JPH0889747A - クリーンルームシステム - Google Patents
クリーンルームシステムInfo
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- JPH0889747A JPH0889747A JP6254846A JP25484694A JPH0889747A JP H0889747 A JPH0889747 A JP H0889747A JP 6254846 A JP6254846 A JP 6254846A JP 25484694 A JP25484694 A JP 25484694A JP H0889747 A JPH0889747 A JP H0889747A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガス状不純物も除去できるクリーンルームを
提供する。 【構成】 外気を高性能フィルタを介してクリーンルー
ム内に導入すると共に、該クリーンルーム内を経た還気
を再び高性能フィルタを介してクリーンルーム内に導入
するように構成したクリーンルームシステムにおいて、
外気や還気中に含まれるガス状不純物を除去するための
ガス状不純物除去手段を設ける。
提供する。 【構成】 外気を高性能フィルタを介してクリーンルー
ム内に導入すると共に、該クリーンルーム内を経た還気
を再び高性能フィルタを介してクリーンルーム内に導入
するように構成したクリーンルームシステムにおいて、
外気や還気中に含まれるガス状不純物を除去するための
ガス状不純物除去手段を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、クリーンルームの空気
中に含まれるガス状不純物を除去するように構成したク
リーンルームシステムに関する。
中に含まれるガス状不純物を除去するように構成したク
リーンルームシステムに関する。
【０００２】
【従来の技術】クリーンルームとは、空気中における浮
遊粒状物質が規定されたレベルに管理され、必要に応じ
て温度、湿度、圧力などの環境条件も管理された空間で
ある。かかるクリーンルームは、例えば、ＵＬＳＩ等の
精密電子部品を製造する工場、精密な部品の組立室、Ｉ
Ｃ回路の作成室、アイソトープ実験室、手術室などにお
いて広く利用されている。
遊粒状物質が規定されたレベルに管理され、必要に応じ
て温度、湿度、圧力などの環境条件も管理された空間で
ある。かかるクリーンルームは、例えば、ＵＬＳＩ等の
精密電子部品を製造する工場、精密な部品の組立室、Ｉ
Ｃ回路の作成室、アイソトープ実験室、手術室などにお
いて広く利用されている。
【０００３】ここで、従来のクリーンルームは、粒子状
不純物のみを清浄化の対象としている。即ち、従来のク
リーンルームにおいては、ＵＬＰＡフィルタやＨＥＰＡ
フィルタなどの高性能フィルタを用いてクリーンルーム
に導入される外気や還気を濾過し、粒子状不純物を除去
することによりクリーンルーム内の粒子濃度を低下さ
せ、雰囲気の清浄化を図っている。
不純物のみを清浄化の対象としている。即ち、従来のク
リーンルームにおいては、ＵＬＰＡフィルタやＨＥＰＡ
フィルタなどの高性能フィルタを用いてクリーンルーム
に導入される外気や還気を濾過し、粒子状不純物を除去
することによりクリーンルーム内の粒子濃度を低下さ
せ、雰囲気の清浄化を図っている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】近年、クリーンルーム
内の雰囲気について、粒子状の不純物を除去することに
加え、更にＳＯ2ガス、ＨＦガス、ＮＨ3ガスなどといっ
たガス状の不純物も除去することが要求されるようにな
ってきた。ところが、従来のクリーンルームはそのよう
なガス状の不純物を除去する機能は備えていないため、
クリーンルーム内の雰囲気中のガス状不純物の濃度を抑
制することができなかった。このようなクリーンルーム
内のガス状不純物の濃度を増加させる原因には、外気中
に含まれるガス状不純物以外にも、例えば、クリーンル
ームの内装材から発生する有機系ガス、電子部品などの
製造用に供される薬液蒸気や特殊ガス等がある。これら
から発生するガス状不純物も、何らかの手段によって除
去することによってクリーンルーム内の雰囲気を清浄に
保つ必要がある。
内の雰囲気について、粒子状の不純物を除去することに
加え、更にＳＯ2ガス、ＨＦガス、ＮＨ3ガスなどといっ
たガス状の不純物も除去することが要求されるようにな
ってきた。ところが、従来のクリーンルームはそのよう
なガス状の不純物を除去する機能は備えていないため、
クリーンルーム内の雰囲気中のガス状不純物の濃度を抑
制することができなかった。このようなクリーンルーム
内のガス状不純物の濃度を増加させる原因には、外気中
に含まれるガス状不純物以外にも、例えば、クリーンル
ームの内装材から発生する有機系ガス、電子部品などの
製造用に供される薬液蒸気や特殊ガス等がある。これら
から発生するガス状不純物も、何らかの手段によって除
去することによってクリーンルーム内の雰囲気を清浄に
保つ必要がある。
【０００５】本発明の目的は、粒子状不純物に加えてガ
ス状不純物をも除去できるクリーンルームを提供するこ
とにある。
ス状不純物をも除去できるクリーンルームを提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、外気を
高性能フィルタを介してクリーンルーム内に導入すると
共に、該クリーンルーム内を経た還気を再び高性能フィ
ルタを介してクリーンルーム内に導入するように構成し
たものにおいて、外気及び／または還気中に含まれるガ
ス状不純物を除去するためのガス状不純物除去手段を設
けたことを特徴とするクリーンルームシステムが提供さ
れる。
高性能フィルタを介してクリーンルーム内に導入すると
共に、該クリーンルーム内を経た還気を再び高性能フィ
ルタを介してクリーンルーム内に導入するように構成し
たものにおいて、外気及び／または還気中に含まれるガ
ス状不純物を除去するためのガス状不純物除去手段を設
けたことを特徴とするクリーンルームシステムが提供さ
れる。
【０００７】このクリーンルームシステムは、更に次の
特徴を備えることができる。 ・ガス状不純物除去手段をクリーンルームの天井に配置
したこと。 ・ゾーニングを可能にすべく、ガス状不純物除去手段を
クリーンルームの天井において一部に配置したこと。 ・クリーンルームの天井に配置された複数のファンフィ
ルタユニットの全部または一部にガス状不純物除去手段
を内蔵させたこと。 ・ファンフィルタユニットの送風能力を調節自在に構成
したこと。 ・ファンフィルタユニットの送風能力をインバータ制御
により調節自在に構成したこと。 ・ガス状不純物除去手段をクリーンルームの床に配置し
たこと。 ・ゾーニングを可能にすべく、ガス状不純物除去手段を
クリーンルームの床において一部に配置したこと。 ・クリーンルームの床に配置されたファンユニットにガ
ス状不純物除去手段を内蔵させたこと。 ・ファンユニットの送風能力を調節自在に構成したこ
と。 ・ファンユニットの送風能力をインバータ制御により調
節自在に構成したこと。 ・ガス状不純物除去手段を外気の取り入れ部に配置した
こと。 ・ガス状不純物除去手段が乾式及び／または湿式のもの
であること。 ・乾式のガス状不純物除去手段はケミカルフィルタであ
ること。 ・湿式のガス状不純物除去手段はガス状不純物を気液接
触により吸収して除去するものであること。
特徴を備えることができる。 ・ガス状不純物除去手段をクリーンルームの天井に配置
したこと。 ・ゾーニングを可能にすべく、ガス状不純物除去手段を
クリーンルームの天井において一部に配置したこと。 ・クリーンルームの天井に配置された複数のファンフィ
ルタユニットの全部または一部にガス状不純物除去手段
を内蔵させたこと。 ・ファンフィルタユニットの送風能力を調節自在に構成
したこと。 ・ファンフィルタユニットの送風能力をインバータ制御
により調節自在に構成したこと。 ・ガス状不純物除去手段をクリーンルームの床に配置し
たこと。 ・ゾーニングを可能にすべく、ガス状不純物除去手段を
クリーンルームの床において一部に配置したこと。 ・クリーンルームの床に配置されたファンユニットにガ
ス状不純物除去手段を内蔵させたこと。 ・ファンユニットの送風能力を調節自在に構成したこ
と。 ・ファンユニットの送風能力をインバータ制御により調
節自在に構成したこと。 ・ガス状不純物除去手段を外気の取り入れ部に配置した
こと。 ・ガス状不純物除去手段が乾式及び／または湿式のもの
であること。 ・乾式のガス状不純物除去手段はケミカルフィルタであ
ること。 ・湿式のガス状不純物除去手段はガス状不純物を気液接
触により吸収して除去するものであること。
【０００８】
【作用】クリーンルーム内に導入された外気や還気中に
含まれている粒子状不純物に加え、外気中のガス状不純
物や、クリーンルームの内装材から発生した有機系ガ
ス、電子部品などの製造用に供された薬液蒸気や特殊ガ
ス等の、クリーンルーム内において発生したガス状不純
物をも除去することにより、近年の要求に対応したより
清浄な雰囲気を作り出すことが可能となる。従って、本
発明によれば、ＵＬＳＩ等の精密電子部品、精密部品、
ＩＣ回路などの製造や、その他、アイソトープ実験室、
手術室などに好適なクリーンルームを提供できるように
なる。
含まれている粒子状不純物に加え、外気中のガス状不純
物や、クリーンルームの内装材から発生した有機系ガ
ス、電子部品などの製造用に供された薬液蒸気や特殊ガ
ス等の、クリーンルーム内において発生したガス状不純
物をも除去することにより、近年の要求に対応したより
清浄な雰囲気を作り出すことが可能となる。従って、本
発明によれば、ＵＬＳＩ等の精密電子部品、精密部品、
ＩＣ回路などの製造や、その他、アイソトープ実験室、
手術室などに好適なクリーンルームを提供できるように
なる。
【０００９】ガス状不純物除去手段には、乾式のものと
湿式のものが用いられる。乾式のガス状不純物除去手段
は、外気や還気中に含まれているガス状不純物をフィル
タ表面において薬剤と化学反応させることにより、ガス
状不純物成分をフィルタ表面に吸着させるものである。
このような乾式のガス状不純物除去手段は、通常、ケミ
カルフィルタと呼ばれるものであり、例えば、ＳＯ2ガ
ス、ＨＦガス、ＮＨ3ガスを吸着させるケミカルフィル
タなどにおいては次のような化学反応を生じることによ
ってそれらのガス状不純物を除去するようにしている。
湿式のものが用いられる。乾式のガス状不純物除去手段
は、外気や還気中に含まれているガス状不純物をフィル
タ表面において薬剤と化学反応させることにより、ガス
状不純物成分をフィルタ表面に吸着させるものである。
このような乾式のガス状不純物除去手段は、通常、ケミ
カルフィルタと呼ばれるものであり、例えば、ＳＯ2ガ
ス、ＨＦガス、ＮＨ3ガスを吸着させるケミカルフィル
タなどにおいては次のような化学反応を生じることによ
ってそれらのガス状不純物を除去するようにしている。
【００１０】３ＳＯ2＋２ＫＭnＯ4＋４ＫＯＨ → ３
Ｋ2ＳＯ4＋２ＭnＯ2＋２Ｈ2Ｏ
Ｋ2ＳＯ4＋２ＭnＯ2＋２Ｈ2Ｏ
【００１１】 ２ＨＦ＋Ｃa（ＯＨ）2 → ＣaＦ2＋２Ｈ2Ｏ
【００１２】３ＮＨ3＋Ｈ3ＰＯ4 → （ＮＨ4）3ＰＯ4
【００１３】一方、湿式のガス状不純物除去手段は、ガ
ス状不純物を気液接触により吸収して除去するものであ
る。例えば、ＨＦガスは水やＮaＯＨ水溶液を用いて吸
収することにより除去することができる。また、ＮＨ3
ガスは水、Ｈ2ＳＯ4やＨＣl水溶液などによって吸収
し、除去することができる。
ス状不純物を気液接触により吸収して除去するものであ
る。例えば、ＨＦガスは水やＮaＯＨ水溶液を用いて吸
収することにより除去することができる。また、ＮＨ3
ガスは水、Ｈ2ＳＯ4やＨＣl水溶液などによって吸収
し、除去することができる。
【００１４】
【実施例】先ず、図１をもとにしてクリーンルームシス
テムの概要を説明する。外気取入経路１から、外調機２
を介して系内に供給された外気は、クリーンルーム３の
上方に設けられたサプライプレナムチャンバ４に一旦供
給され、その後、クリーンルーム３の天井に配置されて
いる複数のファンフィルタユニット５を介してクリーン
ルーム３内に導入される。クリーンルーム３の床には複
数のファンユニット６が配置され、クリーンルーム３内
を経た還気はそれらファンユニット６を介してクリーン
ルーム３の下方に設けられたレタンプレナムチャンバ７
に一旦供給され、その後、レタン経路８を介して循環
し、再びサプライプレナムチャンバ４に供給され、ファ
ンフィルタユニット５を介してクリーンルーム３内に導
入される。また、クリーンルーム３内を経た還気の一部
は排気経路９を経て外部に排気される。
テムの概要を説明する。外気取入経路１から、外調機２
を介して系内に供給された外気は、クリーンルーム３の
上方に設けられたサプライプレナムチャンバ４に一旦供
給され、その後、クリーンルーム３の天井に配置されて
いる複数のファンフィルタユニット５を介してクリーン
ルーム３内に導入される。クリーンルーム３の床には複
数のファンユニット６が配置され、クリーンルーム３内
を経た還気はそれらファンユニット６を介してクリーン
ルーム３の下方に設けられたレタンプレナムチャンバ７
に一旦供給され、その後、レタン経路８を介して循環
し、再びサプライプレナムチャンバ４に供給され、ファ
ンフィルタユニット５を介してクリーンルーム３内に導
入される。また、クリーンルーム３内を経た還気の一部
は排気経路９を経て外部に排気される。
【００１５】以上のように構成されたクリーンルームシ
ステムにおいて、外気や還気中に含まれるガス状不純物
を除去するためのガス状不純物除去手段が設けられる。
図２に示すように、ファンフィルタユニット５の内部に
ファン１０と高性能フィルタ（ＵＬＰＡフィルタ）１１
が設けられており、本実施例のものにおいては、更にフ
ァンフィルタユニット５の内部に、ガス状不純物除去手
段としてのケミカルフィルタ１２を内蔵している。通
常、ケミカルフィルタ１２の寿命は、高性能フィルタ１
１の寿命に比べて短い。従って、交換作業がし易いよう
にケミカルフィルタ１２はファン１０の上方（ファンフ
ィルタユニット５の空気吸い込み側）に設置するのがよ
い。このように、ファンフィルタユニット５にガス状不
純物除去手段としてのケミカルフィルタ１２を内蔵させ
ることによって、クリーンルーム３内に導入される空気
中に含まれている粒子状の不純物とガス状の不純物を同
時に除去することが可能となる。
ステムにおいて、外気や還気中に含まれるガス状不純物
を除去するためのガス状不純物除去手段が設けられる。
図２に示すように、ファンフィルタユニット５の内部に
ファン１０と高性能フィルタ（ＵＬＰＡフィルタ）１１
が設けられており、本実施例のものにおいては、更にフ
ァンフィルタユニット５の内部に、ガス状不純物除去手
段としてのケミカルフィルタ１２を内蔵している。通
常、ケミカルフィルタ１２の寿命は、高性能フィルタ１
１の寿命に比べて短い。従って、交換作業がし易いよう
にケミカルフィルタ１２はファン１０の上方（ファンフ
ィルタユニット５の空気吸い込み側）に設置するのがよ
い。このように、ファンフィルタユニット５にガス状不
純物除去手段としてのケミカルフィルタ１２を内蔵させ
ることによって、クリーンルーム３内に導入される空気
中に含まれている粒子状の不純物とガス状の不純物を同
時に除去することが可能となる。
【００１６】一方、クリーンルーム３内においてガス状
不純物が発生するような場合には、クリーンルーム３の
床に配置したファンユニット６にガス状不純物除去手段
を内蔵させるのがよい。このように構成することによっ
て、クリーンルーム３内において発生したガス状不純物
をファンユニット６において除去できるようになり、レ
タン経路８を介して循環させた還気をクリーンルーム３
内へ導入させる際にガス状不純物が混入することを防止
できる。
不純物が発生するような場合には、クリーンルーム３の
床に配置したファンユニット６にガス状不純物除去手段
を内蔵させるのがよい。このように構成することによっ
て、クリーンルーム３内において発生したガス状不純物
をファンユニット６において除去できるようになり、レ
タン経路８を介して循環させた還気をクリーンルーム３
内へ導入させる際にガス状不純物が混入することを防止
できる。
【００１７】図３、図４にガス状不純物除去手段として
のケミカルフィルタ１５を内蔵させたファンユニット６
を示す。図３に示すファンユニット６は、ファン１６の
上方近傍にケミカルフィルタ１５を配置した実施例であ
り、図４に示すファンユニット６は、クリーンルーム３
内からの還気を取り入れるためのホッパー１７にケミカ
ルフィルタ１５を配置した実施例である。何れの実施例
においても、クリーンルーム３内において発生したガス
状不純物をファンユニット６によって十分に吸引できる
ように、ホッパー１７の開口面積はできるだけ広くする
ことが望ましい。なお、クリーンルーム３の床にケミカ
ルフィルタ１５などのガス状不純物除去手段を配置する
と、通常は、それらガス状不純物除去手段が空気抵抗と
なることによってクリーンルーム３内の空気の流れが阻
害され、風量不足や気流の偏りといった問題を生じる。
しかし、図示のように、ファンユニット６にガス状不純
物除去手段を内蔵させてファン１６でクリーンルーム３
内の空気を強制排気するように構成すれば、以上のよう
な気流の偏りといった問題を解決することが可能であ
る。
のケミカルフィルタ１５を内蔵させたファンユニット６
を示す。図３に示すファンユニット６は、ファン１６の
上方近傍にケミカルフィルタ１５を配置した実施例であ
り、図４に示すファンユニット６は、クリーンルーム３
内からの還気を取り入れるためのホッパー１７にケミカ
ルフィルタ１５を配置した実施例である。何れの実施例
においても、クリーンルーム３内において発生したガス
状不純物をファンユニット６によって十分に吸引できる
ように、ホッパー１７の開口面積はできるだけ広くする
ことが望ましい。なお、クリーンルーム３の床にケミカ
ルフィルタ１５などのガス状不純物除去手段を配置する
と、通常は、それらガス状不純物除去手段が空気抵抗と
なることによってクリーンルーム３内の空気の流れが阻
害され、風量不足や気流の偏りといった問題を生じる。
しかし、図示のように、ファンユニット６にガス状不純
物除去手段を内蔵させてファン１６でクリーンルーム３
内の空気を強制排気するように構成すれば、以上のよう
な気流の偏りといった問題を解決することが可能であ
る。
【００１８】また、外調機２にガス状不純物除去手段を
内蔵させることもできる。このように外気取入経路１に
おいてもガス状不純物を除去する構成とすることによっ
て、クリーンルーム３内の高清浄化を更に向上させるこ
とが可能となる。なお、外調機２に内蔵させるガス状不
純物除去手段はケミカルフィルタのごとき乾式のもの、
あるいは、ガス状不純物を気液接触により吸収して除去
する湿式のガス状不純物除去手段の何れを用いても良
い。
内蔵させることもできる。このように外気取入経路１に
おいてもガス状不純物を除去する構成とすることによっ
て、クリーンルーム３内の高清浄化を更に向上させるこ
とが可能となる。なお、外調機２に内蔵させるガス状不
純物除去手段はケミカルフィルタのごとき乾式のもの、
あるいは、ガス状不純物を気液接触により吸収して除去
する湿式のガス状不純物除去手段の何れを用いても良
い。
【００１９】次に、図５に示すクリーンルームシステム
は、間仕切り２０、２１によって三つに分割されたクリ
ーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃを備えた実施例であ
る。外調機２を介してレタンプレナムチャンバ７に外気
が供給され、該外気はレタン経路８に設けられたドライ
コイル１９を介してサプライプレナムチャンバ４に一旦
供給された後、ファンフィルタユニット５ａ、５ｂ、５
ｃを介してクリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃ内にそ
れぞれ導入される。クリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３
ｃ内を経た還気はレタンプレナムチャンバ７に一旦供給
された後、レタン経路８を介して循環し、再びサプライ
プレナムチャンバ４、ファンフィルタユニット５ａ、５
ｂ、５ｃを介してクリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃ
内にそれぞれ導入される。また、循環空気の一部は、排
気装置２３等によりクリーンルームシステムの系外に排
出される。
は、間仕切り２０、２１によって三つに分割されたクリ
ーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃを備えた実施例であ
る。外調機２を介してレタンプレナムチャンバ７に外気
が供給され、該外気はレタン経路８に設けられたドライ
コイル１９を介してサプライプレナムチャンバ４に一旦
供給された後、ファンフィルタユニット５ａ、５ｂ、５
ｃを介してクリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃ内にそ
れぞれ導入される。クリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３
ｃ内を経た還気はレタンプレナムチャンバ７に一旦供給
された後、レタン経路８を介して循環し、再びサプライ
プレナムチャンバ４、ファンフィルタユニット５ａ、５
ｂ、５ｃを介してクリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃ
内にそれぞれ導入される。また、循環空気の一部は、排
気装置２３等によりクリーンルームシステムの系外に排
出される。
【００２０】この実施例のクリーンルームシステムにあ
っては、クリーンルーム領域３ｃでは例えば精密電子部
品などの製造が行われるので、クリーンルーム領域３ｃ
に導入される空気についてはガス状不純物の除去が必要
である。また、クリーンルーム領域３ｂでは室内で使用
された薬液が蒸気となってガス状不純物が発生するた
め、クリーンルーム領域３ｂを経た還気についてはガス
状不純物の除去が必要である。一方、クリーンルーム領
域３ａに導入される空気及びクリーンルーム領域３ｃを
経た還気についてはガス状不純物の除去は特に必要では
ない。
っては、クリーンルーム領域３ｃでは例えば精密電子部
品などの製造が行われるので、クリーンルーム領域３ｃ
に導入される空気についてはガス状不純物の除去が必要
である。また、クリーンルーム領域３ｂでは室内で使用
された薬液が蒸気となってガス状不純物が発生するた
め、クリーンルーム領域３ｂを経た還気についてはガス
状不純物の除去が必要である。一方、クリーンルーム領
域３ａに導入される空気及びクリーンルーム領域３ｃを
経た還気についてはガス状不純物の除去は特に必要では
ない。
【００２１】そこで、この実施例のクリーンルームシス
テムにあっては、クリーンルーム領域３ｃの天井に配置
されているファンフィルタユニット５ｃのみにケミカル
フィルタ１２を装着し、クリーンルーム領域３ｂの床に
はケミカルフィルタ１５を内蔵するファンユニット６ｂ
を配置している。また、外調機２には乾式もしくは湿式
のガス状不純物除去手段２２を内蔵させている。
テムにあっては、クリーンルーム領域３ｃの天井に配置
されているファンフィルタユニット５ｃのみにケミカル
フィルタ１２を装着し、クリーンルーム領域３ｂの床に
はケミカルフィルタ１５を内蔵するファンユニット６ｂ
を配置している。また、外調機２には乾式もしくは湿式
のガス状不純物除去手段２２を内蔵させている。
【００２２】従って、この実施例のクリーンルームシス
テムによれば、間仕切り２０、２１によって分割された
クリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃには、天井に配置
されたファンフィルタユニット５ａ、５ｂ、５ｃを介し
て粒子状不純物の除去が行われた無塵の空気がそれぞれ
導入される。そして特に、クリーンルーム領域３ｃには
ファンフィルタユニット５ｃに設けられたケミカルフィ
ルタ１２によってガス状不純物をも除去された、精密電
子部品などの製造に好適な清浄な空気が導入される。ま
た、クリーンルーム領域３ｂで発生したガス状不純物
は、ファンユニット６ｂに内蔵したケミカルフィルタ１
５によって除去され、こうして、レタンプレナムチャン
バ７に供給される還気にはガス状不純物は混入しない。
テムによれば、間仕切り２０、２１によって分割された
クリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃには、天井に配置
されたファンフィルタユニット５ａ、５ｂ、５ｃを介し
て粒子状不純物の除去が行われた無塵の空気がそれぞれ
導入される。そして特に、クリーンルーム領域３ｃには
ファンフィルタユニット５ｃに設けられたケミカルフィ
ルタ１２によってガス状不純物をも除去された、精密電
子部品などの製造に好適な清浄な空気が導入される。ま
た、クリーンルーム領域３ｂで発生したガス状不純物
は、ファンユニット６ｂに内蔵したケミカルフィルタ１
５によって除去され、こうして、レタンプレナムチャン
バ７に供給される還気にはガス状不純物は混入しない。
【００２３】かくして、この実施例のクリーンルームシ
ステムによれば、導入空気や還気についてガス状不純物
の除去が必要なクリーンルーム領域３ｃ、３ｂにおいて
は、ファンフィルタユニット５ｃやファンユニット６ｂ
にガス状不純物除去手段を設け、ガス状不純物の除去が
必要でないクリーンルーム領域３ａにおいてはガス状不
純物除去手段を設ける必要がない。従って、各ゾーン毎
に最適なガス状不純物の除去が行えるようになり、必要
以上の設備投資を抑えることが可能となる。更にまた、
外調機２にも乾式または湿式のガス状不純物除去手段を
内蔵させることによって、外気由来のガス状不純物も除
去できる。
ステムによれば、導入空気や還気についてガス状不純物
の除去が必要なクリーンルーム領域３ｃ、３ｂにおいて
は、ファンフィルタユニット５ｃやファンユニット６ｂ
にガス状不純物除去手段を設け、ガス状不純物の除去が
必要でないクリーンルーム領域３ａにおいてはガス状不
純物除去手段を設ける必要がない。従って、各ゾーン毎
に最適なガス状不純物の除去が行えるようになり、必要
以上の設備投資を抑えることが可能となる。更にまた、
外調機２にも乾式または湿式のガス状不純物除去手段を
内蔵させることによって、外気由来のガス状不純物も除
去できる。
【００２４】次に、図６に間仕切りが無いクリーンルー
ムシステムの実施例を示す。この実施例のクリーンルー
ムシステムはクリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃの間
に間仕切りが設けられていないこと以外は、先に図５で
説明したクリーンルームシステムとほぼ同様の構成を備
えており、図６において図５と同様の構成要素について
は同じ符号を付し、説明は省略する。しかして、この実
施例のクリーンルームシステムにおいても、クリーンル
ーム領域３ａ、３ｂ、３ｃにはファンフィルタユニット
５ａ、５ｂ、５ｃを介して粒子状不純物の除去が行われ
た無塵の空気がそれぞれ導入される。そして、クリーン
ルーム領域３ｃにはファンフィルタユニット５ｃのケミ
カルフィルタ１２によってガス状不純物をも除去された
清浄な空気が導入され、クリーンルーム領域３ｂで発生
したガス状不純物はファンユニット６ｂのケミカルフィ
ルタ１５によって除去されることとなる。但し、この実
施例のように間仕切りを省略した場合は、クリーンルー
ムの天井や床の一部分のみにケミカルフィルタなどのガ
ス状不純物除去手段が設置されることによって、各クリ
ーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃにおける空気流速が不
均一となり、室内気流の偏りが発生しやすくなるといっ
た問題を生じる。そこで、この実施例のように間仕切り
を省略した場合は、ケミカルフィルタ１２を設けたファ
ンフィルタユニット５ｃやケミカルフィル１５を内蔵さ
せたファンユニット６ｂの送風能力を調節自在に構成
し、それらファンフィルタユニット５ｃやファンユニッ
ト６ｂの送風量を適宜調整することにより、室内気流の
偏りをなくして気流形状の乱れや循環空気量のばらつ
き、部分的な流量不足などを解消するように制御するこ
とが望ましい。具体的には、ファンフィルタユニット５
に内蔵されたファン１０やファンユニット６に内蔵され
たファン１６の回転稼働量をインバータ２３、２４など
を用いて制御するのがよい。
ムシステムの実施例を示す。この実施例のクリーンルー
ムシステムはクリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃの間
に間仕切りが設けられていないこと以外は、先に図５で
説明したクリーンルームシステムとほぼ同様の構成を備
えており、図６において図５と同様の構成要素について
は同じ符号を付し、説明は省略する。しかして、この実
施例のクリーンルームシステムにおいても、クリーンル
ーム領域３ａ、３ｂ、３ｃにはファンフィルタユニット
５ａ、５ｂ、５ｃを介して粒子状不純物の除去が行われ
た無塵の空気がそれぞれ導入される。そして、クリーン
ルーム領域３ｃにはファンフィルタユニット５ｃのケミ
カルフィルタ１２によってガス状不純物をも除去された
清浄な空気が導入され、クリーンルーム領域３ｂで発生
したガス状不純物はファンユニット６ｂのケミカルフィ
ルタ１５によって除去されることとなる。但し、この実
施例のように間仕切りを省略した場合は、クリーンルー
ムの天井や床の一部分のみにケミカルフィルタなどのガ
ス状不純物除去手段が設置されることによって、各クリ
ーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃにおける空気流速が不
均一となり、室内気流の偏りが発生しやすくなるといっ
た問題を生じる。そこで、この実施例のように間仕切り
を省略した場合は、ケミカルフィルタ１２を設けたファ
ンフィルタユニット５ｃやケミカルフィル１５を内蔵さ
せたファンユニット６ｂの送風能力を調節自在に構成
し、それらファンフィルタユニット５ｃやファンユニッ
ト６ｂの送風量を適宜調整することにより、室内気流の
偏りをなくして気流形状の乱れや循環空気量のばらつ
き、部分的な流量不足などを解消するように制御するこ
とが望ましい。具体的には、ファンフィルタユニット５
に内蔵されたファン１０やファンユニット６に内蔵され
たファン１６の回転稼働量をインバータ２３、２４など
を用いて制御するのがよい。
【００２５】
【発明の効果】本発明によればクリーンルームにおいて
粒子状不純物に加えてガス状不純物をも除去できるよう
になる。また、いわゆるゾーニングを行ってガス状不純
物を除去することにより、目的に応じた最適な清浄化を
行うことができ、過剰な設備を必要とせず、合理的かつ
経済的である。
粒子状不純物に加えてガス状不純物をも除去できるよう
になる。また、いわゆるゾーニングを行ってガス状不純
物を除去することにより、目的に応じた最適な清浄化を
行うことができ、過剰な設備を必要とせず、合理的かつ
経済的である。
【図１】クリーンルームシステムの概要を示す図面
【図２】ケミカルフィルタを内蔵するファンフィルタユ
ニットの説明図
ニットの説明図
【図３】ファンの上方近傍にケミカルフィルタを配置し
たファンユニットの説明図
たファンユニットの説明図
【図４】ホッパーにケミカルフィルタを配置したファン
ユニットの説明図
ユニットの説明図
【図５】間仕切りによって分割されたクリーンルーム領
域を備えたクリーンルームシステムの実施例を示す図面
域を備えたクリーンルームシステムの実施例を示す図面
【図６】間仕切りが無いクリーンルームシステムの実施
例を示す図面
例を示す図面
１ 外気取入経路 ２ 外調機 ３ クリーンルーム ４ サプライプレナムチャンバ ５ ファンフィルタユニット ６ ファンユニット ７ レタンプレナムチャンバ ８ レタン経路 ９ 排気経路
Claims (15)
- 【請求項１】 外気を高性能フィルタを介してクリーン
ルーム内に導入すると共に、該クリーンルーム内を経た
還気を再び高性能フィルタを介してクリーンルーム内に
導入するように構成したものにおいて、外気及び／また
は還気中に含まれるガス状不純物を除去するためのガス
状不純物除去手段を設けたことを特徴とするクリーンル
ームシステム。 - 【請求項２】 ガス状不純物除去手段をクリーンルーム
の天井に配置したことを特徴とする請求項１に記載のク
リーンルームシステム。 - 【請求項３】 ゾーニングを可能にすべく、ガス状不純
物除去手段をクリーンルームの天井において一部に配置
したことを特徴とする請求項２に記載のクリーンルーム
システム。 - 【請求項４】 クリーンルームの天井に配置された複数
のファンフィルタユニットの全部または一部にガス状不
純物除去手段を内蔵させたことを特徴とする請求項２ま
たは３に記載のクリーンルームシステム。 - 【請求項５】 ファンフィルタユニットの送風能力を調
節自在に構成したことを特徴とする請求項４に記載のク
リーンルームシステム。 - 【請求項６】 ファンフィルタユニットの送風能力をイ
ンバータ制御により調節自在に構成したことを特徴とす
る請求項５に記載のクリーンルームシステム。 - 【請求項７】 ガス状不純物除去手段をクリーンルーム
の床に配置したことを特徴とする請求項１〜６の何れか
に記載のクリーンルームシステム。 - 【請求項８】 ゾーニングを可能にすべく、ガス状不純
物除去手段をクリーンルームの床において一部に配置し
たことを特徴とする請求項７に記載のクリーンルームシ
ステム。 - 【請求項９】 クリーンルームの床に配置されたファン
ユニットにガス状不純物除去手段を内蔵させたことを特
徴とする請求項７または８に記載のクリーンルームシス
テム。 - 【請求項１０】 ファンユニットの送風能力を調節自在
に構成したことを特徴とする請求項９に記載のクリーン
ルームシステム。 - 【請求項１１】 ファンユニットの送風能力をインバー
タ制御により調節自在に構成したことを特徴とする請求
項１０に記載のクリーンルームシステム。 - 【請求項１２】 ガス状不純物除去手段を外気の取り入
れ部に配置したことを特徴とする請求項１〜１１の何れ
かに記載のクリーンルームシステム。 - 【請求項１３】 ガス状不純物除去手段が乾式及び／ま
たは湿式のものであることを特徴とする請求項１〜１２
の何れかに記載のクリーンルームシステム。 - 【請求項１４】 乾式のガス状不純物除去手段はケミカ
ルフィルタであることを特徴とする請求項１３に記載の
クリーンルームシステム。 - 【請求項１５】 湿式のガス状不純物除去手段はガス状
不純物を気液接触により吸収して除去するものであるこ
とを特徴とする請求項１３に記載のクリーンルームシス
テム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25484694A JP3694046B2 (ja) | 1994-09-21 | 1994-09-21 | クリーンルームシステム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25484694A JP3694046B2 (ja) | 1994-09-21 | 1994-09-21 | クリーンルームシステム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0889747A true JPH0889747A (ja) | 1996-04-09 |
| JP3694046B2 JP3694046B2 (ja) | 2005-09-14 |
Family
ID=17270669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25484694A Expired - Lifetime JP3694046B2 (ja) | 1994-09-21 | 1994-09-21 | クリーンルームシステム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3694046B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6123617A (en) * | 1998-11-02 | 2000-09-26 | Seh-America, Inc. | Clean room air filtering system |
| JP2006288938A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Samsung Electronics Co Ltd | 化学フィルター及び化学フィルターを有するファンフィルターユニット |
| US7527468B2 (en) | 2003-03-20 | 2009-05-05 | Huntair, Inc. | Fan array fan section in air-handling systems |
| JP2014236081A (ja) * | 2013-05-31 | 2014-12-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
| CN105318480A (zh) * | 2015-12-01 | 2016-02-10 | 无锡拓能自动化科技有限公司 | 一种智能驱动式空气对流排风系统 |
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| CN105509221A (zh) * | 2015-12-01 | 2016-04-20 | 无锡拓能自动化科技有限公司 | 一种空气对流式自动化排风系统 |
| US10495094B2 (en) | 2003-03-20 | 2019-12-03 | Nortek Air Solutions, Llc | Modular fan housing with multiple modular units having sound attenuation for a fan array for an air-handling system |
| JP2020070955A (ja) * | 2018-10-30 | 2020-05-07 | 株式会社竹中工務店 | クリーンルームシステム |
| US11255332B2 (en) | 2003-03-20 | 2022-02-22 | Nortek Air Solutions, Llc | Modular fan housing with multiple modular units having sound attenuation for a fan array for an air-handling system |
| DE102023136848A1 (de) * | 2023-12-29 | 2025-07-03 | Dastex Group GmbH | Lüftungssystem, Reinhaltungsvorrichtung und Verfahren zur Schaffung eines Reinbereichs durch einen Luftstrom |
-
1994
- 1994-09-21 JP JP25484694A patent/JP3694046B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US10641271B2 (en) | 2003-03-20 | 2020-05-05 | Nortek Air Solutions, Llc | Fan array fan section in air-handling systems |
| US11255332B2 (en) | 2003-03-20 | 2022-02-22 | Nortek Air Solutions, Llc | Modular fan housing with multiple modular units having sound attenuation for a fan array for an air-handling system |
| JP2006288938A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Samsung Electronics Co Ltd | 化学フィルター及び化学フィルターを有するファンフィルターユニット |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3694046B2 (ja) | 2005-09-14 |
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