JPH0881492A - 17β−カルボキシステロイド誘導体の製造法及び新規な中間体 - Google Patents
17β−カルボキシステロイド誘導体の製造法及び新規な中間体Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J3/00—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, substituted in position 17 beta by one carbon atom
-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07J3/00—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, substituted in position 17 beta by one carbon atom
- C07J3/005—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, substituted in position 17 beta by one carbon atom the carbon atom being part of a carboxylic function
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07J41/00—Normal steroids containing one or more nitrogen atoms not belonging to a hetero ring
- C07J41/0033—Normal steroids containing one or more nitrogen atoms not belonging to a hetero ring not covered by C07J41/0005
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 17β−カルボキシステロイド誘導体の製造
法を提供する。 【解決手段】 これは、次式(I) 【化1】 の酸(オキソエチオコレン酸)を相当する17−ケト誘
導体から出発して製造する方法である。
法を提供する。 【解決手段】 これは、次式(I) 【化1】 の酸(オキソエチオコレン酸)を相当する17−ケト誘
導体から出発して製造する方法である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、17β−カルボ
キシステロイド誘導体の製造法及び得られる新規な中間
体に関する。
キシステロイド誘導体の製造法及び得られる新規な中間
体に関する。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、オキソエチ
オコレン酸の新規な製造法を提供することを目的とす
る。
オコレン酸の新規な製造法を提供することを目的とす
る。
【0003】
【課題を解決するための手段】発明の概要 しかして、本発明は、次式(I)
【化15】 のオキソエチオコレン酸を製造するにあたり、次式(I
I)
I)
【化16】 〔ここで、環A及びBは下記の残基
【化17】 {ここで、Kは次式
【化18】 (ここで、nは2又は3に等しい)のオキソ基の保護基
を表わし、nは2又は3に等しく、R1 はエーテル又は
エステル残基を表わす}を表わす〕の化合物に塩基の存
在下にハロニトリルを作用させて次式(III)
を表わし、nは2又は3に等しく、R1 はエーテル又は
エステル残基を表わす}を表わす〕の化合物に塩基の存
在下にハロニトリルを作用させて次式(III)
【化19】 〔ここで、環A及びBは上で示した意味を有し、波線は
異性体の混合物を表わす〕の化合物を得、この化合物の
3位のケトン官能基を遊離化させて次式(IV)
異性体の混合物を表わす〕の化合物を得、この化合物の
3位のケトン官能基を遊離化させて次式(IV)
【化20】 〔ここで、波線は上で示した意味を有する〕の化合物を
得、この化合物を無水状態で式HX(ここで、Xはハロ
ゲン原子を表わす)の水素酸により処理して次式(V)
得、この化合物を無水状態で式HX(ここで、Xはハロ
ゲン原子を表わす)の水素酸により処理して次式(V)
【化21】 〔ここで、X及び波線は上で示した意味を有する〕の化
合物を得、この化合物のヒドロキシ官能基をエステルの
形で保護して次式(VI)
合物を得、この化合物のヒドロキシ官能基をエステルの
形で保護して次式(VI)
【化22】 〔ここで、Zはヒドロキシ基の保護エステル基の残基を
表わし、X及び波線は上で示した意味を有する〕の化合
物を得、この化合物に脱ハロゲン化水素剤を作用させて
次式(VII)
表わし、X及び波線は上で示した意味を有する〕の化合
物を得、この化合物に脱ハロゲン化水素剤を作用させて
次式(VII)
【化23】 〔ここで、Z及び波線は上で示した意味を有する〕の化
合物を得、この化合物をアルカリ加水分解し、次いで酸
処理して式(I)の所期化合物を得ることを特徴とす
る、式(I)のオキソエチオコレン酸の製造法に係る。
合物を得、この化合物をアルカリ加水分解し、次いで酸
処理して式(I)の所期化合物を得ることを特徴とす
る、式(I)のオキソエチオコレン酸の製造法に係る。
【0004】
【発明の実施の形態】R1 がエーテル残基を表わすとき
は、それは、3位をその形でブロックするために当業者
に知られた任意の残基であってよく、特にそれは1〜6
個の炭素原子を含有するアルキル基、3〜8個の炭素原
子を含有するアルコキシアルコキシアルキル基、6〜1
0個の炭素原子を含有するアリール基又は7〜12個の
炭素原子を含有するアラルキル基であってよい。
は、それは、3位をその形でブロックするために当業者
に知られた任意の残基であってよく、特にそれは1〜6
個の炭素原子を含有するアルキル基、3〜8個の炭素原
子を含有するアルコキシアルコキシアルキル基、6〜1
0個の炭素原子を含有するアリール基又は7〜12個の
炭素原子を含有するアラルキル基であってよい。
【0005】R1 がアルキル基を表わすときは、それ
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、ペンチ
ル又はヘキシル基である。R1 がアルコキシアルコキシ
アルキル基を表わすときは、それは、例えばメトキシエ
トキシメチル基である。R1 がアラルキル基を表わすと
きは、それは、例えばベンジル又はフェネチル基であ
る。R1 がアリール基を表わすときは、それは、例えば
フェニル又は特に1個以上のアルキル基により置換され
たフェニル基である。
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、ペンチ
ル又はヘキシル基である。R1 がアルコキシアルコキシ
アルキル基を表わすときは、それは、例えばメトキシエ
トキシメチル基である。R1 がアラルキル基を表わすと
きは、それは、例えばベンジル又はフェネチル基であ
る。R1 がアリール基を表わすときは、それは、例えば
フェニル又は特に1個以上のアルキル基により置換され
たフェニル基である。
【0006】R1 がエーテル残基を表わすときは、それ
はシリル化された基、例えば、トリメチルシリル、t−
ブチルジメチルシリルのようなトリアルキルシリル基、
又は例えばトリフェニルシリルのようなトリアリールシ
リル基、又はジフェニルt−ブチルシリルのようなジア
リールアルキルシリル基であってよい。
はシリル化された基、例えば、トリメチルシリル、t−
ブチルジメチルシリルのようなトリアルキルシリル基、
又は例えばトリフェニルシリルのようなトリアリールシ
リル基、又はジフェニルt−ブチルシリルのようなジア
リールアルキルシリル基であってよい。
【0007】R1 がエステル残基を表わすときは、それ
は3位をこの形でブロックするために当業者に知られた
任意の残基であってよく、特にそれは−COR1 残基
(ここで、R1 は前記のようなアルキル、アリール又は
アラルキル基である)であってよい。
は3位をこの形でブロックするために当業者に知られた
任意の残基であってよく、特にそれは−COR1 残基
(ここで、R1 は前記のようなアルキル、アリール又は
アラルキル基である)であってよい。
【0008】本発明の特定の主題は、環A及びBが次式
【化24】 (ここで、R1 は前記の通りであり、特に1〜6個の炭
素原子を含有するアルキル基である)の残基を表わす式
(II)の化合物を出発時に使用することを特徴とする、
前記の製造法にある。
素原子を含有するアルキル基である)の残基を表わす式
(II)の化合物を出発時に使用することを特徴とする、
前記の製造法にある。
【0009】式(II)の化合物に反応させるハロニトリ
ルは、ブロムアセトニトリル又は特にクロルアセトニト
リルであってよい。操作は、強塩基、好ましくは非求核
性塩基、例えば、アルカリ金属のアルコラート、水素化
物、アミド又は水酸化物或いはまた有機リチウム化合
物、例えば、ナトリウムのメチラート、エチラート、t
−ブチラート若しくはt−アミラート又はカリウムのメ
チラート、エチラート、t−ブチラート若しくはt−ア
ミラート、リチウムジイソプロピルアミド、或いは苛性
ソーダ又はカリであってよい。不均一相において相移動
触媒の存在下に操作するのが有益であろう。相移動触媒
は、特に、第四アンモニウム塩、例えば、臭化テトラブ
チルアンモニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウ
ム又は塩化トリカプリルメチルアンモニウム、或いはホ
スホニウム塩であってよい。
ルは、ブロムアセトニトリル又は特にクロルアセトニト
リルであってよい。操作は、強塩基、好ましくは非求核
性塩基、例えば、アルカリ金属のアルコラート、水素化
物、アミド又は水酸化物或いはまた有機リチウム化合
物、例えば、ナトリウムのメチラート、エチラート、t
−ブチラート若しくはt−アミラート又はカリウムのメ
チラート、エチラート、t−ブチラート若しくはt−ア
ミラート、リチウムジイソプロピルアミド、或いは苛性
ソーダ又はカリであってよい。不均一相において相移動
触媒の存在下に操作するのが有益であろう。相移動触媒
は、特に、第四アンモニウム塩、例えば、臭化テトラブ
チルアンモニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウ
ム又は塩化トリカプリルメチルアンモニウム、或いはホ
スホニウム塩であってよい。
【0010】好ましくは、カリウム又はナトリウムのt
−ブチラート又はt−アミラートのようなアルコラート
が使用される。反応は、トルエン、ジクロルメタン、ジ
メトキシエタン、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロ
フランのような溶媒中で、或いはこれらの溶媒の混合
物、例えば、トルエン/テトラヒドロフラン混合物又は
t−ブタノール/テトラヒドロフラン混合物中で行われ
る。
−ブチラート又はt−アミラートのようなアルコラート
が使用される。反応は、トルエン、ジクロルメタン、ジ
メトキシエタン、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロ
フランのような溶媒中で、或いはこれらの溶媒の混合
物、例えば、トルエン/テトラヒドロフラン混合物又は
t−ブタノール/テトラヒドロフラン混合物中で行われ
る。
【0011】3位のケトン官能基の遊離化は、保護基の
種類にふさわしい手段によって行われる。ケタールの場
合には、水又は水−アルカノール混合物の存在下に酸試
薬が使用される。それは、例えば、塩酸、臭化水素酸、
硫酸、過塩素酸、硝酸、p−トルエンスルホン酸、酢
酸、ぎ酸、しゅう酸又はこれらの酸の混合物のような無
機又は有機酸、或いはまた酸性樹脂、例えばスルホン酸
樹脂である。チオケタール又は混合ケタールの場合に
は、3−オキソ官能基の脱保護は、塩基、例えば重炭酸
アルカリの存在下に沃素を作用させ、又は酸化剤、特に
過酸化水素の存在下に沃素を触媒量で作用させ、又は沃
化メチル、グリオキシル酸若しくは金属の塩、例えば水
銀若しくはカドミウムの塩を作用させることにより行わ
れる。操作は、一般に、水の存在下に、ハロゲン化溶
媒、例えば塩化メチレンを混合した低級アルカノール、
例えばメタノール又はエタノールのような溶媒中で行う
ことができる。混合ケタールの場合には、脱保護は酢酸
/酢酸カリウム緩衝剤の存在下に約100℃で塩化第二
水銀のような第二水銀により、上記と同じ条件でラネー
ニッケルにより、又は熱塩酸−酢酸混合物によっても行
われる。
種類にふさわしい手段によって行われる。ケタールの場
合には、水又は水−アルカノール混合物の存在下に酸試
薬が使用される。それは、例えば、塩酸、臭化水素酸、
硫酸、過塩素酸、硝酸、p−トルエンスルホン酸、酢
酸、ぎ酸、しゅう酸又はこれらの酸の混合物のような無
機又は有機酸、或いはまた酸性樹脂、例えばスルホン酸
樹脂である。チオケタール又は混合ケタールの場合に
は、3−オキソ官能基の脱保護は、塩基、例えば重炭酸
アルカリの存在下に沃素を作用させ、又は酸化剤、特に
過酸化水素の存在下に沃素を触媒量で作用させ、又は沃
化メチル、グリオキシル酸若しくは金属の塩、例えば水
銀若しくはカドミウムの塩を作用させることにより行わ
れる。操作は、一般に、水の存在下に、ハロゲン化溶
媒、例えば塩化メチレンを混合した低級アルカノール、
例えばメタノール又はエタノールのような溶媒中で行う
ことができる。混合ケタールの場合には、脱保護は酢酸
/酢酸カリウム緩衝剤の存在下に約100℃で塩化第二
水銀のような第二水銀により、上記と同じ条件でラネー
ニッケルにより、又は熱塩酸−酢酸混合物によっても行
われる。
【0012】R1 がエーテル又はエステル残基を表わす
場合には、ケタールについて前記したような条件下に酸
処理も使用される。例えば、酢酸若しくは硫酸又はこれ
らの酸の混合物が使用できる。エポキシド官能基を開裂
させるのに使用される水素酸は、例えば臭化水素酸又は
好ましくは塩酸である。反応は、好ましくは、無水状態
で有機溶媒、好ましくはごくわずかに極性又は非極性の
溶媒、例えば、ジメトキシエタン、エチルエーテル、酢
酸エチル、ジクロルメタン又はトルエン(後者の二つが
好ましい)中で行われる。操作は、ピリジン又はトリエ
チルアミンのような第三アミンの存在下に有利に行われ
る。
場合には、ケタールについて前記したような条件下に酸
処理も使用される。例えば、酢酸若しくは硫酸又はこれ
らの酸の混合物が使用できる。エポキシド官能基を開裂
させるのに使用される水素酸は、例えば臭化水素酸又は
好ましくは塩酸である。反応は、好ましくは、無水状態
で有機溶媒、好ましくはごくわずかに極性又は非極性の
溶媒、例えば、ジメトキシエタン、エチルエーテル、酢
酸エチル、ジクロルメタン又はトルエン(後者の二つが
好ましい)中で行われる。操作は、ピリジン又はトリエ
チルアミンのような第三アミンの存在下に有利に行われ
る。
【0013】20位のヒドロキシ官能基のエステルの形
での保護は、通常の方法に従って、カルボン酸誘導体、
特にアルカン酸又は芳香族酸のハロゲン化物又は無水物
を使用し、好ましくは窒素塩基の存在下に操作して行う
ことができる。例えば、酢酸、プロピオン酸、吉草酸又
は安息香酸の無水物をピリジンの存在下に使用すること
ができる。
での保護は、通常の方法に従って、カルボン酸誘導体、
特にアルカン酸又は芳香族酸のハロゲン化物又は無水物
を使用し、好ましくは窒素塩基の存在下に操作して行う
ことができる。例えば、酢酸、プロピオン酸、吉草酸又
は安息香酸の無水物をピリジンの存在下に使用すること
ができる。
【0014】脱ハロゲン化水素は、塩基、例えばトリエ
チルアミン又はピリジンのような第三アミンの作用によ
り或いは非求核性塩基、例えば炭酸リチウム、臭化リチ
ウム、苛性ソーダ又は苛性カリの作用により行われる。
反応は、非親水性有機溶媒、例えば、ジクロルメタン、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド又は好ま
しくはトルエン中で行われる。操作は、反応媒体の還流
下に有利に行われる。
チルアミン又はピリジンのような第三アミンの作用によ
り或いは非求核性塩基、例えば炭酸リチウム、臭化リチ
ウム、苛性ソーダ又は苛性カリの作用により行われる。
反応は、非親水性有機溶媒、例えば、ジクロルメタン、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド又は好ま
しくはトルエン中で行われる。操作は、反応媒体の還流
下に有利に行われる。
【0015】アルカリ加水分解は、強塩基、特に、水酸
化バリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は好ま
しくは水酸化ナトリウムを使用して行われる。操作は、
生成する塩基性塩を安定化させる水又は水−アルコール
混合物の存在下に、適当ならば、二重相系で、前段階が
行われた溶媒を使用して行われる。
化バリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は好ま
しくは水酸化ナトリウムを使用して行われる。操作は、
生成する塩基性塩を安定化させる水又は水−アルコール
混合物の存在下に、適当ならば、二重相系で、前段階が
行われた溶媒を使用して行われる。
【0016】オキソエチオコレン酸の単離は、通常の方
法に従って、例えば、硫酸又は塩酸のような無機酸を使
用して、塩基性塩を酸処理することによって行われる。
法に従って、例えば、硫酸又は塩酸のような無機酸を使
用して、塩基性塩を酸処理することによって行われる。
【0017】本発明の特定の主題は、操作を式(IV)の
化合物及びその後の化合物を中間で単離することなく行
うことを特徴とする前記の製造法にある。
化合物及びその後の化合物を中間で単離することなく行
うことを特徴とする前記の製造法にある。
【0018】また、本発明の主題は、新規な工業用化合
物としての、特に本発明の製造法を実施するのに必要な
中間体としての ・次式(F1)
物としての、特に本発明の製造法を実施するのに必要な
中間体としての ・次式(F1)
【化25】 〔ここで、環A1及びB2は環A及びBについて上で示
した意味を有し又は次式の残基
した意味を有し又は次式の残基
【化26】 の残基を表わし、波線は上で示した意味を有する〕の化
合物; ・次式(F2)
合物; ・次式(F2)
【化27】 〔ここで、X及び波線は上で示した意味を有し、Z' は
水素原子又はヒドロキシ基の保護エステル基を表わす〕
の化合物; ・次式(VII)
水素原子又はヒドロキシ基の保護エステル基を表わす〕
の化合物; ・次式(VII)
【化28】 〔ここで、X及び波線は上で示した意味を有する〕の化
合物にある。
合物にある。
【0019】式(II)の化合物は、仏国特許第1,56
3,607号に記載されている。式(I)の酸、即ちオ
キソエチオコレン酸は、特に合成中間体として知られ、
例えばヨーロッパ特許第出願第562,849号に記載
されている物質である。
3,607号に記載されている。式(I)の酸、即ちオ
キソエチオコレン酸は、特に合成中間体として知られ、
例えばヨーロッパ特許第出願第562,849号に記載
されている物質である。
【0020】
【実施例】下記の実施例は本発明を例示するものであっ
て、これを何ら制限するものではない。
て、これを何ら制限するものではない。
【0021】例1:17β−カルボキシ−3−オキソ−
4−アンドロステン:オキソエチオコレン酸
4−アンドロステン:オキソエチオコレン酸
【0022】工程A:17,20−エポキシ−3−メト
キシ−17α−プレグナ−3,5−ジエン−21−ニト
リル 15gの3−メトキシアンドロスタ−3,5−ジエン−
17−オンを120ccのテトラヒドロフラン及び5.
5gのt−ブタノール中で不活性ガス雰囲気下に−45
℃に冷却し、次いで9gのカリウムt−ブチラートを添
加し、次いで4.8gのクロルアセトにリットルを30
ccのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液を約−4
5℃で4時間にわたり添加する。反応混合物を、2gの
塩化アンモニウムを300ccの水に含有し0℃に冷却
してなる溶液に不活性ガス雰囲気下に導入し、次いで全
体を30分間撹拌し続ける。これをろ過し、20%の水
を含むメタノールで洗浄し、残留物を15ccのイソプ
ロパノール/イソプロピルエーテル混合物(1−2)中
に溶解し、次いで分離し、30ccの同じ混合物により
再び洗浄する。分離し、減圧乾燥した後、13.4gの
所期化合物を得た。Mp=180℃。 IRスペクトル(CHCl3 ) 共役C=C:1654−1629cm-1 C=N:2248cm-1 NMRスペクトル(CDCl3 ,ppm) 0.94:18位のCH3 0.98:19位のCH3 3.49:20位のCH 3.58:3位のCH3 5.14(d):4位のCH 5.25(d):6位のCH
キシ−17α−プレグナ−3,5−ジエン−21−ニト
リル 15gの3−メトキシアンドロスタ−3,5−ジエン−
17−オンを120ccのテトラヒドロフラン及び5.
5gのt−ブタノール中で不活性ガス雰囲気下に−45
℃に冷却し、次いで9gのカリウムt−ブチラートを添
加し、次いで4.8gのクロルアセトにリットルを30
ccのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液を約−4
5℃で4時間にわたり添加する。反応混合物を、2gの
塩化アンモニウムを300ccの水に含有し0℃に冷却
してなる溶液に不活性ガス雰囲気下に導入し、次いで全
体を30分間撹拌し続ける。これをろ過し、20%の水
を含むメタノールで洗浄し、残留物を15ccのイソプ
ロパノール/イソプロピルエーテル混合物(1−2)中
に溶解し、次いで分離し、30ccの同じ混合物により
再び洗浄する。分離し、減圧乾燥した後、13.4gの
所期化合物を得た。Mp=180℃。 IRスペクトル(CHCl3 ) 共役C=C:1654−1629cm-1 C=N:2248cm-1 NMRスペクトル(CDCl3 ,ppm) 0.94:18位のCH3 0.98:19位のCH3 3.49:20位のCH 3.58:3位のCH3 5.14(d):4位のCH 5.25(d):6位のCH
【0023】工程B:17β−カルボキシ−3−オキソ
−4−アンドロステン:オキソエチオコレン酸 (1)3位のエノールエーテルの加水分解 工程Aに示すように製造した12.85gの17,20
−エポキシ−3−メトキシ−17α−プレグナ−3,5
−ジエン−21−ニトリルに不活性ガス雰囲気下に64
ccの酢酸、13ccの水及び13ccの希硫酸(2
N)を添加する。反応媒体を周囲温度で1時間30分撹
拌し、64ccのトルエン及び64ccの水を10分間
で添加し、次いでデカンテーションし、トルエン相を水
洗し、次いで2%の重炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、
トルエンを150/100ミリバールの圧力下に約25
ccの容積が得られるまで蒸留させる。 (2)エポキシドの開環 上記の反応媒体に100ccのジクロルメタン及び6c
cのピリジンを周囲温度で添加し、次いで−5℃に冷却
し、ガス状塩酸を約3時間で導入し、全体を−5℃で1
時間撹拌し続け、過剰の塩酸を21.5ccのピリジン
を添加することにより中和する。 (3)クロルヒドリンのアセチル化 上で調製した懸濁液の温度を約+10℃に戻し、次いで
7.8ccの無水酢酸及び6ccのピリジンを30分間
で添加する。反応媒体を周囲温度で16時間撹拌し、次
いで水洗し、デカンテーションし、残留物を400〜1
50ミリバールで結晶化粗生成物が得られるまで蒸留す
る。 (4)アセテート誘導体の17−20脱離 上で得られた生成物に不活性雰囲気下に50ccのトル
エン及び25ccのトリエチルアミンを添加し、全体を
3時間30分加熱還流し、次いで周囲温度に戻す。 (5)エノールアセテートの加水分解 上で調製した反応媒体に不活性雰囲気下に50ccの水
及び25ccの苛性ソーダを添加し、20時間撹拌し、
250ccの水を添加し、次いで水性相をデカンテーシ
ョンする。 (6)ナトリウム塩の酸性化/酸の製造 上で得られた水性相を窒素雰囲気下に+10〜15℃に
冷却し、80ccの希硫酸(4N)を撹拌しながら添加
する。不活性ガスにより掃気することによりガス状塩酸
を追い出し、生成した沈殿を分離し、水洗し、減圧乾燥
し、9.33gの所期化合物を得た。 Mp=255〜256℃。 IRスペクトル(CHCl3 ) C=O:1702cm-1 Δ4 −3−オン:1662−1615cm-1 NMRスペクトル(CDCl3 ,ppm) 0.79:18位のCH3 1.19:19位のCH3 5.74:4位のCH
−4−アンドロステン:オキソエチオコレン酸 (1)3位のエノールエーテルの加水分解 工程Aに示すように製造した12.85gの17,20
−エポキシ−3−メトキシ−17α−プレグナ−3,5
−ジエン−21−ニトリルに不活性ガス雰囲気下に64
ccの酢酸、13ccの水及び13ccの希硫酸(2
N)を添加する。反応媒体を周囲温度で1時間30分撹
拌し、64ccのトルエン及び64ccの水を10分間
で添加し、次いでデカンテーションし、トルエン相を水
洗し、次いで2%の重炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、
トルエンを150/100ミリバールの圧力下に約25
ccの容積が得られるまで蒸留させる。 (2)エポキシドの開環 上記の反応媒体に100ccのジクロルメタン及び6c
cのピリジンを周囲温度で添加し、次いで−5℃に冷却
し、ガス状塩酸を約3時間で導入し、全体を−5℃で1
時間撹拌し続け、過剰の塩酸を21.5ccのピリジン
を添加することにより中和する。 (3)クロルヒドリンのアセチル化 上で調製した懸濁液の温度を約+10℃に戻し、次いで
7.8ccの無水酢酸及び6ccのピリジンを30分間
で添加する。反応媒体を周囲温度で16時間撹拌し、次
いで水洗し、デカンテーションし、残留物を400〜1
50ミリバールで結晶化粗生成物が得られるまで蒸留す
る。 (4)アセテート誘導体の17−20脱離 上で得られた生成物に不活性雰囲気下に50ccのトル
エン及び25ccのトリエチルアミンを添加し、全体を
3時間30分加熱還流し、次いで周囲温度に戻す。 (5)エノールアセテートの加水分解 上で調製した反応媒体に不活性雰囲気下に50ccの水
及び25ccの苛性ソーダを添加し、20時間撹拌し、
250ccの水を添加し、次いで水性相をデカンテーシ
ョンする。 (6)ナトリウム塩の酸性化/酸の製造 上で得られた水性相を窒素雰囲気下に+10〜15℃に
冷却し、80ccの希硫酸(4N)を撹拌しながら添加
する。不活性ガスにより掃気することによりガス状塩酸
を追い出し、生成した沈殿を分離し、水洗し、減圧乾燥
し、9.33gの所期化合物を得た。 Mp=255〜256℃。 IRスペクトル(CHCl3 ) C=O:1702cm-1 Δ4 −3−オン:1662−1615cm-1 NMRスペクトル(CDCl3 ,ppm) 0.79:18位のCH3 1.19:19位のCH3 5.74:4位のCH
【0024】例2:17β−カルボキシ−3−オキソ−
4−アンドロステン:オキソエチオコレン酸
4−アンドロステン:オキソエチオコレン酸
【0025】工程A:17,20−エポキシ−3−オキ
ソ−17α−プレグナ−4−エン−21−ニトリル 例1の工程Aで得た1.017gの化合物を不活性ガス
雰囲気下に20℃で10ccの酢酸及び5ccの水と3
時間混合し、4ccのテトラヒドロフランを添加し、全
体を2時間撹拌する。溶媒を減圧下に蒸発させ、残留物
をシリカでクロマトグラフィーし(溶離剤:トルエン−
酢酸エチル8−2)、691mgの所期化合物を得た。 IRスペクトル(CHCl3 ) C=N:2240cm-1 C=O:1622cm-1 C=C:1617cm-1 NMRスペクトル(CDCl3 ,ppm) 0.95:18位のCH3 1.20:19位のCH3 3.32−3.48:20位のCH 5.75:4位のCH
ソ−17α−プレグナ−4−エン−21−ニトリル 例1の工程Aで得た1.017gの化合物を不活性ガス
雰囲気下に20℃で10ccの酢酸及び5ccの水と3
時間混合し、4ccのテトラヒドロフランを添加し、全
体を2時間撹拌する。溶媒を減圧下に蒸発させ、残留物
をシリカでクロマトグラフィーし(溶離剤:トルエン−
酢酸エチル8−2)、691mgの所期化合物を得た。 IRスペクトル(CHCl3 ) C=N:2240cm-1 C=O:1622cm-1 C=C:1617cm-1 NMRスペクトル(CDCl3 ,ppm) 0.95:18位のCH3 1.20:19位のCH3 3.32−3.48:20位のCH 5.75:4位のCH
【0026】工程B1:17α−クロル−20−ヒドロ
キシ−3−オキソプレグナ−4−エン−21−ニトリル 工程Aに示したように得た1gの化合物を、ガス状塩酸
をジメトキシエタンに溶解してなる4.7N溶液の2c
cに添加し、+5℃〜10℃に冷却し、3時間撹拌し、
さらに1ccの試薬を添加し、次いで温度を10℃に維
持しながら1時間撹拌する。反応媒体はそのまま次の工
程に使用する。
キシ−3−オキソプレグナ−4−エン−21−ニトリル 工程Aに示したように得た1gの化合物を、ガス状塩酸
をジメトキシエタンに溶解してなる4.7N溶液の2c
cに添加し、+5℃〜10℃に冷却し、3時間撹拌し、
さらに1ccの試薬を添加し、次いで温度を10℃に維
持しながら1時間撹拌する。反応媒体はそのまま次の工
程に使用する。
【0027】工程B2:17α−クロル−20−アセト
キシ−3−オキソプレグナ−4−エン−21−ニトリル 工程Aで製造した0.25gのエポキシドを10ccの
ジクロルメタン及び0.1ccのピリジンに溶解してな
る溶液を不活性雰囲気下に撹拌する。ガス状塩酸の流れ
を約20℃で1時間ゆっくりと導入し、次いで不活性ガ
スにより掃気することにより過剰の塩酸を除去する。反
応媒体の半分を次の工程にそのまま使用する。他の部分
を水洗する。これを乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させ、
残留物を2ccのエタノール−水混合物(1−1)中に
溶解させ、次いですり砕き、分離し、水洗し、減圧乾燥
し、0.1gの所期化合物を得た。Mp=230〜24
0℃(分解)。 NMRスペクトル(CDCl3 ,ppm) 0.97−0.98:18位のCH3 1.21:19位のCH3 3.05−3.22:20位のOH 4.56−4.77:20位のCH 5.75:4位のCH
キシ−3−オキソプレグナ−4−エン−21−ニトリル 工程Aで製造した0.25gのエポキシドを10ccの
ジクロルメタン及び0.1ccのピリジンに溶解してな
る溶液を不活性雰囲気下に撹拌する。ガス状塩酸の流れ
を約20℃で1時間ゆっくりと導入し、次いで不活性ガ
スにより掃気することにより過剰の塩酸を除去する。反
応媒体の半分を次の工程にそのまま使用する。他の部分
を水洗する。これを乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させ、
残留物を2ccのエタノール−水混合物(1−1)中に
溶解させ、次いですり砕き、分離し、水洗し、減圧乾燥
し、0.1gの所期化合物を得た。Mp=230〜24
0℃(分解)。 NMRスペクトル(CDCl3 ,ppm) 0.97−0.98:18位のCH3 1.21:19位のCH3 3.05−3.22:20位のOH 4.56−4.77:20位のCH 5.75:4位のCH
【0028】工程C:20−アセトキシ−17α−クロ
ル−3−オキソプレグナ−4−エン−21−ニトリル 工程B1で得た反応媒体に3ccのジメトキシエタンを
添加し、10℃に冷却し、次いで1.7ccのピリジン
及び1ccの無水酢酸を数分間で添加する。反応媒体を
1時間で周囲温度に戻し、0.8ccのピリジン及び5
ccの水を添加し、次いで全体を+4℃に16時間放置
し、生成した沈殿を分離し、ジメトキシエタンエタンで
洗浄し、減圧乾燥し、0.364gの所期化合物を得
た。Mp=238℃。 IRスペクトル(CHCl3 ) OAc:1757cm-1 Δ4 −3−オン:1665−1616cm-1 NMRスペクトル(CDCl3 ,ppm) 1.04:18位のCH3 1.21:19位のCH3 2.22:O−Ac 5.74:4位及び20位のCH
ル−3−オキソプレグナ−4−エン−21−ニトリル 工程B1で得た反応媒体に3ccのジメトキシエタンを
添加し、10℃に冷却し、次いで1.7ccのピリジン
及び1ccの無水酢酸を数分間で添加する。反応媒体を
1時間で周囲温度に戻し、0.8ccのピリジン及び5
ccの水を添加し、次いで全体を+4℃に16時間放置
し、生成した沈殿を分離し、ジメトキシエタンエタンで
洗浄し、減圧乾燥し、0.364gの所期化合物を得
た。Mp=238℃。 IRスペクトル(CHCl3 ) OAc:1757cm-1 Δ4 −3−オン:1665−1616cm-1 NMRスペクトル(CDCl3 ,ppm) 1.04:18位のCH3 1.21:19位のCH3 2.22:O−Ac 5.74:4位及び20位のCH
【0029】工程D:(E+Z)20−アセトキシ−3
−オキソプレグナ−4,17(20)−ジエン−21−
ニトリル 工程Cで得た100mgの化合物に不活性雰囲気下に
0.5ccのトルエン及び0.2ccのトリエチルアミ
ンを添加する。混合物を5時間加熱還流させ、10℃に
冷却し、沈殿を分離し、トルエン、次いで水で洗浄し、
減圧乾燥し、91mgの初期化合物を集めた。Mp=1
85〜190℃。 IRスペクトル(CHCl3 ) C≡N(共役):2223cm-1 OAc:1773cm-1 Δ4 −3−オン:1662−1616cm-1 NMRスペクトル(CDCl3 ,ppm) 0.97:18位のCH3 1.19:19位のCH3 2.20:O−Ac 5.74:4位のCH3
−オキソプレグナ−4,17(20)−ジエン−21−
ニトリル 工程Cで得た100mgの化合物に不活性雰囲気下に
0.5ccのトルエン及び0.2ccのトリエチルアミ
ンを添加する。混合物を5時間加熱還流させ、10℃に
冷却し、沈殿を分離し、トルエン、次いで水で洗浄し、
減圧乾燥し、91mgの初期化合物を集めた。Mp=1
85〜190℃。 IRスペクトル(CHCl3 ) C≡N(共役):2223cm-1 OAc:1773cm-1 Δ4 −3−オン:1662−1616cm-1 NMRスペクトル(CDCl3 ,ppm) 0.97:18位のCH3 1.19:19位のCH3 2.20:O−Ac 5.74:4位のCH3
【0030】工程E:17β−カルボキシ−3−オキソ
−4−アンドロステン:オキソエチオコレン酸 上記の工程Dで得た化合物から出発して、例1の工程B
の(5)及び(6)におけるようにして、所期のオキソ
エチオコレン酸を得た。
−4−アンドロステン:オキソエチオコレン酸 上記の工程Dで得た化合物から出発して、例1の工程B
の(5)及び(6)におけるようにして、所期のオキソ
エチオコレン酸を得た。
Claims (13)
- 【請求項1】 次式(I) 【化1】 のオキソエチオコレン酸を製造するにあたり、次式(I
I) 【化2】 〔ここで、環A及びBは下記の残基 【化3】 {ここで、Kは次式 【化4】 (ここで、nは2又は3に等しい)のオキソ基の保護基
を表わし、nは2又は3に等しく、R1 はエーテル又は
エステル残基を表わす}を表わす〕の化合物に塩基の存
在下にハロニトリルを作用させて次式(III) 【化5】 〔ここで、環A及びBは上で示した意味を有し、波線は
異性体の混合物を表わす〕の化合物を得、この化合物の
3位のケトン官能基を遊離化させて次式(IV) 【化6】 〔ここで、波線は前記の意味を有する〕の化合物を得、
この化合物を無水状態で式HX(ここで、Xはハロゲン
原子を表わす)の水素酸により処理して次式(V) 【化7】 〔ここで、X及び波線は上で示した意味を有する〕の化
合物を得、この化合物のヒドロキシ官能基をエステルの
形で保護して次式(VI) 【化8】 〔ここで、Zはヒドロキシ基の保護エステル基の残基を
表わし、X及び波線は上で示した意味を有する〕の化合
物を得、この化合物に脱ハロゲン化水素剤を作用させて
次式(VII) 【化9】 〔ここで、Z及び波線は上で示した意味を有する〕の化
合物を得、この化合物をアルカリ加水分解し、次いで酸
処理して式(I)の所期化合物を得ることを特徴とす
る、オキソエチオコレン酸の製造法。 - 【請求項2】 式(II)の化合物において、環A及びB
が次式 【化10】 (ここで、R1 は請求項1に記載の通りである)の残基
を表わすことを特徴とする、請求項1記載の製造法。 - 【請求項3】 R1 が1〜6個の炭素原子を含有するア
ルキル基を表わすことを特徴とする、請求項2記載の製
造法。 - 【請求項4】 アルカリ金属アルコラートの存在下にク
ロルアセトニトリルを式(II)の化合物に反応させるこ
とを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の製造
法。 - 【請求項5】 エポキシド官能基を開環させるのに使用
される水素酸が塩酸であり、そして操作を非極性有機溶
媒中で無水状態で行うことを特徴とする、請求項1〜4
のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項6】 操作を第三アミンの存在下に行うことを
特徴とする請求項5記載の製造法。 - 【請求項7】 20位のヒドロキシ官能基の保護をアル
カン酸又は芳香族酸のエステルの形で行うことを特徴と
する請求項1〜6のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項8】 脱ハロゲン化水素を第三アミンの作用に
より行うことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記
載の製造法。 - 【請求項9】 アルカリ加水分解を水又は水−アルコー
ル混合物の存在下に強塩基を使用して行うことを特徴と
する請求項1〜8のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項10】 操作を式(IV)の化合物及びその後の
化合物を中間で単離することなく行うことを特徴とする
請求項1〜9のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項11】 新規な工業用化合物としての次式(F
1) 【化11】 〔ここで、環A1及びB2は環A及びBについて請求項
1に示した意味を有し又は次式の残基 【化12】 を表わし、波線は請求項1に示した意味を有する〕の化
合物。 - 【請求項12】 新規な工業用化合物としての次式(F
2) 【化13】 〔ここで、X及び波線は請求項1に示した意味を有し、
Z' は水素原子又はヒドロキシ基の保護エステル基を表
わす〕の化合物。 - 【請求項13】 新規な工業用化合物としての次式(VI
I) 【化14】 〔ここで、X及び波線は請求項1に示した意味を有す
る〕の化合物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR94-10661 | 1994-09-06 | ||
| FR9410661A FR2724174B1 (fr) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | Procede de preparation d'un derive steroide 17beta-carboxy et nouveaux intermediaires |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0881492A true JPH0881492A (ja) | 1996-03-26 |
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ID=9466727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7246994A Abandoned JPH0881492A (ja) | 1994-09-06 | 1995-09-01 | 17β−カルボキシステロイド誘導体の製造法及び新規な中間体 |
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| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP0702025B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0881492A (ja) |
| KR (1) | KR100394203B1 (ja) |
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| CA (1) | CA2157550A1 (ja) |
| DE (1) | DE69524696T2 (ja) |
| DK (1) | DK0702025T3 (ja) |
| ES (1) | ES2169747T3 (ja) |
| FR (1) | FR2724174B1 (ja) |
| HU (2) | HU223949B1 (ja) |
| PT (1) | PT702025E (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019052322A (ja) * | 2017-09-12 | 2019-04-04 | ダイキン工業株式会社 | ポリジフルオロアセチレンの製造方法及び前駆体ポリマー |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6410760B1 (en) | 1999-10-13 | 2002-06-25 | Pharmacia & Upjohn Company | Process to prepare androst-4-en-17-carboxylic acid |
Family Cites Families (10)
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|---|---|---|---|---|
| DE42606C (de) * | O. MILSTER in Remscheid, Cronenstr | Ausrückvorrichtung des Schneckengetriebes von Lastwinden | ||
| GB929983A (en) | 1960-11-07 | 1963-06-26 | British Drug Houses Ltd | 6-formyl steroids |
| US3118882A (en) * | 1961-02-16 | 1964-01-21 | American Home Prod | Preparation of 17alpha-fluoroprogesterone and intermediates therein |
| US4179453A (en) * | 1978-04-13 | 1979-12-18 | Merck & Co., Inc. | Process for preparing 17β-carboxy-5-androsten-3-ones |
| DE3024008C2 (de) * | 1980-06-24 | 1982-04-15 | Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen | Verfahren zur Herstellung von 17α-Hydroxy-etiocarbonsäuren |
| FR2486947A1 (fr) * | 1980-07-15 | 1982-01-22 | Roussel Uclaf | Nouveaux derives steroides 20-isonitriles 17(20) insatures, leur procede de preparation et leur application a la preparation des steroides 17a-hydroxy 20-ceto |
| US4389345A (en) * | 1981-10-09 | 1983-06-21 | G.D. Searle & Co. | 3-Oxoestra-17-acetonitrile and unsaturated analogs |
| US4910226A (en) * | 1987-04-29 | 1990-03-20 | Smithkline Beckman Corporation | Steroid 5-alpha-reductase inhibitors |
| IL105050A0 (en) | 1992-03-27 | 1993-07-08 | Lilly Co Eli | Steroid derivatives |
| FR2700339B1 (fr) * | 1993-01-14 | 1995-03-03 | Roussel Uclaf | Nouveaux dérivés 17,20-époxydes du pregnane, leur préparation, leur application à la préparation de dérivés cortisoniques et intermédiaires. |
-
1994
- 1994-09-06 FR FR9410661A patent/FR2724174B1/fr not_active Expired - Fee Related
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1995
- 1995-08-28 US US08/519,772 patent/US5650526A/en not_active Expired - Fee Related
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