に二酸化ケイ素の第２の付加的な輝き
防止層を形成した場合の相対反射率Ｒ（％）を示す。
【図３】本発明の陰極線管の例の部分切取図を示す。
１ 陰極線管 ２ ガラスエンベロープ ３ 表示スクリーン ５ ネック ６ 電子銃 ８ 光吸収被膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｊ 29/88 (72)発明者 レオ フベルト マリア クリンフス オランダ国 5621 ベーアー アインドー フェン フルーネヴァウツウェッハ １
Claims (9)
- 【請求項１】 導電性ポリピロールのラテックス粒子を
含有する静電気防止及び光吸収被膜を有する表示スクリ
ーンを備えた表示装置において、前記被膜が、主にポリ
ピロールのラテックス粒子及びアンチモンをドープした
酸化スズ粒子からなることを特徴とする表示装置。 - 【請求項２】 前記ドープした酸化スズ粒子が３０ｎｍ
より小さいことを特徴とする請求項１記載の表示装置。 - 【請求項３】 前記ポリピロール粒子が３０〜８０ｎｍ
の範囲の平均直径を有することを特徴とする請求項１記
載の表示装置。 - 【請求項４】 前記被膜が５０〜４００ｎｍの範囲の厚
さを有することを特徴とする請求項１記載の表示装置。 - 【請求項５】 前記被膜が二酸化ケイ素の付加的な層で
覆われ、前記被膜及び前記付加的な層が両層一緒に反射
防止作用を示す厚さを有することを特徴とする請求項
１、２、３又は４記載の表示装置。 - 【請求項６】 前記二酸化ケイ素の付加的な層が二酸化
ケイ素の更なる付加的な層で覆われ、前記更なる付加的
な層が輝き防止作用を示す表面構造を有することを特徴
とする請求項５記載の表示装置。 - 【請求項７】 表示装置の表示スクリーン上に静電気防
止及び光吸収被膜を製造する方法において、ポリピロー
ル化合物のラテックス粒子の水性懸濁液がアンチモンで
ドープした酸化スズ粒子の水性懸濁液と混合され、その
後、このようにして得られた混合物の層を表示スクリー
ン上にスピンにて形成し、続いて乾燥し、これにより被
膜を形成することを特徴とする製造方法。 - 【請求項８】 アルコキシシラン化合物の溶液の層が被
膜上にスピンで形成され、その後、アルコキシシラン化
合物を上昇した温度にて処理することにより二酸化ケイ
素の付加的な層に転化し、被膜及び付加的な層が一緒に
反射防止作用を生ずることを特徴とする請求項７記載の
製造方法。 - 【請求項９】 アルコキシシラン化合物の溶液の層が二
酸化ケイ素の付加的な層上にスプレイにて形成され、そ
の後、アルコキシシラン化合物を、上昇した温度にて処
理することにより二酸化ケイ素の更なる付加的な層に転
化し、前記更なる付加的な層が輝き防止作用を生ずるこ
とを特徴とする請求項８記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| BE9301103A BE1007662A3 (nl) | 1993-10-18 | 1993-10-18 | Beeldweergeefinrichting met een beeldscherm voorzien van een antistatische en lichtabsorberende bekledingslaag. |
| BE09301103 | 1993-10-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH087798A true JPH087798A (ja) | 1996-01-12 |
Family
ID=3887442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6250556A Pending JPH087798A (ja) | 1993-10-18 | 1994-10-17 | 静電気防止及び光吸収被膜を有する表示スクリーンを備えた表示装置及び被膜の製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6208389B1 (ja) |
| EP (1) | EP0649161B1 (ja) |
| JP (1) | JPH087798A (ja) |
| BE (1) | BE1007662A3 (ja) |
| DE (1) | DE69405186T2 (ja) |
| TW (1) | TW370675B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| KR100487727B1 (ko) * | 2002-06-07 | 2005-05-03 | 엄원국 | 도전성 코팅액 조성물 및 이를 이용한 코팅방법 |
| CN108970257A (zh) * | 2018-07-12 | 2018-12-11 | 永嘉县城东市政建设有限公司 | 一种室内装饰施工灰尘隔离装置 |
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|---|---|---|---|---|
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| US20020074933A1 (en) * | 2000-11-02 | 2002-06-20 | Lg Electronics Inc. | Panel and implosion proof glass of flat color CRT and method for bonding thereof |
| FR2824230B1 (fr) * | 2001-04-27 | 2006-12-29 | Centre Nat Etd Spatiales | Article doue de proprietes antistatiques superficielles et procede d'obtention |
| US7857700B2 (en) * | 2003-09-12 | 2010-12-28 | Igt | Three-dimensional autostereoscopic image display for a gaming apparatus |
| US7878910B2 (en) * | 2005-09-13 | 2011-02-01 | Igt | Gaming machine with scanning 3-D display system |
| KR20080054204A (ko) * | 2006-12-12 | 2008-06-17 | 삼성코닝정밀유리 주식회사 | 디스플레이 장치용 복합 필름 및 이를 포함하는 디스플레이장치 |
| US9110230B2 (en) | 2013-05-07 | 2015-08-18 | Corning Incorporated | Scratch-resistant articles with retained optical properties |
| TWI821234B (zh) | 2018-01-09 | 2023-11-11 | 美商康寧公司 | 具光改變特徵之塗覆製品及用於製造彼等之方法 |
| US20220009824A1 (en) | 2020-07-09 | 2022-01-13 | Corning Incorporated | Anti-glare substrate for a display article including a textured region with primary surface features and secondary surface features imparting a surface roughness that increases surface scattering |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62223019A (ja) * | 1986-03-19 | 1987-10-01 | Taki Chem Co Ltd | 結晶質酸化スズ・アンチモンゾル及びその製造方法 |
| JPS63232466A (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-28 | Fujitsu Ltd | 光通信用ホトダイオ−ド装置 |
| US4959162A (en) * | 1989-02-03 | 1990-09-25 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Colloidal polypyrrole |
| US5476612A (en) * | 1989-12-30 | 1995-12-19 | Zipperling Kessler & Co., (Gmbh & Co.). | Process for making antistatic or electrically conductive polymer compositions |
| US5125564A (en) | 1990-10-26 | 1992-06-30 | Akiva Buchberg | Pleated packaging wrapper for objects |
| JP2865474B2 (ja) * | 1991-07-11 | 1999-03-08 | 住友大阪セメント株式会社 | 帯電防止・高屈折率膜形成用塗料および帯電防止・反射防止膜付き透明材料積層体、及び表示装置 |
| TW266301B (ja) * | 1991-09-19 | 1995-12-21 | Philips Nv | |
| DE69309814T2 (de) * | 1992-08-31 | 1997-10-16 | Sumitomo Cement Co | Antireflektive und antistatische Bekleidungschicht für eine Elektronenstrahlröhre |
-
1993
- 1993-10-18 BE BE9301103A patent/BE1007662A3/nl not_active IP Right Cessation
-
1994
- 1994-10-14 DE DE69405186T patent/DE69405186T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-10-14 EP EP94202992A patent/EP0649161B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-10-17 JP JP6250556A patent/JPH087798A/ja active Pending
- 1994-10-19 US US08/325,015 patent/US6208389B1/en not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-03-16 TW TW084102529A patent/TW370675B/zh active
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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