JPH0887094A - ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法Info
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Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 自動現像機による迅速処理においても、軟調
化したり、黒ポツが劣化したりするという問題が起こり
にくい感光材料の処理方法を提供する。 【構成】 支持体上に少なくとも1層の塩化銀60モル%
以上のハロゲン化銀粒子を含有するハロゲン化銀乳剤層
を有し、該ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層に
テトラゾリウム化合物又はヒドラジン誘導体と造核促進
剤を含有するハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法
において、使用済みの現像液をイオン交換樹脂を通し及
び/又は透析を行うことによって再生させ、再使用する
ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法。尚、上記現
像処理方法において、ハロゲン化銀写真感光材料1m2当
たり200ml以下の未使用現像液を補充することならび
に、自動現像機での全処理時間(Dry to Dry)が10秒以
上60秒以下である。
化したり、黒ポツが劣化したりするという問題が起こり
にくい感光材料の処理方法を提供する。 【構成】 支持体上に少なくとも1層の塩化銀60モル%
以上のハロゲン化銀粒子を含有するハロゲン化銀乳剤層
を有し、該ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層に
テトラゾリウム化合物又はヒドラジン誘導体と造核促進
剤を含有するハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法
において、使用済みの現像液をイオン交換樹脂を通し及
び/又は透析を行うことによって再生させ、再使用する
ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法。尚、上記現
像処理方法において、ハロゲン化銀写真感光材料1m2当
たり200ml以下の未使用現像液を補充することならび
に、自動現像機での全処理時間(Dry to Dry)が10秒以
上60秒以下である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、迅速処理しても軟調
化、黒ポツの発生が起こりにくく、しかも低補充量にし
てもランニングによる性能劣化の少ないハロゲン化銀写
真感光材料の現像処理方法に関する。
化、黒ポツの発生が起こりにくく、しかも低補充量にし
てもランニングによる性能劣化の少ないハロゲン化銀写
真感光材料の現像処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】黒白ハロゲン化銀写真感光材料(以下単
に感光材料という)、特に印刷製版感光材料は、一般に
露光後、現像、定着、水洗及び乾燥の4プロセスをもつ
自動現像機で現像処理される。印刷製版感光材料におい
ては、写真特性上、超硬調の画像再現をなし得る写真技
術が用いられ、種々な技術が知られている。その中でも
例えば米国特許第4,269,929号に見られるようなヒドラ
ジン誘導体を含有する感光材料や特開平4-98239号に見
られるような造核促進剤を含有する感光材料を現像処理
する方法が知られている。また同様に特開昭59-79244号
等に見られるようなテトラゾリウム化合物を現像する方
法も知られている。
に感光材料という)、特に印刷製版感光材料は、一般に
露光後、現像、定着、水洗及び乾燥の4プロセスをもつ
自動現像機で現像処理される。印刷製版感光材料におい
ては、写真特性上、超硬調の画像再現をなし得る写真技
術が用いられ、種々な技術が知られている。その中でも
例えば米国特許第4,269,929号に見られるようなヒドラ
ジン誘導体を含有する感光材料や特開平4-98239号に見
られるような造核促進剤を含有する感光材料を現像処理
する方法が知られている。また同様に特開昭59-79244号
等に見られるようなテトラゾリウム化合物を現像する方
法も知られている。
【0003】一方、現像処理において、空気酸化等で失
われたり、現像処理中に消費された現像成分を元に戻
し、常に安定した画像品質を得るために処理量に合わせ
て現像液を補充することが必要である。さらに、自動現
像機を用いて処理する場合、従来、フィルム先端が自動
現像機に挿入されてから乾燥ゾーンから出てくるまでの
全処理時間(Dry to Dry)が90秒以上かかるのが通常で
あったが、近年、印刷点数の増加や労働時間の短縮によ
り、処理時間の短縮が要望され、全処理時間が60秒以下
の迅速処理を行う必要がでてきた。
われたり、現像処理中に消費された現像成分を元に戻
し、常に安定した画像品質を得るために処理量に合わせ
て現像液を補充することが必要である。さらに、自動現
像機を用いて処理する場合、従来、フィルム先端が自動
現像機に挿入されてから乾燥ゾーンから出てくるまでの
全処理時間(Dry to Dry)が90秒以上かかるのが通常で
あったが、近年、印刷点数の増加や労働時間の短縮によ
り、処理時間の短縮が要望され、全処理時間が60秒以下
の迅速処理を行う必要がでてきた。
【0004】しかしながら上記のような感光材料をこの
ような迅速処理条件で自動現像機で連続処理する場合に
は、硬調性が不足したり、未露光部に発生する微小な砂
状カブリ、所謂黒ポツ等の故障が発生し易いという問題
がある。
ような迅速処理条件で自動現像機で連続処理する場合に
は、硬調性が不足したり、未露光部に発生する微小な砂
状カブリ、所謂黒ポツ等の故障が発生し易いという問題
がある。
【0005】また近年、環境に対する関心の高まりと共
に現像液の廃液量の低減が急務となっている。廃液量の
低減手段の一つとして現像液補充量の低減が挙げられる
が、低補充のランニング状態での感度変動、画質のキレ
の劣化が大きく、これらの問題の解決が望まれている。
に現像液の廃液量の低減が急務となっている。廃液量の
低減手段の一つとして現像液補充量の低減が挙げられる
が、低補充のランニング状態での感度変動、画質のキレ
の劣化が大きく、これらの問題の解決が望まれている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記のような問題に対
して、本発明の課題は、自動現像機による迅速処理にお
いても、軟調化したり、黒ポツが劣化したりするという
問題が起こりにくい感光材料の処理方法を提供すると共
に、現像液の廃液量を低減するために低補充量にしても
ランニングによる性能劣化の少ない感光材料の現像処理
方法を提供することにある。
して、本発明の課題は、自動現像機による迅速処理にお
いても、軟調化したり、黒ポツが劣化したりするという
問題が起こりにくい感光材料の処理方法を提供すると共
に、現像液の廃液量を低減するために低補充量にしても
ランニングによる性能劣化の少ない感光材料の現像処理
方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、支
持体上に少なくとも1層の塩化銀60モル%以上のハロゲ
ン化銀粒子を含有するハロゲン化銀乳剤層を有し、該ハ
ロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層にテトラゾリウ
ム化合物、又はヒドラジン誘導体と造核促進剤を含有す
るハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法において、
使用済みの現像液をイオン交換樹脂を通し及び/又は透
析を行うことによって再生させ、再使用することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法により
達成される。
持体上に少なくとも1層の塩化銀60モル%以上のハロゲ
ン化銀粒子を含有するハロゲン化銀乳剤層を有し、該ハ
ロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層にテトラゾリウ
ム化合物、又はヒドラジン誘導体と造核促進剤を含有す
るハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法において、
使用済みの現像液をイオン交換樹脂を通し及び/又は透
析を行うことによって再生させ、再使用することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法により
達成される。
【0008】尚、上記現像処理方法において、再生現像
液の再利用とは別に、ハロゲン化銀写真感光材料1m2当
たり200ml以下の未使用現像液を補充することならび
に、現像液、定着液及び水洗水を入れた自動現像機でフ
ィルム先端が自動現像機に挿入されてから乾燥ゾーンか
ら出てくるまでの全処理時間(Dry to Dry)が10秒以上
60秒以下であることが本発明の好ましい態様である。
液の再利用とは別に、ハロゲン化銀写真感光材料1m2当
たり200ml以下の未使用現像液を補充することならび
に、現像液、定着液及び水洗水を入れた自動現像機でフ
ィルム先端が自動現像機に挿入されてから乾燥ゾーンか
ら出てくるまでの全処理時間(Dry to Dry)が10秒以上
60秒以下であることが本発明の好ましい態様である。
【0009】以下、本発明について具体的に説明する。
【0010】まず、本発明に用いられるヒドラジン誘導
体としては下記一般式〔H〕で表される化合物が好まし
い。
体としては下記一般式〔H〕で表される化合物が好まし
い。
【0011】
【化1】
【0012】一般式〔H〕について以下詳しく説明す
る。
る。
【0013】式中、Aで表される脂肪族基は好ましくは
炭素数1〜30のものであり、特に炭素数1〜20の直鎖、
分岐又は環状のアルキル基である。例えばメチル基、エ
チル基、t-ブチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、
ベンジル基等が挙げられ、これらはさらに適当な置換基
(例えばアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホキシ基、
スルホンアミド基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で
置換されてもよい。
炭素数1〜30のものであり、特に炭素数1〜20の直鎖、
分岐又は環状のアルキル基である。例えばメチル基、エ
チル基、t-ブチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、
ベンジル基等が挙げられ、これらはさらに適当な置換基
(例えばアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホキシ基、
スルホンアミド基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で
置換されてもよい。
【0014】一般式〔H〕においてAで表される芳香族
基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例えば
ベンゼン環又はナフタレン環などが挙げられる。
基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例えば
ベンゼン環又はナフタレン環などが挙げられる。
【0015】一般式〔H〕においてAで表されるヘテロ
環基としては、単環又は縮合環の少なくとも窒素、硫
黄、酸素から選ばれる一つのヘテロ原子を含むヘテロ環
が好ましく、例えばピロリジン環、イミダゾール環、テ
トラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリジン環、ピリ
ミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベンゾチアゾー
ル環、チオフェン環、フラン環などが挙げられる。
環基としては、単環又は縮合環の少なくとも窒素、硫
黄、酸素から選ばれる一つのヘテロ原子を含むヘテロ環
が好ましく、例えばピロリジン環、イミダゾール環、テ
トラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリジン環、ピリ
ミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベンゾチアゾー
ル環、チオフェン環、フラン環などが挙げられる。
【0016】Aとして特に好ましいものは、アリール基
及びヘテロ環基である。
及びヘテロ環基である。
【0017】Aのアリール基及びヘテロ環基は、置換基
を持っていてもよい。代表的な置換基としてはアルキル
基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、アラルキル基
(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜3の単環又は
縮合環のもの)、アルコキシ基(好ましくはアルキル部
分の炭素数が1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましく
は炭素数1〜20のアルキル基又はアルキリデン基で置換
されたアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数
1〜40のもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数
1〜40のもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜40
のもの)、ヒドラジノカルボニルアミノ基(好ましくは
炭素数1〜40のもの)、ヒドロキシル基、ホスホアミド
基(好ましくは炭素数1〜40のもの)などがある。
を持っていてもよい。代表的な置換基としてはアルキル
基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、アラルキル基
(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜3の単環又は
縮合環のもの)、アルコキシ基(好ましくはアルキル部
分の炭素数が1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましく
は炭素数1〜20のアルキル基又はアルキリデン基で置換
されたアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数
1〜40のもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数
1〜40のもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜40
のもの)、ヒドラジノカルボニルアミノ基(好ましくは
炭素数1〜40のもの)、ヒドロキシル基、ホスホアミド
基(好ましくは炭素数1〜40のもの)などがある。
【0018】又、Aは耐拡散基又はハロゲン化銀吸着促
進基を少なくとも一つ含むことが好ましい。耐拡散基と
してはカプラーなどの不動性写真用添加剤にて常用され
るバラスト基が好ましく、バラスト基としては炭素数8
以上の写真性に対して比較的不活性である例えばアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フ
ェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などが
挙げられる。
進基を少なくとも一つ含むことが好ましい。耐拡散基と
してはカプラーなどの不動性写真用添加剤にて常用され
るバラスト基が好ましく、バラスト基としては炭素数8
以上の写真性に対して比較的不活性である例えばアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フ
ェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などが
挙げられる。
【0019】ハロゲン化銀吸着促進基としては、チオ尿
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基、或いは特開昭64-90439号に記載の吸着基など
が挙げられる。
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基、或いは特開昭64-90439号に記載の吸着基など
が挙げられる。
【0020】Bは具体的にはアシル基(例えばホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、トリフルオロアセチル、
メトキシアセチル、フェノキシアセチル、メチルチオア
セチル、クロロアセチル、ベンゾイル、2-ヒドロキシメ
チルベンゾイル、4-クロロベンゾイル等)、アルキルス
ルホニル基(例えばメタンスルホニル、2-クロロエタン
スルホニル等)、アリールスルホニル基(例えばベンゼ
ンスルホニル等)、アルキルスルフィニル基(例えばメ
タンスルフィニル等)、アリールスルフィニル基(ベン
ゼンスルフィニル等)、カルバモイル基(例えばメチル
カルバモイル、フェニルカルバモイル等)、アルコキシ
カルボニル基(例えばメトキシカルボニル、メトキシエ
トキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基
(例えばフェノキシカルボニル等)、スルファモイル基
(例えばジメチルスルファモイル等)、スルフィナモイ
ル基(例えばメチルスルフィナモイル等)、アルコキシ
スルホニル基(例えばメトキシスルホニル等)、チオア
シル基(例えばメチルチオカルボニル等)、チオカルバ
モイル基(例えばメチルチオカルバモイル等)、オキザ
リル基(一般式〔Ha〕に関しては後述)、又はヘテロ
環基(例えばピリジン環、ピリジニウム環等)を表す。
ル、アセチル、プロピオニル、トリフルオロアセチル、
メトキシアセチル、フェノキシアセチル、メチルチオア
セチル、クロロアセチル、ベンゾイル、2-ヒドロキシメ
チルベンゾイル、4-クロロベンゾイル等)、アルキルス
ルホニル基(例えばメタンスルホニル、2-クロロエタン
スルホニル等)、アリールスルホニル基(例えばベンゼ
ンスルホニル等)、アルキルスルフィニル基(例えばメ
タンスルフィニル等)、アリールスルフィニル基(ベン
ゼンスルフィニル等)、カルバモイル基(例えばメチル
カルバモイル、フェニルカルバモイル等)、アルコキシ
カルボニル基(例えばメトキシカルボニル、メトキシエ
トキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基
(例えばフェノキシカルボニル等)、スルファモイル基
(例えばジメチルスルファモイル等)、スルフィナモイ
ル基(例えばメチルスルフィナモイル等)、アルコキシ
スルホニル基(例えばメトキシスルホニル等)、チオア
シル基(例えばメチルチオカルボニル等)、チオカルバ
モイル基(例えばメチルチオカルバモイル等)、オキザ
リル基(一般式〔Ha〕に関しては後述)、又はヘテロ
環基(例えばピリジン環、ピリジニウム環等)を表す。
【0021】一般式〔H〕のBはA2及びそれらが結合
する窒素原子とともに
する窒素原子とともに
【0022】
【化2】
【0023】を形成してもよい。
【0024】R9はアルキル基、アリール基又はヘテロ
環基を表し、R10は水素原子、アルキル基、アリール基
又はヘテロ環基を表す。
環基を表し、R10は水素原子、アルキル基、アリール基
又はヘテロ環基を表す。
【0025】Bとしては、アシル基又はオキザリル基が
特に好ましい。
特に好ましい。
【0026】A1,A2は、ともに水素原子、又は一方が
水素原子で他方はアシル基(アセチル、トリフルオロア
セチル、ベンゾイル等)、スルホニル基(メタンスルホ
ニル、トルエンスルホニル等)、又はオキザリル基(エ
トキザリル等)を表す。
水素原子で他方はアシル基(アセチル、トリフルオロア
セチル、ベンゾイル等)、スルホニル基(メタンスルホ
ニル、トルエンスルホニル等)、又はオキザリル基(エ
トキザリル等)を表す。
【0027】本発明で用いるヒドラジン化合物のうち特
に好ましいものは下記一般式〔Ha〕で表される化合物
である。
に好ましいものは下記一般式〔Ha〕で表される化合物
である。
【0028】
【化3】
【0029】式中、R4はアリール基又はヘテロ環基を
表し、R5は
表し、R5は
【0030】
【化4】
【0031】を表す。
【0032】R6,R7はそれぞれ水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ
環基、アミノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アル
ケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ
基、又はヘテロ環オキシ基を表し、R6とR7でN原子と
ともに環を形成してもよい。R8は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又はヘ
テロ環基を表す。A1及びA2は一般式〔H〕のA1及び
A2とそれぞれ同義の基を表す。
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ
環基、アミノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アル
ケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ
基、又はヘテロ環オキシ基を表し、R6とR7でN原子と
ともに環を形成してもよい。R8は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又はヘ
テロ環基を表す。A1及びA2は一般式〔H〕のA1及び
A2とそれぞれ同義の基を表す。
【0033】一般式〔Ha〕について更に詳しく説明す
る。
る。
【0034】R4で表されるアリール基としては、単環
又は縮合環のものが好ましく、例えばベンゼン環又はナ
フタレン環などが挙げられる。
又は縮合環のものが好ましく、例えばベンゼン環又はナ
フタレン環などが挙げられる。
【0035】R4で表されるヘテロ環基としては、単環
又は縮合環の少なくとも窒素、硫黄、酸素から選ばれる
一つのヘテロ原子を含む5又は6員の不飽和ヘテロ環が
好ましく、例えばピリジン環、キノリン環、ピリミジン
環、チオフェン環、フラン環、チアゾール環又はベンゾ
チアゾール環等が挙げられる。
又は縮合環の少なくとも窒素、硫黄、酸素から選ばれる
一つのヘテロ原子を含む5又は6員の不飽和ヘテロ環が
好ましく、例えばピリジン環、キノリン環、ピリミジン
環、チオフェン環、フラン環、チアゾール環又はベンゾ
チアゾール環等が挙げられる。
【0036】R4として好ましいものは、置換又は無置
換のアリール基である。この置換基としては一般式
〔H〕のAの置換基と同義のものが挙げられるが、pH1
1.2以下の現像液で硬調化する場合はスルホアミド基を
少なくとも一つ有することが好ましい。
換のアリール基である。この置換基としては一般式
〔H〕のAの置換基と同義のものが挙げられるが、pH1
1.2以下の現像液で硬調化する場合はスルホアミド基を
少なくとも一つ有することが好ましい。
【0037】A1及びA2は、一般式〔H〕のA1及びA2
と同義の基を表すが、ともに水素原子であることが最も
好ましい。
と同義の基を表すが、ともに水素原子であることが最も
好ましい。
【0038】R5は
【0039】
【化5】
【0040】を表し、ここでR6及びR7は、それぞれ水
素原子、アルキル基(メチル、エチル、ベンジル等)、
アルケニル基(アリル、ブテニル等)、アルキニル基
(プロパルギル、ブチニル等)、アリール基(フェニ
ル、ナフチル等)、ヘテロ環基(2,2,6,6-テトラメチル
ピペリジニル、N-ベンジルピペリジニル、キノリジニ
ル、N,N′-ジエチルピラゾリジニル、N-ベンジルピロリ
ジニル、ピリジル等)、アミノ基(アミノ、メチルアミ
ノ、ジメチルアミノ、ジベンジルアミノ等)、ヒドロキ
シル基、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ等)、アル
ケニルオキシ基(アリルオキシ等)、アルキニルオキシ
基(プロパルギルオキシ等)、アリールオキシ基(フェ
ノキシ等)、又はヘテロ環オキシ基(ピリジルオキシ
等)を表し、R6とR7で窒素原子とともに環(ピペリジ
ン、モルホリン等)を形成してもよい。R8は水素原
子、アルキル基(メチル、エチル、メトキシエチル、ヒ
ドロキシエチル等)、アルケニル基(アリル、ブテニル
等)、アルキニル基(プロパルギル、ブチニル等)、ア
リール基(フェニル、ナフチル等)、ヘテロ環基(2,2,
6,6-テトラメチルピペリジニル、N-メチルピペリジニ
ル、ピリジル等)を表す。
素原子、アルキル基(メチル、エチル、ベンジル等)、
アルケニル基(アリル、ブテニル等)、アルキニル基
(プロパルギル、ブチニル等)、アリール基(フェニ
ル、ナフチル等)、ヘテロ環基(2,2,6,6-テトラメチル
ピペリジニル、N-ベンジルピペリジニル、キノリジニ
ル、N,N′-ジエチルピラゾリジニル、N-ベンジルピロリ
ジニル、ピリジル等)、アミノ基(アミノ、メチルアミ
ノ、ジメチルアミノ、ジベンジルアミノ等)、ヒドロキ
シル基、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ等)、アル
ケニルオキシ基(アリルオキシ等)、アルキニルオキシ
基(プロパルギルオキシ等)、アリールオキシ基(フェ
ノキシ等)、又はヘテロ環オキシ基(ピリジルオキシ
等)を表し、R6とR7で窒素原子とともに環(ピペリジ
ン、モルホリン等)を形成してもよい。R8は水素原
子、アルキル基(メチル、エチル、メトキシエチル、ヒ
ドロキシエチル等)、アルケニル基(アリル、ブテニル
等)、アルキニル基(プロパルギル、ブチニル等)、ア
リール基(フェニル、ナフチル等)、ヘテロ環基(2,2,
6,6-テトラメチルピペリジニル、N-メチルピペリジニ
ル、ピリジル等)を表す。
【0041】一般式〔H〕及び〔Ha〕で示される化合
物の具体例を以下に示す。但し、本発明はこれらに限定
されるものではない。
物の具体例を以下に示す。但し、本発明はこれらに限定
されるものではない。
【0042】
【化6】
【0043】
【化7】
【0044】
【化8】
【0045】
【化9】
【0046】
【化10】
【0047】上記以外の具体的化合物としては特開平4-
98239号 604(4)頁〜607(7)頁に記載されている化合物例
(H−1)〜(H−75)が挙げられる。本発明に用いら
れる一般式〔H〕で表される化合物の合成法は、特開昭
62-180361号、同62-178246号、同63-234245号、同63-23
4246号、同64-90439号、特開平2-37号、同2-841号、同2
-947号、同2-120736号、同2-230233号、同3-125134号、
米国特許4,686,167号、同4,988,604号、同4,994,365
号、ヨーロッパ特許253,665号、同333,435号などに記載
されている方法を参考にすることができる。
98239号 604(4)頁〜607(7)頁に記載されている化合物例
(H−1)〜(H−75)が挙げられる。本発明に用いら
れる一般式〔H〕で表される化合物の合成法は、特開昭
62-180361号、同62-178246号、同63-234245号、同63-23
4246号、同64-90439号、特開平2-37号、同2-841号、同2
-947号、同2-120736号、同2-230233号、同3-125134号、
米国特許4,686,167号、同4,988,604号、同4,994,365
号、ヨーロッパ特許253,665号、同333,435号などに記載
されている方法を参考にすることができる。
【0048】本発明の一般式〔H〕で表される化合物の
使用量は、ハロゲン化銀1モル当たり5×10-7〜5×10
-1モルであることが好ましく、特に5×10-6〜5×10-2
モルの範囲とすることが好ましい。
使用量は、ハロゲン化銀1モル当たり5×10-7〜5×10
-1モルであることが好ましく、特に5×10-6〜5×10-2
モルの範囲とすることが好ましい。
【0049】本発明において、一般式〔H〕で表される
化合物は、ハロゲン化銀乳剤層又は該ハロゲン化銀乳剤
層に隣接する親水性コロイド層に含有させる。またハロ
ゲン化銀乳剤層の反対側の少なくとも1層の親水性コロ
イド層中に含有されるヒドラジン誘導体も上記一般式
〔H〕で表される化合物である。
化合物は、ハロゲン化銀乳剤層又は該ハロゲン化銀乳剤
層に隣接する親水性コロイド層に含有させる。またハロ
ゲン化銀乳剤層の反対側の少なくとも1層の親水性コロ
イド層中に含有されるヒドラジン誘導体も上記一般式
〔H〕で表される化合物である。
【0050】次に造核促進剤としては下記一般式〔N
a〕又は〔Nb〕に示すものが挙げられる。
a〕又は〔Nb〕に示すものが挙げられる。
【0051】
【化11】
【0052】一般式〔Na〕において、R1、R2、R3
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル
基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置
換アリール基、アミノ基、置換アミノ基を表す。R1、
R2、R3で環を形成することができる。特に好ましくは
脂肪族の3級アミン化合物である。これらの化合物は分
子中に耐拡散性基又はハロゲン化銀吸着基を有するもの
が好ましい。耐拡散性を有するためには分子量100以上
の化合物が好ましく、さらに好ましくは分子量300以上
である。又、好ましい吸着基としては複素環、メルカプ
ト基、チオエーテル基、チオン基、チオウレア基などが
挙げられる。
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル
基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置
換アリール基、アミノ基、置換アミノ基を表す。R1、
R2、R3で環を形成することができる。特に好ましくは
脂肪族の3級アミン化合物である。これらの化合物は分
子中に耐拡散性基又はハロゲン化銀吸着基を有するもの
が好ましい。耐拡散性を有するためには分子量100以上
の化合物が好ましく、さらに好ましくは分子量300以上
である。又、好ましい吸着基としては複素環、メルカプ
ト基、チオエーテル基、チオン基、チオウレア基などが
挙げられる。
【0053】具体的化合物としては以下に示すものが挙
げられる。
げられる。
【0054】
【化12】
【0055】
【化13】
【0056】上記以外の具体的化合物としては特開平4-
98239号608(8)頁に記載されているI−1〜I−17、610
(10)頁〜626(26)頁に記載されている化合物例III−1〜
III−25、IV−I−1〜IV−41、V−I−1〜V−I−2
7、V−II−1〜V−II−30、V−III−1〜V−III−3
5、VI−I−1〜VI−I−44、VI−II−1〜VI−II−6
8、VI−III−1、VI−III−37が挙げられる。
98239号608(8)頁に記載されているI−1〜I−17、610
(10)頁〜626(26)頁に記載されている化合物例III−1〜
III−25、IV−I−1〜IV−41、V−I−1〜V−I−2
7、V−II−1〜V−II−30、V−III−1〜V−III−3
5、VI−I−1〜VI−I−44、VI−II−1〜VI−II−6
8、VI−III−1、VI−III−37が挙げられる。
【0057】一般式〔Nb〕において、Arは置換又は無
置換のアリール基、複素芳香環を表す。Rは置換されて
いてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アリール基を表す。これらの化合物は分子内に耐拡散性
基又はハロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。好
ましい耐拡散基をもたせるためには分子量120以上が好
ましく、特に好ましくは300以上である。
置換のアリール基、複素芳香環を表す。Rは置換されて
いてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アリール基を表す。これらの化合物は分子内に耐拡散性
基又はハロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。好
ましい耐拡散基をもたせるためには分子量120以上が好
ましく、特に好ましくは300以上である。
【0058】具体的化合物としては以下に示すものが挙
げられる。
げられる。
【0059】
【化14】
【0060】
【化15】
【0061】本発明の造核促進剤の使用量は、ハロゲン
化銀1モル当たり5×10-7〜5×10-1モルであることが
好ましく、特に5×10-1〜1×10-1モルの範囲とするこ
とが好ましい。
化銀1モル当たり5×10-7〜5×10-1モルであることが
好ましく、特に5×10-1〜1×10-1モルの範囲とするこ
とが好ましい。
【0062】また、造核促進剤は、ハロゲン化銀乳剤層
又は該乳剤層に隣接する親水性コロイド層にも添加され
ることが好ましい。
又は該乳剤層に隣接する親水性コロイド層にも添加され
ることが好ましい。
【0063】本発明に用いられるテトラゾリウム化合物
は下記一般式〔T〕で表される。
は下記一般式〔T〕で表される。
【0064】
【化16】
【0065】本発明において、上記一般式〔T〕で示さ
れるトリフェニルテトラゾリウム化合物のフェニル基の
置換基R1、R2、R3は水素原子もしくは電子吸引性度
を示すハメットのシグマ値(σP)が負のものが好まし
い。
れるトリフェニルテトラゾリウム化合物のフェニル基の
置換基R1、R2、R3は水素原子もしくは電子吸引性度
を示すハメットのシグマ値(σP)が負のものが好まし
い。
【0066】フェニル置換におけるハメットのシグマ値
は多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケ
ミストリー(Journal of Medical Chemistry)第20巻、
304頁、1977年、記載のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報
文等に見ることが出来、とくに好ましい負のシグマ値を
有する基としては、例えばメチル基(σP=−0.17以下
いずれもσP値)エチル基(−0.15)、シクロプロピル基
(−0.21)、n-プロピル基(−0.13)、isoプロピル基
(−0.15)、シクロブチル基(−0.15)、n-ブチル基(−
0.16)、iso-ブチル基(−0.20)、n-ペンチル基(−0.1
5)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−0.66)、
アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロキシル基(−0.3
7)、メトキシ基(−0.27)、エトキシ基(−0.24)、プロ
ポキシ基(−0.25)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ
基(−0.34)等が挙げられ、これらはいずれも本発明の
一般式〔T〕の化合物の置換基として有用である。
は多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケ
ミストリー(Journal of Medical Chemistry)第20巻、
304頁、1977年、記載のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報
文等に見ることが出来、とくに好ましい負のシグマ値を
有する基としては、例えばメチル基(σP=−0.17以下
いずれもσP値)エチル基(−0.15)、シクロプロピル基
(−0.21)、n-プロピル基(−0.13)、isoプロピル基
(−0.15)、シクロブチル基(−0.15)、n-ブチル基(−
0.16)、iso-ブチル基(−0.20)、n-ペンチル基(−0.1
5)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−0.66)、
アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロキシル基(−0.3
7)、メトキシ基(−0.27)、エトキシ基(−0.24)、プロ
ポキシ基(−0.25)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ
基(−0.34)等が挙げられ、これらはいずれも本発明の
一般式〔T〕の化合物の置換基として有用である。
【0067】X-はアニオンを表す。例えば塩化物イオ
ン、臭化物イオン等のハロゲンイオン、無機酸の酸根、
有機酸の酸根等が挙げられる。
ン、臭化物イオン等のハロゲンイオン、無機酸の酸根、
有機酸の酸根等が挙げられる。
【0068】以下、一般式〔T〕で表される化合物の具
体例を下記に挙げるが、テトラゾリウム化合物はこれに
限定されるものではない。
体例を下記に挙げるが、テトラゾリウム化合物はこれに
限定されるものではない。
【0069】
【化17】
【0070】上記テトラゾリウム化合物は、例えばケミ
カル・レビュー(Chemical Reviews)第55巻、第335頁
〜483頁に記載の方法にしたがって容易に合成すること
ができる。本発明のテトラゾリウム化合物は、本発明の
感光材料に含有されるハロゲン化銀1モル当たり約1mg
以上10gまで好ましくは約10mg以上約2gまでの範囲で
用いられるのが好ましい。
カル・レビュー(Chemical Reviews)第55巻、第335頁
〜483頁に記載の方法にしたがって容易に合成すること
ができる。本発明のテトラゾリウム化合物は、本発明の
感光材料に含有されるハロゲン化銀1モル当たり約1mg
以上10gまで好ましくは約10mg以上約2gまでの範囲で
用いられるのが好ましい。
【0071】本発明に使用するテトラゾリウム化合物は
単独で用いることにより好ましい特性を得ることができ
るが、複数をいかなる比率で組み合わせても好ましい特
性を劣化させることはない。
単独で用いることにより好ましい特性を得ることができ
るが、複数をいかなる比率で組み合わせても好ましい特
性を劣化させることはない。
【0072】本発明の好ましい実施態様として、本発明
に用いられるテトラゾリウム化合物は、ハロゲン化銀乳
剤層中に添加することが挙げられる。又、本発明の別の
好ましい実施態様においては、ハロゲン化銀乳剤層に直
接隣接する親水性コロイド層、又は中間層を介して隣接
する親水性コロイド層に添加される。
に用いられるテトラゾリウム化合物は、ハロゲン化銀乳
剤層中に添加することが挙げられる。又、本発明の別の
好ましい実施態様においては、ハロゲン化銀乳剤層に直
接隣接する親水性コロイド層、又は中間層を介して隣接
する親水性コロイド層に添加される。
【0073】又、別の好ましい実施態様としては、本発
明のテトラゾリウム化合物を適当な有機溶媒、例えばメ
タノール、エタノール等のアルコール類やエーテル類、
エステル類等に溶解してオーバーコート法等により感光
材料のハロゲン化銀乳剤層側の最外層になる部分に直接
塗布して感光材料に含有せしめてもよい。
明のテトラゾリウム化合物を適当な有機溶媒、例えばメ
タノール、エタノール等のアルコール類やエーテル類、
エステル類等に溶解してオーバーコート法等により感光
材料のハロゲン化銀乳剤層側の最外層になる部分に直接
塗布して感光材料に含有せしめてもよい。
【0074】本発明に使用されるハロゲン化銀乳剤(以
下ハロゲン化銀乳剤又は単に乳剤などと称する。)に
は、ハロゲン化銀として例えば臭化銀、沃臭化銀、沃塩
化銀、塩臭化銀、及び塩化銀等の通常のハロゲン化銀乳
剤に使用される任意のものを用いることができるが、好
ましくは、60モル%以上の塩化銀を含む塩臭化銀、塩化
銀又は塩沃臭化銀である。
下ハロゲン化銀乳剤又は単に乳剤などと称する。)に
は、ハロゲン化銀として例えば臭化銀、沃臭化銀、沃塩
化銀、塩臭化銀、及び塩化銀等の通常のハロゲン化銀乳
剤に使用される任意のものを用いることができるが、好
ましくは、60モル%以上の塩化銀を含む塩臭化銀、塩化
銀又は塩沃臭化銀である。
【0075】また(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×
100で表される変動係数15%以下である単分散粒子が好
ましい。
100で表される変動係数15%以下である単分散粒子が好
ましい。
【0076】本発明の感光材料は、乳剤層側のゼラチン
量の総和が3.5g/m2以下が好ましい。乳剤層側とは、
支持体に対してハロゲン化銀乳剤を有する層の側を言
い、ハロゲン化銀乳剤層及びその他の層を含む。その他
の層としては、例えば乳剤保護層、アンチハレーション
層、UV吸収層、中間層、導電層等が挙げられる。ハロ
ゲン化銀乳剤層及びその他の層に含まれるゼラチン量の
合計が3.5g/m2以下が好ましいが、特に好ましくは0.5
〜3.0g/m2である。
量の総和が3.5g/m2以下が好ましい。乳剤層側とは、
支持体に対してハロゲン化銀乳剤を有する層の側を言
い、ハロゲン化銀乳剤層及びその他の層を含む。その他
の層としては、例えば乳剤保護層、アンチハレーション
層、UV吸収層、中間層、導電層等が挙げられる。ハロ
ゲン化銀乳剤層及びその他の層に含まれるゼラチン量の
合計が3.5g/m2以下が好ましいが、特に好ましくは0.5
〜3.0g/m2である。
【0077】本発明のハロゲン化銀乳剤には当業界公知
の各種技術、添加剤等を用いることができる。例えば、
本発明で用いるハロゲン化銀写真乳剤及びバッキング層
には、各種の化学増感剤、色調剤、硬膜剤、界面活性
剤、増粘剤、可塑剤、スベリ剤、現像抑制剤、紫外線吸
収剤、イラジェーション防止剤染料、重金属、マット剤
等を各種の方法で更に含有させることができる。又、本
発明ハロゲン化銀写真乳剤及びバッキング層中にはポリ
マーラテックスを含有させることができる。
の各種技術、添加剤等を用いることができる。例えば、
本発明で用いるハロゲン化銀写真乳剤及びバッキング層
には、各種の化学増感剤、色調剤、硬膜剤、界面活性
剤、増粘剤、可塑剤、スベリ剤、現像抑制剤、紫外線吸
収剤、イラジェーション防止剤染料、重金属、マット剤
等を各種の方法で更に含有させることができる。又、本
発明ハロゲン化銀写真乳剤及びバッキング層中にはポリ
マーラテックスを含有させることができる。
【0078】これらの添加剤は、より詳しくは、リサー
チディスクロージャItem17643(1978年12月)およびIte
m18716(1979年11月)に記載されており、その該当個所
を下記にまとめて示した。
チディスクロージャItem17643(1978年12月)およびIte
m18716(1979年11月)に記載されており、その該当個所
を下記にまとめて示した。
【0079】 添加剤種類 RD17643 RD18716 1.化学増感剤 23頁 648頁右欄 2.感度上昇剤 同上 3.分光増感剤 23〜24頁 648頁右欄〜 強色増感剤 649頁右欄 4.増白剤 24頁 5.かぶり防止剤および安定剤 24〜25頁 649頁右欄 6.光吸収剤、フイルター染料 25〜26頁 649頁右欄〜 紫外線吸収剤 650頁左欄 7.ステイン防止剤 25頁右欄 650頁左〜右欄 8.色素画像安定剤 25頁 9.硬膜剤 26頁 651頁左欄 10.バインダー 26頁 同上 11.可塑剤、潤滑剤 27頁 650頁右欄 12.塗布助剤、表面活性剤 26〜27頁 同上 13.スタチック防止剤 27頁 同上 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いることができ
る支持体としては、酢酸セルロース、硝酸セルロース、
ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル、ポ
リエチレンのようなポリオレフィン、ポリスチレン、バ
ライタ紙、ポリオレフィンを塗布した紙、ガラス、金属
等を挙げることができる。これらの支持体は必要に応じ
て下地加工が施される。
る支持体としては、酢酸セルロース、硝酸セルロース、
ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル、ポ
リエチレンのようなポリオレフィン、ポリスチレン、バ
ライタ紙、ポリオレフィンを塗布した紙、ガラス、金属
等を挙げることができる。これらの支持体は必要に応じ
て下地加工が施される。
【0080】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は
露光後種々の方法、例えば通常用いられる方法により現
像処理することができる。
露光後種々の方法、例えば通常用いられる方法により現
像処理することができる。
【0081】本発明において用いることのできる現像主
薬としては、ジヒドロキシベンゼン類(たとえばハイド
ロキノン、クロルハイドロキノン、ブロムハイドロキノ
ン、2,3-ジクロロハイドロキノン、メチルハイドロキノ
ン、イソプロピルハイドロキノン、2,5-ジメチルハイド
ロキノンなど)、3-ピラゾリドン類(たとえば1-フェニ
ル-3-ピラゾリドン、1-フェニル-4-メチル-3-ピラゾリ
ドン、1-フェニル-4,4-ジメチル-3-ピラゾリドン、1-フ
ェニル-4-エチル-3-ピラゾリドン、1-フェニル-5-メチ
ル-3-ピラゾリドンなど)、アミノフェノール類(たと
えばo-アミノフェノール、p-アミノフェノール、N-メチ
ル-o-アミノフェノール、N-メチル-p-アミノフェノー
ル、2,4-ジアミノフェノールなど)、ピロガロール、ア
スコルビン酸、1-アリール-3-ピラゾリン類(たとえば1
-(p-ヒドロキシフェニル)-3-アミノピラゾリン、1-(p-
メチルアミノフェニル)-3-アミノピラゾリン、1-(p-ア
ミノフェニル)-3-アミノピラゾリン、1-(p-アミノ-N-メ
チルフェニル)-3-アミノピラゾリンなど)などを単独も
しくは組合せて使用することができるが、3-ピラゾリド
ン類とジヒドロキシベンゼン類との組合せ、又はアミノ
フェノール類とジヒドロキシベンゼン類との組合せで使
用することが好ましい。現像主薬は、通常0.01〜1.4モ
ル/lの量で用いられるのが好ましい。
薬としては、ジヒドロキシベンゼン類(たとえばハイド
ロキノン、クロルハイドロキノン、ブロムハイドロキノ
ン、2,3-ジクロロハイドロキノン、メチルハイドロキノ
ン、イソプロピルハイドロキノン、2,5-ジメチルハイド
ロキノンなど)、3-ピラゾリドン類(たとえば1-フェニ
ル-3-ピラゾリドン、1-フェニル-4-メチル-3-ピラゾリ
ドン、1-フェニル-4,4-ジメチル-3-ピラゾリドン、1-フ
ェニル-4-エチル-3-ピラゾリドン、1-フェニル-5-メチ
ル-3-ピラゾリドンなど)、アミノフェノール類(たと
えばo-アミノフェノール、p-アミノフェノール、N-メチ
ル-o-アミノフェノール、N-メチル-p-アミノフェノー
ル、2,4-ジアミノフェノールなど)、ピロガロール、ア
スコルビン酸、1-アリール-3-ピラゾリン類(たとえば1
-(p-ヒドロキシフェニル)-3-アミノピラゾリン、1-(p-
メチルアミノフェニル)-3-アミノピラゾリン、1-(p-ア
ミノフェニル)-3-アミノピラゾリン、1-(p-アミノ-N-メ
チルフェニル)-3-アミノピラゾリンなど)などを単独も
しくは組合せて使用することができるが、3-ピラゾリド
ン類とジヒドロキシベンゼン類との組合せ、又はアミノ
フェノール類とジヒドロキシベンゼン類との組合せで使
用することが好ましい。現像主薬は、通常0.01〜1.4モ
ル/lの量で用いられるのが好ましい。
【0082】本発明の処理においては、現像液に銀スラ
ッジ防止剤として下記一般式〔I〕で表される化合物を
含有させることが好ましい。
ッジ防止剤として下記一般式〔I〕で表される化合物を
含有させることが好ましい。
【0083】一般式〔I〕 Z1−SM1 式中、Z1は、アルキル基、芳香族基、もしくはヘテロ
環基であって、ヒドロキシ基、−SO3M2基、−COOM2基
(ここでM2は水素原子、アルカリ金属原子または置換又
は無置換のアンモニウムイオンを表す)、置換又は無置
換のアミノ基、置換又は無置換のアンモニオ基からなる
群から選ばれる少なくとも1つ又はこの群より選ばれる
少なくとも1つを有する置換基によって置換されている
ものを表す。M1は水素原子、アルカリ金属原子、置換
又は無置換のアミジノ基(これはハロゲン化水素酸塩も
しくはスルホン酸塩を形成してもよい)を表す。アンモ
ニオ基としては、好ましくは炭素数20以下であって、置
換基としては、置換又は無置換の直鎖、分岐又は環状の
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、ベンジル基、
エトキシプロピル基、シクロヘキシル基など)、置換又
は無置換のフェニル基、ナフチル基を表す。
環基であって、ヒドロキシ基、−SO3M2基、−COOM2基
(ここでM2は水素原子、アルカリ金属原子または置換又
は無置換のアンモニウムイオンを表す)、置換又は無置
換のアミノ基、置換又は無置換のアンモニオ基からなる
群から選ばれる少なくとも1つ又はこの群より選ばれる
少なくとも1つを有する置換基によって置換されている
ものを表す。M1は水素原子、アルカリ金属原子、置換
又は無置換のアミジノ基(これはハロゲン化水素酸塩も
しくはスルホン酸塩を形成してもよい)を表す。アンモ
ニオ基としては、好ましくは炭素数20以下であって、置
換基としては、置換又は無置換の直鎖、分岐又は環状の
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、ベンジル基、
エトキシプロピル基、シクロヘキシル基など)、置換又
は無置換のフェニル基、ナフチル基を表す。
【0084】また、一般式〔I〕において、Z1で表さ
れるアルキル基は好ましくは炭素数1〜30のものであっ
て、特に炭素数2〜20の直鎖、分岐、又は環状のアルキ
ル基であって、上記の置換基の他に置換基を有していて
もよい。Z1で表される芳香族基は好ましくは炭素数6
〜32の単環又は縮合環のものであって、上記の置換基の
他に置換基を有していてもよい。Z1で表されるヘテロ
環基は好ましくは炭素数1〜32の単環又は縮合環であ
り、窒素、酸素、硫黄のうちから独立に選ばれるヘテロ
原子を1つの環中に1〜6個有する5又は6員環であ
り、上記の他に置換基を有していてもよい。ただし置換
基がテトラゾールの場合、置換基として置換又は無置換
のナフチル基を有しない。Z1は好ましくは2個以上の
窒素原子を有するヘテロ環基である。
れるアルキル基は好ましくは炭素数1〜30のものであっ
て、特に炭素数2〜20の直鎖、分岐、又は環状のアルキ
ル基であって、上記の置換基の他に置換基を有していて
もよい。Z1で表される芳香族基は好ましくは炭素数6
〜32の単環又は縮合環のものであって、上記の置換基の
他に置換基を有していてもよい。Z1で表されるヘテロ
環基は好ましくは炭素数1〜32の単環又は縮合環であ
り、窒素、酸素、硫黄のうちから独立に選ばれるヘテロ
原子を1つの環中に1〜6個有する5又は6員環であ
り、上記の他に置換基を有していてもよい。ただし置換
基がテトラゾールの場合、置換基として置換又は無置換
のナフチル基を有しない。Z1は好ましくは2個以上の
窒素原子を有するヘテロ環基である。
【0085】以下に具体的化合物例を示すが、これらに
限定されるものではない。
限定されるものではない。
【0086】
【化18】
【0087】
【化19】
【0088】
【化20】
【0089】
【化21】
【0090】
【化22】
【0091】
【化23】
【0092】本発明において、一般式〔I〕の化合物は
現像液1l当たり10-6〜10-1モルで使用するのが好まし
く、更には10-5〜10-2モルであることが好ましい。
現像液1l当たり10-6〜10-1モルで使用するのが好まし
く、更には10-5〜10-2モルであることが好ましい。
【0093】本発明において、保恒剤として用いる亜硫
酸塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜
硫酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナト
リウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/l以上が好ま
しい。特に好ましくは、0.4モル/l以上である。
酸塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜
硫酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナト
リウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/l以上が好ま
しい。特に好ましくは、0.4モル/l以上である。
【0094】現像液には、その他必要によりアルカリ剤
(水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど)、銀スラッ
ジ防止剤(たとえば特公昭62-4702号、特開平03-51844
号、同04-26838号、同04-362942号、同01-319031号に記
載の化合物など)、pH緩衝剤(たとえば、炭酸塩、リ
ン酸塩、ホウ酸塩、ホウ酸、酢酸、クエン酸、アルカノ
ールアミンなど)、溶解助剤(たとえばポリエチレング
リコール類、それらのエステル、アルカノールアミンな
ど)、増感剤(たとえばポリオキシエチレン類を含む非
イオン界面活性剤、四級アンモニウム化合物など)、界
面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤(たとえば、臭化カリ
ウム、臭化ナトリウムの如きハロゲン、ニトロベンズイ
ンダゾール、ニトロベンズイミダゾール、ベンゾトリア
ゾール、ベンゾチアゾール、テトラゾール類、チアゾー
ル類など)、キレート化剤(たとえばエチレンジアミン
四酢酸またはそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、
ポリリン酸塩など)、現像促進剤(たとえば米国特許第
2,304,025号、特公昭47-45541号各公報に記載の化合物
など)、硬膜剤(たとえばグルタールアルデヒド又は、
その重亜硫酸塩付加物など)、あるいは消泡剤などを添
加することができる。現像液のpHは11.0未満であり、
9.5〜10.5に調整されることが好ましい。
(水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど)、銀スラッ
ジ防止剤(たとえば特公昭62-4702号、特開平03-51844
号、同04-26838号、同04-362942号、同01-319031号に記
載の化合物など)、pH緩衝剤(たとえば、炭酸塩、リ
ン酸塩、ホウ酸塩、ホウ酸、酢酸、クエン酸、アルカノ
ールアミンなど)、溶解助剤(たとえばポリエチレング
リコール類、それらのエステル、アルカノールアミンな
ど)、増感剤(たとえばポリオキシエチレン類を含む非
イオン界面活性剤、四級アンモニウム化合物など)、界
面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤(たとえば、臭化カリ
ウム、臭化ナトリウムの如きハロゲン、ニトロベンズイ
ンダゾール、ニトロベンズイミダゾール、ベンゾトリア
ゾール、ベンゾチアゾール、テトラゾール類、チアゾー
ル類など)、キレート化剤(たとえばエチレンジアミン
四酢酸またはそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、
ポリリン酸塩など)、現像促進剤(たとえば米国特許第
2,304,025号、特公昭47-45541号各公報に記載の化合物
など)、硬膜剤(たとえばグルタールアルデヒド又は、
その重亜硫酸塩付加物など)、あるいは消泡剤などを添
加することができる。現像液のpHは11.0未満であり、
9.5〜10.5に調整されることが好ましい。
【0095】本発明は現像処理の特殊な形式として、現
像主薬を感光材料中、たとえば乳剤層中に含み、感光材
料をアルカリ水溶液中で処理して現像を行なわせるアク
チベータ処理液を用いてもよい。このような現像処理
は、チオシアン酸塩による銀塩安定化処理と組合せて、
感光材料の迅速処理の方法の一つとして利用されること
が多く、そのような処理液で迅速処理した場合にも本発
明の効果を得ることができる。
像主薬を感光材料中、たとえば乳剤層中に含み、感光材
料をアルカリ水溶液中で処理して現像を行なわせるアク
チベータ処理液を用いてもよい。このような現像処理
は、チオシアン酸塩による銀塩安定化処理と組合せて、
感光材料の迅速処理の方法の一つとして利用されること
が多く、そのような処理液で迅速処理した場合にも本発
明の効果を得ることができる。
【0096】本発明においては、現像廃液はイオン交換
樹脂を通す、及び/又は透析を行い再生される。イオン
交換樹脂としては陽イオン交換樹脂、陰イオン交換樹
脂、陰陽両イオン交換樹脂、ポリビニルヒドロキノンの
ようにイオンを可逆的に酸化還元する電子交換樹脂、ま
た特殊な金属イオンが配位するキレート樹脂等が挙げら
れる。透析とは牛の膀胱膜、魚の浮袋、硫酸紙、コロジ
オン膜セロハン膜などの半透膜を通して膜内の現像液を
再生することであり、電気透析も含む。
樹脂を通す、及び/又は透析を行い再生される。イオン
交換樹脂としては陽イオン交換樹脂、陰イオン交換樹
脂、陰陽両イオン交換樹脂、ポリビニルヒドロキノンの
ようにイオンを可逆的に酸化還元する電子交換樹脂、ま
た特殊な金属イオンが配位するキレート樹脂等が挙げら
れる。透析とは牛の膀胱膜、魚の浮袋、硫酸紙、コロジ
オン膜セロハン膜などの半透膜を通して膜内の現像液を
再生することであり、電気透析も含む。
【0097】再生された現像液は、もう一度自動現像機
の現像槽に戻し、再度現像に利用される。その際、現像
液に添加される各種の添加剤例えば前記のような現像液
に添加することができるpH緩衝剤、保恒剤、現像抑制
剤、銀スラッヂ防止剤等を追加添加することができる。
図1は現像液再生処理システムの概略図の1例である。
ただし本発明はこれに限定されるものではない。
の現像槽に戻し、再度現像に利用される。その際、現像
液に添加される各種の添加剤例えば前記のような現像液
に添加することができるpH緩衝剤、保恒剤、現像抑制
剤、銀スラッヂ防止剤等を追加添加することができる。
図1は現像液再生処理システムの概略図の1例である。
ただし本発明はこれに限定されるものではない。
【0098】図1において、現像タンク1よりオーバー
フローした使用済みの現像液を再生処理タンク5に送
る。送られた使用済み現像液はイオン交換カラム7と透
析ユニット8を通して再生処理される。その際、現像液
に添加される各種の添加剤、例えば現像液に添加するこ
とができるpH緩衝剤、保恒剤、現像抑制剤、銀スラッ
ヂ防止剤等を追加添加することもできる。再生された現
像液を貯槽3に搬送し、貯蔵する。感光材料の処理量に
応じて貯槽3から現像タンク1に再生現像液を輸送する
と共に未使用現像液補充タンク10から現像タンク1に現
像液を補充する。尚、輸送には必要に応じて図示しない
ポンプを設置する。
フローした使用済みの現像液を再生処理タンク5に送
る。送られた使用済み現像液はイオン交換カラム7と透
析ユニット8を通して再生処理される。その際、現像液
に添加される各種の添加剤、例えば現像液に添加するこ
とができるpH緩衝剤、保恒剤、現像抑制剤、銀スラッ
ヂ防止剤等を追加添加することもできる。再生された現
像液を貯槽3に搬送し、貯蔵する。感光材料の処理量に
応じて貯槽3から現像タンク1に再生現像液を輸送する
と共に未使用現像液補充タンク10から現像タンク1に現
像液を補充する。尚、輸送には必要に応じて図示しない
ポンプを設置する。
【0099】感光材料の処理量に応じて供給される再生
現像液は処理感光材料1m2当たり5.5リットル以下が好
ましい。さらに好ましくは4リットル以下である。また
未使用現像液補充量は、廃液量を少なくするために1m2
当たり200ml以下である。好ましくは1m2当たり175ml以
下である。さらに好ましくは1m2当たり150ml以下であ
り、補充なしも含む。
現像液は処理感光材料1m2当たり5.5リットル以下が好
ましい。さらに好ましくは4リットル以下である。また
未使用現像液補充量は、廃液量を少なくするために1m2
当たり200ml以下である。好ましくは1m2当たり175ml以
下である。さらに好ましくは1m2当たり150ml以下であ
り、補充なしも含む。
【0100】定着液としては一般に用いられる組成のも
のを用いることができる。定着液は一般に定着剤とその
他から成る水溶液であり、pHは通常3.8〜5.8である。
定着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カリウ
ム、チオ硫酸アンモニウムなどのチオ硫酸塩、チオシア
ン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸
アンモニウムなどのチオシアン酸塩のほか、可溶性安定
銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤として知ら
れているものを用いることができる。
のを用いることができる。定着液は一般に定着剤とその
他から成る水溶液であり、pHは通常3.8〜5.8である。
定着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カリウ
ム、チオ硫酸アンモニウムなどのチオ硫酸塩、チオシア
ン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸
アンモニウムなどのチオシアン酸塩のほか、可溶性安定
銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤として知ら
れているものを用いることができる。
【0101】定着液には硬膜剤として作用する水溶性ア
ルミニウム塩、たとえば塩化アルミニウム、硫酸アルミ
ニウム、カリ明ばんなどを加えることができる。
ルミニウム塩、たとえば塩化アルミニウム、硫酸アルミ
ニウム、カリ明ばんなどを加えることができる。
【0102】定着液には、所望により、保恒剤(例え
ば、亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば、酢
酸)、pH調整剤(例えば、硫酸)硬水軟化能のあるキ
レート剤等の化合物を含むことができる。
ば、亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば、酢
酸)、pH調整剤(例えば、硫酸)硬水軟化能のあるキ
レート剤等の化合物を含むことができる。
【0103】定着廃液は銀回収する装置で処理すること
が好ましい。銀回収手段としては特開平2-64638号等に
記載の方法が挙げられる。現像液は、固定成分の混合物
でも、グリコールやアミンを含む有機性水溶液でも、粘
度の高い半練り状態の粘稠液体でもよい。また使用時に
希釈して用いても良いし、あるいはそのまま用いてもよ
い。
が好ましい。銀回収手段としては特開平2-64638号等に
記載の方法が挙げられる。現像液は、固定成分の混合物
でも、グリコールやアミンを含む有機性水溶液でも、粘
度の高い半練り状態の粘稠液体でもよい。また使用時に
希釈して用いても良いし、あるいはそのまま用いてもよ
い。
【0104】本発明において、感光材料の処理廃液を蒸
発法により処理し、凝縮して留出液を生じさせることに
より固形分と水分とに分離することが好ましい。処理廃
液を蒸発法により処理する手段としては、特開平5-2366
1号等に記載の方法が挙げられる。
発法により処理し、凝縮して留出液を生じさせることに
より固形分と水分とに分離することが好ましい。処理廃
液を蒸発法により処理する手段としては、特開平5-2366
1号等に記載の方法が挙げられる。
【0105】また、本発明において、特開平2-244139
号、同2-244140号、同2-247646号、同2-69012号等に記
載の水洗水の節水し設けた自動現像機において、感光材
料を処理することが好ましい。本発明の現像処理に際し
ては、現像温度を20〜30℃の通常の温度範囲に設定する
こともできるし、30〜40℃の高温処理の範囲に設定する
こともできる。
号、同2-244140号、同2-247646号、同2-69012号等に記
載の水洗水の節水し設けた自動現像機において、感光材
料を処理することが好ましい。本発明の現像処理に際し
ては、現像温度を20〜30℃の通常の温度範囲に設定する
こともできるし、30〜40℃の高温処理の範囲に設定する
こともできる。
【0106】本発明は現像時間短縮の要望から自動現像
機を用いて処理するときにフィルム先端が自動現像機に
挿入されてから乾燥ゾーンから出てくるまでの全処理時
間(Dry to Dry)が10〜60秒であることが好ましい。こ
こでいう全処理時間とは黒白ハロゲン化銀写真感光材料
を処理するのに必要な全工程時間を含み、具体的には処
理に必要な例えば現像、定着、漂白、水洗、安定化処
理、乾燥等の工程の時間をすべて含んだ時間、つまりDr
y to Dryの時間である。全処理時間が10秒未満では減
感、軟調化等で満足な写真性能が得られない。さらに好
ましくは全処理時間(Dry to Dry)が20〜48秒である。
機を用いて処理するときにフィルム先端が自動現像機に
挿入されてから乾燥ゾーンから出てくるまでの全処理時
間(Dry to Dry)が10〜60秒であることが好ましい。こ
こでいう全処理時間とは黒白ハロゲン化銀写真感光材料
を処理するのに必要な全工程時間を含み、具体的には処
理に必要な例えば現像、定着、漂白、水洗、安定化処
理、乾燥等の工程の時間をすべて含んだ時間、つまりDr
y to Dryの時間である。全処理時間が10秒未満では減
感、軟調化等で満足な写真性能が得られない。さらに好
ましくは全処理時間(Dry to Dry)が20〜48秒である。
【0107】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
【0108】実施例1 (ハロゲン化銀乳剤Aの調製)同時混合法を用いて塩化
銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均厚み0.05μm、
平均粒径0.15μmの塩臭化銀コア粒子を調製した。この
際K3RhBr6を銀1モル当たり8×10-8モル添加した。得
られたコア粒子に、同時混合法を用いてシェルを形成し
た。その際K2IrCl6を銀1モル当たり3×10-7モル添加
した。得られた乳剤は平均厚み0.10μm、平均粒径0.29
μmのコア/シェル型の単分散性(変動係数10%)塩沃
臭化銀(塩化銀90モル%、沃化銀0.2モル%、残りは臭
化銀)平板状粒子の乳剤であった。次いで特開平2-2801
39号に記載の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基をフ
ェニルカルバミルで置換したもの、例えば同号287頁の
例示化合物G−8)を用い脱塩した。脱塩後のEAgは50
℃で190mVであった。
銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均厚み0.05μm、
平均粒径0.15μmの塩臭化銀コア粒子を調製した。この
際K3RhBr6を銀1モル当たり8×10-8モル添加した。得
られたコア粒子に、同時混合法を用いてシェルを形成し
た。その際K2IrCl6を銀1モル当たり3×10-7モル添加
した。得られた乳剤は平均厚み0.10μm、平均粒径0.29
μmのコア/シェル型の単分散性(変動係数10%)塩沃
臭化銀(塩化銀90モル%、沃化銀0.2モル%、残りは臭
化銀)平板状粒子の乳剤であった。次いで特開平2-2801
39号に記載の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基をフ
ェニルカルバミルで置換したもの、例えば同号287頁の
例示化合物G−8)を用い脱塩した。脱塩後のEAgは50
℃で190mVであった。
【0109】得られた乳剤に4-ヒドロキシ-6-メチル-1,
3,3a,7-テトラザインデンを銀1モル当たり1×10-3モ
ル添加し、更に臭化カリウム及びクエン酸を添加してp
H5.6、EAg123mVに調整して、塩化金酸を2×10-5モル
添加した後に無機硫黄を3×10-6モル添加して温度60℃
で最高感度に至るまで化学熟成を行った。熟成終了後4-
ヒドロキシ-6-メチル-1,3,3a,7-テトラザインデンを銀
1モル当たり2×10-3モル、1-フェニル-5-メルカプト
テトラゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加した。
3,3a,7-テトラザインデンを銀1モル当たり1×10-3モ
ル添加し、更に臭化カリウム及びクエン酸を添加してp
H5.6、EAg123mVに調整して、塩化金酸を2×10-5モル
添加した後に無機硫黄を3×10-6モル添加して温度60℃
で最高感度に至るまで化学熟成を行った。熟成終了後4-
ヒドロキシ-6-メチル-1,3,3a,7-テトラザインデンを銀
1モル当たり2×10-3モル、1-フェニル-5-メルカプト
テトラゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加した。
【0110】(ハロゲン化銀写真感光材料の調製)特開
平5-66512号の実施例1に記載の帯電防止加工を行った
厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの一
方の下塗層上に、下記の処方1のゼラチン下塗層をゼラ
チン量が0.6g/m2になるように、その上に処方2のハ
ロゲン化銀乳剤を銀量2.9g/m2、ゼラチン量が1.2g/
m2になるように、更にその上層に保護層として下記処方
3の塗布液をゼラチン量が0.6g/m2になるように同時
重層塗布した。又、反対側の下塗層の上には下記処方4
のバッキング層をゼラチン量が0.6g/m2になるよう
に、その上に下記処方5のポリマー層を、更にその上に
下記処方6のバッキング保護層をゼラチン量が0.4g/m
2になるように同時重層塗布して設けた。
平5-66512号の実施例1に記載の帯電防止加工を行った
厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの一
方の下塗層上に、下記の処方1のゼラチン下塗層をゼラ
チン量が0.6g/m2になるように、その上に処方2のハ
ロゲン化銀乳剤を銀量2.9g/m2、ゼラチン量が1.2g/
m2になるように、更にその上層に保護層として下記処方
3の塗布液をゼラチン量が0.6g/m2になるように同時
重層塗布した。又、反対側の下塗層の上には下記処方4
のバッキング層をゼラチン量が0.6g/m2になるよう
に、その上に下記処方5のポリマー層を、更にその上に
下記処方6のバッキング保護層をゼラチン量が0.4g/m
2になるように同時重層塗布して設けた。
【0111】 処方1(ゼラチン下塗り層組成) ゼラチン 0.6g/m2 染料a(ボールミル分散して粒径0.01μmの粉体にしたもの) 25mg/m2 染料b(ボールミル分散して粒径0.01μmの粉体にしたもの) 20mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 S−1(ソジウム-イソ-アミル-n-デシルスルホサクシネート) 0.4mg/m2 処方2(ハロゲン化銀乳剤層組成) 乳剤A 2.9g/m2 ゼラチン 1.2g/m2 増感色素d 0.6g/m2 ヒドラジン誘導体H−24 30mg/m2 造核促進剤Na−12 35mg/m2 造核促進剤Nb−2 10mg/m2 化合物e 100mg/m2 ラテックスポリマーf 1.0g/m2 硬膜剤g 30mg/m2 S−1 0.7mg/m2 2-メルカプト-6-ヒドロキシプリン 10mg/m2 EDTA 50mg/m2 処方3(乳剤保護層組成) ゼラチン 0.6g/m2 染料c(ボールミル分散して粒径0.01μmの粉体にしたもの) 40mg/m2 S−1 12mg/m2 マット剤(平均粒径3.5μmの単分散シリカ) 25mg/m2 1,3-ビニルスルホニル-2-プロパノール 40mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 20mg/m2 処方4(バッキング層組成) ゼラチン 0.6g/m2 S−1 5mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 化合物i 100mg/m2 処方5(ポリマー層組成) ラテックスj(メチルメタクリレート:アクリル酸=97:3) 1.0g/m2 硬膜剤g 6mg/m2 処方6(バッキング保護層) ゼラチン 0.4g/m2 マット剤(平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート) 50mg/m2 ソディウム-ジ-(2-エチルヘキシル)-スルホサクシネート 10mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 染料k 20mg/m2 H-(OCH2CH2)68-OH 50mg/m2 硬膜剤g 20mg/m2
【0112】
【化24】
【0113】
【化25】
【0114】尚、塗布乾燥後のバッキング層側の表面比
抵抗値は23℃20%RHで5×1011であった。得られた試料
をステップウェッジと密着し、赤色半導体レーザー光の
代用特性として波長670nmの露光を行ってから、表に示
す組成の現像液及び下記組成の定着液を用いて迅速処理
用自動現像機(GR−26SR コニカ(株)製)にて下記
条件で処理した。尚、処理後のバッキング層側の表面比
抵抗値は23℃20%RHで9×1011であった。
抵抗値は23℃20%RHで5×1011であった。得られた試料
をステップウェッジと密着し、赤色半導体レーザー光の
代用特性として波長670nmの露光を行ってから、表に示
す組成の現像液及び下記組成の定着液を用いて迅速処理
用自動現像機(GR−26SR コニカ(株)製)にて下記
条件で処理した。尚、処理後のバッキング層側の表面比
抵抗値は23℃20%RHで9×1011であった。
【0115】 (現像液組成)それぞれ使用液1リットル当たりの量 エチレントリアミン5酢酸・5ナトリウム塩 1g 亜硫酸ナトリウム 60g ほう酸 8g 臭化カリウム 5g 炭酸カリウム 40g ジエチレングリコール 40g ベンゾトリアゾール 0.2g ハイドロキノン 21.0g 銀スラッジ防止剤 I-10 60mg 1-フェニル-4-ヒドロキシメチル-3-ピラゾリドン 0.9g 水酸化カリウム水溶液にてpH 10.4に調整した。
【0116】 (定着液組成)使用液1リットルあたりの量 チオ硫酸アンモニウム(70%水溶液) 200ml 亜硫酸ナトリウム 22g 硼酸 9.8g 酢酸ナトリウム・3水和物 34g 酢酸(90%水溶液) 14.5g 酒石酸 3.0g 硫酸アルミニウム(27%水溶液) 25ml 使用液のpHは4.9であった。
【0117】 尚、図1に示した現像液再生装置を用い、現像液再生の
有無、再生手段、未使用現像液の補充量、再生現像液の
補充量を表1に示す。実施例1の感光材料を500m2連続
処理(ランニング処理)し、処理前後の性能変化を評価
した。
有無、再生手段、未使用現像液の補充量、再生現像液の
補充量を表1に示す。実施例1の感光材料を500m2連続
処理(ランニング処理)し、処理前後の性能変化を評価
した。
【0118】(感度、ガンマの評価)得られた現像済み
試料をPDA−65(コニカ(株)製デジタル濃度計)で測
定し、試料No.1の濃度3.0における感度を100とした場
合の相対感度を表1に示す。ガンマは濃度0.1と3.0の正
接である。ガンマが6未満では使用不可能であり、6以
上10未満でも硬調性に欠ける。ガンマ10以上が超硬調画
像を得るための実用的な値である。
試料をPDA−65(コニカ(株)製デジタル濃度計)で測
定し、試料No.1の濃度3.0における感度を100とした場
合の相対感度を表1に示す。ガンマは濃度0.1と3.0の正
接である。ガンマが6未満では使用不可能であり、6以
上10未満でも硬調性に欠ける。ガンマ10以上が超硬調画
像を得るための実用的な値である。
【0119】(黒ポツの評価)得られた現像済みの試料
の未露光部を40倍のルーペで黒ポツを観察して目視評価
した。全く黒ポツの発生のないものを最高ランク5と
し、黒ポツの発生度に応じて4、3、2、1とランクを
下げ評価した。ランク1、2が実用上好ましくないレベ
ルである。
の未露光部を40倍のルーペで黒ポツを観察して目視評価
した。全く黒ポツの発生のないものを最高ランク5と
し、黒ポツの発生度に応じて4、3、2、1とランクを
下げ評価した。ランク1、2が実用上好ましくないレベ
ルである。
【0120】結果を表1に示す。
【0121】
【表1】
【0122】表1の結果から、本発明の試料は感度、ガ
ンマ、黒ポツがランニング後においても変動が少ないこ
とがわかる。
ンマ、黒ポツがランニング後においても変動が少ないこ
とがわかる。
【0123】実施例2 (ハロゲン化銀乳剤Bの調製)同時混合法を用いて混合
時に6塩化ロジウム錯体を銀1モル当たり8×10-5モル
添加し、常法により脱塩後、平均粒径0.10μmの単分散
性(変動係数10%)の塩臭化銀(塩化銀99モル%、残り
は臭化銀からなる)立方体粒子の乳剤を得た。
時に6塩化ロジウム錯体を銀1モル当たり8×10-5モル
添加し、常法により脱塩後、平均粒径0.10μmの単分散
性(変動係数10%)の塩臭化銀(塩化銀99モル%、残り
は臭化銀からなる)立方体粒子の乳剤を得た。
【0124】得られた乳剤に4-ヒドロキシ-6-メチル-3,
3,3a7-テトラザインデン、臭化カリウム及びクエン酸を
添加して、無機硫黄を銀1モル当たり3×10-6モル添加
して温度60℃で最高感度に至まで化学熟成を行った。熟
成終了後4-ヒドロキシ-6-メチル-3,3,3a7-テトラザイン
デン及び1-フェニル-5-メルカプトテトラゾールを3×1
0-4モルとゼラチンを添加した。
3,3a7-テトラザインデン、臭化カリウム及びクエン酸を
添加して、無機硫黄を銀1モル当たり3×10-6モル添加
して温度60℃で最高感度に至まで化学熟成を行った。熟
成終了後4-ヒドロキシ-6-メチル-3,3,3a7-テトラザイン
デン及び1-フェニル-5-メルカプトテトラゾールを3×1
0-4モルとゼラチンを添加した。
【0125】(ハロゲン化銀写真感光材料の調製)特開
平5-66512号の実施例1に記載の帯電防止加工を行った
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの一
方の下塗り層上に、下記の処方7のゼラチン下塗層をゼ
ラチン量が0.5g/m2になるように、その上に処方8の
ハロゲン化銀乳剤を銀量2.8g/m2、ゼラチン量が1.0g
/m2になるように、更にその上層に保護層として下記処
方9の塗布液をゼラチン量が0.4g/m2になるように同
時重層塗布した。又、反対側の下塗層の上には下記処方
10のバッキング層をゼラチン量が0.4g/m2になるよう
に、その上に下記処方11のポリマー層を、更にその上に
下記処方12のバッキング保護層をゼラチン量が0.4g/m
2になるように同時重層塗布して設けた。
平5-66512号の実施例1に記載の帯電防止加工を行った
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの一
方の下塗り層上に、下記の処方7のゼラチン下塗層をゼ
ラチン量が0.5g/m2になるように、その上に処方8の
ハロゲン化銀乳剤を銀量2.8g/m2、ゼラチン量が1.0g
/m2になるように、更にその上層に保護層として下記処
方9の塗布液をゼラチン量が0.4g/m2になるように同
時重層塗布した。又、反対側の下塗層の上には下記処方
10のバッキング層をゼラチン量が0.4g/m2になるよう
に、その上に下記処方11のポリマー層を、更にその上に
下記処方12のバッキング保護層をゼラチン量が0.4g/m
2になるように同時重層塗布して設けた。
【0126】 処方7(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン 0.5g/m2 染料b(ボールミル分散して粒径0.01μmの粉体にしたもの) 20mg/m2 染料c(ボールミル分散して粒径0.01μmの粉体にしたもの) 10mg/m2 染料l(ボールミル分散して粒径0.01μmの粉体にしたもの) 80mg/m2 スチレン-マレイン酸共重合体の親水性ポリマー(増粘剤) 10mg/m2 S−1(ソジウム-イソ-アミル-n-デシルスルホサクシネート) 0.4mg/m2 処方8(ハロゲン化銀乳剤層組成) 乳剤B 2.8g/m2 ゼラチン 1.0g/m2 テトラゾリウム化合物T−19 10mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 5-メチルベンゾトリアゾール 10mg/m2 化合物m 6mg/m2 ラテックスポリマーf 1.0g/m2 硬膜剤g 40mg/m2 S−1 0.7mg/m2 スチレン-マレイン酸共重合体の親水性ポリマー(増粘剤) 20mg/m2 処方9(乳剤保護層組成) ゼラチン 0.5g/m2 染料c(ボールミル分散して粒径0.01μmの粉体にしたもの) 100mg/m2 S−1 12mg/m2 マット剤(平均粒径3.0μmの単分散シリカ) 15mg/m2 マット剤(平均粒径8.0μmの単分散シリカ) 20mg/m2 1,3-ビニルスルホニル-2-プロパノール 50mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 20mg/m2 処方10(バッキング層組成) ゼラチン 0.4g/m2 S−1 5mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 スチレン-マレイン酸共重合体の親水性ポリマー(増粘剤) 20mg/m2 化合物i 100mg/m2 処方11(ポリマー層組成) ラテックスn(スチレン:ブタジエン:アクリル酸=30:65:5) 1.0g/m2 硬膜剤g 10mg/m2 処方12(バッキング保護層) ゼラチン 0.4g/m2 マット剤(平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート) 50mg/m2 ソディウム-ジ-(2-エチルヘキシル)-スルホサクシネート 10mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 H-(OCH2CH2)68-OH 50mg/m2 硬膜剤g 40mg/m2
【0127】
【化26】
【0128】尚、塗布乾燥後のバッキング層側の表面比
抵抗値は23℃20%RHで1×1011であった。得られた試料
をステップウェッジと密着し明室プリンターP−627G
M(大日本スクリーン(株)製)で露光を行ってから、表
に記載の組成の現像液及び下記組成の定着液を用いて自
動現像機SRX−1001(コニカ(株)製)を改造してライ
ン速度を変えることによって合計処理時間(Dry to dr
y)を30秒にし、現像温度38℃にて処理した。尚、処理
後のバッキング層側の表面比抵抗値は23℃20%RHで5×
1011であった。
抵抗値は23℃20%RHで1×1011であった。得られた試料
をステップウェッジと密着し明室プリンターP−627G
M(大日本スクリーン(株)製)で露光を行ってから、表
に記載の組成の現像液及び下記組成の定着液を用いて自
動現像機SRX−1001(コニカ(株)製)を改造してライ
ン速度を変えることによって合計処理時間(Dry to dr
y)を30秒にし、現像温度38℃にて処理した。尚、処理
後のバッキング層側の表面比抵抗値は23℃20%RHで5×
1011であった。
【0129】 (現像液組成)それぞれ使用液1リットル当たりの量 EDTA2ナトリウム塩 2g 亜硫酸ナトリウム 50g ほう酸 8g 臭化カリウム 5g 炭酸カリウム 40g 銀スラッジ防止剤I−7 60mg ジエチレングリコール 40g 5-メチルベンゾトリアゾール 0.2g ハイドロキノン 20.0g 1-フェニル-3-ピラゾリドン 0.9g 水酸化カリウム水溶液にてpH 10.3に調整した。
【0130】 (定着液組成)使用液1リットルあたりの量 チオ硫酸ナトリウム 100g 亜硫酸ナトリウム 22g 硼酸 10g 酢酸ナトリウム・3水和物 34g 酒石酸 3.0g 硫酸アルミニウム(27%水溶液) 10ml グルタルアルデヒド 3.0g 酢酸にて使用液のpHを5.0に調製した。
【0131】下記以外は実施例1と同様に評価し、結果
を表2に示す。
を表2に示す。
【0132】(カブリの評価)得られた現像済みの試料
の未露光部をPDA−65(コニカ(株)製デジタル濃度
計)で測定した。0.06以上は実用に供せないレベルであ
る。
の未露光部をPDA−65(コニカ(株)製デジタル濃度
計)で測定した。0.06以上は実用に供せないレベルであ
る。
【0133】
【表2】
【0134】表2の結果からも、本発明の試料は感度、
ガンマ、黒ポツがランニング後においても変動が少ない
ことがわかる。
ガンマ、黒ポツがランニング後においても変動が少ない
ことがわかる。
【0135】
【発明の効果】本発明により、自動現像機による迅速処
理においても、軟調化したり、黒ポツが劣化したりする
という問題が起こりにくい感光材料の処理方法を提供す
ると共に、現像液の廃液量を低減するために低補充量に
してもランニングによる性能劣化の少ない感光材料の現
像処理方法を提供することができた。
理においても、軟調化したり、黒ポツが劣化したりする
という問題が起こりにくい感光材料の処理方法を提供す
ると共に、現像液の廃液量を低減するために低補充量に
してもランニングによる性能劣化の少ない感光材料の現
像処理方法を提供することができた。
【図1】現像再生処理システムの概念図
1 現像タンク 2 感光材料の搬送路 3 貯槽 4 再生処理ステーション 5 再生処理タンク 6 追加添加する現像液成分(A、B、C)貯蔵タンク 7 イオン交換カラム 8 透析ユニット 9 配管 10 未使用現像液補充液タンク 11 廃液用配管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03C 5/00 A 5/29
Claims (4)
- 【請求項1】 支持体上に少なくとも1層の塩化銀60モ
ル%以上のハロゲン化銀粒子を含有するハロゲン化銀乳
剤層を有し、該ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接
層にテトラゾリウム化合物を含有するハロゲン化銀写真
感光材料の現像処理方法において、使用済みの現像液を
イオン交換樹脂を通し及び/又は透析を行うことによっ
て再生させ、再使用することを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料の現像処理方法。 - 【請求項2】 支持体上に少なくとも1層の塩化銀60モ
ル%以上のハロゲン化銀粒子を含有するハロゲン化銀乳
剤層を有し、該ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接
層にヒドラジン誘導体と造核促進剤を含有するハロゲン
化銀写真感光材料の現像処理方法において、使用済みの
現像液をイオン交換樹脂を通し及び/又は透析を行うこ
とによって再生させ、再使用することを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料の現像処理方法。 - 【請求項3】 再生現像液の再利用とは別に、ハロゲン
化銀写真感光材料1m2当たり200ml以下の未使用現像液
を補充することを特徴とする請求項1又は2記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料の現像処理方法。 - 【請求項4】 請求項1又は2記載のハロゲン化銀写真
感光材料の現像処理方法において、現像液、定着液及び
水洗水を入れた自動現像機でフィルム先端が自動現像機
に挿入されてから乾燥ゾーンから出てくるまでの全処理
時間(Dry toDry)が10秒以上60秒以下であることを特
徴とするハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22188994A JPH0887094A (ja) | 1994-09-16 | 1994-09-16 | ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22188994A JPH0887094A (ja) | 1994-09-16 | 1994-09-16 | ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0887094A true JPH0887094A (ja) | 1996-04-02 |
Family
ID=16773769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22188994A Pending JPH0887094A (ja) | 1994-09-16 | 1994-09-16 | ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0887094A (ja) |
-
1994
- 1994-09-16 JP JP22188994A patent/JPH0887094A/ja active Pending
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