JPH0892214A

JPH0892214A - 新規なヒドロキノンおよびベンゾキノン誘導体の製造方法

Info

Publication number: JPH0892214A
Application number: JP17799794A
Authority: JP
Inventors: Takeki Komatsu; 雄毅小松; Norio Minami; 法夫南; Takeshi Furukawa; 健布留川; Hiroshi Nishimura; 博西村; Yoji Yamagishi; 洋二山岸
Original assignee: Eisai Chemical Co Ltd; Eisai Co Ltd
Current assignee: Eisai Chemical Co Ltd; Eisai Co Ltd
Priority date: 1993-07-30
Filing date: 1994-07-29
Publication date: 1996-04-09
Anticipated expiration: 2021-09-13
Also published as: JP3822257B2

Abstract

(57)【要約】【目的】ロイコトリエンおよびトロンボキサン産成抑
制作用が有効な疾患の予防と治療に有用なベンゾチアゾ
ール誘導体への中間体、新規なヒドロキノンおよびベン
ゾキノン誘導体、とそれらの工業的に優れた製造方法を
提供する。【構成】ヒドロキノン誘導体の水酸基を保護すること
なくピリジルカルボキシアルデヒド誘導体と縮合して新
規なピリジルメチルヒドロキノン誘導体へと導き、これ
を酸化し新規なピリジルメチル−１，４−ベンゾキノン
誘導体を得る。【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は特開平５−１７８８５５
号公報に開示されているロイコトリエンおよびトロンボ
キサン産成抑制作用が有効な疾患の予防と治療に有用な
ベンゾチアゾール誘導体の重要合成中間体の製造法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】一般式（ＩＶ）で表されるピリジニルメ
チル−１，４−ベンゾキノン誘導体に類似の化合物（Ｖ
Ｉ）の製造法は特願平４−６４５４５号公報に示されて
いる。それは、下記反応式（Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ は同一または異
なって水素原子、低級アルキル基または低級アルコキシ
基を、Ｒ⁷ は低級アルキル基を意味する）に示すごと
く、出発原料としてジメトキシベンゼン誘導体を用いピ
リジルメタノール基を導入し、硝酸第二セリウムアンモ
ニウムにより酸化する方法である。

【０００３】

【化１３】

【０００４】

【本発明が解決しようとする課題】従来の製造法におい
て出発原料として用いられている２，５−ジメトキシベ
ンゼン誘導体は、次の反応のピリジルメタノール基の導
入に際し使用される試薬（ｎ−ＢｕＬｉ）の特性から水
酸基を保護することが必要で、その目的で下記反応式に
示すごとくヒドロキノン誘導体（Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ は前記を意
味する）をメチル化して得たものである。ピリジルメタ
ノール基導入後、目的とする１，４−ベンゾキノン製造
のために行う酸化工程ではこのメチル基（保護基）が酸
化され脱メチル化が起こることを考えると、このメチル
化は全く無駄な工程であり、工業的に不利である。また
酸化反応においてはメトキシ体（水酸基の保護体）の方
がヒドロキシ体より反応に抵抗することから、酸化の条
件に制限が加わることになり、この点でもメトキシ体
（水酸基の保護体）は不利である。そのため、ヒドロキ
ノン誘導体の水酸基を保護することなくピリジルメタノ
ール基を導入する工業的製法とそれに続く安価な酸化の
条件の確立が望まれていた。

【０００５】

【化１４】

【課題を解決するための手段】本発明者等は一般式
（Ｉ）で示されるヒドロキノン誘導体の水酸基を保護す
ることなくピリジルメチル基を導入する製造法につき鋭
意検討を重ねた。その結果、一般式（Ｉ）で示されるヒ
ドロキノン誘導体を、その水酸基を保護することなく、
一般式（ＩＩ）で示されるピリジルアルデヒドあるいは
一般式（ＩＩ’）で示されるアルキルアセタール誘導体
と酸の存在下に処理することにより一般式（ＩＩＩ）で
示されるピリジルメチルヒドロキノン誘導体の製造方法
を見いだした。そして安価な酸化の条件でのピリジルメ
チル−１，４−ベンゾキノン誘導体（ＩＶ）の製造法を
確立し、本発明を完成した。

【０００６】以下、本発明について詳しく説明する。

【０００７】（１）ピリジルメチル基の導入工程

【化１５】式中、Ｒ¹ は水素原子、メチル基またはメトキシ基を、
Ｒ² およびＲ³ は同一または異なって水素原子またはメ
チル基を、Ｒ⁴ は水素原子または低級アルキル基を、
Ｒ’は低級アルキル基を、Ｘは水素原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子を意味する。
本工程はヒドロキノン誘導体（Ｉ）とピリジルアルデヒ
ド誘導体（ＩＩ）あるいはそのアセタール誘導体（Ｉ
Ｉ’）を酸の存在下に縮合しピリジルメチル誘導体（Ｉ
ＩＩ）を得る工程である。酸として、例えば塩酸、硫
酸、りん酸、トリフロロ酢酸、メタンスルホン酸などを
挙げることができる。反応溶媒として、水、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、塩
化メチレン、１，２−ジクロロエタン、ベンゼン、トル
エンなどを挙げることができる。反応温度は−１０℃か
ら１００℃、好ましくは１０℃から３０℃の範囲であ
る。また、ピリジルアルデヒド誘導体（ＩＩ）と低級ア
ルキルアルコールから得られるアセタール誘導体（Ｉ
Ｉ’）との縮合においては、生成するアセタールを単離
することなく反応溶液中に直接ヒドロキノン誘導体
（Ｉ）を加えることによってもピリジルアルコキシメチ
ル−１，４ーヒドロキノン誘導体（ＩＩＩ）を得ること
が可能である。なお、原料化合物（Ｉ）のヒドロキノン
誘導体は、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・
ソサイエティ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）１９４
４年６６巻１３３０頁に記載の方法、あるいはブレティ
ン・オブ・ザ・ケミカル・ソサイエティ・オブ・ジャパ
ン（Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．）１９９２
年６５巻１５２２頁に記載の方法によって得られる１，
４−ベンゾキノン誘導体を緩和な還元剤であるナトリウ
ムハイドロサルファイト、酸性亜硫酸ナトリウム、水素
化ホウ素ナトリウムを用いてそれ自体常法公知の方法で
または酸化白金、パラジウム−炭素の存在下に還元する
ことにより容易に得られる。

【０００８】（２）ヒドロキノンからベンゾキノンへの
酸化の工程

【０００９】

【化１６】式中、Ｒ¹ は水素原子、メチル基またはメトキシ基を、
Ｒ² およびＲ³ は同一または異なって水素原子またはメ
チル基を、Ｒ⁴ は水素原子または低級アルキル基を、Ｘ
は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基または
ハロゲン原子を意味する。本工程はヒドロキノン誘導体
（ＩＩＩ）から１，４−ベンゾキノン誘導体（ＩＶ）へ
の酸化の工程である。酸化剤としては緩和な酸化剤から
使用が可能で、例えば、空気、酸素、フレミー塩（Ｆｒ
ｅｍｙ’ｓａｌｔ）、塩化第二鉄、硫酸第二鉄、過酸化
水素、過酸、酸化銀、硝酸第二セリウムアンモニウム、
硝酸などを挙げることができる。これらの反応は通常溶
媒の存在下に行われ該溶媒としては、例えばメタノー
ル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、酢酸エチル、１，２−ジメトキシエタン、酢酸およ
びこれらの有機溶媒と水からなる含水溶媒または水が挙
げられる。反応温度は−１０℃から１００℃、好ましく
は−１０℃から３０℃の範囲で、反応の時間は１分から
３日である。

【００１０】上記一般式（ＩＩＩ）および（ＩＶ）にお
いてＲ⁴ およびＸの定義中の低級アルキル基とは、炭素
数１〜４の直鎖もしくは分枝状のアルキル基、例えばメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、
ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基などを意味
する。これらのうち好ましい基としてはメチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基などを挙げるこ
とができる。またＸの定義中の低級アルコキシ基とはメ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポ
キシ基、ｎ−ブトキシ基などを、ハロゲン原子とはフッ
素原子、塩素原子、臭素原子を挙げることができる。

【００１１】以上のように本発明は工業的製法上非常に
有利な方法である。即ち、ヒドロキノン誘導体の水酸基
をわざわざメチル基のような保護基で保護することな
く、ピリジルメチル基を直接導入することが可能であ
る。そして、それによりベンゾキノンへの酸化は緩和な
条件から可能となり、安価な酸化条件が選べる。

【００１２】本発明で製造されたキノン化合物（ＩＶ）
は特開平５−１７８８５５号あるいは特願平５−２０２
５５２号に開示された反応を用いて、チオウレアＨ₂ Ｎ
−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＲ¹⁵Ｒ¹⁶（Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶は同一また
は相異なる水素原子、低級アルキル基またはピリジルア
ルキル基を意味する）と反応させ、２−アミノ−６−ヒ
ドロキシ−４−（ピリジル−ヒドロキシあるいはアルコ
キシ−メチル）ベンゾチアゾール誘導体（ＶＩＩ）を得
る。

【００１３】

【化１７】

【００１４】これを酢酸中で加熱処理すると、Ｒ⁴ Ｏが
還元的に脱離し、２−アミノ−６−ヒドロキシ−４−ピ
リジルメチルベンゾチアゾール誘導体が得られる。この
化合物は、特会平５−１７８８５５号、特に実施例１０
に開示されているように、５−リポキシゲナーゼ阻害作
用およびトロンボキサン産成抑制作用によるロイコトリ
エンおよびトロンボキサン産成抑制作用が有効な疾患、
特に潰瘍性大腸炎の予防と治療に有効である。

【実施例】

【００１５】以下に本発明の実施例を挙げるが、本発明
がこれらの実施例に限定されるものでないことは言うま
でもない。

【００１６】実施例１３，５−ジメチル−２−（ヒドロキシ−３−ピリジルメ
チル）ベンゼン−１，４−ジオール

【００１７】

【化１８】

【００１８】氷冷下、６Ｎ塩酸２５０ｍｌに３−ピリジ
ンカルボキシアルデヒド１４ｍｌ（０．１５ｍｏｌ）を
滴下し、次に２，６−ジメチル−ｐ−ヒドロキノン２５
ｇ（０．１８ｍｏｌ）を加え、室温で１７時間攪拌し
た。この反応混合物に水３００ｍｌ、酢酸エチル２５ｍ
ｌを加え、次いで氷冷下に、激しく攪拌しながら炭酸水
素ナトリウム１１１ｇ（１．３２ｍｏｌ）を少しずつ加
えた後、１０分間攪拌し、析出する結晶を濾取した。こ
れを水、酢酸エチル、イソプロピルエーテルで順次浄
後、乾燥して表記化合物３３．０ｇ（収率９１％）を得
た。融点：１８１−１８３℃ 元素分析値Ｃ₁₄Ｈ₁₅ＮＯ₃ として計算値Ｃ，６８．５６；Ｈ，６．１６；Ｎ，５．７１実測値Ｃ，６８．３２；Ｈ，６．１９；Ｎ，５．４５¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）δ；
１．９１（３Ｈ，ｓ），２．０７（３Ｈ，ｓ），６．２
８（１Ｈ，ｓ），６．４５（１Ｈ，ｓ），７．２７（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．０，８．０Ｈｚ），７．５７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．０Ｈｚ），８．４２（１Ｈ，ｓ）．ＭＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ２４６（Ｍ＋Ｈ）⁺ ．

【００１９】実施例２３，５−ジメチル−２−（メトキシ−３−ピリジルメチ
ル）ベンゼン−１，４−ジオール塩酸塩

【００２０】

【化１９】

【００２１】３−ピリジンカルボキシアルデヒド１．０
ｍｌ（１０．６ｍｍｏｌ）のメタノール（１５ｍｌ）溶
液に、氷冷下塩酸ガスを５０分間導入した。次に２，６
−ジメチル−ｐ−ヒドロキノン１．６ｇ（１１．６ｍｍ
ｏｌ）を加え、氷冷下１時間攪拌した後、メタノールを
減圧留去し、残渣に水、酢酸エチルを加え、炭酸水素ナ
トリウムで中和し、有機層を分取し、硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を減圧下に留去後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン
＝１：１）にて精製し、表記化合物のフリー体１．８ｇ
を得た。これを水、酢酸エチル３６ｍｌに溶かし、氷冷
下に４Ｎ塩化水素−酢酸エチル２．１ｍｌを滴下し、１
０分間攪拌後、析出する結晶を濾取し、酢酸エチル、イ
ソプロピルエーテルで順次洗浄後、乾燥して表記化合物
１．８ｇ（収率５８％）を得た。融点：１７７−１７８℃ 元素分析値Ｃ₁₅Ｈ₁₇ＮＯ₃ ・ＨＣｌとして計算値Ｃ，６０．９１；Ｈ，６．１３；Ｎ，４．７４実測値Ｃ，６０．５４；Ｈ，６．１３；Ｎ，４．７３¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）δ；
１．８８（３Ｈ，ｓ），２．０９（３Ｈ，ｓ），３．２
９（３Ｈ、ｓ），６．１４（１Ｈ，ｓ），６．５６（１
Ｈ，ｓ），７．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，８．０
Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．
５９（１Ｈ，ｓ），８．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈ
ｚ），９．１０（１Ｈ，ｂｒｓ）．ＭＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ２６０（Ｍ＋Ｈ）⁺ ．

【００２２】実施例３３，５−ジメチル−２−（ヒドロキシ−４−ピリジルメ
チル）ベンゼン−１，４−ジオール

【００２３】

【化２０】

【００２４】氷冷下、６Ｎ塩酸８ｍｌに４−ピリジンカ
ルボキシアルデヒド１．０ｍｌ（１０．５ｍｍｏｌ）を
滴下し、次に２，６−ジメチル−ｐ−ヒドロキノン１．
５９ｇ（１１．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１７時間攪
拌した。この反応混合物に水３０ｍｌ、酢酸エチル２０
ｍｌを加え、次いで氷冷下に、激しく攪拌しながら炭酸
水素ナトリウムを少しずつ加えてｐＨ６．５に調整し、
酢酸エチル層を分液し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶
媒を減圧留去した。残渣に酢酸エチル５０ｍｌを加え、
氷冷下１時間攪拌して析出する結晶を濾取し、酢酸エチ
ル、イソプロピルエーテルで順次洗浄後、乾燥して表記
化合物２．０２ｇ（収率７９％）を得た。融点：１５８−１５９℃ 元素分析値Ｃ₁₄Ｈ₁₅ＮＯ₃ として計算値Ｃ，６８．５６；Ｈ，６．１６；Ｎ，５．７１実測値Ｃ，６８．５２；Ｈ，６．１７；Ｎ，５．６６¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）δ；
１．８８（３Ｈ，ｓ），２．０６（３Ｈ，ｓ），５．９
８（１Ｈ，ｂｒｓ），６．２５（１Ｈ，ｓ），６．４
５（１Ｈ，ｓ），７．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈ
ｚ），７．３８（１Ｈ，ｂｒｓ），８．４１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．ＭＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ２４６（Ｍ＋Ｈ）⁺ ．

【００２５】実施例４３，５−ジメチル−２−（ヒドロキシ−２−ピリジルメ
チル）ベンゼン−１，４−ジオール

【００２６】

【化２１】

【００２７】３−ピリジンカルボキシアルデヒドの代わ
りに、２−ピリジンカルボキシアルデヒド１．０ｍｌ
（１０．５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１と同様に処理
し、表記化合物２．００ｇ（収率７８％）を得た。融点：１６０−１６１℃ 元素分析値Ｃ₁₄Ｈ₁₅ＮＯ₃ として計算値Ｃ，６８．５６；Ｈ，６．１６；Ｎ，５．７１実測値Ｃ，６８．５７；Ｈ，６．１４；Ｎ，５．７２¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）δ；
１．９６（３Ｈ，ｓ），２．０４（３Ｈ，ｓ），６．１
−６．２（１Ｈ，ｂｒｓ），６．１３（１Ｈ，ｓ），
６．３７（１Ｈ，ｓ），７．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
４．８，８．０Ｈｚ），７．３５（１Ｈ，ｂｒｓ），
７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．７３（１
Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．８，４．８，８．０Ｈｚ），８．
４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，４．８Ｈｚ），８．９
−９．０（１Ｈ，ｂｒｓ）．ＭＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ２４５（Ｍ）⁺ ．

【００２８】実施例５３，５−ジメチル−２−（イソプロピルオキシ−３−ピ
リジルメチル）ベンゼン−１，４−ジオール塩酸塩

【００２９】

【化２２】

【００３０】３−ピリジンカルボキシアルデヒド１０ｇ
（９３．４ｍｍｏｌ）のイソプロピルアルコール（１０
０ｍｌ）溶液に、氷冷下塩酸ガスを５０分間導入し、次
に溶媒を減圧下に留去した。残渣に水、酢酸エチルを加
え炭酸水素ナトリウムで中和し、酢酸エチル層を分液し
た。これを硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧下に留
去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢
酸エチル：ジクロロメタン＝１：３）にて精製し、３−
ピリジンカルボキシアルデヒドジイソプロピルアセター
ル３．４４ｇ（収率１８％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）δ；１．１
８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１．２１（６Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），３．９３（２Ｈ，ｑｑ，Ｊ＝
６．０，６．０Ｈｚ），５．６０（１Ｈ，ｓ），７．２
９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．０Ｈｚ），７．８１
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．５７（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝４．８Ｈｚ）８．６９（１Ｈ，ｓ）上記３−ピリジンカルボキシアルデヒドジイソプロピル
アセタール３．４０ｇ（１６．２ｍｍｏｌ）のイソプロ
ピルアルコール（４５ｍｌ）の溶液に濃硫酸１．７７ｍ
ｌを滴下し、これに２，６−ジメチル−ｐ−ヒドロキノ
ン３．０７ｇ（２２．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で１７
時間攪拌した。イソプロピルアルコールを減圧留去し、
残渣に水、酢酸エチルを加え、炭酸水素ナトリウムで中
和し、有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を減圧下に留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝２：１）に
て精製し、表記化合物のフリー体２．７ｇ（収率５８
％）を得た。このフリー体１．０ｇを酢酸エチル１５ｍ
ｌに溶かし、氷冷下に４Ｎ塩化水素−酢酸エチル１．１
ｍｌを滴下し、１０分間攪拌後、析出する結晶を濾取
し、これをアセトニトリル３０ｍｌに加熱溶解し、室温
に３時間放置後析出する結晶を濾取し、乾燥し、表記化
合物０．７８ｇを得た。融点：１７１−１７３℃（分解）元素分析値Ｃ₁₇Ｈ₂₁ＮＯ₃ ・ＨＣｌとして計算値Ｃ，６３．０６；Ｈ，６．８５；Ｎ，４．３３実測値Ｃ，６２．９６；Ｈ，６．７４；Ｎ，４．３４¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）δ；
１．０９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１．２１（３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１．８５（３Ｈ，ｓ），
２．０９（３Ｈ，ｓ），３．６２（１Ｈ，ｑｑ，Ｊ＝
６．０，６．０Ｈｚ），６．３６（１Ｈ，ｓ），６．５
７（１Ｈ，ｓ），７．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，
８．０Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈ
ｚ），８．５５（１Ｈ，ｓ），８．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５．６Ｈｚ）．ＭＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ２８８（Ｍ＋Ｈ）⁺ ．

【００３１】実施例６２−（ヒドロキシ−３−ピリジルメチル）−５−メチル
ベンゼン−１，４−ジオール

【００３２】

【化２３】

【００３３】氷冷下、５Ｎ塩酸１２ｍｌに、３−ピリジ
ンカルボキシアルデヒド１．０ｍｌ（１１．８ｍｌ）の
テトラヒドロフラン（３ｍｌ）溶液を滴下し、次いで２
−メチル−ｐ−ヒドロキノン１．４６ｇ（１１．８ｍ
ｌ）を加え、室温で３日間攪拌した。炭酸水素ナトリウ
ムで中和後酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥し、溶媒を
減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（酢酸エチル：ジクロロメタン＝１：１）にて
精製し、表記化合物０．４５ｇ（収率１８％）を得た。
融点：１７５−１７６℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）δ；
１．９８（３Ｈ，ｓ），５．９０（１Ｈ，ｓ），６．４
５（１Ｈ，ｓ），６．７９（１Ｈ，ｓ），６．８４（１
Ｈ，ｂｒｓ），７．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，
８．０Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈ
ｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），８．４
−８．５（１Ｈ，ｂｒｓ），８．５０（１Ｈ，ｓ），
８．６６（１Ｈ，ｓ）．ＭＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ２３２（Ｍ＋Ｈ）⁺ ．

【００３４】実施例７２−（ヒドロキシ−３−ピリジルメチル）ベンゼン−
１，４−ジオール

【００３５】

【化２４】

【００３６】２，６−ジメチル−ｐ−ヒドロキノンの代
わりに、ｐ−ヒドロキノン１．９５ｇ（１７．７ｍｍｏ
ｌ，アルデヒドに対し１．５ｅｑ．）を用い、実施例１
とほぼ同様に処理［室温で４３時間反応し、カラムクロ
マトグラフィー（酢酸エチル：ジクロロメタン＝１：
１）で精製］し、表記化合物をアモルファスとして０．
８０ｇ（収率３５％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）δ；
５．７５−５．８５（１Ｈ，ｂｒｓ），５．９１（１
Ｈ，ｓ），６．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，８．４
Ｈｚ），６．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．
８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ），７．２７（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．０Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．
８Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｓ），８．６−８．７（１
Ｈ，ｂｒｓ），８．７５−８．８５（１Ｈ，ｂｒ
ｓ）．ＭＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ２１８（Ｍ＋Ｈ）⁺ ．

【００３７】実施例８３，５−ジメチル−２−（エトキシ−３−ピリジルメチ
ル）ベンゼン−１，４−ジオール塩酸塩

【００３８】

【化２５】

【００３９】３−ピリジンカルボキシアルデヒド１．６
ｍｌ（１６．５ｍｍｏｌ）の２０％（ｗ／ｗ）塩酸−エ
タノール溶液２５ｍｌに、２，６−ジメチル−ｐ−ヒド
ロキノン２．５ｇ（１８．１ｍｍｏｌ）を加え、室温で
２３時間攪拌した。エタノールを減圧留去後、残渣に
水、酢酸エチルを加え、炭酸水素ナトリウムで中和し、
有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
減圧下に留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）にて精製
し、表記化合物のフリー体３．２ｇ（収率７１％）を得
た。このうち１．７ｇを酢酸エチル３３ｍｌに溶解し、
氷冷下に４Ｎ塩化水素−酢酸エチル１．８ｍｌを滴下
し、１０分間攪拌した。析出する結晶を濾取し、アセト
ニトリル６０ｍｌを加え１０分間加熱還流後、室温で１
時間攪拌し、析出物を濾取して、アセトニトリル、イソ
プロピルエーテルで順次洗浄し、乾燥して表記化合物
１．１ｇを得た。融点：１８５−１８７℃（分解）元素分析値Ｃ₁₆Ｈ₁₉ＮＯ₃ ・ＨＣｌとして計算値Ｃ，６２．０３；Ｈ，６．５１；Ｎ，４．５２実測値Ｃ，６１．９６；Ｈ，６．５９；Ｎ，４．５６¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）δ；
１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８），１．８８（３Ｈ，
ｓ），２．０８（３Ｈ，ｓ），３．４７（３Ｈ、ｍ），
６．２４（１Ｈ，ｓ），６．５６（１Ｈ，ｓ），７．９
３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，８．０Ｈｚ），８．１７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．５８（１Ｈ，
ｓ），８．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）．ＭＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ２７４（Ｍ＋Ｈ）⁺ ．

【００４０】実施例９３，５−ジメチル−２−（ヒドロキシ−６−メチルピリ
ジルメチル）ベンゼン−１，４−ジオール

【００４１】

【化２６】

【００４２】３−ピリジンカルボキシアルデヒドの代り
に６−メチル−２−ピリジンカルボキシアルデヒドを用
い、実施例１と同様に処理して、表記化合物を８８％の
収率で得た。融点：１７６−１７８℃（分解）元素分析値Ｃ₁₅Ｈ₁₇ＮＯ₃ ・０．３６Ｈ₂ Ｏとして計算値Ｃ，６７．７８；Ｈ，６．７２；Ｎ，５．２７実測値Ｃ，６７．７７；Ｈ，６．７０；Ｎ，５．２２¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）δ；
２．００（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．４
５（３Ｈ，ｓ），６．１０（１Ｈ，ｓ），６．２（１
Ｈ，ｂｒｓ），６．３８（１Ｈ、ｓ），７．１８（１
Ｈ，ｂｒｓ），７．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈ
ｚ），７．４１（１Ｈ，ｓ），７．７（１Ｈ，ｂｒ
ｓ）．ＭＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ２５９（Ｍ＋Ｈ）⁺ ．

【００４３】実施例１０３，５−ジメチル−２−（ヒドロキシ−４−クロロピリ
ジルメチル）ベンゼン−１，４−ジオール

【００４４】

【化２７】

【００４５】３−ピリジンカルボキシアルデヒドの代り
に６−クロロ−２−ピリジンカルボキシアルデヒドを用
い、実施例１と同様に処理して、表記化合物を８９％の
収率で得た。融点：１５５−１５７℃（分解）元素分析値Ｃ₁₄Ｈ₁₄ＮＯ₃ Ｃｌとして計算値Ｃ，６０．１１；Ｈ，５．０４；Ｎ，５．０１実測値Ｃ，５９．９４；Ｈ，５．１６；Ｎ，５．０３¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）δ；
１．９５（３Ｈ，ｓ），２．０４（３Ｈ，ｓ），６．１
（２Ｈ，ｂ），６．３６（１Ｈ，ｓ），７．３３（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，５．２Ｈｚ），７．３７（１
Ｈ，ｓ），７．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），
８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ）．８．７５（１Ｈ，ｓ）．ＭＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ２７９（Ｍ）
⁺ ．

【００４６】実施例１１２−（ヒドロキシ−３−ピリジルメチル）−３，５，６
−トリメチルベンゼン−１，４−ジオール

【００４７】

【化２８】

【００４８】２，６−ジメチル−ｐ−ヒドロキノンの代
わりに２，３，５−トリメチル−ｐ−ヒドロキノンを用
い、実施例１と同様に処理して、表記化合物を８６％の
収率で得た。融点：２０６−２０７℃（分解）元素分析値Ｃ₁₅Ｈ₁₇ＮＯ₃ として計算値Ｃ，６９．４８；Ｈ，６．６１；Ｎ，５．４０実測値Ｃ，６９．４３；Ｈ，６．６４；Ｎ，５．３５¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）δ；
１．９８（３Ｈ，ｓ），２．０２（３Ｈ，ｓ），２．０
６（３Ｈ，ｓ），６．１８（１Ｈ，ｓ），７．１（１
Ｈ，ｓ），７．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．０
Ｈｚ），７．４（１Ｈ，ｂｒｓ），７．５９（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．
８Ｈｚ），８．４６（１Ｈ，ｓ），８．９（１Ｈ，ｂｒ
ｓ）．ＭＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ２６０（Ｍ＋Ｈ）⁺ ．

【００４９】実施例１２３，５−ジメチル−２−（ヒドロキシ−３−ピリジルメ
チル）−１，４−ベンゾキノン塩酸塩

【００５０】

【化２９】

【００５１】３，５−ジメチル−２−（ヒドロキシ−３
−ピリジルメチル）ベンゼン−１，４−ジオール３０ｇ
（０．１２ｍｏｌ）を水（６０ｍｌ）とテトラヒドロフ
ラン（６０ｍｌ）の溶液に溶かし、氷冷下攪拌しながら
濃硝酸７８ｍｌを１５分間で滴下した。５分後酢酸エチ
ル４５０ｍｌと水６０ｍｌを加え、次に炭酸ナトリウム
６４ｇの水（２５０ｍｌ）溶液、炭酸水素ナトリウム１
７．３ｇを加えて中和した。次に酢酸エチル層を分液
し、水、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。硫酸マグネシウムを除去後、この酢酸エチル溶液に
氷冷下４Ｎ塩化水素−酢酸エチル３３．７ｍｌを滴下
し、１５分間攪拌した。析出結晶を濾取し、酢酸エチ
ル、イソプロピルエーテルで洗浄、乾燥し表記化合物３
０．４ｇ（収率９０％）を得た。融点：１５５−１６０℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）δ；
１．９７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），１．９８（３
Ｈ，ｓ），６．１４（１Ｈ，ｓ），６．６８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），７．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
５．６，８．０Ｈｚ），８．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
０Ｈｚ），８．７６（１Ｈ，ｓ），８．７７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）．ＭＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ２４４（Ｍ⁺ ＋Ｈ）．

【００５２】実施例１３３，５−ジメチル−２−（メトキシ−３−ピリジルメチ
ル）−１，４−ベンゾキノン

【００５３】

【化３０】

【００５４】３，５−ジメチル−２−（メトキシ−３−
ピリジルメチル）ベンゼン−１，４−ジオール塩酸塩
１．０ｇ（３．３８ｍｍｏｌ）を水（３ｍｌ）とテトラ
ヒドロフラン（２ｍｌ）に溶かし、氷冷下濃硝酸３ｍｌ
を５分間で滴下した。５分後酢酸エチル１５ｍｌと水２
ｍｌを加え、炭酸ナトリウム、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液を加えて中和した。酢酸エチル層を分液し、水、
飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下
に溶媒を留去し油状物として表記化合物１．０ｇ（収率
１００％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）δ；２．０
７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），２．１０（３Ｈ，
ｓ），３．４２（３Ｈ，ｓ），５．９０（１Ｈ，ｓ），
６．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），７．２６（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．０Ｈｚ），７．６８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．８Ｈｚ），８．５６（１Ｈ，ｓ）．

【００５５】実施例１４３，５−ジメチル−２−（イソプロピルオキシ−３−ピ
リジルメチル）−１，４−ベンゾキノン塩酸塩

【００５６】

【化３１】

【００５７】３，５−ジメチル−２−（イソプロピルオ
キシ−３−ピリジルメチル）ベンゼン−１，４−ジオー
ル２．３ｇ（８．０１ｍｍｏｌ）を酢酸エチル３４．５
ｍｌに溶かし、塩化第二鉄・六水和物（ＦｅＣｌ₃ ・６
Ｈ₂ Ｏ）４．３３ｇ（１６．０３ｍｍｏｌ）の水（１０
ｍｌ）溶液を加え２分間激しく攪拌した。反応終了後氷
冷下に炭酸水素ナトリウム３．３７ｇ（４０．１ｍｍｏ
ｌ）を加え、セライトを引いて濾過し不溶物を除いた。
次いで濾液を酢酸エチルで抽出し、水、飽和食塩水で洗
浄後、酢酸エチル層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸
マグネシウムを除いた後、この酢酸エチル溶液に４Ｎ塩
化水素−酢酸エチル９．６ｍｌを滴下し、溶媒を減圧下
に留去し、表記化合物２．３ｇ（収率８９％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）δ；１．２
０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１．２４（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），２．００（３Ｈ，ｓ），２．０
９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），３．７２（１Ｈ，ｑ
ｑ，Ｊ＝６．０，６．０Ｈｚ），６．２１（１Ｈ，
ｓ），６．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），７．８
７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，８．０Ｈｚ），８．３０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．６７（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝５．６Ｈｚ），８．７７（１Ｈ，ｓ）．

【００５８】実施例１５３，５−ジメチル−２−（ヒドロキシ−３−ピリジルメ
チル）−１，４−ベンゾキノン塩酸塩３，５−ジメチル−２−（ヒドロキシ−３−ピリジルメ
チル）ベンゼン−１，４−ジオール０．５ｇ（２．０４
ｍｍｏｌ）を水１．０ｍｌとメタノール（３．０ｍｌ）
の溶液に溶かし、塩化第二銅・二水和物（ＣｕＣｌ₂ ・
２Ｈ₂ Ｏ）１７ｍｇを加え、空気を吹き込みながら、１
時間半攪拌した。反応液に酢酸エチル１５ｍｌ、水１０
ｍｌを加えた後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加えて
ｐＨ７に調整した。酢酸エチル層を分液し、水、飽和食
塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸ンマグ
ネシウムを除去後、この酢酸エチル溶液に氷冷下４Ｎ塩
化水素−酢酸エチル０．５６ｍｌを滴下し、１５分間攪
拌した。析出結晶を濾取し、酢酸エチル、イソプロピル
エーテルで洗浄、乾燥し表記化合物０．４６ｇ（収率８
１％）を得た。融点並びに¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトルは実
施例１２の化合物と一致した。

【００５９】応用例次に、本発明で得られたキノン化合物より医薬として有
用な２−アミノ−６−ヒドロキシ−４−ピリジルメチル
ベンゾチアゾール化合物を合成する例を示す。

【００６０】応用例１５，７−ジメチル−６−ヒドロキシ−２−メチルアミノ
−４−［（３−ピリジル）ヒドロキシメチル］ベンゾチ
アゾール

【００６１】

【化３２】

【００６２】３，５−ジメチル−２−（ヒドロキシ−３
−ピリジルメチル）−１，４−ベンゾキノン塩酸塩（実
施例１２）３０ｇ（０．１１ｍｏｌ）のエタノール３０
０ｍｌの懸濁液に、濃塩酸２１．７ｍｌとメチルチオ尿
素９．６８ｇ（０．１１ｍｏｌ）を氷冷下に加えて、４
℃で１５時間攪拌した（反応混合物は一度溶解し、次に
析出物が徐々に増加した）。酢酸エチル３００ｍｌを加
え、１０分間攪拌後、析出物を濾取し、酢酸エチル、イ
ソプロピルエーテルで洗浄して、チウロニウム塩を得
た。このエタノールの３００ｍｌ懸濁液に、テトラヒド
ロフラン２３．８ｍｌに溶解した１，４−ベンゾキノン
２．９ｇを氷冷下に加えて、４℃で４時間、２０℃で３
時間攪拌した。次に酢酸エチル３００ｍｌを加え、１０
分間攪拌後、析出物を濾取し、酢酸エチル、イソプロピ
ルエーテルで洗浄し、乾燥して表題化合物の塩酸塩３
６．３ｇを得た。これを、水５２４ｍｌに溶解し、酢酸
エチル、イソプロピルエーテルで洗浄し、五酸化リンの
存在下に乾燥して表題化合物２６．９ｇ（収率８０％）
を得た。融点：２０１−２０３℃（分解）Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）δ：２．
０３（３Ｈ，ｓ），２．２１（３Ｈ，ｓ），２．８８
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），６．５１（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６．６Ｈｚ），６．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈ
ｚ），７．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．０Ｈ
ｚ），７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．８
２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），７．９７（１Ｈ，
ｓ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），８．４
６（１Ｈ，ｓ）．ＭＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ３１６（Ｍ＋Ｈ）⁺ ．応用例２５，７−ジメチル−６−ヒドロキシ−２−メチルアミノ
−４−［（３−ピリジル）メチル］ベンゾチアゾール

【００６３】

【化３３】

【００６４】５，７−ジメチル−６−ヒドロキシ−２−
メチルアミノ−４−［（３−ピリジル）ヒドロキシメチ
ル］ベンゾチアゾール５．０ｇ（１５．９ｍｍｏｌ）の
酢酸５０ｍｌ溶液に、亜鉛末２．６ｇ（３９．８ｍｍｏ
ｌ）を加え２６時間加熱還流を行った。熱時不溶物を濾
去後、酢酸エチル２００ｍｌを加え、氷冷下に１０分間
攪拌し析出物を濾取した。これをエタノール１００ｍｌ
に溶解し、氷冷下に４Ｎ塩酸−酢酸エチル溶液２４ｍｌ
を滴下し、３０分間攪拌後、析出物を濾取し、酢酸エチ
ル、イソプロピルエーテルで洗浄し、乾燥して表題化合
物の塩酸塩５．９ｇを得た。これを、水１００ｍｌに溶
解し、酢酸エチル75mlを加え、氷冷下に飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液を加えて中和し、析出物を濾取した。さ
らに析出物をエタノール75mlに懸濁させ１時間加熱還流
した後、氷冷下に１５分攪拌後結晶を濾取し、エタノー
ルで洗浄、乾燥して表題化合物２．９ｇ（収率６１％）
を得た。融点：２２０−２２３℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）δ：
２．０７（３Ｈ，ｓ），２．２０（３Ｈ，ｓ），２．８
７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），４．２５（２Ｈ，
ｓ），７．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．０Ｈ
ｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．６
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），７．９０（１Ｈ，ｂ
ｒ），８．３１（１Ｈ，ｓ），８．４６（１Ｈ，ｓ）．

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者西村博茨城県鹿島郡波崎町太田新田１−３−４ (72)発明者山岸洋二茨城県新治郡千代田町上稲吉2010−46

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（Ｉ）【化１】（式中、Ｒ¹ は水素原子，メチル基またはメトキシ基
を、Ｒ² およびＲ³ は同一または異なって水素原子また
はメチル基を意味する）で表されるヒドロキノン誘導体
と一般式（ＩＩ）あるいは一般式（ＩＩ’）【化２】（式中、Ｘは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基またはハロゲン原子を、Ｒ’は低級アルキル基を意
味する）で表されるアルデヒド誘導体を酸の存在下に縮
合することを特徴とする一般式（ＩＩＩ）【化３】（式中、Ｒ¹ は水素原子、メチル基またはメトキシ基
を、Ｒ² およびＲ³ は同一または異なって水素原子また
はメチル基を、Ｒ⁴ は水素原子または低級アルキル基
を、Ｘは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
またはハロゲン原子を意味する）で表されるヒドロキノ
ン誘導体またはその塩の製造方法。
【請求項２】一般式（ＩＩＩ）【化４】（式中、Ｒ¹ は水素原子、メチル基またはメトキシ基
を、Ｒ² およびＲ³ は同一または異なって水素原子また
はメチル基を、Ｒ⁴ は水素原子または低級アルキル基
を、Ｘは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
またはハロゲン原子を意味する）で表されるヒドロキノ
ン誘導体を酸化することを特徴とする一般式（ＩＶ）【化５】（式中、Ｒ¹ は水素原子、メチル基またはメトキシ基
を、Ｒ² およびＲ³ は同一または異なって水素原子また
はメチル基を、Ｒ⁴ は水素原子または低級アルキル基
を、Ｘは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
またはハロゲン原子を意味する）で表される１，４−ベ
ンゾキノン誘導体またはその塩の製造方法。
【請求項３】一般式（ＩＩＩ）【化６】において、Ｒ¹ およびＲ³ は同一または異なって水素原
子またはメチル基を意味し、Ｒ² およびＸが水素原子で
ある請求項１記載のヒドロキノン誘導体またはその塩の
製造方法。
【請求項４】一般式（ＩＶ）【化７】において、Ｒ¹ およびＲ³ は同一または異なって水素原
子またはメチル基を意味し、Ｒ² およびＸが水素原子で
ある請求項２記載の１，４−ベンゾキノン誘導体または
その塩の製造方法。
【請求項５】一般式（ＩＩＩ）【化８】（式中、Ｒ¹ は水素原子、メチル基またはメトキシ基
を、Ｒ² およびＲ³ は同一または異なって水素原子また
はメチル基を、Ｒ⁴ は水素原子または低級アルキル基
を、Ｘは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
またはハロゲン原子を意味する）で表される請求項３記
載のヒドロキノン誘導体およびその塩。
【請求項６】一般式（ＩＶ）【化９】（式中、Ｒ¹ は水素原子、メチル基またはメトキシ基
を、Ｒ² およびＲ³ は同一または異なって水素原子また
はメチル基を、Ｒ⁴ は水素原子または低級アルキル基
を、Ｘは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
またはハロゲン原子を意味する）で表される請求項４記
載の１，４−ベンゾキノン誘導体およびその塩。
【請求項７】一般式（ＩＩＩ）【化１０】において、Ｒ¹ およびＲ³ がメチル基、Ｒ² およびＸが
水素原子である請求項１記載のヒドロキノン誘導体およ
びその塩。
【請求項８】一般式（ＩＶ）【化１１】において、Ｒ¹ およびＲ³ がメチル基、Ｒ² およびＸが
水素原子である請求項４記載の１，４−ベンゾキノン誘
導体誘導体およびその塩。
【請求項９】一般式（Ｉ）で表されるヒドロキノン誘
導体と一般式（ＩＩ）あるいは一般式（ＩＩ’）で表さ
れるアルデヒド誘導体を酸の存在下に縮合し、得られた
一般式（ＩＩＩ）で表されるヒドロキノン誘導体または
その塩を酸化することを特徴とする一般式（ＩＶ）で表
される１，４−ベンゾキノン誘導体またはその塩の製造
方法。【化１２】（式中、Ｒ¹ は水素原子、メチル基またはメトキシ基
を、Ｒ² およびＲ³ は同一または異なって水素原子また
はメチル基を、Ｒ’は低級アルキル基を、Ｒ⁴ は水素原
子または低級アルキル基を、Ｘは水素原子、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子を意味す
る）。
【請求項１０】３−ピリジンカルボキシアルデヒドと
２，６−ジメチル−ｐ−ヒドロキノンとを酸の存在下に
縮合し、得られた３，５−ジメチル−２−（ヒドロキシ
−３−ピリジルメチル）ベンゼン−１，４−ジオールを
酸化することを特徴とする３，５−ジメチル−２−（ヒ
ドロキシ−３−ピリジルメチル）−１，４−ベンゾキノ
ンまたはその塩の製造方法。