JPH10267338A - クリーンルーム - Google Patents
クリーンルームInfo
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- JPH10267338A JPH10267338A JP9068508A JP6850897A JPH10267338A JP H10267338 A JPH10267338 A JP H10267338A JP 9068508 A JP9068508 A JP 9068508A JP 6850897 A JP6850897 A JP 6850897A JP H10267338 A JPH10267338 A JP H10267338A
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- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 55
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 17
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 3
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 3
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000011271 tar pitch Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Ventilation (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガス成分の拡散を防止するとともにガス除去
フィルタの延命を可能とすること。 【解決手段】 室と、室の上部側に配設されたファンフ
ィルタユニットと、ファンフィルタユニットの上面側に
形成された天井空間と、室の下部側を仕切るとともに上
面に生産装置または機器を配置する空気流通孔を備えた
床と、生産機械または機器が配置された床の周囲の裏面
側に配置されるとともにファンを備えた第一のガス除去
フィルタと、床の下面側に形成された床下空間と、床下
空間と天井空間とを連絡する空気流路と、床下空間、空
気流路またはファンフィルタユニットに設けた第二のガ
ス除去フィルタと、空気流路の設けた冷却コイルとを有
する。
フィルタの延命を可能とすること。 【解決手段】 室と、室の上部側に配設されたファンフ
ィルタユニットと、ファンフィルタユニットの上面側に
形成された天井空間と、室の下部側を仕切るとともに上
面に生産装置または機器を配置する空気流通孔を備えた
床と、生産機械または機器が配置された床の周囲の裏面
側に配置されるとともにファンを備えた第一のガス除去
フィルタと、床の下面側に形成された床下空間と、床下
空間と天井空間とを連絡する空気流路と、床下空間、空
気流路またはファンフィルタユニットに設けた第二のガ
ス除去フィルタと、空気流路の設けた冷却コイルとを有
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体工場、精密
機械工場、薬品製造工場などの無塵室あるいは無菌室に
適用されるクリーンルームに係り、特にガス除去機能を
備えたクリーンルームに関するものである。
機械工場、薬品製造工場などの無塵室あるいは無菌室に
適用されるクリーンルームに係り、特にガス除去機能を
備えたクリーンルームに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のクリーンルームとして
は、例えば、特開平２−１２６９１２号公報、特開平４
−３０６４５０号公報、特開平４−３０９７３５号公
報、特開平４−３３４５１９号公報、特開平５−５７１
３６号公報、特開平８−８９７４７号公報などに開示さ
れるものが知られている。
は、例えば、特開平２−１２６９１２号公報、特開平４
−３０６４５０号公報、特開平４−３０９７３５号公
報、特開平４−３３４５１９号公報、特開平５−５７１
３６号公報、特開平８−８９７４７号公報などに開示さ
れるものが知られている。
【０００３】これを図３に基づいて説明する。図４に示
すクリーンルーム１は、室２と、室２の上部側に配設さ
れたファンフィルタユニット３と、ファンフィルタユニ
ット３の上面側に配されたケミカルフィルタ４と、ファ
ンフィルタユニット３の上面側に形成された天井空間５
と、室２の下部側を仕切るとともに上面に生産装置６を
配置する空気流通孔８を備えた床７と、床７の下面側に
形成された床下空間９と、床下空間９と天井空間５とを
連絡する空気流路１０と、空気流路１０内に設けられた
冷却コイル１１と、ファンフィルタユニット３を介して
清浄空気を空気通路１０内に供給するとともに外気を供
給する外気処理機１２とで構成されている。
すクリーンルーム１は、室２と、室２の上部側に配設さ
れたファンフィルタユニット３と、ファンフィルタユニ
ット３の上面側に配されたケミカルフィルタ４と、ファ
ンフィルタユニット３の上面側に形成された天井空間５
と、室２の下部側を仕切るとともに上面に生産装置６を
配置する空気流通孔８を備えた床７と、床７の下面側に
形成された床下空間９と、床下空間９と天井空間５とを
連絡する空気流路１０と、空気流路１０内に設けられた
冷却コイル１１と、ファンフィルタユニット３を介して
清浄空気を空気通路１０内に供給するとともに外気を供
給する外気処理機１２とで構成されている。
【０００４】このクリーンルームにおいては、床下空間
９内の空気を、冷却コイル１１に導いた後、空調された
空気を天井空間５に供給し、ファンフィルタユニット３
から室２内に吹き出させることにより室２内の空気の空
調および浄化が行われている。同時に、床下空間９内の
空気は、天井側に設けたファンフィルタユニット３によ
って空気流路１０を経由して天井空間５へ導かれる途中
で冷却コイル１１により冷却され、その後、ケミカルフ
ィルタ４によって生産装置６から漏れ出た有害ガスが除
去され、室２内に吹き出される。
９内の空気を、冷却コイル１１に導いた後、空調された
空気を天井空間５に供給し、ファンフィルタユニット３
から室２内に吹き出させることにより室２内の空気の空
調および浄化が行われている。同時に、床下空間９内の
空気は、天井側に設けたファンフィルタユニット３によ
って空気流路１０を経由して天井空間５へ導かれる途中
で冷却コイル１１により冷却され、その後、ケミカルフ
ィルタ４によって生産装置６から漏れ出た有害ガスが除
去され、室２内に吹き出される。
【０００５】なお、循環する空調空気がクリーンルーム
１から流出した場合には、外気処理機１２から新しい清
浄な空気が補われる。したがって、生産装置６での作業
領域においては、清浄な空気が例えば０．３ｍ／ｓ程度
の流速で送られ、塵埃などがワークに付着しないように
されている。図５は、別のクリーンルーム１５を示す。
１から流出した場合には、外気処理機１２から新しい清
浄な空気が補われる。したがって、生産装置６での作業
領域においては、清浄な空気が例えば０．３ｍ／ｓ程度
の流速で送られ、塵埃などがワークに付着しないように
されている。図５は、別のクリーンルーム１５を示す。
【０００６】このクリーンルーム１５では、床下空間９
と空気流路１０との境界部１６にケミカルフィルタ１７
が配置されている。このクリーンルーム１５において
も、図４に示すクリーンルーム１と同様にケミカルフィ
ルタ１７によって生産装置６から漏れ出た有害ガスを除
去することができた。
と空気流路１０との境界部１６にケミカルフィルタ１７
が配置されている。このクリーンルーム１５において
も、図４に示すクリーンルーム１と同様にケミカルフィ
ルタ１７によって生産装置６から漏れ出た有害ガスを除
去することができた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のクリーンルーム１または１５では、生産装置
６から漏れ出たガス成分は、室２内全体に拡散した後、
ケミカルフィルタ４または１７によって除去されてい
た。そして、室２内の許容は低濃度のため、ケミカルフ
ィルタ４および１７は、低濃度用のフィルタが用いられ
ていた。ところが、低濃度用のケミカルフィルタは、不
織布、シートなどの基材に活性炭、ゼオライト、シリカ
ゲルなどの廬材を付着してなる１０ｐｐｂ以下の低濃度
のガス除去用であるため、吸着容量が少ない。そのた
め、寿命が短く、交換回数が多く、メンテナンスが面倒
であるとともに、コストが高いという欠点があった。
うな従来のクリーンルーム１または１５では、生産装置
６から漏れ出たガス成分は、室２内全体に拡散した後、
ケミカルフィルタ４または１７によって除去されてい
た。そして、室２内の許容は低濃度のため、ケミカルフ
ィルタ４および１７は、低濃度用のフィルタが用いられ
ていた。ところが、低濃度用のケミカルフィルタは、不
織布、シートなどの基材に活性炭、ゼオライト、シリカ
ゲルなどの廬材を付着してなる１０ｐｐｂ以下の低濃度
のガス除去用であるため、吸着容量が少ない。そのた
め、寿命が短く、交換回数が多く、メンテナンスが面倒
であるとともに、コストが高いという欠点があった。
【０００８】なお、ケミカルフィルタ４および１７とし
て、高濃度用のケミカルフィルタを用いると、当然に寿
命が延び、交換回数が減らすことはできるが、通気抵抗
が増大し、クリーンルーム１および１５の運転の動力が
大型化し、トータルコストが増大し好ましくない。ま
た、ガス成分としては、ケミカル成分に限らず、有臭ガ
ス成分の場合もある。
て、高濃度用のケミカルフィルタを用いると、当然に寿
命が延び、交換回数が減らすことはできるが、通気抵抗
が増大し、クリーンルーム１および１５の運転の動力が
大型化し、トータルコストが増大し好ましくない。ま
た、ガス成分としては、ケミカル成分に限らず、有臭ガ
ス成分の場合もある。
【０００９】本発明は、かかる従来の問題点を解決する
ためになされたもので、その目的は、ガス成分の拡散を
防止するとともにガス除去フィルタの延命を可能とした
クリーンルームを提供することにある。
ためになされたもので、その目的は、ガス成分の拡散を
防止するとともにガス除去フィルタの延命を可能とした
クリーンルームを提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
室と、室の上部側に配設されたファンフィルタユニット
と、ファンフィルタユニットの上面側に形成された天井
空間と、室の下部側を仕切るとともに上面に生産装置ま
たは機器を配置する空気流通孔を備えた床と、生産機械
または機器が配置された床の周囲の裏面側に配置される
とともにファンを備えた第一のガス除去フィルタと、床
の下面側に形成された床下空間と、床下空間と天井空間
とを連絡する空気流路と、床下空間、空気流路またはフ
ァンフィルタユニットに設けた第二のガス除去フィルタ
と、空気流路に設けた冷却コイルとを有することを特徴
とする。
室と、室の上部側に配設されたファンフィルタユニット
と、ファンフィルタユニットの上面側に形成された天井
空間と、室の下部側を仕切るとともに上面に生産装置ま
たは機器を配置する空気流通孔を備えた床と、生産機械
または機器が配置された床の周囲の裏面側に配置される
とともにファンを備えた第一のガス除去フィルタと、床
の下面側に形成された床下空間と、床下空間と天井空間
とを連絡する空気流路と、床下空間、空気流路またはフ
ァンフィルタユニットに設けた第二のガス除去フィルタ
と、空気流路に設けた冷却コイルとを有することを特徴
とする。
【００１１】請求項２記載の発明は、室と、室の上部側
に配設されたファンフィルタユニットと、ファンフィル
タユニットの上面側に形成された天井空間と、室の下部
側を仕切るとともに上面に生産装置または機器を配置す
る空気流通孔を備えた床と、生産機械または機器が配置
された床の周囲の裏面側に配置されるとともにファンを
備えた第一のガス除去フィルタと、床の下面側に形成さ
れた床下空間と、床下空間と天井空間とを連絡する空気
流路と、床下空間、空気流路またはファンフィルタユニ
ットに設けた第二のガス除去フィルタと、空気流路に連
絡する空調機とを有することを特徴とする。
に配設されたファンフィルタユニットと、ファンフィル
タユニットの上面側に形成された天井空間と、室の下部
側を仕切るとともに上面に生産装置または機器を配置す
る空気流通孔を備えた床と、生産機械または機器が配置
された床の周囲の裏面側に配置されるとともにファンを
備えた第一のガス除去フィルタと、床の下面側に形成さ
れた床下空間と、床下空間と天井空間とを連絡する空気
流路と、床下空間、空気流路またはファンフィルタユニ
ットに設けた第二のガス除去フィルタと、空気流路に連
絡する空調機とを有することを特徴とする。
【００１２】請求項３記載の発明は、請求項１または請
求項２記載のクリーンルームにおいて、生産機械または
機器が配置された領域のファンフィルタユニットからの
流速は、生産機械または機器が配置されていない領域の
フィルタユニットからの流速よりも早く、かつ床の裏面
側の吸引装置による流速は、生産機械または機器が設置
されていない領域の流速より早くされていることを特徴
とする。
求項２記載のクリーンルームにおいて、生産機械または
機器が配置された領域のファンフィルタユニットからの
流速は、生産機械または機器が配置されていない領域の
フィルタユニットからの流速よりも早く、かつ床の裏面
側の吸引装置による流速は、生産機械または機器が設置
されていない領域の流速より早くされていることを特徴
とする。
【００１３】請求項４記載に発明は、請求項１ないし請
求項３の何れか１項記載のクリーンルームにおいて、第
一のガス除去フィルタは、第二のガス除去フィルタより
も多量のガス除去材を有することを特徴とする。
求項３の何れか１項記載のクリーンルームにおいて、第
一のガス除去フィルタは、第二のガス除去フィルタより
も多量のガス除去材を有することを特徴とする。
【００１４】（作用）請求項１記載の発明においては、
清浄空気は、ファンフィルタユニットを介して室内へ供
給され、床の空気流通孔を介して床下空間へ流下し、床
下空間から空気流路を経由して冷却コイルにて空調され
た後に天井空間へ戻される。
清浄空気は、ファンフィルタユニットを介して室内へ供
給され、床の空気流通孔を介して床下空間へ流下し、床
下空間から空気流路を経由して冷却コイルにて空調され
た後に天井空間へ戻される。
【００１５】そして、室内においては、生産機械または
機器から漏れ出たケミカル成分や有臭ガス成分が、生産
機械または機器が配置された床の周囲の裏面側に配置さ
れたファンによって拡散することなく直ちに第一のガス
除去フィルタへ導かれ、ほとんどのケミカル成分や有臭
ガス成分が第一のガス除去フィルタで除去される。さら
に、床下空間へ導かれた空気と第一のガス除去フィルタ
で濾過された空気とが、空気流路に設けた第二のガス除
去フィルタによって濾過される。
機器から漏れ出たケミカル成分や有臭ガス成分が、生産
機械または機器が配置された床の周囲の裏面側に配置さ
れたファンによって拡散することなく直ちに第一のガス
除去フィルタへ導かれ、ほとんどのケミカル成分や有臭
ガス成分が第一のガス除去フィルタで除去される。さら
に、床下空間へ導かれた空気と第一のガス除去フィルタ
で濾過された空気とが、空気流路に設けた第二のガス除
去フィルタによって濾過される。
【００１６】請求項２記載の発明においては、清浄空気
は、ファンフィルタユニットを介して室内へ供給され、
床の空気流通孔を介して床下空間へ流下し、床下空間か
ら空気流路を経由して空調機にて空調された後に天井空
間へ戻される。そして、室内においては、生産機械また
は機器から漏れ出たケミカル成分や有臭ガス成分が、生
産機械または機器が配置された床の周囲の裏面側に配置
されたファンによって拡散することなく直ちに第一のガ
ス除去フィルタへ導かれ、ほとんどのケミカル成分や有
臭ガス成分が第一のガス除去フィルタで除去される。
は、ファンフィルタユニットを介して室内へ供給され、
床の空気流通孔を介して床下空間へ流下し、床下空間か
ら空気流路を経由して空調機にて空調された後に天井空
間へ戻される。そして、室内においては、生産機械また
は機器から漏れ出たケミカル成分や有臭ガス成分が、生
産機械または機器が配置された床の周囲の裏面側に配置
されたファンによって拡散することなく直ちに第一のガ
ス除去フィルタへ導かれ、ほとんどのケミカル成分や有
臭ガス成分が第一のガス除去フィルタで除去される。
【００１７】さらに、床下空間へ導かれた空気と第一の
ガス除去フィルタで濾過された空気とが、空気流路に設
けた第二のガス除去フィルタによって濾過される。請求
項３記載の発明においては、生産機械または機器が配置
された領域のファンフィルタユニットからの流速は、生
産機械または機器が配置されていない領域のファンフィ
ルタユニットからの流速よりも早く、かつ床の裏面側の
ファンによる流速は、生産機械または機器が設置されて
いない領域の流速より早くされている。
ガス除去フィルタで濾過された空気とが、空気流路に設
けた第二のガス除去フィルタによって濾過される。請求
項３記載の発明においては、生産機械または機器が配置
された領域のファンフィルタユニットからの流速は、生
産機械または機器が配置されていない領域のファンフィ
ルタユニットからの流速よりも早く、かつ床の裏面側の
ファンによる流速は、生産機械または機器が設置されて
いない領域の流速より早くされている。
【００１８】したがって、生産装置または機器が配置さ
れた領域では、その他の領域よりも流速が早く、かつ床
面側から吸引されている。そこで、生産装置または機器
から漏洩したケミカル成分や有臭ガス成分は、生産装置
または機器が配置された領域の気流によって床側へ拡散
することなく強制的に導かれる。
れた領域では、その他の領域よりも流速が早く、かつ床
面側から吸引されている。そこで、生産装置または機器
から漏洩したケミカル成分や有臭ガス成分は、生産装置
または機器が配置された領域の気流によって床側へ拡散
することなく強制的に導かれる。
【００１９】請求項４記載の発明においては、生産装置
または機器から漏洩したケミカル成分や有臭ガス成分
は、高濃度の状態で第一のガス除去フィルタで十分に除
去される。
または機器から漏洩したケミカル成分や有臭ガス成分
は、高濃度の状態で第一のガス除去フィルタで十分に除
去される。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。
基づいて説明する。
【００２１】図１および図２は、請求項１、請求項３、
請求項４記載の発明に係るクリーンルームの一実施形態
を示す。本実施形態に示すクリーンルーム２０は、室２
１と、室２１の上部側に配設されたファンフィルタユニ
ット２２と、ファンフィルタユニット２２の上面側に形
成された天井空間２３と、室２１の下部側を仕切るとと
もに上面に生産装置２６を配置する空気流通孔２５を備
えた床２４と、床２４の下面側に形成された床下空間２
７と、生産機械または機器２６が配置された床２４の周
囲の裏面側に配置されるとともにファン２９を備えた第
一のガス除去フィルタ２８と、床下空間２７と天井空間
２３とを連絡する空気流路３０と、床下空間２７と空気
流路３０との境界部に設けた第二のガス除去フィルタ３
１と、空気流路３０内に設けられた冷却コイル３２とで
構成されている。
請求項４記載の発明に係るクリーンルームの一実施形態
を示す。本実施形態に示すクリーンルーム２０は、室２
１と、室２１の上部側に配設されたファンフィルタユニ
ット２２と、ファンフィルタユニット２２の上面側に形
成された天井空間２３と、室２１の下部側を仕切るとと
もに上面に生産装置２６を配置する空気流通孔２５を備
えた床２４と、床２４の下面側に形成された床下空間２
７と、生産機械または機器２６が配置された床２４の周
囲の裏面側に配置されるとともにファン２９を備えた第
一のガス除去フィルタ２８と、床下空間２７と天井空間
２３とを連絡する空気流路３０と、床下空間２７と空気
流路３０との境界部に設けた第二のガス除去フィルタ３
１と、空気流路３０内に設けられた冷却コイル３２とで
構成されている。
【００２２】ここで、ファンフィルタユニット２２は、
ＵＬＰＡフィルタ，ＨＥＰＡフィルタなどの高性能フィ
ルタ２２ａを天井側に敷設することによって構成されて
いる。このファンフィルタユニット２２は、公知の全面
ラミナーフロー方式に用いられているものと同様であ
る。また、循環する空調空気がクリーンルーム２０から
流出した場合には、外気処理機３３から新しい清浄な空
気が補われる。
ＵＬＰＡフィルタ，ＨＥＰＡフィルタなどの高性能フィ
ルタ２２ａを天井側に敷設することによって構成されて
いる。このファンフィルタユニット２２は、公知の全面
ラミナーフロー方式に用いられているものと同様であ
る。また、循環する空調空気がクリーンルーム２０から
流出した場合には、外気処理機３３から新しい清浄な空
気が補われる。
【００２３】このファンフィルタユニット２２は、生産
装置または機器２６の上部側において、軸流型ファンな
どのファン２２ｂが取り付けられている。また、第一の
ガス除去フィルタ２８は、第二のガス除去フィルタ３１
に比し多量のガス除去材を有する。第一のガス除去フィ
ルタ２８としては、充填層方式のフィルタエレメントが
用いられており、充填層長が数ｃｍ〜数十ｃｍの充填塔
や充填層高が数ｃｍのフィルタが用いられる。また、廬
材としては、活性炭、ゼオライト、シリカゲル、高純度
タールピッチ系炭素繊維などがある。さらに、除去機能
としては、吸着、吸収、化学反応の何れでも良く、これ
らの混合タイプであっても良い。また、除去性能として
は、例えば２０〜１００ｐｐｂ程度の高濃度のガスを
０．５〜１ｐｐｂ程度に除去するものである。
装置または機器２６の上部側において、軸流型ファンな
どのファン２２ｂが取り付けられている。また、第一の
ガス除去フィルタ２８は、第二のガス除去フィルタ３１
に比し多量のガス除去材を有する。第一のガス除去フィ
ルタ２８としては、充填層方式のフィルタエレメントが
用いられており、充填層長が数ｃｍ〜数十ｃｍの充填塔
や充填層高が数ｃｍのフィルタが用いられる。また、廬
材としては、活性炭、ゼオライト、シリカゲル、高純度
タールピッチ系炭素繊維などがある。さらに、除去機能
としては、吸着、吸収、化学反応の何れでも良く、これ
らの混合タイプであっても良い。また、除去性能として
は、例えば２０〜１００ｐｐｂ程度の高濃度のガスを
０．５〜１ｐｐｂ程度に除去するものである。
【００２４】これに対し、第二のガス除去フィルタ３１
は、不織布、シートなどの基材に活性炭、ゼオライト、
シリカゲルなどの廬材を付着してなる１０ｐｐｂ以下の
低濃度のガスを除去するものである。
は、不織布、シートなどの基材に活性炭、ゼオライト、
シリカゲルなどの廬材を付着してなる１０ｐｐｂ以下の
低濃度のガスを除去するものである。
【００２５】次に、本実施形態の作用を説明する。先
ず、清浄空気は、天井空間２３内から例えば０．３ｍ／
ｓの流速でファンフィルタユニット２２を介して室２１
内へ供給され、床２４の空気流通孔２５を介して床下空
間２７へ送られ、第二のガス除去フィルタ３１で低濃度
のガスが除去された後に、冷却コイル３２により所定の
温度されて空気流路３０を介して天井空間２３へ戻され
る循環経路を流れる。
ず、清浄空気は、天井空間２３内から例えば０．３ｍ／
ｓの流速でファンフィルタユニット２２を介して室２１
内へ供給され、床２４の空気流通孔２５を介して床下空
間２７へ送られ、第二のガス除去フィルタ３１で低濃度
のガスが除去された後に、冷却コイル３２により所定の
温度されて空気流路３０を介して天井空間２３へ戻され
る循環経路を流れる。
【００２６】一方、生産機械または機器２６が配置され
た領域Ａのファン２２ｂを備えたファンフィルタユニッ
ト２２からは、０．５ｍ／ｓ程度の流速で生産機械また
は機器２６に向かって供給されている。また、生産装置
または機器２６の周囲の下面側に設置されたファン２９
では、生産装置または機器２６が配置されていない領域
Ｂのファンフィルタユニット２２からの流速より早く
０．５ｍ／ｓ程度で吸引している。
た領域Ａのファン２２ｂを備えたファンフィルタユニッ
ト２２からは、０．５ｍ／ｓ程度の流速で生産機械また
は機器２６に向かって供給されている。また、生産装置
または機器２６の周囲の下面側に設置されたファン２９
では、生産装置または機器２６が配置されていない領域
Ｂのファンフィルタユニット２２からの流速より早く
０．５ｍ／ｓ程度で吸引している。
【００２７】したがって、生産装置または機器２６が配
置された領域Ａでは、その他の領域Ｂよりも流速が早
く、かつ床２４側から吸引されている。かくして、上述
したクリーンルーム２０では、生産装置または機器２６
が配置された領域Ａに対し、生産装置または機器２６が
配置されていない領域Ｂより早い流速の清浄空気を供給
するとともに、生産装置または機器２６の周囲の下面側
の床２４側から生産装置または機器２６が配置されてい
ない領域Ｂと同等の流速で吸引するため、生産装置また
は機器２６から漏れ出たガス成分または有臭成分は強制
的に第一のガス除去フィルタ２８へ導かれ、１ｐｐｂ程
度の低濃度に除去された後に、床下空間２７へ排気され
る。
置された領域Ａでは、その他の領域Ｂよりも流速が早
く、かつ床２４側から吸引されている。かくして、上述
したクリーンルーム２０では、生産装置または機器２６
が配置された領域Ａに対し、生産装置または機器２６が
配置されていない領域Ｂより早い流速の清浄空気を供給
するとともに、生産装置または機器２６の周囲の下面側
の床２４側から生産装置または機器２６が配置されてい
ない領域Ｂと同等の流速で吸引するため、生産装置また
は機器２６から漏れ出たガス成分または有臭成分は強制
的に第一のガス除去フィルタ２８へ導かれ、１ｐｐｂ程
度の低濃度に除去された後に、床下空間２７へ排気され
る。
【００２８】すなわち、生産装置または機器２６から漏
れ出たガス成分または有臭成分は、従来のように室内２
１に拡散することなく、確実に第一のガス除去フィルタ
２８へ導かれ、１ｐｐｂ程度の低濃度に除去された後
に、床下空間２７へ排出されるので、第二のガス除去フ
ィルタ３１で処理される空気のガス成分または有臭成分
の濃度は従来の処理ガスより遙かに低濃度となり、第二
のガス除去フィルタ３１の負荷が軽減できる。
れ出たガス成分または有臭成分は、従来のように室内２
１に拡散することなく、確実に第一のガス除去フィルタ
２８へ導かれ、１ｐｐｂ程度の低濃度に除去された後
に、床下空間２７へ排出されるので、第二のガス除去フ
ィルタ３１で処理される空気のガス成分または有臭成分
の濃度は従来の処理ガスより遙かに低濃度となり、第二
のガス除去フィルタ３１の負荷が軽減できる。
【００２９】したがって、第二のガス除去フィルタ３１
で濾過された空気は、ガス成分または有臭成分がきわめ
て低濃度とされ、空気流路３０を介して冷却コイル３２
により空調された後に天井空間２３へ戻されたときに
は、外気処理機３３から供給された新鮮空気と遜色のな
い空気として再びファンフィルタユニット２２から室２
１内へ供給することが可能となる。
で濾過された空気は、ガス成分または有臭成分がきわめ
て低濃度とされ、空気流路３０を介して冷却コイル３２
により空調された後に天井空間２３へ戻されたときに
は、外気処理機３３から供給された新鮮空気と遜色のな
い空気として再びファンフィルタユニット２２から室２
１内へ供給することが可能となる。
【００３０】以上のように、本実施形態によれば、生産
装置または機器２６から漏れ出たガス成分または有臭成
分を、室内２１に拡散することなく直ちに第一のガス除
去フィルタ２８へ導くことができるので、高濃度のガス
成分または有臭成分を１ｐｐｂ程度の低濃度に除去した
後に床下空間２７へ排出することが可能となり、第二の
ガス除去フィルタ３１で処理される空気のガス成分また
は有臭成分の濃度は従来の処理ガスより遙かに低濃度と
なり、第二のガス除去フィルタ３１の負荷が軽減でき
る。
装置または機器２６から漏れ出たガス成分または有臭成
分を、室内２１に拡散することなく直ちに第一のガス除
去フィルタ２８へ導くことができるので、高濃度のガス
成分または有臭成分を１ｐｐｂ程度の低濃度に除去した
後に床下空間２７へ排出することが可能となり、第二の
ガス除去フィルタ３１で処理される空気のガス成分また
は有臭成分の濃度は従来の処理ガスより遙かに低濃度と
なり、第二のガス除去フィルタ３１の負荷が軽減でき
る。
【００３１】したがって、本実施形態では、濾過材の量
の調整が容易な第一のガス除去フィルタ２８と、従来の
ガス除去フィルタとして用いられている第二のガス除去
フィルタ３１で二段階に空気を濾過するため、図３また
は図４に示す従来のクリーンルームに比して生産装置ま
たは機器２６から漏れ出たガス成分または有臭成分の除
去効率が向上するとともに、従来６ヶ月程度で交換しな
ければならなかったガス除去フィルタの交換時期を１年
〜１．５年に延長することが可能となる。勿論、第一の
ガス除去フィルタ２８では、交換時期を１年〜１．５年
に設定することは可能である。
の調整が容易な第一のガス除去フィルタ２８と、従来の
ガス除去フィルタとして用いられている第二のガス除去
フィルタ３１で二段階に空気を濾過するため、図３また
は図４に示す従来のクリーンルームに比して生産装置ま
たは機器２６から漏れ出たガス成分または有臭成分の除
去効率が向上するとともに、従来６ヶ月程度で交換しな
ければならなかったガス除去フィルタの交換時期を１年
〜１．５年に延長することが可能となる。勿論、第一の
ガス除去フィルタ２８では、交換時期を１年〜１．５年
に設定することは可能である。
【００３２】図３は、請求項２、請求項３、請求項４記
載の発明に係るクリーンルームの一実施形態を示す。本
実施形態は、図１に示すクリーンルーム２０の冷却コイ
ル３２の代わりに、冷温水コイルおよびファンを備えた
空調機３４を用いたものであり、その他の構成は図１に
示すクリーンルーム２０と同じである。
載の発明に係るクリーンルームの一実施形態を示す。本
実施形態は、図１に示すクリーンルーム２０の冷却コイ
ル３２の代わりに、冷温水コイルおよびファンを備えた
空調機３４を用いたものであり、その他の構成は図１に
示すクリーンルーム２０と同じである。
【００３３】したがって、本実施形態に係るクリーンル
ーム４０おいては、第二のガス除去フィルタ３１で濾過
された循環空気の空調処理を冷却コイル３２に代えて空
調機３４で行う以外は、図１に示すクリーンルーム２０
と同様の作用効果を奏することができる。なお、上記両
実施形態では、生産装置または機器２６が配置された領
域Ａに対し、生産装置または機器２６が配置されていな
い領域Ｂより早い流速の清浄空気を供給する場合につい
て説明したが、本発明はこれに限らず、領域Ａ，Ｂの流
速を同じにしても、生産装置または機器２６の周囲の下
部側に設けたファン２９の吸引力を調整することによっ
て、生産装置または機器２６から漏れ出たガス成分また
は有臭成分を第一のガス除去フィルタ２８へ導くことが
できる。
ーム４０おいては、第二のガス除去フィルタ３１で濾過
された循環空気の空調処理を冷却コイル３２に代えて空
調機３４で行う以外は、図１に示すクリーンルーム２０
と同様の作用効果を奏することができる。なお、上記両
実施形態では、生産装置または機器２６が配置された領
域Ａに対し、生産装置または機器２６が配置されていな
い領域Ｂより早い流速の清浄空気を供給する場合につい
て説明したが、本発明はこれに限らず、領域Ａ，Ｂの流
速を同じにしても、生産装置または機器２６の周囲の下
部側に設けたファン２９の吸引力を調整することによっ
て、生産装置または機器２６から漏れ出たガス成分また
は有臭成分を第一のガス除去フィルタ２８へ導くことが
できる。
【００３４】また、上記両実施形態では、第二のガス除
去フィルタ３１を床下空間２７と空気流路３０との境界
部に設けたが、本発明はこれに限らず、空気流路３０ま
たはファンフィルタユニット２２の上部に設けても良
い。さらに、上記両実施形態では、ファンフィルタユニ
ット２２を天井側の全面に設けた場合について説明した
が、本発明はこれに限らず、一部に設けたものでも良
い。
去フィルタ３１を床下空間２７と空気流路３０との境界
部に設けたが、本発明はこれに限らず、空気流路３０ま
たはファンフィルタユニット２２の上部に設けても良
い。さらに、上記両実施形態では、ファンフィルタユニ
ット２２を天井側の全面に設けた場合について説明した
が、本発明はこれに限らず、一部に設けたものでも良
い。
【００３５】
【発明の効果】以上述べたように、請求項１ないし請求
項４記載の発明では、生産装置または機器から漏れ出た
ガス成分または有臭成分を室内に拡散することなく生産
装置または機器の周囲の下部側に設けた第一のガス除去
フィルタに強制的に導くものであるから、下流側の第二
のガス除去フィルタにはきわめて低濃度のガス成分また
は有臭成分が流入することとなり、第二のガス除去フィ
ルタの使用期間を２、３倍延長することが可能となる。
項４記載の発明では、生産装置または機器から漏れ出た
ガス成分または有臭成分を室内に拡散することなく生産
装置または機器の周囲の下部側に設けた第一のガス除去
フィルタに強制的に導くものであるから、下流側の第二
のガス除去フィルタにはきわめて低濃度のガス成分また
は有臭成分が流入することとなり、第二のガス除去フィ
ルタの使用期間を２、３倍延長することが可能となる。
【００３６】したがって、クリーンルームのガス除去フ
ィルタの寿命が長くなり、メンテナンスに要する費用が
軽減し、経済的なクリーンルームを提供することが可能
となる。また、高濃度の第一のガス除去フィルタは、生
産装置または機器の周囲の下部側にだけ設けられている
ので、通気抵抗が増大するという不具合がなく、従来の
クリーンルームと同様に運転することが可能となる。
ィルタの寿命が長くなり、メンテナンスに要する費用が
軽減し、経済的なクリーンルームを提供することが可能
となる。また、高濃度の第一のガス除去フィルタは、生
産装置または機器の周囲の下部側にだけ設けられている
ので、通気抵抗が増大するという不具合がなく、従来の
クリーンルームと同様に運転することが可能となる。
【図１】請求項１、請求項３、請求項４記載の発明に係
るクリーンルームの一実施形態を示す説明図である。
るクリーンルームの一実施形態を示す説明図である。
【図２】図１の要部を示す説明図である。
【図３】請求項２、請求項３、請求項４記載の発明に係
るクリーンルームの一実施形態を示す説明図である。
るクリーンルームの一実施形態を示す説明図である。
【図４】従来のクリーンルームを示す説明図である。
【図５】従来のクリーンルームを示す説明図である。
２０，４０ クリーンルーム ２１ 室 ２２ ファンフィルタユニット ２３ 天井空間 ２４ 床 ２５ 空気流通孔 ２６ 生産装置または機器 ２７ 床下空間 ２８ 第一のガス除去フィルタ ２９ ファン ３０ 空気流路 ３１ 第二のガス除去フィルタ ３２ 冷却コイル ３３ 外気処理機 ３４ 空調装置 Ａ 生産装置または機器２６が配置されている領域 Ｂ 生産装置または機器２６が配置されていない領域
Claims (4)
- 【請求項１】 室と、 室の上部側に配設されたファンフィルタユニットと、 ファンフィルタユニットの上面側に形成された天井空間
と、 室の下部側を仕切るとともに上面に生産装置または機器
を配置する空気流通孔を備えた床と、 生産機械または機器が配置された床の周囲の裏面側に配
置されるとともにファンを備えた第一のガス除去フィル
タと、 床の下面側に形成された床下空間と、 床下空間と天井空間とを連絡する空気流路と、 空気流路に設けた第二のガス除去フィルタと、 床下空間、空気流路またはファンフィルタユニットに設
けた冷却コイルとを有することを特徴とするクリーンル
ーム。 - 【請求項２】 室と、 室の上部側に配設されたファンフィルタユニットと、 ファンフィルタユニットの上面側に形成された天井空間
と、 室の下部側を仕切るとともに上面に生産装置または機器
を配置する空気流通孔を備えた床と、 生産機械または機器が配置された床の周囲の裏面側に配
置されるとともにファンを備えた第一のガス除去フィル
タと、 床の下面側に形成された床下空間と、 床下空間と天井空間とを連絡する空気流路と、 空気流路に設けた第二のガス除去フィルタと、 、空気流路またはファンフィルタユニットに連絡する空
調機とを有することを特徴とするクリーンルーム。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２記載のクリーン
ルームにおいて、 生産機械または機器が配置された領域のファンフィルタ
ユニットからの流速は、生産機械または機器が配置され
ていない領域のフィルタユニットからの流速よりも早
く、かつ床の裏面側の吸引装置による流速は、生産機械
または機器が設置されていない領域の流速より早くされ
ていることを特徴とするクリーンルーム。 - 【請求項４】 請求項１ないし請求項３の何れか１項記
載のクリーンルームにおいて、 第一のガス除去フィルタは、第二のガス除去フィルタよ
りも多量のガス除去材を有することを特徴とするクリー
ンルーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06850897A JP3878275B2 (ja) | 1997-03-21 | 1997-03-21 | クリーンルーム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06850897A JP3878275B2 (ja) | 1997-03-21 | 1997-03-21 | クリーンルーム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10267338A true JPH10267338A (ja) | 1998-10-09 |
| JP3878275B2 JP3878275B2 (ja) | 2007-02-07 |
Family
ID=13375730
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06850897A Expired - Fee Related JP3878275B2 (ja) | 1997-03-21 | 1997-03-21 | クリーンルーム |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3878275B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001153414A (ja) * | 1999-11-25 | 2001-06-08 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 循環型クリーンルーム |
| JP2004293933A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Sanki Eng Co Ltd | ドライコイルおよびその設置方法 |
| CN101982704A (zh) * | 2010-10-12 | 2011-03-02 | 中国矿业大学 | 建筑物大空间公共场所有害物质的防护系统及方法 |
| CN102889249A (zh) * | 2012-10-30 | 2013-01-23 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种风机滤器单元和无尘室空气净化系统 |
| JP2014067797A (ja) * | 2012-09-25 | 2014-04-17 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置、基板処理方法及び半導体装置の製造方法 |
| JP2016117003A (ja) * | 2014-12-19 | 2016-06-30 | 日本エアーテック株式会社 | アイソレータ |
| JP2022034851A (ja) * | 2020-08-19 | 2022-03-04 | 株式会社日立プラントサービス | 給排気システム及びクリーンルームシステム |
| CN116293999A (zh) * | 2023-02-03 | 2023-06-23 | 山西钢科碳材料有限公司 | 碳纤维生产空间空气净化系统 |
-
1997
- 1997-03-21 JP JP06850897A patent/JP3878275B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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| CN102889249A (zh) * | 2012-10-30 | 2013-01-23 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种风机滤器单元和无尘室空气净化系统 |
| CN102889249B (zh) * | 2012-10-30 | 2015-07-15 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种风机滤器单元和无尘室空气净化系统 |
| US9115910B2 (en) | 2012-10-30 | 2015-08-25 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd | Fan filter unit and air purification system for dust-free room |
| JP2016117003A (ja) * | 2014-12-19 | 2016-06-30 | 日本エアーテック株式会社 | アイソレータ |
| JP2022034851A (ja) * | 2020-08-19 | 2022-03-04 | 株式会社日立プラントサービス | 給排気システム及びクリーンルームシステム |
| CN116293999A (zh) * | 2023-02-03 | 2023-06-23 | 山西钢科碳材料有限公司 | 碳纤维生产空间空气净化系统 |
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|---|---|
| JP3878275B2 (ja) | 2007-02-07 |
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