JPH02233536A - 光ファイバの製造法 - Google Patents
光ファイバの製造法Info
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- JPH02233536A JPH02233536A JP1052076A JP5207689A JPH02233536A JP H02233536 A JPH02233536 A JP H02233536A JP 1052076 A JP1052076 A JP 1052076A JP 5207689 A JP5207689 A JP 5207689A JP H02233536 A JPH02233536 A JP H02233536A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/1065—Multiple coatings
Landscapes
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- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、謝水素特性を向上できる光ファイバの製造法
に関するものである. [従来の技術〕 石英ガラス系光ファイバはH1雰囲気においては、H2
が光ファイバ中に拡散混入する.その量はH1の分圧に
依存し、混入したH2により、伝送波長域である0.8
〜1.7μmに亘り、光ファイバは損失増加する.また
H2は光ファイバ内のガラス欠陥と反応しS i−OH
となり、1.39μmのO Hの吸収帯が増加し、その
吸収帯のテールより、1.3μm帯の損失が増加する. [売明が解決しようとする課題] しかしながら、H2の発生はケーブル内の水分と金属材
料との反応またコーティング材に含まれる微量のH1に
より、発生を完全に防ぐことができず、光ファイバの長
期安定性を保障するには、光ゲープル内に発生したH2
が光ファイバ内に拡散混合することを極力防ぐ必要があ
る.本発明の目的は、前記した従来技術の欠点を解消し
、酎水素特性の良好な光ファイバの製違法を提洪するこ
とにある。
に関するものである. [従来の技術〕 石英ガラス系光ファイバはH1雰囲気においては、H2
が光ファイバ中に拡散混入する.その量はH1の分圧に
依存し、混入したH2により、伝送波長域である0.8
〜1.7μmに亘り、光ファイバは損失増加する.また
H2は光ファイバ内のガラス欠陥と反応しS i−OH
となり、1.39μmのO Hの吸収帯が増加し、その
吸収帯のテールより、1.3μm帯の損失が増加する. [売明が解決しようとする課題] しかしながら、H2の発生はケーブル内の水分と金属材
料との反応またコーティング材に含まれる微量のH1に
より、発生を完全に防ぐことができず、光ファイバの長
期安定性を保障するには、光ゲープル内に発生したH2
が光ファイバ内に拡散混合することを極力防ぐ必要があ
る.本発明の目的は、前記した従来技術の欠点を解消し
、酎水素特性の良好な光ファイバの製違法を提洪するこ
とにある。
[課題を解決するための手段及び作用]本発明の要旨は
、プレコーティング或いはグライマリーコーティングを
施した後、その表面を加熱処理して炭化層を形成した後
、その炭化層にプライマリー或いはセカンダリーコーテ
ィングを施すことによりこれによって耐水素特性を大巾
に向上させたものである. [実施例] 以下本発明の好適実施例を添付図面に基づいて説明する
。
、プレコーティング或いはグライマリーコーティングを
施した後、その表面を加熱処理して炭化層を形成した後
、その炭化層にプライマリー或いはセカンダリーコーテ
ィングを施すことによりこれによって耐水素特性を大巾
に向上させたものである. [実施例] 以下本発明の好適実施例を添付図面に基づいて説明する
。
第1図において、先ず1は光ファイバ母材、2はカーボ
ン抵抗炉、3はプレコートカップ、4は加熱装置、5は
プライマリーコーティングカップ、6a,6bは紫外線
照射装置、7はセカンダリーコーティングカップ、8は
ターンプーリー、9は巻取機である. さて、1.3μm帯シングルモード光ファイバ母材1は
カーボン抵抗炉2で加熱、延仲し、光ファイバ素線11
とされる.この光ファイバ素線11は、外径測定装置1
0でその外径が125μm,線引速度が60m/1nと
なるよう加熱温度及び巻取機9での巻取速度が調整され
る. この光ファイバ素線11は、紫外線硬化樹脂を入れたプ
レコートカップ3を通過すると、その表面にグレコーテ
ィングがなされ、次いで850℃の加熱装置4に入る.
加熱装置4は、N2パージされ、o2含有量は2000
1)DI以下に保持され、そこでプレコーティングされ
た紫外線硬化樹脂は炭化され、約1μmの炭化層が形成
される.次に、この炭化層が形成された光ファイバ素線
は、プライマリコートカツプ5を通過することで紫外線
硬化樹脂が施され、紫外線照射装置6a内で照射された
紫外線で硬化され、さらに同様セカンダリコートカップ
7を通過してセカンダリコートがなされた後、次の紫外
線照射装置6b内で硬化され、ターンプリ−8を介して
巻取機9に取られる。
ン抵抗炉、3はプレコートカップ、4は加熱装置、5は
プライマリーコーティングカップ、6a,6bは紫外線
照射装置、7はセカンダリーコーティングカップ、8は
ターンプーリー、9は巻取機である. さて、1.3μm帯シングルモード光ファイバ母材1は
カーボン抵抗炉2で加熱、延仲し、光ファイバ素線11
とされる.この光ファイバ素線11は、外径測定装置1
0でその外径が125μm,線引速度が60m/1nと
なるよう加熱温度及び巻取機9での巻取速度が調整され
る. この光ファイバ素線11は、紫外線硬化樹脂を入れたプ
レコートカップ3を通過すると、その表面にグレコーテ
ィングがなされ、次いで850℃の加熱装置4に入る.
加熱装置4は、N2パージされ、o2含有量は2000
1)DI以下に保持され、そこでプレコーティングされ
た紫外線硬化樹脂は炭化され、約1μmの炭化層が形成
される.次に、この炭化層が形成された光ファイバ素線
は、プライマリコートカツプ5を通過することで紫外線
硬化樹脂が施され、紫外線照射装置6a内で照射された
紫外線で硬化され、さらに同様セカンダリコートカップ
7を通過してセカンダリコートがなされた後、次の紫外
線照射装置6b内で硬化され、ターンプリ−8を介して
巻取機9に取られる。
以上のようにして巻き取られた光ファイバ素線は、第2
図に示すよう外径125μmの光ファイバ素線11の外
周に約1μmの炭化層12が形成され、更にその外周に
1ライマリコーティング層13及びセカンダリコーティ
ング層14が形成され、外径250μmのUV被覆光フ
ァイバが得られる. 炭化層12を成形した被覆光ファイバの初期伝送損失は
波長1.3,umにおいて0. 37dB/klあり、
炭化層のない従来のUV被覆光ファイバと同等であった
.そこで、両者の被覆光ファイバをHsl気圧雰囲気に
入れ、150″Cで100hr処理した。
図に示すよう外径125μmの光ファイバ素線11の外
周に約1μmの炭化層12が形成され、更にその外周に
1ライマリコーティング層13及びセカンダリコーティ
ング層14が形成され、外径250μmのUV被覆光フ
ァイバが得られる. 炭化層12を成形した被覆光ファイバの初期伝送損失は
波長1.3,umにおいて0. 37dB/klあり、
炭化層のない従来のUV被覆光ファイバと同等であった
.そこで、両者の被覆光ファイバをHsl気圧雰囲気に
入れ、150″Cで100hr処理した。
100hr後の損失増加量は炭化層12を形成した本発
明の被覆光ファイバは、波長1.3μm1:″0. 3
dB/廟の増加が認められたが、従来のものは1 dB
/knとほぼ3倍大きかった.これは炭化層がH2を吸
着する作用を有していることが推定される.第3図、第
4図は本発明の他の実施例を示す。
明の被覆光ファイバは、波長1.3μm1:″0. 3
dB/廟の増加が認められたが、従来のものは1 dB
/knとほぼ3倍大きかった.これは炭化層がH2を吸
着する作用を有していることが推定される.第3図、第
4図は本発明の他の実施例を示す。
本例においては、光ファイバ素線l1にグレコーティン
グを行わず、光ファイバ素線11をブライマリーコート
カップ5を通してプライマリーコーティングを施した後
、紫外線照射装置6a内で硬化させ、この膜厚40μm
のプライマリコーティング層を形成した光ファイバ素線
11を加熱装置7内を通し、そこで850℃に加熱して
表面から約2μm厚さの炭化層を形成する.次にセカン
ダリーカヅプ7を通して、セカンダリーコーティングを
施した後、紫外線照射装置6b内で紫外線硬化させて被
覆光ファイバを得た. この被覆光ファイバは、第4図に示すよう外径125μ
mの光ファイバ素線11の表面に膜厚約40μmのプラ
イマリコーティ,ング層13が形成され、そのプライマ
リコーティング層13の外周に約2μm厚の炭化層12
が形成され、さらにその外周にセカンダリコーティング
114が形成され、全体として外径250μmの被覆光
ファイバとなる。
グを行わず、光ファイバ素線11をブライマリーコート
カップ5を通してプライマリーコーティングを施した後
、紫外線照射装置6a内で硬化させ、この膜厚40μm
のプライマリコーティング層を形成した光ファイバ素線
11を加熱装置7内を通し、そこで850℃に加熱して
表面から約2μm厚さの炭化層を形成する.次にセカン
ダリーカヅプ7を通して、セカンダリーコーティングを
施した後、紫外線照射装置6b内で紫外線硬化させて被
覆光ファイバを得た. この被覆光ファイバは、第4図に示すよう外径125μ
mの光ファイバ素線11の表面に膜厚約40μmのプラ
イマリコーティ,ング層13が形成され、そのプライマ
リコーティング層13の外周に約2μm厚の炭化層12
が形成され、さらにその外周にセカンダリコーティング
114が形成され、全体として外径250μmの被覆光
ファイバとなる。
炭化層を形成した被覆光ファイバの初期伝送損失は波長
1.3,umにおいて、0. 36dB/kn+あり、
炭化層のない従来の被覆光ファイバと同等であった.2
者の被覆ファイバをH21気圧に入れ、150℃で10
0hr処理した.100hr後の損失増加量は炭化層を
形成した被覆光ファイバは波長1.3で0. 5dB/
κH増加し、従来のらのは1 dB/kraとほぼ2倍
太きく、炭化層がH2拡散を防ぐ働があることがわかる
.これは炭化層がH2を吸着する作用を有していること
が推定される.また1.39μmのOH吸収帯の損失量
も従来のものは炭化層を有するものに比べ2.2倍増加
した。
1.3,umにおいて、0. 36dB/kn+あり、
炭化層のない従来の被覆光ファイバと同等であった.2
者の被覆ファイバをH21気圧に入れ、150℃で10
0hr処理した.100hr後の損失増加量は炭化層を
形成した被覆光ファイバは波長1.3で0. 5dB/
κH増加し、従来のらのは1 dB/kraとほぼ2倍
太きく、炭化層がH2拡散を防ぐ働があることがわかる
.これは炭化層がH2を吸着する作用を有していること
が推定される.また1.39μmのOH吸収帯の損失量
も従来のものは炭化層を有するものに比べ2.2倍増加
した。
[発明の効果]
以上説明したように本発明によれば、プレコーティング
或いはプライマリーコーティングの表面に炭化層を形成
することで耐水素特性を向上でき、伝送損失増加の少な
い長期依頼性を有する光ファイバが得られる.
或いはプライマリーコーティングの表面に炭化層を形成
することで耐水素特性を向上でき、伝送損失増加の少な
い長期依頼性を有する光ファイバが得られる.
第1図は本発明の方法を実施する装置の一例を示す図、
第2図は第1図の装置で製造された被覆光ファイバの詳
細断面図、第3図は本発明の他の実總例を示す図、第4
図は第3図において得られた被覆光ファイバの詳細断面
図である。 図中1は光ファイバ母材、3はプレコートカップ、4は
加熱装置、5はブライマリーコートカップ、11は光フ
ァイバ素線、12は炭化層、13はプライマリコーティ
ング層、、l4はセカンダリコーティング層である。 特許出願人 日立電線株式会社
第2図は第1図の装置で製造された被覆光ファイバの詳
細断面図、第3図は本発明の他の実總例を示す図、第4
図は第3図において得られた被覆光ファイバの詳細断面
図である。 図中1は光ファイバ母材、3はプレコートカップ、4は
加熱装置、5はブライマリーコートカップ、11は光フ
ァイバ素線、12は炭化層、13はプライマリコーティ
ング層、、l4はセカンダリコーティング層である。 特許出願人 日立電線株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光ファイバ素線の外周に、合成樹脂でプレコーティ
ングを施した後その表面を加熱して炭化層を形成し、そ
の炭化層にプライマリーコーティングとセカンダリーコ
ーティングを施すことを特徴とする光ファイバの製造法
。 2、光ファイバの素線の外周に、合成樹脂でプライマリ
ーコーティングを施した後、その表面を加熱して炭化層
を形成し、その炭化層にセカンダリーコーティングを施
すことを特徴とする光ファイバの製造法。 3、プライマリーコーティングの合成樹脂材料が紫外線
硬化樹脂である請求項2記載の光ファイバの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1052076A JPH089493B2 (ja) | 1989-03-06 | 1989-03-06 | 光ファイバの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1052076A JPH089493B2 (ja) | 1989-03-06 | 1989-03-06 | 光ファイバの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02233536A true JPH02233536A (ja) | 1990-09-17 |
| JPH089493B2 JPH089493B2 (ja) | 1996-01-31 |
Family
ID=12904729
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1052076A Expired - Fee Related JPH089493B2 (ja) | 1989-03-06 | 1989-03-06 | 光ファイバの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH089493B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52121593A (en) * | 1976-04-01 | 1977-10-13 | Asahi Chemical Ind | Alkalline resistant glass fiber |
| JPS61267711A (ja) * | 1985-05-22 | 1986-11-27 | Fujikura Ltd | 光フアイバ |
-
1989
- 1989-03-06 JP JP1052076A patent/JPH089493B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52121593A (en) * | 1976-04-01 | 1977-10-13 | Asahi Chemical Ind | Alkalline resistant glass fiber |
| JPS61267711A (ja) * | 1985-05-22 | 1986-11-27 | Fujikura Ltd | 光フアイバ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH089493B2 (ja) | 1996-01-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |