JPH088973B2 - 低温乾燥ガスの製法及びその装置 - Google Patents
低温乾燥ガスの製法及びその装置Info
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- JPH088973B2 JPH088973B2 JP2239109A JP23910990A JPH088973B2 JP H088973 B2 JPH088973 B2 JP H088973B2 JP 2239109 A JP2239109 A JP 2239109A JP 23910990 A JP23910990 A JP 23910990A JP H088973 B2 JPH088973 B2 JP H088973B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、除湿用のガス分離膜モジュールと超高速
旋回流方式の低温ガス発生装置とを連結して使用して、
低温ガス発生装置から発生する高温乾燥ガスを、該モジ
ュール内のガス分離膜の透過側のパージガスとして前記
ガス分離膜モジュールに再使用することによって、低温
ガス発生装置から低温乾燥ガス（例えば、低温乾燥空気
など）を、効率的に連続して製造する方法、ならびに、
前記低温乾燥ガスの製造装置に係わる。
旋回流方式の低温ガス発生装置とを連結して使用して、
低温ガス発生装置から発生する高温乾燥ガスを、該モジ
ュール内のガス分離膜の透過側のパージガスとして前記
ガス分離膜モジュールに再使用することによって、低温
ガス発生装置から低温乾燥ガス（例えば、低温乾燥空気
など）を、効率的に連続して製造する方法、ならびに、
前記低温乾燥ガスの製造装置に係わる。
前記の低温乾燥ガスは、種々の成形品、電子部品、機
器又は装置の高温部分に直接に吹き掛けて冷却したり、
低温に維持したりするため、あるいは、人体の故障箇所
に吹き掛けて冷温治療したりするために利用することが
できる。
器又は装置の高温部分に直接に吹き掛けて冷却したり、
低温に維持したりするため、あるいは、人体の故障箇所
に吹き掛けて冷温治療したりするために利用することが
できる。
従来高速旋回流方式の低温ガス発生装置は、極めて簡
単に−50〜０℃の低温ガスを発生することができる装置
としてすでに周知である。
単に−50〜０℃の低温ガスを発生することができる装置
としてすでに周知である。
しかし、前記の低温ガス発生装置は、極めて超低温の
ガスが容易に発生するので、水分をかなり含有するガス
（空気など）を使用すると、低温ガスが発生する際に水
分が装置内で水滴化したり、その水滴が装置内に氷結し
て閉塞させたりして、連続的に低温ガスを発生すること
ができなくなったり、あるいは、生成した低温ガス中に
水分がかなり含有していると冷却対象物の電子部品など
表面に水滴が付着してしまったり、その結果、電子部品
などの腐食を促進させてしまうという問題などがあっ
た。
ガスが容易に発生するので、水分をかなり含有するガス
（空気など）を使用すると、低温ガスが発生する際に水
分が装置内で水滴化したり、その水滴が装置内に氷結し
て閉塞させたりして、連続的に低温ガスを発生すること
ができなくなったり、あるいは、生成した低温ガス中に
水分がかなり含有していると冷却対象物の電子部品など
表面に水滴が付着してしまったり、その結果、電子部品
などの腐食を促進させてしまうという問題などがあっ
た。
最近、前記の低温ガス発生装置へ、水分の吸着剤又は
吸収剤で乾燥された空気などの原料ガスを供給して低温
乾燥ガスを生成させることが提案された。
吸収剤で乾燥された空気などの原料ガスを供給して低温
乾燥ガスを生成させることが提案された。
しかし、前記の吸着剤などを使用して乾燥ガスとする
場合には、長期間乾燥するすることができず、連続的に
低温乾燥ガスを発生させることができないという問題点
があった。
場合には、長期間乾燥するすることができず、連続的に
低温乾燥ガスを発生させることができないという問題点
があった。
従って、この発明は、公知の低温ガス発生装置を低温
ガス発生に使用して低温ガスを発生させるにあたって、
供給された原料の圧縮ガス中の水分による種々の問題を
容易に解消することができる低温乾燥ガスの製法、並び
に、その製造装置を提供することを目的とする。
ガス発生に使用して低温ガスを発生させるにあたって、
供給された原料の圧縮ガス中の水分による種々の問題を
容易に解消することができる低温乾燥ガスの製法、並び
に、その製造装置を提供することを目的とする。
この出願の第１の発明は、水分を含有する圧縮ガスを
除湿用ガス分離膜モジュールへ供給して水分を除去した
後、得られた乾燥未透過ガスを超高速旋回流による低温
ガス発生装置へ供給し、該低温ガス発生装置の一端から
低温乾燥ガスを抜き出すと共に、高温の乾燥ガスを他端
から取り出して前記除湿用ガス分離膜モジュールの透過
側のパージガスとして使用することを特徴とする低温乾
燥ガスの製法、並びに、 この出願の第２の発明は、水分含有圧縮ガスの供給
口、透過ガスの排出口、乾燥未透過ガスの取出し口、及
び、パージガスの供給口を有するケーシング内にガス分
離膜エレメントを内蔵している除湿用ガス分離膜モジュ
ール、並びに、圧縮ガスの旋回供給口、低温乾燥ガスの
抜出し口、及び、高温乾燥ガスの取出し口を有する超高
速旋回流方式の低温ガス発生装置からなり、 前記ガス分離膜モジュールの乾燥未透過ガスの取出し
口と前記低温ガス発生装置の圧縮ガスの旋回供給口とが
連結されており、そして、低温ガス発生装置の高温乾燥
ガスの取出し口とガス分離膜モジュールのパージガスの
供給口とが連結されていることを特徴とする低温乾燥ガ
スの製造装置に関する。
除湿用ガス分離膜モジュールへ供給して水分を除去した
後、得られた乾燥未透過ガスを超高速旋回流による低温
ガス発生装置へ供給し、該低温ガス発生装置の一端から
低温乾燥ガスを抜き出すと共に、高温の乾燥ガスを他端
から取り出して前記除湿用ガス分離膜モジュールの透過
側のパージガスとして使用することを特徴とする低温乾
燥ガスの製法、並びに、 この出願の第２の発明は、水分含有圧縮ガスの供給
口、透過ガスの排出口、乾燥未透過ガスの取出し口、及
び、パージガスの供給口を有するケーシング内にガス分
離膜エレメントを内蔵している除湿用ガス分離膜モジュ
ール、並びに、圧縮ガスの旋回供給口、低温乾燥ガスの
抜出し口、及び、高温乾燥ガスの取出し口を有する超高
速旋回流方式の低温ガス発生装置からなり、 前記ガス分離膜モジュールの乾燥未透過ガスの取出し
口と前記低温ガス発生装置の圧縮ガスの旋回供給口とが
連結されており、そして、低温ガス発生装置の高温乾燥
ガスの取出し口とガス分離膜モジュールのパージガスの
供給口とが連結されていることを特徴とする低温乾燥ガ
スの製造装置に関する。
以下、この発明について、図面も参照してさらに詳し
く説明する。
く説明する。
第１図は、この発明の低温乾燥ガスの製法に使用する
装置の一例を概略示すフロー図である。
装置の一例を概略示すフロー図である。
この発明の低温乾燥ガスの製法は、第１図に示すよう
に、水分が飽和している空気などの原料ガスをコンプレ
ッサー１等で圧縮して『水分を含有する圧縮ガス』とな
し、必要であればクーラー２などで冷却し、フィルター
５等で除塵した後、除湿用ガス分離膜モジュール３へ供
給して水分を充分に除去した後、 該モジュール３から得られた『乾燥未透過ガス（加圧
状態のガスである）』を超高速旋回流方式による低温ガ
ス発生装置４の圧縮ガスの旋回供給口41へ供給し、圧縮
ガスを超高速で旋回させてその渦流を形成させ、該渦流
の中心部に冷却されたガスを発生させ、該ガス発生装置
４の一端（低温乾燥ガスの抜き出し口42）から低温乾燥
ガスを抜き出すと共に、 該ガス発生装置４の他端（高温乾燥ガスの取り出し口
43）から高温の乾燥ガスを取り出して、必要であれば何
らかのガス冷却手段で冷却して、前記除湿用ガス分離膜
モジュール３のパージガス供給口33へ供給し、該モジュ
ール３のガス分離膜の透過側のパージガスとして循環使
用しながら、 前記低温ガス発生装置４から低温乾燥ガスを連続的に
製造する方法である。
に、水分が飽和している空気などの原料ガスをコンプレ
ッサー１等で圧縮して『水分を含有する圧縮ガス』とな
し、必要であればクーラー２などで冷却し、フィルター
５等で除塵した後、除湿用ガス分離膜モジュール３へ供
給して水分を充分に除去した後、 該モジュール３から得られた『乾燥未透過ガス（加圧
状態のガスである）』を超高速旋回流方式による低温ガ
ス発生装置４の圧縮ガスの旋回供給口41へ供給し、圧縮
ガスを超高速で旋回させてその渦流を形成させ、該渦流
の中心部に冷却されたガスを発生させ、該ガス発生装置
４の一端（低温乾燥ガスの抜き出し口42）から低温乾燥
ガスを抜き出すと共に、 該ガス発生装置４の他端（高温乾燥ガスの取り出し口
43）から高温の乾燥ガスを取り出して、必要であれば何
らかのガス冷却手段で冷却して、前記除湿用ガス分離膜
モジュール３のパージガス供給口33へ供給し、該モジュ
ール３のガス分離膜の透過側のパージガスとして循環使
用しながら、 前記低温ガス発生装置４から低温乾燥ガスを連続的に
製造する方法である。
この発明の製法において、ガス分離膜モジュール３へ
供給する圧縮ガスは、１〜20kg/cm2G、特に２〜10kg/cm
2G程度の圧を有し、乾湿湿度計で測定した湿度が50〜10
0％であって、さらに、その圧縮ガスの温度が０〜60
℃、特に５〜50℃程度であることが好ましい。
供給する圧縮ガスは、１〜20kg/cm2G、特に２〜10kg/cm
2G程度の圧を有し、乾湿湿度計で測定した湿度が50〜10
0％であって、さらに、その圧縮ガスの温度が０〜60
℃、特に５〜50℃程度であることが好ましい。
この発明の製法においては、前記圧縮ガスの圧が高い
ほど低温乾燥ガス（製品）の温度が低下する。
ほど低温乾燥ガス（製品）の温度が低下する。
ガス分離膜モジュール３において、ガス分離膜（中空
糸膜）の透過側は、前記のガス分離膜の供給側より低い
圧力であることが好ましく、概略、常圧（約0kg/cm2G±
0.2）付近であることが好適である。
糸膜）の透過側は、前記のガス分離膜の供給側より低い
圧力であることが好ましく、概略、常圧（約0kg/cm2G±
0.2）付近であることが好適である。
ガス分離膜モジュール３のガス分離膜の供給側から得
られた乾燥未透過ガスは、実質的に水分が除去されてお
り、その露点が、−５℃以下、特に−60〜−６℃程度で
あるような乾燥状態であることが好ましい。
られた乾燥未透過ガスは、実質的に水分が除去されてお
り、その露点が、−５℃以下、特に−60〜−６℃程度で
あるような乾燥状態であることが好ましい。
この発明の製法において、低温ガス発生装置４の高温
乾燥ガスの取り出し口43から排出されガス分離膜モジュ
ールのパージガス供給口33へ供給される高温乾燥ガス
は、圧縮ガスの供給量（Ｎ／分）の約20〜80容量％、
特に25〜75容量％程度であることが好ましい。
乾燥ガスの取り出し口43から排出されガス分離膜モジュ
ールのパージガス供給口33へ供給される高温乾燥ガス
は、圧縮ガスの供給量（Ｎ／分）の約20〜80容量％、
特に25〜75容量％程度であることが好ましい。
この発明の製法では、ガス分離膜モジュールへのパー
ジガスの使用割合が増大するに従って、低温乾燥ガス
（製品）の露点温度が低下する。
ジガスの使用割合が増大するに従って、低温乾燥ガス
（製品）の露点温度が低下する。
この発明の装置は、第１図に示すように、例えば、水
分含有圧縮ガスの供給口31、透過ガスの排出口34、乾燥
未透過ガスの取出し口32、及び、パージガスの供給口33
を有するケーシング内にガス分離膜エレント35を内蔵し
ている除湿用ガス分離膜モジュール３、並びに、圧縮ガ
スの旋回供給口41、低温乾燥ガスの抜出し口42、及び、
高温乾燥ガスの取出し口43を有する超高速旋回流方式の
低温ガス発生装置からなり、 前記ガス分離膜モジュール３の乾燥未透過ガスの取出
し口32と前記低温ガス発生装置４の圧縮ガスの旋回供給
口41とが連結されており、そして、低温ガス発生装置４
の高温乾燥ガスの取出し口43とガス分離膜モジュール３
のパージガスの供給口33とが連結されており、前述のよ
うに、低温ガス発生装置４から抜き出された高温乾燥ガ
スをパージガスとしてガス分離膜モジュール３のージガ
ス供給口33へ供給して、ガス分離膜（中空糸等）の透過
側をパージしながら、前記低温ガス発生装置４の抜出し
口42から低温乾燥ガスを製品として取り出すことができ
るものである。
分含有圧縮ガスの供給口31、透過ガスの排出口34、乾燥
未透過ガスの取出し口32、及び、パージガスの供給口33
を有するケーシング内にガス分離膜エレント35を内蔵し
ている除湿用ガス分離膜モジュール３、並びに、圧縮ガ
スの旋回供給口41、低温乾燥ガスの抜出し口42、及び、
高温乾燥ガスの取出し口43を有する超高速旋回流方式の
低温ガス発生装置からなり、 前記ガス分離膜モジュール３の乾燥未透過ガスの取出
し口32と前記低温ガス発生装置４の圧縮ガスの旋回供給
口41とが連結されており、そして、低温ガス発生装置４
の高温乾燥ガスの取出し口43とガス分離膜モジュール３
のパージガスの供給口33とが連結されており、前述のよ
うに、低温ガス発生装置４から抜き出された高温乾燥ガ
スをパージガスとしてガス分離膜モジュール３のージガ
ス供給口33へ供給して、ガス分離膜（中空糸等）の透過
側をパージしながら、前記低温ガス発生装置４の抜出し
口42から低温乾燥ガスを製品として取り出すことができ
るものである。
前記のガス分離膜モジュールに内蔵されるガス分離膜
エレメント（中空糸エレメントなど）は、水分を選択的
に透過させることができれば、いずれの材料からなるガ
ス分離膜であってもよいが、例えば、芳香族ポリイミ
ド、芳香族ポリアミド、ポリスルホンなどの耐熱性高分
子材料から形成された非対称性のガス分離膜（例えば、
表面に緻密層と多孔質層とを有するガス分離中空糸膜）
であればよい。
エレメント（中空糸エレメントなど）は、水分を選択的
に透過させることができれば、いずれの材料からなるガ
ス分離膜であってもよいが、例えば、芳香族ポリイミ
ド、芳香族ポリアミド、ポリスルホンなどの耐熱性高分
子材料から形成された非対称性のガス分離膜（例えば、
表面に緻密層と多孔質層とを有するガス分離中空糸膜）
であればよい。
前記のガス分離膜は、水蒸気の透過速度ＰN２O（室
温）が、１×10-4〜８×10-3Ncm3/cm2・sec・cmHg程度
であって、水蒸気透過速度ＰH２Oと窒素透過速度ＰN２
との比（ＰH２O/PN２（室温）が、500〜5000程度である
ことが好ましい。
温）が、１×10-4〜８×10-3Ncm3/cm2・sec・cmHg程度
であって、水蒸気透過速度ＰH２Oと窒素透過速度ＰN２
との比（ＰH２O/PN２（室温）が、500〜5000程度である
ことが好ましい。
前記のガス分離膜モジュール３においては、パージガ
ス（高温乾燥ガス）は、必要な圧に減圧され、パージガ
スの供給口33から供給して、ガス分離膜モジュール内の
中空糸エレメント35の各中空糸の間隙（透過側）を通過
させてパージを行い、水分を高い割合で含有する透過ガ
スと共に、透過ガスの排出口34から系外へ排出されるの
である。
ス（高温乾燥ガス）は、必要な圧に減圧され、パージガ
スの供給口33から供給して、ガス分離膜モジュール内の
中空糸エレメント35の各中空糸の間隙（透過側）を通過
させてパージを行い、水分を高い割合で含有する透過ガ
スと共に、透過ガスの排出口34から系外へ排出されるの
である。
前記の低温ガス発生装置は、圧縮ガスの旋回供給口41
から供給された圧縮ガス（空気など）が、旋回ノズル
（図示せず）により管内部の接線方向に高速で吹き出さ
れ毎分約１〜50万回の回転をする超高速渦流となり、そ
のために、外側渦流に大きな遠心力が働いて圧力、密度
が急上昇し温度が上昇して高温乾燥ガスの取出し口43か
ら取り出されると同時に、内側渦流は、外側渦流に対し
て幻想制御作用を断熱的に行い、エネルギー移行が行わ
れ温度が下降して低温乾燥ガスの抜出し口42がら排出さ
れる装置であればよい。
から供給された圧縮ガス（空気など）が、旋回ノズル
（図示せず）により管内部の接線方向に高速で吹き出さ
れ毎分約１〜50万回の回転をする超高速渦流となり、そ
のために、外側渦流に大きな遠心力が働いて圧力、密度
が急上昇し温度が上昇して高温乾燥ガスの取出し口43か
ら取り出されると同時に、内側渦流は、外側渦流に対し
て幻想制御作用を断熱的に行い、エネルギー移行が行わ
れ温度が下降して低温乾燥ガスの抜出し口42がら排出さ
れる装置であればよい。
この発明の装置は、除湿用ガス分離膜モジュールの透
過側パージを特別に準備したパージガスを使用する必要
がなく、また、該モジュール自身が製造した乾燥未透過
ガスを低温ガス発生装置に使用した後にパージガスとし
て使用するものであるので、極めて効率的である。
過側パージを特別に準備したパージガスを使用する必要
がなく、また、該モジュール自身が製造した乾燥未透過
ガスを低温ガス発生装置に使用した後にパージガスとし
て使用するものであるので、極めて効率的である。
以下、実施例を示し、この発明をさらに詳しく説明す
る。
る。
実施例１〜７ 第１図に示す装置を使用して、低温乾燥ガスの製造を
10時間連続して行った。
10時間連続して行った。
第１図において、除湿用ガス分離膜モジュールは、芳
香族ポリイミド製のガス分離中空糸膜から形成された中
空糸膜エレメントを内蔵している除湿用ガス分離膜モジ
ュール（宇部興産（株）製、商品名：メンブレンドライ
ヤー、型式:UM−B5タイプ）を使用した。
香族ポリイミド製のガス分離中空糸膜から形成された中
空糸膜エレメントを内蔵している除湿用ガス分離膜モジ
ュール（宇部興産（株）製、商品名：メンブレンドライ
ヤー、型式:UM−B5タイプ）を使用した。
また、低温ガス発生装置としては、サンワ・エンター
プライズ（株）製の超低温空気発生器（商品名：コルダ
ー、型式:140−55SV）を使用した。
プライズ（株）製の超低温空気発生器（商品名：コルダ
ー、型式:140−55SV）を使用した。
各実施例における低温乾燥空気の製造の条件及び結果
である「ガス分離膜モジュールへ供給された圧縮空気の
圧力、供給量、供給温度、及び、露点、並びに、ガス分
離膜モジュールへのパージガスの供給量、更に、低温乾
燥ガス（製品）生産量、温度及び露点」を第１表に示
す。
である「ガス分離膜モジュールへ供給された圧縮空気の
圧力、供給量、供給温度、及び、露点、並びに、ガス分
離膜モジュールへのパージガスの供給量、更に、低温乾
燥ガス（製品）生産量、温度及び露点」を第１表に示
す。
〔本発明の作用効果〕 この発明の製法及び装置は、低温ガス発生装置で生成
し大気中に放出されていた高温乾燥ガスを防湿用ガス分
離膜モジュールのパージガスとして有効に再利用してお
り、特別なパージガスを使用することなく、低い温度
（−60〜５℃）と高い乾燥状態（露点温度：−５〜−60
℃）とを有する低温乾燥ガスを容易に製造することがで
きるものである。また、低温ガス発生装置にて発生する
低温ガスの温度を低下させる条件にすると自動的に低温
乾燥ガス（製品）の露点を低くすることができる。
し大気中に放出されていた高温乾燥ガスを防湿用ガス分
離膜モジュールのパージガスとして有効に再利用してお
り、特別なパージガスを使用することなく、低い温度
（−60〜５℃）と高い乾燥状態（露点温度：−５〜−60
℃）とを有する低温乾燥ガスを容易に製造することがで
きるものである。また、低温ガス発生装置にて発生する
低温ガスの温度を低下させる条件にすると自動的に低温
乾燥ガス（製品）の露点を低くすることができる。
第１図は、この発明の低温乾燥ガスの製法に使用する装
置の一例を概略示すフロー図である。 1:コンプレッサー、2:クーラー、3:ガス分離膜モジュー
ル、4:低温ガス発生装置。
置の一例を概略示すフロー図である。 1:コンプレッサー、2:クーラー、3:ガス分離膜モジュー
ル、4:低温ガス発生装置。
Claims (2)
- 【請求項１】水分を含有する圧縮ガスを除湿用ガス分離
膜モジュールへ供給して水分を除去した後、得られた乾
燥未透過ガスを超高速旋回流による低温ガス発生装置へ
供給し、該低温ガス発生装置の一端から低温乾燥ガスを
抜き出すと共に、高温の乾燥ガスを他端から取り出して
前記除湿用ガス分離膜モジュールの透過側のパージガス
として使用することを特徴とする低温乾燥ガスの製法。 - 【請求項２】水分含有圧縮ガスの供給口、透過ガスの排
出口、乾燥未透過ガスの取出し口、及び、パージガスの
供給口を有するケーシング内にガス分離膜エレメントを
内蔵している除湿用ガス分離膜モジュール、並びに、圧
縮ガスの旋回供給口、低温乾燥ガスの抜き出し口、及
び、高温乾燥ガスの取出し口を有する超高速旋回流方式
の低温ガス発生装置からなり、 前記ガス分離膜モジュールの乾燥未透過ガスの取出し
口と前記低温ガス発生装置の圧縮ガスの旋回供給口とが
連結されており、そして、低温ガス発生装置の高温乾燥
ガスの取出し口とガス分離膜モジュールのパージガスの
供給口とが連結されていることを特徴とする低温乾燥ガ
スの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2239109A JPH088973B2 (ja) | 1990-09-11 | 1990-09-11 | 低温乾燥ガスの製法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2239109A JPH088973B2 (ja) | 1990-09-11 | 1990-09-11 | 低温乾燥ガスの製法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04122414A JPH04122414A (ja) | 1992-04-22 |
| JPH088973B2 true JPH088973B2 (ja) | 1996-01-31 |
Family
ID=17039937
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2239109A Expired - Fee Related JPH088973B2 (ja) | 1990-09-11 | 1990-09-11 | 低温乾燥ガスの製法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH088973B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0595626U (ja) * | 1992-05-27 | 1993-12-27 | エスエムシー株式会社 | 除湿装置 |
| US5611845A (en) * | 1995-08-22 | 1997-03-18 | Undersea Breathing Systems, Inc. | Oxygen enriched air generation system |
| DE19739144C2 (de) * | 1997-09-06 | 2002-04-18 | Geesthacht Gkss Forschung | Vorrichtung zur Entfernung von Wasserdampf aus unter Druck befindlichen Gasen oder Gasgemischen |
| US7118612B2 (en) * | 2003-12-30 | 2006-10-10 | Praxair Technology, Inc. | Oxygen separation method utilizing an oxygen transport membrane reactor |
| CN102071039B (zh) * | 2010-12-16 | 2013-06-19 | 大连理工大学 | 一种提高浅冷回收油田伴生气轻烃效率的方法 |
| US9592171B2 (en) | 2011-08-25 | 2017-03-14 | Undersea Breathing Systems, Inc. | Hyperbaric chamber system and related methods |
-
1990
- 1990-09-11 JP JP2239109A patent/JPH088973B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04122414A (ja) | 1992-04-22 |
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