JPH088043A - Soaking device - Google Patents
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- JPH088043A JPH088043A JP16601394A JP16601394A JPH088043A JP H088043 A JPH088043 A JP H088043A JP 16601394 A JP16601394 A JP 16601394A JP 16601394 A JP16601394 A JP 16601394A JP H088043 A JPH088043 A JP H088043A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 冷凍食品の解凍装置あるいは押花を製造する
ための装置などとして、対象物を100℃以下の低温の
温度域に、一定の温度で均一に加熱することができる均
熱装置を提供する。
【構成】 アルミニウム合金からなる基板の少なくとも
表側の面に灰色ないし黒色を呈する厚さ5〜50μmの
陽極酸化皮膜が形成されて、遠赤外線放射板が構成さ
れ、かつその遠赤外線放射板の裏面側に、正の抵抗温度
係数を有する抵抗発熱体を備えた自己制御型温度ヒータ
が設けられた構成とした。また、特に自己制御型温度ヒ
ータの発熱体を、導電性カーボン粒子を架橋ポリマー中
に分散させた抵抗発熱体で構成した。冷凍食品の解凍装
置のほか、押花製造装置としても用いることができる。
(57) [Summary] [Objective] As a device for thawing frozen foods or a device for producing pressed flowers, it is possible to uniformly heat an object to a low temperature range of 100 ° C or lower at a constant temperature. A thermal device is provided. A far-infrared radiation plate is formed by forming an anodized film having a thickness of 5 to 50 μm that exhibits gray or black on at least a front surface of a substrate made of an aluminum alloy, and the far-infrared radiation plate has a rear surface side. In addition, a self-controlled temperature heater including a resistance heating element having a positive resistance temperature coefficient is provided. Further, in particular, the heating element of the self-controlling temperature heater is composed of a resistance heating element in which conductive carbon particles are dispersed in a crosslinked polymer. It can be used not only as a defrosting device for frozen foods but also as a pressed flower manufacturing device.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、冷凍食品の解凍や押
花の作成などのために各種物品を100℃以下の低温領
域で加熱、加温するための均熱装置に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat equalizer for heating and warming various articles in a low temperature region of 100 ° C. or lower for thawing frozen foods and creating pressed flowers.
【0002】[0002]
【従来の技術】魚類や肉などの冷凍食品の解凍方法とし
ては従来から種々の方法が知られている。そのうちでも
自然解凍は比較的魚肉等の風味を劣化させるおそれは少
ないものの、解凍完了までに著しい長時間を要する。そ
こで大型の冷凍魚類を大量に扱う魚市場などでは、水や
温水、熱水を直接冷凍魚類にかけて解凍することが行な
われているが、この場合でも大型のマグロなどでは解凍
に1時間前後の長時間を要し、また魚肉の風味を損なっ
てしまうことが多いという欠点がある。2. Description of the Related Art Various methods have been conventionally known as a method for thawing frozen foods such as fish and meat. Among them, natural thawing has a relatively low risk of deteriorating the flavor of fish meat or the like, but it takes a considerably long time to complete the thawing. Therefore, in the fish market where a large number of large frozen fish are handled, water, warm water, or hot water is directly thawed to the frozen fish. It has the disadvantage of being time consuming and often impairing the flavor of fish meat.
【0003】一方最近では熱伝導性が良好でかつ食品衛
生上も問題の少ないアルミニウム厚板を用いた解凍板が
実用化されている。この解凍板は、その上に冷凍魚等を
載置しておくだけで冷凍魚等から熱を奪い取り、これに
よって解凍させるものであり、比較的短時間で解凍する
ことができるとされている。しかしながらこのようなア
ルミニウム厚板からなる解凍板では、その熱容量を大き
くして長時間にわたって冷凍食品から熱を奪い取るべ
く、板厚を少なくとも5cm以上とする必要があり、そ
のため重量が大きく、取扱い等に支障を来たす問題があ
るほか、大型の冷凍食品では充分には解凍時間が短縮さ
れず、また周囲の温度の影響を受け、周囲の温度が低い
場合には解凍が充分に進行しない問題も生じる。On the other hand, recently, a thawing plate using an aluminum thick plate which has good thermal conductivity and has few problems in food hygiene has been put into practical use. This thawing plate removes heat from the frozen fish or the like only by placing the frozen fish or the like on the thawing plate and causes the thawing by this, and it is said that the thawing plate can be thawed in a relatively short time. However, in a thaw plate made of such an aluminum thick plate, it is necessary to make the plate thickness at least 5 cm or more in order to increase its heat capacity and remove heat from the frozen food for a long time. In addition to the problem that it causes troubles, there is a problem that the thawing time is not sufficiently shortened for large-sized frozen foods, and the thawing does not proceed sufficiently when the ambient temperature is low due to the influence of the ambient temperature.
【0004】一方、アルミニウム板の代りにセラミック
板を用い、セラミックの遠赤外線放射機能を利用した解
凍板も実用化されている。しかしながらセラミック板を
用いた解凍板もその重量が大きく、また解凍時間の短縮
には必ずしも充分ではなく、さらに周囲の温度が低い場
合に解凍が容易に進行しない問題がある。On the other hand, a thawing plate using a far infrared ray radiating function of ceramics has been put into practical use by using a ceramic plate instead of an aluminum plate. However, a thawing plate using a ceramic plate is also heavy and is not always sufficient for shortening the thawing time, and there is a problem that thawing does not proceed easily when the ambient temperature is low.
【0005】また前述のようなアルミニウム板やセラミ
ック板における解凍面に対し反対側の面に接するように
温水を保持する構成として、その温水の保有熱を冷凍食
品に伝達させて解凍するいわゆる“湯たんぽ”方式の解
凍装置も実用化されているが、このような湯たんぽ方式
の解凍装置では、温水の注入や排出の手間を要し、取扱
いが不便であるばかりでなく、熱容量が小さいため温水
の温度が次第に低下し、それに伴なって解凍の進行が遅
くなってしまう問題がある。Further, as a constitution for holding hot water so as to contact the surface opposite to the thawing surface of the aluminum plate or the ceramic plate as described above, the so-called "hot water bottle" for thawing by transmitting the heat retained by the hot water to frozen foods. "Thawing equipment of the type" has also been put to practical use, but such hot water bottle type thawing equipment requires labor for pouring and discharging hot water, is not only inconvenient to handle, but also has a small heat capacity, so the temperature of hot water is low. However, there is a problem that the decompression progresses slowly.
【0006】そこで最近では、遠赤外線放射機能を有す
るセラミック板とニクロム線ヒータ等の電気ヒータとを
組合せた解凍装置が提案されている。具体的には、セラ
ミック板における一方の板面にニクロム線等の電気ヒー
タを配設して、セラミック板をその電気ヒータにより加
熱するように構成し、他方の板面を解凍面として冷凍食
品をその解凍面上に載置するようにしたものである。こ
のような解凍装置によれば、電気ヒータにより適切な温
度に維持されたセラミック板から放射する遠赤外線によ
って、食品の風味、食感を損なうことなく短時間で解凍
することが可能とされている。Therefore, recently, there has been proposed a thawing apparatus which combines a ceramic plate having a far infrared ray emitting function and an electric heater such as a nichrome wire heater. Specifically, an electric heater such as a nichrome wire is arranged on one plate surface of the ceramic plate, and the ceramic plate is configured to be heated by the electric heater. It is placed on the defrosted surface. According to such a thawing device, it is possible to thawing in a short time without impairing the flavor and texture of food by far infrared rays emitted from the ceramic plate maintained at an appropriate temperature by the electric heater. .
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】前述のように遠赤外線
放射機能を有するセラミック板と電気ヒータを組合せた
従来の解凍装置においては、サーモスタット等の温度セ
ンサを設けておいて、電気ヒータに流す電流をオンオフ
制御することによってセラミック板の温度を一定に保と
うとする構成が一般的である。しかしながらこのように
温度センサを用いて電気ヒータをオンオフ制御する解凍
装置では、セラミック板の温度の変動幅が大きく、通常
は±5℃程度も変動し、そのため最適な解凍温度に維持
することができず、食品の風味を損なったり、また解凍
時間が変動したりしてしまう問題がある。またセラミッ
ク板は一般に熱伝導率が低く、一方ニクロム線等の線状
の電気ヒータでは局部的に加熱されてしまうことが多
く、その場合セラミック板の温度分布が不均一となり、
そのための解凍も均一に行なわれにくくなるという問題
もある。さらにセラミック板は加工が困難なため、その
形状の自由度が少ないという問題もある。As described above, in the conventional defroster in which a ceramic plate having a far infrared ray radiating function and an electric heater are combined, a temperature sensor such as a thermostat is provided and a current flowing through the electric heater is provided. A general configuration is to keep the temperature of the ceramic plate constant by controlling ON and OFF. However, in such a defrosting device that controls on / off of the electric heater by using the temperature sensor, the fluctuation range of the temperature of the ceramic plate is large, and usually fluctuates by about ± 5 ° C, and therefore, the optimum defrosting temperature can be maintained. However, there is a problem that the flavor of the food is impaired and the thawing time varies. In addition, the ceramic plate generally has low thermal conductivity, while a linear electric heater such as a nichrome wire is often heated locally, in which case the temperature distribution of the ceramic plate becomes uneven.
There is also a problem that thawing for that purpose cannot be performed uniformly. Further, since the ceramic plate is difficult to process, there is also a problem that the degree of freedom of the shape is small.
【0008】また前述のような遠赤外線放射機能を有す
るセラミック板と電気ヒータとを組合せた従来の解凍装
置の欠点のうち、温度変動の問題を解決するため、オン
オフ制御を比例制御方式に変えることも考えられるが、
この場合は大幅なコスト上昇を招く新たな問題が発生
し、また前記の問題以外は解決され得ない。Among the drawbacks of the conventional defrosting apparatus that combines a ceramic plate having a far-infrared radiation function and an electric heater as described above, the on / off control is changed to a proportional control method in order to solve the problem of temperature fluctuation. Can be considered,
In this case, a new problem that causes a large increase in cost occurs, and the problems other than the above problems cannot be solved.
【0009】一方、冷凍食品の解凍以外の目的でも、各
種物品を100℃以下の低温領域で一定温度に加温、加
熱することが望まれる場合があり、その一つとしては、
例えば生花を挟んで押圧しながら低温域で加温しつつ生
花中の水分を除去して、押花を作ることがあるが、この
ような押花の作成に適した均熱装置は従来存在していな
かった。すなわち、押花の作成にあたっては、変色の発
生を防止するためには40℃以下の低温域で加温するこ
とが望ましいが、このような低温域で安定して均一に加
温するための装置は従来は実用化されていなかった。On the other hand, there are cases where it is desired to heat and heat various articles to a constant temperature in a low temperature region of 100 ° C. or lower for purposes other than thawing frozen foods.
For example, while pressing a fresh flower while heating it in a low temperature range to remove water in the fresh flower, a pressed flower may be produced, but there is no soaking device suitable for making such a pressed flower. It was That is, when creating pressed flowers, it is desirable to heat in a low temperature range of 40 ° C. or lower in order to prevent the occurrence of discoloration, but a device for stably and uniformly heating in such a low temperature range is available. It has not been put to practical use in the past.
【0010】この発明は以上の事情を背景としてなされ
たもので、冷凍食品の解凍、あるいは押花の作成などの
ために、各種の物品を100℃以下の低温域の一定の温
度に均一に加温、加熱することができ、かつ形状の自由
度も大きい均熱装置を提供することを目的とするもので
ある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and various kinds of articles are uniformly heated to a constant temperature in a low temperature range of 100 ° C. or lower in order to thaw frozen foods or create pressed flowers. The object of the present invention is to provide a soaking device that can be heated and has a large degree of freedom in shape.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】前述のような課題を解決
するため、請求項1の発明の均熱装置は、アルミニウム
合金からなる基材の少なくとも表側の面に灰色ないし黒
色を呈する厚さ5〜50μmの陽極酸化皮膜が形成され
て、遠赤外線放射板が構成され、かつその遠赤外線放射
板の裏面側に、正の抵抗温度係数を有する抵抗発熱体を
備えた自己制御型温度ヒータが設けられた構成としてい
る。In order to solve the above-mentioned problems, the soaking apparatus according to the invention of claim 1 has a thickness 5 which is gray or black on at least the surface of the base material made of an aluminum alloy. A far-infrared radiation plate is formed by forming an anodic oxide film having a thickness of up to 50 μm, and a self-controlled temperature heater having a resistance heating element having a positive resistance temperature coefficient is provided on the back side of the far-infrared radiation plate. It has a specific configuration.
【0012】また請求項2の発明の均熱装置は、請求項
1に記載の均熱装置において、前記基板のアルミニウム
合金が、Mnを0.3〜4.3wt%含有し、残部が実
質的にAlよりなる構成とされているものである。[0012] According to a second aspect of the heat equalizer of the present invention, in the heat equalizer of the first aspect, the aluminum alloy of the substrate contains Mn in an amount of 0.3 to 4.3 wt% and the balance substantially. And is made of Al.
【0013】さらに請求項3の発明の均熱装置は、請求
項1に記載の均熱装置において、前記基板のアルミニウ
ム合金が、Siを1〜25wt%含有し、残部が実質的
にAlよりなる構成とされているものである。Further, the heat equalizer of the third aspect of the present invention is the heat equalizer of the first aspect, wherein the aluminum alloy of the substrate contains 1 to 25 wt% of Si, and the balance substantially consists of Al. It is configured.
【0014】そしてまた請求項4の発明の均熱装置は、
請求項1に記載の均熱装置において、前記自己制御型温
度ヒータの発熱体が、導電性カーボン粒子を架橋ポリマ
ー中に分散させた抵抗発熱体で構成されているものであ
る。Further, the soaking apparatus according to the invention of claim 4 is
The heat equalizer according to claim 1, wherein the heating element of the self-controlled temperature heater is composed of a resistance heating element in which conductive carbon particles are dispersed in a crosslinked polymer.
【0015】一方請求項5の発明の均熱装置は、請求項
1に記載の均熱装置において、前記遠赤外線放射板の表
側の面に冷凍食品を載置して、その冷凍食品を解凍する
ための解凍装置とされたものである。On the other hand, a heat equalizer according to a fifth aspect of the present invention is the heat equalizer according to the first aspect, wherein frozen food is placed on the front surface of the far-infrared radiation plate and the frozen food is thawed. It is a decompression device for.
【0016】また請求項6の発明の均熱装置は、請求項
1に記載の均熱装置において、前記遠赤外線放射板の表
側の面に生花を押付けて、その生花を押花とするための
押花製造装置とされたものである。A heat equalizer according to a sixth aspect of the present invention is the heat equalizer according to the first aspect, wherein a fresh flower is pressed against the front side surface of the far-infrared radiation plate and the fresh flower is used as a pressed flower. It is a manufacturing device.
【0017】[0017]
【作用】この発明の均熱装置を、例えば冷凍食品の解凍
装置として使用するにあたっては、解凍すべき冷凍食品
を遠赤外線放射板の表側の面(陽極酸化皮膜が形成され
ている側の面)に載置するとともに、自己制御型温度ヒ
ータの抵抗発熱体に電流を流す。これによって抵抗発熱
体が発熱し、遠赤外線放射板が加熱される。遠赤外線放
射板は、アルミニウム合金からなる基材の少なくとも表
側の面に陽極酸化皮膜を形成したものであり、この陽極
酸化皮膜はセラミックの一種であるアルミナ(Al2 O
3 )からなりしかも灰色〜黒色を呈しているため、遠赤
外線を放射する。そして遠赤外線放射板の熱が直接冷凍
食品に伝達されると同時に、その遠赤外線放射板から発
生する遠赤外線が冷凍食品に吸収されて、冷凍食品の解
凍が進行する。When the soaking apparatus of the present invention is used as, for example, a defrosting device for frozen food, the frozen food to be defrosted is the front surface of the far infrared radiation plate (the surface on which the anodized film is formed). The device is placed on the substrate and a current is passed through the resistance heating element of the self-controlled temperature heater. As a result, the resistance heating element generates heat, and the far infrared radiation plate is heated. The far-infrared radiation plate is formed by forming an anodic oxide film on at least the front surface of a base material made of an aluminum alloy, and the anodic oxide film is alumina (Al 2 O 2) which is a type of ceramic.
Since it consists of 3 ) and is gray to black, it emits far infrared rays. Then, the heat of the far-infrared radiation plate is directly transferred to the frozen food, and at the same time, the far-infrared radiation generated from the far-infrared radiation plate is absorbed by the frozen food, so that the frozen food is thawed.
【0018】ここで、自己制御型温度ヒータの抵抗発熱
体は正の抵抗温度係数を有するため、温度が高くなれば
それに伴なって抵抗発熱体の電気抵抗が大きくなり、そ
のため抵抗発熱体の両端に加えられる電圧が一定であれ
ば抵抗発熱体を流れる電流が減少し、これによって抵抗
発熱体の発熱量も減少することになる。したがってある
一定の温度でバランスが保たれて、その一定温度に抵抗
発熱体の温度が維持され、遠赤外線放射板も一定の温度
に加熱・維持されることになる。なお抵抗発熱体の抵抗
温度係数は、周囲温度(解凍装置の場合には冷凍食品に
よって与えられる温度)に、抵抗発熱体自身の発熱によ
る温度上昇分を加えた温度に対しての抵抗の係数である
から、正の抵抗温度係数を有する抵抗発熱体からなる自
己制御型温度ヒータは、周囲温度の高低にかかわらず一
定の温度に自己制御されることになる。すなわち、例え
ば解凍開始初期の如く周囲温度が低い場合には大きな発
熱量が生じて急速に温度上昇し、一方解凍後期の如く周
囲温度が高くなった場合には発熱量が少なくなるから、
周囲温度(特に解凍装置の場合の冷凍食品の温度)の如
何にかかわらず、一定の温度に維持することができるの
である。なおこの一定の保持温度は、抵抗発熱体の構成
材料の種類や構成材料の配合比等によって変えることが
できる。Since the resistance heating element of the self-controlled temperature heater has a positive resistance temperature coefficient, the electric resistance of the resistance heating element increases as the temperature rises, so that the resistance heating element has both ends. If the voltage applied to the resistance heating element is constant, the current flowing through the resistance heating element decreases, and the amount of heat generated by the resistance heating element also decreases. Therefore, the balance is maintained at a certain temperature, the temperature of the resistance heating element is maintained at the certain temperature, and the far infrared radiation plate is also heated and maintained at the certain temperature. The resistance temperature coefficient of the resistance heating element is the coefficient of resistance with respect to the ambient temperature (the temperature given by frozen food in the case of a defroster) plus the temperature rise due to the heat generated by the resistance heating element itself. Therefore, the self-controlled temperature heater including a resistance heating element having a positive temperature coefficient of resistance is self-controlled to a constant temperature regardless of whether the ambient temperature is high or low. That is, for example, when the ambient temperature is low as in the initial stage of thawing, a large amount of heat is generated and the temperature rises rapidly, while when the ambient temperature is high as in the latter stage of thawing, the amount of heat is reduced.
A constant temperature can be maintained regardless of the ambient temperature (especially the temperature of the frozen food product in the case of a thawing device). The constant holding temperature can be changed depending on the type of constituent material of the resistance heating element, the composition ratio of the constituent material, and the like.
【0019】前述のようにして自己制御型温度ヒータが
一定の温度で発熱し、これによって遠赤外線放射板が一
定の温度に加熱されるとともに、一定量の遠赤外線を放
射する。そして解凍装置として用いた場合、前述のよう
に遠赤外線が冷凍食品に吸収されて、解凍が進行するこ
とになる。このような冷凍食品の解凍の場合、加熱温度
は常温(10〜40℃程度)が適当である。そしてまた
遠赤外線による冷凍食品の解凍時には、先ず食品周囲の
氷が解凍され、続いて食品内部が解凍されるが、食品内
部の解凍時においては遠赤外線が食品の蛋白質等の成分
に作用して、その食品成分を変質させることなく、自然
解凍に近い状態で解凍することができる。また押花製造
装置として用いる場合、遠赤外線放射板上に生花を押付
け、前記同様に自己制御型温度ヒータの抵抗発熱体に電
流を流して発熱させ、遠赤外線放射板の熱を生花に与え
ると同時に、遠赤外線放射板からの遠赤外線を生花に加
えることにより、押花を得ることができる。この場合の
加熱温度としては、変色を避けるために40℃以下が適
切であるが、既に述べたようにこの発明の均熱装置で
は、40℃以下の低温領域でも安定して均一に加熱する
ことができる。As described above, the self-controlling temperature heater generates heat at a constant temperature, which heats the far infrared radiation plate to a constant temperature and radiates a certain amount of far infrared rays. When used as a thawing device, the far infrared rays are absorbed by the frozen food as described above, and thawing proceeds. In the case of thawing such frozen food, it is appropriate that the heating temperature is room temperature (about 10 to 40 ° C). When thawing a frozen food by far infrared rays, first, the ice around the food is thawed, and then the inside of the food is thawed.When the inside of the food is thawed, the far infrared rays act on the components such as proteins of the food. , Can be thawed in a state close to natural thaw without degrading the food ingredients. When used as a pressed flower manufacturing device, a fresh flower is pressed onto the far infrared radiation plate, and an electric current is applied to the resistance heating element of the self-controlled temperature heater to generate heat, and heat of the far infrared radiation plate is applied to the fresh flower at the same time. By adding far-infrared rays from the far-infrared radiation plate to fresh flowers, pressed flowers can be obtained. The heating temperature in this case is appropriately 40 ° C. or lower in order to avoid discoloration, but as already mentioned, the soaking apparatus of the present invention ensures stable and uniform heating even in a low temperature region of 40 ° C. or lower. You can
【0020】ここで、自己制御型温度ヒータに用いる抵
抗発熱体としては、架橋ポリマー、例えばポリオレフィ
ン、フッ素樹脂等に導電性カーボン粉末粒子を混和した
ものを用いることが適切である。このような抵抗発熱体
においては、発熱体自身の温度変化によってポリマーが
熱膨張、熱収縮を繰返す。そしてポリマーの膨張・収縮
によって各導電性カーボン粒子の中心間距離が変化し、
これにより隣り合う導電性カーボン粒子同士の接触面積
が変化して、抵抗発熱体全体としての電気抵抗が変化す
る。具体的には、抵抗発熱体全体に電流が流れてジュー
ル発熱し、その抵抗発熱体の温度が上昇してポリマーが
熱膨張すれば、それに伴なって導電性カーボン粒子の中
心間距離が増大し、その結果隣り合う導電性カーボン粒
子同士の接触面積が小さくなり、抵抗発熱体全体として
の電気抵抗が大きくなり、電流が減少して発熱量が減少
することになる。またこの抵抗発熱体の抵抗値には周囲
温度も影響を与える。したがってこのような自己制御型
温度ヒータを用いれば、既に述べたように周囲温度の高
低にかかわらず一定の温度に維持される。この場合の温
度の変動は構成材料によっても若干異なるが、通常は±
1℃の範囲内であり、したがって従来の一般的なニクロ
ム線ヒータを用いた温度センサによる制御方式の場合の
±5℃程度の温度差と比較して、格段に温度の変動が少
ない。また抵抗発熱体の内部の抵抗変化によって温度が
一定に維持されるところから、場所による温度のばらつ
きも少なく、±1℃以内の均一な温度分布が得られる。Here, as the resistance heating element used for the self-controlled temperature heater, it is appropriate to use a mixture of conductive carbon powder particles in a crosslinked polymer such as polyolefin or fluororesin. In such a resistance heating element, the polymer repeats thermal expansion and contraction due to the temperature change of the heating element itself. And the center distance of each conductive carbon particle changes due to the expansion and contraction of the polymer,
As a result, the contact area between adjacent conductive carbon particles changes, and the electric resistance of the entire resistance heating element changes. Specifically, an electric current flows through the entire resistance heating element to generate Joule heat, and if the temperature of the resistance heating element rises and the polymer thermally expands, the center-to-center distance of the conductive carbon particles increases accordingly. As a result, the contact area between the adjacent conductive carbon particles is reduced, the electric resistance of the entire resistance heating element is increased, the current is reduced, and the amount of heat generation is reduced. The ambient temperature also affects the resistance value of the resistance heating element. Therefore, if such a self-controlled temperature heater is used, the temperature can be maintained at a constant temperature regardless of whether the ambient temperature is high or low, as described above. The temperature fluctuation in this case varies slightly depending on the constituent materials, but it is usually ±
It is in the range of 1 ° C., and therefore the temperature fluctuation is remarkably small as compared with the temperature difference of about ± 5 ° C. in the case of the conventional control method using a temperature sensor using a nichrome wire heater. Further, since the temperature is kept constant by the resistance change inside the resistance heating element, there is little variation in temperature depending on the location, and a uniform temperature distribution within ± 1 ° C. can be obtained.
【0021】一方遠赤外線放射板は、前述のようにアル
ミニウム合金を基板とし、灰色〜黒色を呈する陽極酸化
皮膜を形成したものである。このようにアルミニウム合
金基板表面に形成した灰色〜黒色の陽極酸化皮膜(Al
2 O3 皮膜)は遠赤外線放射効率が高い。特に基材のア
ルミニウム合金として、請求項2で規定したようなMn
0.3〜4.3wt%を含有するAl−Mn系合金や請
求項3で規定したようなSiを1〜25%含有するAl
−Si系合金を用いた場合には、遠赤外線放射特性が著
しく優れる。On the other hand, the far-infrared radiation plate is formed by using an aluminum alloy as a substrate as described above and forming an anodized film exhibiting gray to black. The gray-black anodized film (Al
2 O 3 film) has a high far infrared radiation efficiency. Particularly, as an aluminum alloy as a base material, Mn as defined in claim 2
Al-Mn-based alloy containing 0.3 to 4.3 wt% and Al containing 1 to 25% of Si as defined in claim 3.
When using a -Si alloy, far-infrared radiation characteristics are remarkably excellent.
【0022】すなわち、前述のAl−Mn系合金の場
合、Al−Mn系金属間化合物が微細に析出しており、
この微細な金属間化合物粒子は陽極酸化処理後も陽極酸
化皮膜中に分散した状態で残り、また請求項3で規定し
たようなSiを1〜25wt%含有するAl−Si系合
金の場合、Si含有量や熱処理条件に応じて初晶Si、
共晶Siあるいは析出Siとして金属Si粒子が合金中
に分散しており、このような金属Si粒子も陽極酸化処
理後の陽極酸化皮膜中に分散した状態で残る。そしてこ
れらの陽極酸化皮膜中の金属間化合物粒子や金属Si粒
子などの分散粒子によって入射光が散乱・吸収されて遠
赤外線放射特性が向上し、また陽極酸化処理時において
多孔質な陽極酸化皮膜が成長する過程で、ポアが枝分か
れした構造となり、このような枝分かれポア構造によっ
て入射光に対する陽極酸化皮膜内での散乱吸収が助長さ
れ、遠赤外線放射特性が一層向上する。そのため特に1
00℃以下の低温度域でも優れた遠赤外線放射特性を示
す。例えば、25μm厚の陽極酸化皮膜を形成したA1
050,A5052等の通常の純アルミニウム系のアル
ミニウム板を用い、その陽極酸化皮膜を有機塗料で染色
した従来の遠赤外線放射板の場合、20〜30℃程度の
温度域における遠赤外線放射率が70〜75%であるの
に対し、Al6 Mnが分散したAl−2%Mn合金に2
5μm厚の陽極酸化皮膜を形成した遠赤外線放射板の場
合は、20〜30℃の温度域で90%もの遠赤外線放射
率を示し、また波長依存性についても前者では8μm以
下の短波長域で放射率が低くかつ不安定であるのに対
し、後者は8μm以下の波長域でも安定して高レベルの
放射率を示す。そしてまた前述のようなAl−Mn系合
金やAl−Si系合金を基材として用いた場合、陽極酸
化皮膜中に分散して存在する金属間化合物粒子や金属S
i粒子は応力の緩和点としても機能し、また前述のよう
なポアの枝分かれ構造は歪の吸収能力が高く、そのため
クラックが生じにくいとともに仮にクラックが発生して
もその伝播が阻止され、耐ヒートクラック性が良好とな
る。That is, in the case of the above Al-Mn-based alloy, the Al-Mn-based intermetallic compound is finely precipitated,
The fine intermetallic compound particles remain in a state of being dispersed in the anodized film after the anodizing treatment, and in the case of an Al-Si alloy containing 1 to 25 wt% of Si as defined in claim 3, Si is Depending on the content and heat treatment conditions, primary crystal Si,
Metallic Si particles are dispersed in the alloy as eutectic Si or precipitated Si, and such metallic Si particles also remain dispersed in the anodized film after the anodizing treatment. Incident light is scattered and absorbed by the dispersed particles such as intermetallic compound particles and metal Si particles in these anodized films to improve far-infrared radiation characteristics, and a porous anodized film is formed during anodizing treatment. During the growth process, the pores have a branched structure, and such branched pore structure promotes the scattering and absorption of incident light in the anodic oxide film, and further improves the far infrared radiation characteristics. Therefore, especially 1
It exhibits excellent far-infrared radiation characteristics even in a low temperature range of 00 ° C or lower. For example, A1 having an anodized film of 25 μm thickness formed
In the case of a conventional far-infrared radiation plate in which an ordinary anodized aluminum plate such as 050, A5052, etc. is used and the anodized film is dyed with an organic paint, the far-infrared radiation rate in a temperature range of about 20 to 30 ° C. is 70. ˜75%, while 2% in Al-2% Mn alloy in which Al 6 Mn is dispersed.
In the case of a far-infrared radiation plate having an anodized film with a thickness of 5 μm, it exhibits a far-infrared emissivity of 90% in a temperature range of 20 to 30 ° C., and the wavelength dependence of the former is in the short wavelength range of 8 μm or less. While the emissivity is low and unstable, the latter shows a stable and high level emissivity even in the wavelength region of 8 μm or less. When the Al-Mn-based alloy or Al-Si-based alloy as described above is used as a base material, intermetallic compound particles or metal S existing dispersedly in the anodized film are present.
The i-particle also functions as a stress relaxation point, and the branching structure of the pores as described above has a high strain absorbing ability, so that cracks are less likely to occur and even if cracks occur, their propagation is blocked and heat resistance is improved. Good crackability.
【0023】また遠赤外線放射板の基材部分は熱伝導率
が高いアルミニウム合金で構成されているため、自己制
御型温度ヒータによって加えられる熱を板内全体に均一
に伝達し、そのため遠赤外線放射板の板内の温度が均一
となるとともに、表面の遠赤外線放射用の陽極酸化皮膜
から放射される遠赤外線放射量も均一となり、冷凍食品
等の加熱対象物を均一に加熱することができる。Further, since the base portion of the far-infrared radiation plate is made of an aluminum alloy having a high thermal conductivity, the heat applied by the self-controlled temperature heater is uniformly transmitted throughout the plate, and therefore the far-infrared radiation is performed. The temperature inside the plate becomes uniform, and the far-infrared radiation amount radiated from the anodic oxide film for far-infrared radiation on the surface becomes uniform, so that an object to be heated such as frozen food can be uniformly heated.
【0024】ここで、陽極酸化皮膜の厚みが5μm未満
では、充分な遠赤外線放射特性が得られず、一方50μ
mを越えれば、陽極酸化処理に著しい長時間を要するよ
うになり、経済的に無駄となるだけである。したがって
陽極酸化皮膜の膜厚は5〜50μmの範囲内とした。な
お陽極酸化処理にあたっては、前述のようなAl−Mn
系合金やAl−Si系合金においては、通常の硫酸浴を
用いた電解によって、前述のような遠赤外線放射特性の
優れた陽極酸化皮膜を形成することができる。Here, if the thickness of the anodic oxide film is less than 5 μm, sufficient far-infrared radiation characteristics cannot be obtained.
If it exceeds m, the anodic oxidation process requires a significantly long time, which is economically wasteful. Therefore, the thickness of the anodized film is set within the range of 5 to 50 μm. In the anodic oxidation treatment, Al-Mn as described above is used.
In the case of the Al-Si based alloy and the Al-Si based alloy, it is possible to form the above-mentioned anodic oxide film having excellent far infrared radiation characteristics by electrolysis using a normal sulfuric acid bath.
【0025】[0025]
【実施例】図1〜図3にこの発明の一実施例の均熱装置
を示し、また図4にこの発明の均熱装置に用いられる自
己制御型温度ヒータの一例を示す。1 to 3 show a soaking apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 shows an example of a self-controlled temperature heater used in the soaking apparatus of the present invention.
【0026】図1〜図3において、収納ケース1は上面
を開放した有底の矩形薄箱状に作られており、この収納
ケース1の上部開口端側には、全体として矩形の平板状
をなす遠赤外線放射板2が水平に固定されている。この
遠赤外線放射板2は前述のようなAl−Mn系もしくは
Al−Si系などのアルミニウム合金を基材2Aとし、
その基材2Aの表側の面に図3に示すように陽極酸化皮
膜2Bを形成したものである。基材2Aの裏面側には後
述する自己制御型温度ヒータ3を位置決めするための蛇
行状の凹溝5を区画形成するため、突条部7が形成され
ている。この突条部7は、基材2Aと一体に形成して
も、あるいは基材2Aとは別体に作って適宜の接合手段
によって基材2Aに固定しても良い。1 to 3, the storage case 1 is formed in the shape of a rectangular thin box having a bottom with an open top surface, and the storage case 1 has a rectangular flat plate shape as a whole on the upper open end side. The far infrared radiation plate 2 is horizontally fixed. The far-infrared radiation plate 2 has a base material 2A made of an aluminum alloy such as Al-Mn or Al-Si as described above.
An anodized film 2B is formed on the surface of the base material 2A as shown in FIG. A ridge portion 7 is formed on the back surface of the base material 2A to define a meandering concave groove 5 for positioning a self-controlled temperature heater 3 described later. The protruding portion 7 may be formed integrally with the base material 2A, or may be formed separately from the base material 2A and fixed to the base material 2A by an appropriate joining means.
【0027】前記凹溝5内には、その蛇行方向に沿って
図4に示すような自己制御型温度ヒータ3が配設されて
いる。この自己制御型温度ヒータ3は、平行な一対の導
電芯線3A,3B間にまたがって正の抵抗温度係数を有
する抵抗発熱体3Cが設けられており、その抵抗発熱体
3C、導電芯線3A,3Bの全体を覆うようにフッ素樹
脂等からなる絶縁被覆3Dが設けられている。そしてこ
のような自己制御型温度ヒータ3の一端側の部分には、
導電芯線3A,3Bがコネクタ4に接続されて、外部か
ら給電されるように構成されている。また自己制御型温
度ヒータ3における他端の部分(端末部)3Eは適宜絶
縁等の端末処理がなされている。ここで、正の抵抗温度
係数を有する抵抗発熱体3Cとしては、既に述べたよう
に例えばポリオレフィンあるいはフッ素樹脂等の架橋ポ
リマーに導電性カーボン粉末粒子を混和したものが用い
られる。なお絶縁被覆3D上には、図示しないスズメッ
キ銅線からなる編組を設けても良く、またその場合、ス
ズメッキ銅線編組上にフッ素樹脂等からなるさらに別の
図示しない絶縁被覆を設けても良い。A self-controlled temperature heater 3 as shown in FIG. 4 is arranged in the groove 5 along the meandering direction. The self-controlled temperature heater 3 is provided with a resistance heating element 3C having a positive resistance temperature coefficient across a pair of parallel conductive core wires 3A, 3B. The resistance heating element 3C and the conductive core wires 3A, 3B are provided. An insulating coating 3D made of fluororesin or the like is provided so as to cover the whole of the. And, in such a portion on one end side of the self-controlled temperature heater 3,
The conductive core wires 3A and 3B are connected to the connector 4 so that power is supplied from the outside. Further, the other end portion (terminal portion) 3E of the self-controlled temperature heater 3 is appropriately subjected to terminal treatment such as insulation. Here, as the resistance heating element 3C having a positive temperature coefficient of resistance, as described above, for example, a mixture of conductive carbon powder particles in a cross-linked polymer such as polyolefin or fluororesin is used. A braid made of tin-plated copper wire (not shown) may be provided on the insulating coating 3D, and in that case, another insulating coating (not shown) made of fluororesin or the like may be provided on the tin-plated copper wire braid.
【0028】さらに自己制御型温度ヒータ3が位置する
部分と収納ケース1の底面との間には、発泡ウレタン樹
脂等の断熱材9が配設されている。Further, a heat insulating material 9 such as urethane foam resin is disposed between the portion where the self-controlled temperature heater 3 is located and the bottom surface of the storage case 1.
【0029】以上の実施例の均熱装置において、コネク
タ4を介して自己制御型温度ヒータ3の導電芯線3A,
3B間に電圧が印加されれば、導電芯線3A,3B間の
抵抗発熱体3Cに電流が流れてその電気抵抗により発熱
し、遠赤外線放射板2が加熱される。ここで、抵抗発熱
体3Cは、架橋ポリマーに導電性カーボン粉末粒子を混
練したものが用いられており、このような抵抗発熱体3
Cにおいては、既に述べたように温度変化によって架橋
ポリマーが熱膨張、熱収縮し、これによって各導電性カ
ーボン粒子の中心間温度が変化して、隣り合う導電性カ
ーボン粒子の接触面積が変化し、導電芯線間における抵
抗発熱体3Cの電気抵抗が変化する。したがって前述の
ように温度によって発熱量が変化し、周囲温度の高低に
かかわらず一定の温度に維持される。また導電芯線3
A,3B間の抵抗発熱体3Cの電気抵抗は、自己制御型
温度ヒータ3の長さ方向のいずれの部分でも同じである
ため、自己制御型温度ヒータ3の長さ方向の温度分布も
均一となり、しかもこの自己制御型温度ヒータ3は、遠
赤外線放射板2の裏面側のほぼ全面に蛇行状に設けられ
ていてかつ遠赤外線放射板2の基材部分はアルミニウム
合金で作られていて熱伝導性が良好であるため、遠赤外
線放射板2自体もその板内全体が均一に加熱され、遠赤
外線放射線が均一に放射され、冷凍食品等の加熱対象物
が均一に加熱される。In the heat equalizer of the above embodiment, the conductive core wire 3A of the self-controlled temperature heater 3 is
When a voltage is applied between 3B, a current flows through the resistance heating element 3C between the conductive core wires 3A and 3B to generate heat due to the electric resistance, and the far infrared radiation plate 2 is heated. Here, as the resistance heating element 3C, a material obtained by kneading conductive carbon powder particles in a crosslinked polymer is used.
In C, as described above, the cross-linked polymer thermally expands and contracts due to the temperature change, which changes the center-to-center temperature of each conductive carbon particle and changes the contact area between adjacent conductive carbon particles. , The electrical resistance of the resistance heating element 3C between the conductive core wires changes. Therefore, as described above, the calorific value changes depending on the temperature and is maintained at a constant temperature regardless of whether the ambient temperature is high or low. In addition, the conductive core wire 3
Since the electric resistance of the resistance heating element 3C between A and 3B is the same in any portion of the self-controlling temperature heater 3 in the lengthwise direction, the temperature distribution in the lengthwise direction of the self-controlling temperature heater 3 becomes uniform. In addition, the self-controlling temperature heater 3 is provided in a meandering shape on the rear surface of the far-infrared radiation plate 2 in a substantially meandering manner, and the base portion of the far-infrared radiation plate 2 is made of an aluminum alloy to conduct heat. Since the property is good, the far-infrared radiation plate 2 itself is uniformly heated in its entire plate, the far-infrared radiation is uniformly radiated, and the object to be heated such as frozen food is uniformly heated.
【0030】したがって遠赤外線放射板2上に冷凍食品
を載置しておけば、既に述べたように食品の品質を劣化
させてその風味を損なうことなく、短時間で均一に解凍
することができる。また遠赤外線放射板2上に生花を載
置して押付ければ、押花を製造することができる。Therefore, if the frozen food is placed on the far-infrared radiation plate 2, it can be thawed uniformly in a short time without deteriorating the quality of the food and impairing its flavor as described above. . If a fresh flower is placed on the far-infrared radiation plate 2 and pressed against it, a pressed flower can be manufactured.
【0031】なお場合によっては遠赤外線放射板2は、
アルミニウム合金からなる基材の表裏両面に陽極酸化皮
膜を形成したものであっても良いが、自己制御型温度ヒ
ータ3から基材2Aへの熱伝達を良好にするためには、
実施例で示したように表側の面のみに選択的に陽極酸化
皮膜2Bを形成しておくことが望ましい。In some cases, the far infrared radiation plate 2 is
Although an anodized film may be formed on both front and back surfaces of a base material made of an aluminum alloy, in order to improve heat transfer from the self-controlled temperature heater 3 to the base material 2A,
As shown in the embodiment, it is desirable to selectively form the anodic oxide coating 2B only on the front surface.
【0032】また遠赤外線放射板2の表側の陽極酸化皮
膜2Bを形成した面、すなわち冷凍食品等の加熱対象物
を載置する面には、テフロン、シリコン等の如く遠赤外
線を透過しかつ非粘着性の優れた被覆層を数μm〜数十
μmの厚さでコーティングしても良く、この場合には冷
凍食品等の加熱対象物の剥離性を向上させることができ
る。The surface of the far-infrared radiation plate 2 on which the anodic oxide film 2B is formed, that is, the surface on which the object to be heated such as frozen food is placed, transmits far-infrared rays such as Teflon and silicon, and does not pass through. The coating layer having excellent adhesiveness may be coated in a thickness of several μm to several tens of μm, and in this case, the peelability of the object to be heated such as frozen food can be improved.
【0033】[0033]
【発明の効果】この発明の均熱装置によれば、冷凍食品
の解凍等のために100℃以下の比較的低温の領域で各
種物品を加熱、加温するための均熱装置として、遠赤外
線放射率の高い灰色〜黒色の陽極酸化皮膜を形成したア
ルミニウム合金板を遠赤外線放射板として用いかつ正の
抵抗温度係数を有する抵抗発熱体を備えた自己制御型温
度ヒータを用いているため、周囲温度の高低にかかわら
ず、少ない温度変動幅で予め設定した100℃以下の低
温の温度域の温度に安定して加熱することができるとと
もに、場所による温度の大きなばらつきが生じるおそれ
も少なく、均一かつ一定の温度に加熱することができ
る。またこの均熱装置では、遠赤外線放射板の基材とし
てアルミニウム合金を用いているため、形状の自由度も
大きく、またその加工も容易である。According to the heat equalizer of the present invention, far infrared rays are used as a heat equalizer for heating and heating various articles in a relatively low temperature range of 100 ° C. or lower for thawing frozen foods and the like. Since the aluminum alloy plate with a gray to black anodized film with high emissivity is used as the far-infrared radiation plate and a self-controlled temperature heater equipped with a resistance heating element having a positive resistance temperature coefficient is used, Regardless of whether the temperature is high or low, it is possible to stably heat to a preset low temperature range of 100 ° C. or less with a small temperature fluctuation range, and there is little risk of large temperature variations depending on the location. It can be heated to a constant temperature. Further, in this heat equalizer, since the aluminum alloy is used as the base material of the far-infrared radiation plate, there is a large degree of freedom in shape and its processing is easy.
【0034】さらにこの発明の均熱装置を特に解凍装置
として用いた場合、直接的な熱伝達ばかりでなく、遠赤
外線の吸収により冷凍食品の解凍が進行するため、食品
の風味を損なうおそれが少なく、また自己制御型温度ヒ
ータを用いているため解凍開始当初の昇温速度が速く、
早期に解凍に必要な温度に達するため、解凍時間が短縮
され、また解凍がある程度進行しても同じ温度に自己制
御されるため、過熱による危険がないとともに、特に過
熱防止のための安全装置も不要で低コスト化を図ること
ができる。またこの発明の均熱装置は、40℃以下の低
温域での過熱も安定して可能なため、押花を得るための
装置として使用した場合も、花の変色を招くおそれがな
い。Further, when the heat equalizer of the present invention is used as a thawing device, not only direct heat transfer but also thawing of frozen foods due to absorption of far-infrared rays, so that the flavor of foods is less likely to be impaired. Also, since the self-controlled temperature heater is used, the temperature rising rate at the beginning of thawing is fast,
Since the temperature required for thawing is reached early, thawing time is shortened, and even if thawing proceeds to some extent, it is self-controlled to the same temperature, so there is no danger due to overheating, and there is also a safety device especially for overheating prevention. It is unnecessary and can reduce cost. Further, since the heat equalizer of the present invention can stably overheat in a low temperature range of 40 ° C. or lower, even when it is used as a device for obtaining pressed flowers, there is no risk of discoloration of flowers.
【図1】この発明の一実施例の均熱装置を示す部分切欠
斜視図である。FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing a heat equalizing device according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1に示される実施例の均熱装置において、遠
赤外線放射板および自己制御型温度ヒータの部分を示す
底面図である。FIG. 2 is a bottom view showing parts of a far-infrared radiation plate and a self-controlled temperature heater in the heat equalizer of the embodiment shown in FIG.
【図3】図1に示される実施例の均熱装置の一部拡大縦
断面図である。FIG. 3 is a partially enlarged vertical sectional view of the heat equalizer of the embodiment shown in FIG.
【図4】この発明の均熱装置に用いられる自己制御型温
度ヒータの一例を示す断面斜視図である。FIG. 4 is a sectional perspective view showing an example of a self-controlled temperature heater used in the heat equalizer of the present invention.
1 遠赤外線放射板 2A 基材 2B 陽極酸化皮膜 3 自己制御型温度ヒータ 3A,3B 導電芯線 3C 抵抗発熱体 1 Far-infrared radiation plate 2A Base material 2B Anodized film 3 Self-controlling temperature heater 3A, 3B Conductive core wire 3C Resistance heating element
フロントページの続き (72)発明者 黒沢 幸彦 東京都江東区木場1丁目5番1号 株式会 社フジクラ内 (72)発明者 斎藤 健 東京都江東区木場1丁目5番1号 株式会 社フジクラ内 (72)発明者 松本 秀一 東京都江東区木場1丁目5番1号 株式会 社フジクラ内 (72)発明者 馬場 規泰 東京都江東区木場1丁目5番1号 株式会 社フジクラ内Front page continuation (72) Inventor Yukihiko Kurosawa 1-5-1, Kiba, Koto-ku, Tokyo Fujikura Ltd. (72) Inventor Ken Saito 1-1-5, Kiba, Koto-ku, Tokyo In Fujikura Ltd. (72) Inventor Shuichi Matsumoto 1-5-1, Kiba, Koto-ku, Tokyo, Fujikura Ltd. (72) Inventor Noriyasu Baba 1-1-5, Kiba, Koto-ku, Tokyo In Fujikura Ltd.
Claims (6)
とも表側の面に灰色ないし黒色を呈する厚さ5〜50μ
mの陽極酸化皮膜が形成されて、遠赤外線放射板が構成
され、かつその遠赤外線放射板の裏面側に、正の抵抗温
度係数を有する抵抗発熱体を備えた自己制御型温度ヒー
タが設けられていることを特徴とする均熱装置。1. A thickness of 5 to 50 .mu.m, which is gray or black on at least the front surface of a base material made of an aluminum alloy.
The far-infrared radiation plate is formed by forming the anodic oxide film of m, and a self-controlled temperature heater having a resistance heating element having a positive temperature coefficient of resistance is provided on the back side of the far-infrared radiation plate. A soaking device characterized in that
〜4.3wt%含有し、残部が実質的にAlよりなる構
成とされている、請求項1に記載の均熱装置。2. The aluminum alloy has a Mn of 0.3.
The heat equalizer according to claim 1, wherein the heat equalizer contains ˜4.3 wt% and the balance substantially consists of Al.
5wt%含有し、残部が実質的にAlよりなる構成とさ
れている、請求項1に記載の均熱装置。3. The aluminum alloy contains 1 to 2 Si.
The soaking apparatus according to claim 1, wherein the soaking apparatus contains 5 wt% and the balance is substantially Al.
導電性カーボン粒子を架橋ポリマー中に分散させた抵抗
発熱体で構成されている、請求項1に記載の均熱装置。4. The heating element of the self-controlled temperature heater,
The soaking apparatus according to claim 1, which is composed of a resistance heating element in which conductive carbon particles are dispersed in a crosslinked polymer.
品を載置して、その冷凍食品を解凍するための解凍装置
とされた、請求項1に記載の均熱装置。5. The heat equalizer according to claim 1, wherein a frozen food is placed on the front surface of the far-infrared radiation plate and used as a thawing device for thawing the frozen food.
押付けて、その生花を押花とするための押花製造装置と
された、請求項1に記載の均熱装置。6. The heat equalizer according to claim 1, which is a pressed flower manufacturing apparatus for pressing a fresh flower against the front side surface of the far-infrared radiation plate to make the fresh flower a pressed flower.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16601394A JPH088043A (en) | 1994-06-23 | 1994-06-23 | Soaking device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16601394A JPH088043A (en) | 1994-06-23 | 1994-06-23 | Soaking device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH088043A true JPH088043A (en) | 1996-01-12 |
Family
ID=15823290
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16601394A Pending JPH088043A (en) | 1994-06-23 | 1994-06-23 | Soaking device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH088043A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007120004A1 (en) * | 2006-04-17 | 2007-10-25 | Solco Biomedical Co., Ltd. | Method for bending the self-regulating cable and heating mat for protecting over-heating |
| KR100880735B1 (en) * | 2006-04-17 | 2009-02-02 | 주식회사 솔고 바이오메디칼 | Flexural method of temperature automatic control cable and thermal mat to prevent overheating |
| CN103997802A (en) * | 2013-02-04 | 2014-08-20 | 博格华纳贝鲁系统股份有限公司 | Heating rod |
| JP2018022886A (en) * | 2016-07-20 | 2018-02-08 | Toto株式会社 | Electrostatic chuck |
-
1994
- 1994-06-23 JP JP16601394A patent/JPH088043A/en active Pending
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| JP2009533196A (en) * | 2006-04-17 | 2009-09-17 | ソルコ ビオメディカル カンパニーリミテッド | Bending method of temperature automatic adjustment cable and overheat-preventing thermal mat |
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