JPH089493B2 - 光ファイバの製造法 - Google Patents
光ファイバの製造法Info
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- JPH089493B2 JPH089493B2 JP1052076A JP5207689A JPH089493B2 JP H089493 B2 JPH089493 B2 JP H089493B2 JP 1052076 A JP1052076 A JP 1052076A JP 5207689 A JP5207689 A JP 5207689A JP H089493 B2 JPH089493 B2 JP H089493B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/1065—Multiple coatings
Landscapes
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、耐水素特性を向上できる光ファイバの製造
法に関するものである。
法に関するものである。
［従来の技術］ 石英ガラス系光ファイバはH2雰囲気においては、H2が
光ファイバ中に拡散混入する。その量はH2の分圧に依存
し、混入したH2により、伝送波長域である0.8〜1.7μｍ
に亘り、光ファイバは損失増加する。またH2は光ファイ
バ内のガラス欠陥と反応しSi−OHとなり、1.39μｍのOH
の吸収帯が増加し、その吸収帯のテールより、1.3μｍ
帯の損失が増加する。
光ファイバ中に拡散混入する。その量はH2の分圧に依存
し、混入したH2により、伝送波長域である0.8〜1.7μｍ
に亘り、光ファイバは損失増加する。またH2は光ファイ
バ内のガラス欠陥と反応しSi−OHとなり、1.39μｍのOH
の吸収帯が増加し、その吸収帯のテールより、1.3μｍ
帯の損失が増加する。
［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、H2の発生はケーブル内の水分と金属材
料との反応またはコーティング材に含まれる微量のH2に
より、発生を完全に防ぐことができず、光ファイバの長
期安定性を保障するには、光ケーブル内に発生したH2が
光ファイバ内に拡散混合することを極力防ぐ必要があ
る。
料との反応またはコーティング材に含まれる微量のH2に
より、発生を完全に防ぐことができず、光ファイバの長
期安定性を保障するには、光ケーブル内に発生したH2が
光ファイバ内に拡散混合することを極力防ぐ必要があ
る。
本発明の目的は、前述した従来技術の欠点を解消し、
耐水素特性の良好な光ファイバの製造法を提供すること
にある。
耐水素特性の良好な光ファイバの製造法を提供すること
にある。
［課題を解決するための手段及び作用］ 本発明の要旨は、光ファイバ母材の先端から加熱延伸
した直後の前記光ファイバ素線の外周に、プレコーティ
ング或いはプライマリーコーティング用の第１の紫外線
硬化樹脂を塗布した後、該第１の紫外線硬化樹脂を紫外
線硬化することなく、酸素濃度が2000ppm以下の窒素ガ
スで満たされた前記加熱炉内に導いて炭素させて前記炭
化層を形成し、該炭化層の外周に、プライマリー或いは
セカンダリーコーティング用の第２の紫外線硬化樹脂か
らなる被覆層を施すことによりこれによって耐水素特性
を大巾に向上させたものである。
した直後の前記光ファイバ素線の外周に、プレコーティ
ング或いはプライマリーコーティング用の第１の紫外線
硬化樹脂を塗布した後、該第１の紫外線硬化樹脂を紫外
線硬化することなく、酸素濃度が2000ppm以下の窒素ガ
スで満たされた前記加熱炉内に導いて炭素させて前記炭
化層を形成し、該炭化層の外周に、プライマリー或いは
セカンダリーコーティング用の第２の紫外線硬化樹脂か
らなる被覆層を施すことによりこれによって耐水素特性
を大巾に向上させたものである。
［実施例］ 以下本発明の好適実施例を添付図面に基づいて説明す
る。
る。
第１図において、先ず１は光ファイバ母材、２はカー
ボン抵抗炉、３はプレコートカップ、４は加熱装置、５
はプライマリーコーティングカップ、6a,6bは紫外線照
射装置、７ばセカンダリーコーティングカップ、８はタ
ーンプーリー、９は巻取機である。
ボン抵抗炉、３はプレコートカップ、４は加熱装置、５
はプライマリーコーティングカップ、6a,6bは紫外線照
射装置、７ばセカンダリーコーティングカップ、８はタ
ーンプーリー、９は巻取機である。
さて、1.3μｍ帯シングルモード光ファイバ母材１は
カーボン抵抗炉２で加熱、延伸し、光ファイバ素線11と
される。この光ファイバ素線11は、外径測定装置10でそ
の外径が125μm,線引速度が60m/minとなるよう加熱温度
及び巻取機９での巻取速度が調整される。
カーボン抵抗炉２で加熱、延伸し、光ファイバ素線11と
される。この光ファイバ素線11は、外径測定装置10でそ
の外径が125μm,線引速度が60m/minとなるよう加熱温度
及び巻取機９での巻取速度が調整される。
この光ファイバ素線11は、紫外線硬化樹脂を入れたプ
レコートカップ３を通過すると、その表面にプレコーテ
ィングがなされ、次いで850℃の加熱装置４に入る。加
熱装置４は、N2パージされ、O2含有量は2000ppm以下に
保持され、そこでプレコーティングされた紫外線硬化樹
脂は炭化され、約１μｍの炭化層が形成される。
レコートカップ３を通過すると、その表面にプレコーテ
ィングがなされ、次いで850℃の加熱装置４に入る。加
熱装置４は、N2パージされ、O2含有量は2000ppm以下に
保持され、そこでプレコーティングされた紫外線硬化樹
脂は炭化され、約１μｍの炭化層が形成される。
次に、この炭化層が形成された光ファイバ素線は、プ
ライマリコートカップ５を通過することで紫外線硬化樹
脂が施され、紫外線照射装置6a内で照射された紫外線で
硬化され、さらに同様セカンダリコートカップ７を通過
してセカンダリコートがなされた後、次の紫外線照射装
置6b内で硬化され、ターンプリー８を介して巻取機９に
取られる。
ライマリコートカップ５を通過することで紫外線硬化樹
脂が施され、紫外線照射装置6a内で照射された紫外線で
硬化され、さらに同様セカンダリコートカップ７を通過
してセカンダリコートがなされた後、次の紫外線照射装
置6b内で硬化され、ターンプリー８を介して巻取機９に
取られる。
以上のようにして巻き取られた光ファイバ素線は、第
２図に示すよう外径125μｍの光ファイバ素線11の外周
に約１μｍの炭化層12が形成され、更にその外周にプラ
イマリコーティング層13及びセカンダリコーティング層
14が形成され、外径250μｍのUV被覆光ファイバが得ら
れる。
２図に示すよう外径125μｍの光ファイバ素線11の外周
に約１μｍの炭化層12が形成され、更にその外周にプラ
イマリコーティング層13及びセカンダリコーティング層
14が形成され、外径250μｍのUV被覆光ファイバが得ら
れる。
炭化層12を成形した被覆光ファイバの初期伝送損失は
波長1.3μｍにおいて0.37dB/kmあり、炭化層のない従来
のUV被覆光ファイバと同等であった。そこで、両者の被
覆光ファイバをH21気圧雰囲気に入れ、150℃で100hr処
理した。100hr後の損失増加量は炭化層12を形成した本
発明の被覆光ファイバは、波長1.3μｍで0.3dB/kmの増
加が認められたが、従来のものは1dB/kmとほぼ３倍大き
かった。これは炭化層がH2を吸着する作用を有している
ことが推定される。
波長1.3μｍにおいて0.37dB/kmあり、炭化層のない従来
のUV被覆光ファイバと同等であった。そこで、両者の被
覆光ファイバをH21気圧雰囲気に入れ、150℃で100hr処
理した。100hr後の損失増加量は炭化層12を形成した本
発明の被覆光ファイバは、波長1.3μｍで0.3dB/kmの増
加が認められたが、従来のものは1dB/kmとほぼ３倍大き
かった。これは炭化層がH2を吸着する作用を有している
ことが推定される。
第３図、第４図は本発明の他の実施例を示す。
本例においては、光ファイバ素線11にプレコーティン
グを行わず、光ファイバ素線11をプライマリーコートカ
ップ５を通してプライマリーコーティングを施した後、
紫外線照射装置6a内で硬化させ、この膜厚40μｍのプラ
イマリコーティング層を形成した光ファイバ素線11を加
熱装置７内を通し、そこで850℃に加熱して表面から約
２μｍ厚さの炭化層を形成する。次にセカンダリーカッ
プ７を通して、セカンダリーコーティングを施した後、
紫外線照射装置6b内で紫外線硬化させて被覆光ファイバ
を得た。
グを行わず、光ファイバ素線11をプライマリーコートカ
ップ５を通してプライマリーコーティングを施した後、
紫外線照射装置6a内で硬化させ、この膜厚40μｍのプラ
イマリコーティング層を形成した光ファイバ素線11を加
熱装置７内を通し、そこで850℃に加熱して表面から約
２μｍ厚さの炭化層を形成する。次にセカンダリーカッ
プ７を通して、セカンダリーコーティングを施した後、
紫外線照射装置6b内で紫外線硬化させて被覆光ファイバ
を得た。
この被覆光ファイバは、第４図に示すよう外径125μ
ｍの光ファイバ素線11の表面に膜厚約40μｍのプライマ
リコーティング層13が形成され、そのプライマリコーテ
ィング層13の外周に約２μｍ厚の炭化層12が形成され、
さらいその外周にセカンダリコーティング層14が形成さ
れ、全体として外径250μｍの被覆光ファイバとなる。
ｍの光ファイバ素線11の表面に膜厚約40μｍのプライマ
リコーティング層13が形成され、そのプライマリコーテ
ィング層13の外周に約２μｍ厚の炭化層12が形成され、
さらいその外周にセカンダリコーティング層14が形成さ
れ、全体として外径250μｍの被覆光ファイバとなる。
炭化層を形成した被覆光ファイバの初期伝送損失は波
長1.3μｍにおいて、0.36dB/kmあり、炭化層のない従来
の被覆光ファイバと同等であった。２者の被覆ファイバ
をH21気圧に入れ、150℃で100hr処理した。100hr後の損
失増加量は炭化層を形成した被覆光ファイバは波長1.3
で0.5dB/KM増加し、従来のものは1dB/kmとほぼ２倍大き
く、炭化層がH2拡散を防ぐ働があることがわかる。これ
は炭化層がH2を吸着する作用を有していることが推定さ
れる。また1.39μｍのOH吸収帯の損失量も従来のものは
炭化層を有するものに比べ2.2倍増加した。
長1.3μｍにおいて、0.36dB/kmあり、炭化層のない従来
の被覆光ファイバと同等であった。２者の被覆ファイバ
をH21気圧に入れ、150℃で100hr処理した。100hr後の損
失増加量は炭化層を形成した被覆光ファイバは波長1.3
で0.5dB/KM増加し、従来のものは1dB/kmとほぼ２倍大き
く、炭化層がH2拡散を防ぐ働があることがわかる。これ
は炭化層がH2を吸着する作用を有していることが推定さ
れる。また1.39μｍのOH吸収帯の損失量も従来のものは
炭化層を有するものに比べ2.2倍増加した。
［発明の効果］ 以上説明したように本発明によれば、プレコーティン
グ或いはプライマリーコーティングの表面に炭化層を形
成することで耐水素特性を向上でき、伝送損失増加の少
ない長期依頼性を有する光ファイバが得られる。
グ或いはプライマリーコーティングの表面に炭化層を形
成することで耐水素特性を向上でき、伝送損失増加の少
ない長期依頼性を有する光ファイバが得られる。
第１図は本発明の方法を実施する装置の一例を示す図、
第２図は第１図の装置で製造された被覆光ファイバの詳
細断面図、第３図は本発明の他の実施例を示す図、第４
図は第３図において得られた被覆光ファイバの詳細断面
図である。 図中１は光ファイバ母材、３はプレコートカップ、４は
加熱装置、５はプライマリーコートカップ、11は光ファ
イバ素線、12は炭化層、13はプライマリコーティング
層、14はセカンダリコーティング層である。
第２図は第１図の装置で製造された被覆光ファイバの詳
細断面図、第３図は本発明の他の実施例を示す図、第４
図は第３図において得られた被覆光ファイバの詳細断面
図である。 図中１は光ファイバ母材、３はプレコートカップ、４は
加熱装置、５はプライマリーコートカップ、11は光ファ
イバ素線、12は炭化層、13はプライマリコーティング
層、14はセカンダリコーティング層である。
Claims (1)
- 【請求項１】光ファイバ母材の先端を加熱延伸した直後
の光ファイバ素線外周に炭化層を形成し、該炭化層の外
周に被覆層を施す光ファイバの製造法において、加熱延
伸した直後の前記光ファイバ素線の外周に第１の紫外線
硬化樹脂を塗布した後、該第１の紫外線硬化樹脂を紫外
線硬化することなく、酸素濃度が2000ppm以下の窒素ガ
スで満たされた前記加熱炉内に導いて炭化させて前記炭
化層を形成し、該炭化層の外周に第２の紫外線硬化樹脂
からなる被覆層を施すことを特徴とする光ファイバの製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1052076A JPH089493B2 (ja) | 1989-03-06 | 1989-03-06 | 光ファイバの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1052076A JPH089493B2 (ja) | 1989-03-06 | 1989-03-06 | 光ファイバの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02233536A JPH02233536A (ja) | 1990-09-17 |
| JPH089493B2 true JPH089493B2 (ja) | 1996-01-31 |
Family
ID=12904729
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1052076A Expired - Fee Related JPH089493B2 (ja) | 1989-03-06 | 1989-03-06 | 光ファイバの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH089493B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52121593A (en) * | 1976-04-01 | 1977-10-13 | Asahi Chemical Ind | Alkalline resistant glass fiber |
| JPH0646251B2 (ja) * | 1985-05-22 | 1994-06-15 | 株式会社フジクラ | 光フアイバ |
-
1989
- 1989-03-06 JP JP1052076A patent/JPH089493B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02233536A (ja) | 1990-09-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |