JPH0895069A - 液晶表示素子及びその製造方法。 - Google Patents

液晶表示素子及びその製造方法。

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JPH0895069A
JPH0895069A JP6234581A JP23458194A JPH0895069A JP H0895069 A JPH0895069 A JP H0895069A JP 6234581 A JP6234581 A JP 6234581A JP 23458194 A JP23458194 A JP 23458194A JP H0895069 A JPH0895069 A JP H0895069A
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Junji Nakajima
潤二 中島
Yoshio Iwai
義夫 岩井
Kazuo Inoue
一生 井上
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 少なくとも一方が透明である一対の電極付基
板3、4と、該基板の電極側を対向させてシール材料で
ある高分子樹脂材料で貼り合わせたシール部1とから形
成した空セル10と、該空セル内に充填された液晶材料
を含む組成物からなる液晶表示素子であって、液晶表示
素子の表示面が長方形形状であり、前記基板の辺部の端
部に形成されたシール部1が基板の4角における開口1
1により、注入口と排出口を構成し、均一なムラの無
い、気泡混入の無い液晶パネルの供給、特に、高分子分
散型液晶の均一な液晶表示素子を提供する。 【構成】 シールパターンをパネル4角に開口11を形
成して設け、組成物注入の際も排出口側に組成物が回り
込まないように、堰部2を設けたり、基板表面に熱可塑
性ポリマーを塗膜形成したり、注入速度を制御する事が
できるようにしている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示素子およびその
製造方法に関する。さらに詳しくはディスプレイ、光シ
ャッター等に利用される液晶を用いた液晶表示素子およ
びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】液晶素子の中でも、配向処理を要さない
ため製造が容易なこと、そして、偏光板を要さないため
明るい表示が可能なことを利点とする高分子・液晶複合
体を使った高分子分散型液晶素子が近年、ディスプレイ
として着目されて来ている。
【0003】一般に、高分子分散型液晶素子とは液晶を
高分子材料組成物からなるマトリックス中に分散保持さ
れた液晶高分子複合体を一対の電極付基板間に挟み込ん
だものであり、液晶の常光屈折率と高分子マトリックス
の屈折率がほぼ一致するように構成されたものである。
すなわち、電圧無印加の状態で液晶は、前記高分子マト
リックスとの界面付近で、界面に対して略平行に配向し
ている。この状態で基板に垂直な光が入射すると、高分
子マトリックスの屈折率と液晶の屈折率とが異なった状
態となるため、界面にて光が散乱する。基板間に電圧を
印加すると、正の誘電異方性を有するネマティック液晶
の場合、液晶分子が電極面に対して略垂直に整列し、入
射光に対し、高分子マトリックスの屈折率と液晶の常光
屈折率とがほぼ一致することとなるため、光が散乱され
ることなく透過する状態となる。上記性質を利用して光
シャッター機能が可能となっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、偏光板
を用いないため、0N-OFF時のコントラストが従来の偏光
板を用いる表示モ−ドに比べ、劣りがちである。尚、こ
こで定義するコントラストとは電界がONの時に受光部
に到達する光量とOFF時に受光部に到達する光量との
比を示しておりコントラストが高いほど良好な画質が得
られる。
【0005】また、この素子の作製は、一般に、揮発性
モノマーを使用するため、偏光板使用モードの作製のよ
うに真空注入等のように気圧変動がしにくい事や常圧注
入でも、素子内の気泡残りのような課題を多く残してい
る。
【0006】一般に、揮発性モノマーを注入する組成物
に使用するため、従来有る液晶素子の注入法である真空
注入法では、組成物の揮発により注入は難しいものであ
った。特に、高分子分散型液晶のような、組成物とし
て、少なくとも、液晶材料と高分子樹脂材料の混合物を
注入する場合、モノマーの揮発等の問題より、圧力変動
による作製が難しく、気泡混入や注入ムラが起き易かっ
た。また常圧注入でも、これまでの方法でも、素子内に
気泡が残ることがあるような不安定なものであった。
【0007】また、高分子分散型液晶のみならず、従来
の偏光板を使用するモードでも、注入むらの問題等があ
る事や、簡単なコストの低い作製方法を要している。前
記したように、高分子分散型液晶素子の作製、特に注入
にあたっては、多くの課題がある。
【0008】本発明は、これらの問題点を解決し、均一
な液晶表示素子及びその製造方法を提供することを目的
とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記問題点を解決するた
め、本発明の液晶表示素子は、少なくとも一方が透明で
ある一対の電極付基板を、該基板の電極側を対向させて
シール材料である高分子樹脂材料でシール部において貼
り合わせ、基板間に空隙を有する空セルを形成し、該空
セル内に液晶材料を含む組成物を注入してなる液晶表示
素子であって、液晶表示素子の表示面が矩形であり、前
記基板の各辺の端部に沿って形成されたシール部にシー
ル材料のない2個以上の開口を設けたことを特徴とす
る。
【0010】このように本発明の構成のように基本的
に、シールパターンを形成することにより、常圧注入で
前記課題を解決した。また、本発明は、形状記憶効果を
有する熱可塑性ポリマーを基板上に塗膜形成し、形状記
憶効果を有する熱可塑性ポリマーの一軸延伸性−非延伸
性の変換特徴を利用することによって、スピーディーで
安全な作業が可能となる。
【0011】また前記構成の液晶表示素子において、開
口が基板の4つの角部に形成されていることが好まし
い。また前記構成の液晶表示素子において、シール部が
注入方向に垂直な2辺において、それぞれ少なくとも、
1カ所以上シール材料の無い部分により開口が形成され
ていることが好ましい。
【0012】また前記構成の液晶表示素子において、シ
ール部が、点線状に高分子樹脂で形成され、開口が形成
されていることが好ましい。本発明の液晶表示素子の製
造方法は、少なくとも一方が透明である一対の電極付基
板の電極側を対向させてシール材料である高分子樹脂材
料で基板間に空隙を形成して貼り合わせ、シール材料の
ない部分で注入口、排出口等の開口をもうけて空セルを
形成して、注入口の設けられている辺の両端に組成物が
注入側から反対側に、特に排出口に回り込まないように
堰部を設け、注入口の設けられている部分と堰部によっ
て囲まれた部分に液晶材料を含む組成物を溜めるか、ま
たは、前記注入口の設けられている部分と堰部によって
囲まれた部分を前記組成物が保持されている容器内に浸
漬し、注入が完了するまで、組成物が無くならないよう
に連続的に供給することを特徴とする。
【0013】また前記構成の液晶表示素子において、空
セルが前記注入口の設けられている辺の両端に組成物が
注入側から反対側に、特に排出口に回り込まないように
堰部が設けられてなることが好ましい。
【0014】本発明の液晶表示素子の製造方法は、少な
くとも一方が透明である一対の電極付基板の電極側を対
向させてシール材料である高分子樹脂材料で基板間に空
隙を形成して貼り合わせ、注入口、排出口等の開口を設
けて空セルを形成し、前記注入口の設けられている辺の
両端に組成物が注入側から反対側に、特に排出口に回り
込まないように堰部が設けられて形成され、前記シール
部を基板の4角において、開口を設けて形成するか、注
入方向に垂直な2辺において、少なくとも、1カ所以上
シール材料の無い部分により開口を設けて形成するか、
点線状に高分子樹脂で形成するとともに前記堰部を注入
部と垂直方向の2辺に対して注入側より上方に位置させ
て設け、液晶材料を含む組成物溜に空セルを漬けること
によって空セルに注入することを特徴とする。このよう
に構成することを特徴とする。
【0015】また前記構成の製造方法において、堰部を
注入部と垂直方向の2辺に対して注入側より上方に位置
させて設け、液晶材料を含む組成物溜に空セルを漬ける
ことによって注入することが好ましい。
【0016】また前記構成の液晶表示素子において、堰
部が注入部と垂直方向の2辺に対して注入側より上方に
位置して設けられ、液晶材料を含む組成物溜めに漬けら
れて液晶材料が空セルに注入されてなることが好まし
い。
【0017】また前記構成の製造方法において、前記組
成物溜に赤外線センサーもしくは温感センサーもしくは
光学センサーを装備し、前記組成物溜の液面の高さを空
セル内に注入されて行く高さに常に位置するように空セ
ルの浸漬位置を制御し、堰部を排出口側に近い排出口の
設けられている辺と垂直方向のシール端部に設けて組成
物を注入することが好ましい。
【0018】また前記構成の製造方法において、前記基
板の電極の端子部及び基板外表面を保護したのち、組成
物を注入することが好ましい。また前記構成の製造方法
において、空セルの1角の開口を注入口とし、この1角
に対して隣合う角部の2つに対し、高分子樹脂材料から
なる堰部を設け、注入側を堰部より下に配し、液晶材料
を含む組成物溜めに漬けて注入することが好ましい。
【0019】また前記構成の液晶表示素子において、空
セルの1角の開口に注入口が形成され、その1角に対し
て隣合う角部の2つに対し、高分子樹脂材料からなる堰
部が設けられ、液晶材料を含む組成物が空セル内に充填
されてなることが好ましい。
【0020】本発明の液晶表示素子の製造方法は、少な
くとも一方が透明な一対の電極付基板の少なくとも一方
の電極側基板表面に形状記憶効果を有する熱可塑性ポリ
マー層を形成し、組成物の注入されて行く方向に、前記
熱可塑性ポリマー層にラビングを施し、該ポリマーには
一軸延伸を施し、基板間に注入口より組成物を注入して
素子を形成し、注入が完了した後、素子から組成物が漏
れないように、封口樹脂で封口し、前記熱可塑性ポリマ
ーのガラス転移温度(Tg点)以上に素子を一定時間加
熱し、前記熱可塑性ポリマーの一軸延伸を解き、非延伸
状態と成った後、温度降下させることにより作製するこ
とを特徴とする。
【0021】さらに本発明の液晶表示素子は、少なくと
も一方が透明な一対の電極付基板の少なくとも一方の電
極側基板表面に形状記憶効果を有する熱可塑性ポリマー
層が形成され、該熱可塑性ポリマー層は一軸延伸され、
その表面には組成物の注入されて行く方向にラビングが
施されたものであり、基板間に組成物が注入され、注入
口が封口樹脂で封口され、その後前記熱可塑性ポリマー
はガラス転移温度(Tg点)以上に一定時間加熱され、
一軸延伸が解かれて非延伸状態となっていることを特徴
とする。
【0022】また前記構成の液晶表示素子において、形
状記憶効果を有する熱可塑性ポリマーのガラス転移温度
(Tg点)が素子の使用環境温度よりも高いことが好ま
しい。
【0023】また前記液晶表示素子の構成において、少
なくとも一方が透明な一対の電極付基板の少なくとも一
方の電極側基板上にガラス転移温度(Tg点)または軟
化点が素子の使用環境温度以下のポリマーが塗膜形成さ
れていることが好ましい。
【0024】また前記構成の液晶表示素子において、前
記形状記憶効果を有する熱可塑性ポリマーがポリウレタ
ンであることが好ましい。また前記構成の液晶表示素子
において、前記パネル基板が前記電極付基板の少なくと
も一方の電極側基板上にガラス転移温度(Tg点)また
は軟化点が素子の使用環境温度以下のポリマーが塗膜形
成され、該熱可塑性ポリマーのガラス転移温度(Tg
点)以上に素子が一定時間加熱され、前記熱可塑性ポリ
マーの一軸延伸が解かれ、非延伸状態とされる処理が施
されていることが好ましい。
【0025】また前記構成の液晶表示素子において、前
記空パネルに注入される組成物が液晶材料と高分子材料
との混合物より成ることが好ましい。また前記製造方法
の構成において、前記注入に際して、注入する組成物及
び基板を一定温度に加温してから注入することが好まし
い。
【0026】また前記製造方法の構成において、前記注
入が常圧下で行われることが好ましい。
【0027】
【作用】本発明の液晶表示素子は、液晶表示素子の表示
面が矩形であり、基板の各辺の端部に形成されたシール
部がシール材料が切れた2個以上の開口を有するので、
常圧で注入でき、揮発性のモノマーなどの組成物等の材
料を気泡混入や注入ムラが無く簡単に空セルに注入で
き、均一な素子をえることが可能である。すなわち今ま
でのような減圧操作等圧力変動を利用しない為、組成物
への影響もなく注入でき、均一な表示ができる液晶表示
素子を簡単な作業で、低コストでえることができる。
【0028】前記構成において、開口が基板の4角に設
けられているので、ムラがなく、気泡残りのない、均一
な素子をえることができる。前記構成において、前記シ
ール部が注入方向に垂直な2辺において、少なくとも、
1カ所以上シール材料の無い部分により開口が形成され
ているので、ムラがなく、気泡残りのない、均一な素子
をえることができる。
【0029】前記構成において、シール部が、点線状に
高分子樹脂で形成されているので、ムラがなく、気泡残
りのない、均一な素子をえることができる。本発明は、
空セルの注入口の設けられている辺の両端に組成物が注
入側から反対側に、特に排出口に回り込まないように堰
部を設け、注入口の設けられている部分と堰部(ストッ
パー)によって囲まれた部分に液晶材料を含む組成物を
溜めるか、または、前記注入口の設けられている部分と
堰部によって囲まれた部分を前記組成物が保持されてい
る容器内に浸漬し、注入が完了するまで、組成物がなく
ならないように連続的に供給する。このように構成する
ので、常圧においても、組成物等の材料を気泡混入や注
入ムラが無く、今までより簡単に迅速に空セルに注入で
き、均一なすぐれた品質の素子の供給が可能である。即
ち今までのような減圧操作等圧力変動を利用しないた
め、組成物へ影響を及ぼすことなく、注入することがで
きるとともに、製造コストを低減できる。
【0030】前記素子の構成によれば、空セルが前記注
入口の設けられている辺の両端に組成物が注入側から反
対側に、特に排出口に回り込まないように堰部が設けら
れてなるので、気泡混入や注入ムラがない、均一な品質
の素子を得ることができる。
【0031】本発明によれば、注入口の設けられている
辺の両端に組成物が注入側から反対側に、特に排出口に
回り込まないように堰部が設けられて形成され、前記シ
ール部に基板の4つの角(隅)において、開口を設ける
か、注入方向に垂直な2辺において、それぞれ少なくと
も、1カ所以上シール材料の無い部分により開口を設け
て形成するか、点線状に高分子樹脂で形成し液晶材料を
含む組成物を貯留する組成物溜に空セルを漬けることに
よって注入するので、空セル内に組成物などの材料を気
泡を残すことなく簡単に迅速に均一に注入でき、すぐれ
た均一の品質の素子を低いコストで作製できる。
【0032】また前記構成の製造方法によれば、堰部を
注入部と垂直方向の2辺に対して注入側より上方に位置
させて設け、空セルを液晶材料を含む組成物溜に漬ける
ことによって空セルに注入するので、空セル内に組成物
などの材料を気泡を残すことなく簡単にさらに迅速に均
一に注入でき、すぐれた均一の品質の素子を低いコスト
で作製できる。
【0033】また前記構成の液晶表示素子によれば、堰
部が注入部と垂直方向の2辺に対して注入側より上方に
位置して設けられ、液晶材料を含む組成物溜に漬けられ
て液晶材料が空セルに注入されてなるので、気泡残りム
ラのない、すぐれた、均一の品質の低コストの素子を得
ることができる。
【0034】前記組成物溜に赤外線センサーもしくは温
感センサーもしくは光学センサーを装備し、前記組成物
溜の液面の高さを空セル内に注入されて行く高さに常に
位置するように空セルの浸漬位置を制御し、堰部を排出
口側に近い排出口の設けられている辺と垂直方向のシー
ル端部に設けて組成物を注入するので、気泡残りなく均
一に注入でき、均一な品質の素子を簡単に低コストで作
製できる。
【0035】また前記製造方法の構成において、基板の
電極の端子部及び基板外表面を保護した後、組成物を注
入するので、電極に接触不良を起こさせることなく、気
泡残りなく均一に注入でき、均一な高品質の素子を簡単
に低コストで作製できる。
【0036】また前記製造方法の構成において、空セル
の1角の開口を注入口とし、その1角に対して隣合う角
部の2つに対し、高分子樹脂材料からなる堰部を設け、
注入側を該堰部より下に配し、液晶材料を含む組成物溜
に漬けて注入するので、注入速度を速くでき、気泡残り
なく均一に注入でき、均一な品質の素子を簡単に低コス
トで作製できる。
【0037】また前記表示素子の構成において、前記空
セルの1角の開口に注入口が形成され、その1角に対し
て隣合う角部の2つに対し、高分子樹脂材料からなる堰
部が設けられ、液晶材料を含む組成物が空セル内に注入
されてなるので、気泡残りやムラのない、均一の高品質
の低コストの素子を得ることができる。
【0038】本発明の製造方法は、少なくとも一方が透
明な一対の電極付基板の少なくとも一方の電極側基板表
面に形状記憶効果を有する熱可塑性ポリマー層を形成
し、組成物の注入されて行く方向に、前記熱可塑性ポリ
マー層にラビングを施し、一軸延伸を施し、基板間に注
入口より組成物を注入して素子を形成し、注入が完了し
た後、素子から組成物が漏れないように、封口樹脂で封
口し、前記熱可塑性ポリマーのガラス転移温度(Tg
点)以上に素子を一定時間加熱し、前記熱可塑性ポリマ
ーの一軸延伸を解き、非延伸状態とした後、温度降下さ
せることにより作製するので、注入速度を速くでき、気
泡残りなく均一に注入でき、高分子液晶の保持率を向上
でき、低電圧駆動が可能な電圧保持特性にすぐれた、均
一な品質の素子を簡単に低コストで作製できる。
【0039】本発明の表示素子は、少なくとも一方が透
明な一対の電極付基板の少なくとも一方の電極側基板表
面に形状記憶効果を有する熱可塑性ポリマー層が形成さ
れ、該熱可塑性ポリマー層は一軸延伸されており、その
表面には組成物の注入されて行く方向にラビングが施さ
れたものであり、基板間に組成物が注入され、注入口が
封口樹脂で封口され、その後前記熱可塑性ポリマーはガ
ラス転移温度(Tg点)以上に一定時間加熱され、一軸
延伸が解かれて非延伸状態となっている。このように、
形状記憶効果を有する熱可塑性ポリマー層が基板表面に
形成されることによって、組成物等の材料の注入もスピ
ーディーに、気泡残りなく均一に注入でき、高分子分散
型液晶の保持率が向上でき、駆動電圧も低下した、均一
な品質の素子を簡単に低コストで得ることができる。
【0040】また前記表示素子の構成において、前記形
状記憶効果を有する熱可塑性ポリマーのガラス転移温度
(Tg点)が素子の使用環境温度よりも高いので、組成
物等の材料の注入もスピーディーに、気泡残りなく均一
に行うことができ、さらに高分子分散型液晶の保持率が
向上でき、駆動電圧が低下した、均一な品質の素子を簡
単に低コストでえることができる。
【0041】また前記表示素子の構成において、少なく
とも一方が透明な一対の電極付基板の少なくとも一方の
電極側基板上にガラス転移温度(Tg点)または軟化点
が素子の使用環境温度以下のポリマーが塗膜形成されて
いる。このように熱可塑性ポリマーの使用により、組成
物等の材料の注入もスピーディーに、気泡残りなく均一
に行うことができ、さらに高分子分散型液晶の保持率が
向上でき、駆動電圧が低下した、均一な品質の素子を簡
単に低コストでえることができる。
【0042】また前記表示素子の構成において、前記形
状記憶効果を有する熱可塑性ポリマーがポリウレタンで
あるので、熱可塑性ポリマーの使用により、組成物等の
材料の注入もスピーディーに、気泡残りなく均一に行う
ことができ、さらに熱可塑性ポリマー層が基板表面に形
成されることによって、高分子分散型液晶の保持率が向
上でき、駆動電圧が低下した電圧保持特性にすぐれた、
均一な品質の素子を簡単に低コストでえることができ
る。
【0043】また前記表示素子の構成において、前記パ
ネル基板が前記電極付基板の少なくとも一方の電極側基
板上にガラス転移温度(Tg点)または軟化点が素子の
使用環境温度以下のポリマーが塗膜形成され、該熱可塑
性ポリマーのガラス転移温度(Tg点)以上に素子が一
定時間加熱され、前記熱可塑性ポリマーの一軸延伸が解
かれ、非延伸状態とされているので、組成物等の材料の
注入もスピーディーに、気泡残りなく均一に行うことが
でき、さらに熱可塑性ポリマー層が基板表面に形成され
ることによって、高分子分散型液晶の持率が向上でき駆
動電圧が低くされた、均一な品質の素子を簡単に低コス
トでえることができる。
【0044】また前記表示素子の構成において、前記空
セルに注入される組成物が液晶材料と高分子材料との混
合物より成るので、組成物等の材料の注入もスピーディ
ーに、気泡残りなく均一に注入されたものが得られ、さ
らに熱可塑性ポリマー層が基板表面に形成されることに
よって、高分子分散型液晶の保持率が向上できるうえ、
駆動電圧の低下された、均一な品質の素子を簡単に低コ
ストで得ることができる。
【0045】また前記製造方法の構成において、前記組
成物の注入に際して、注入する組成物及び基板を一定温
度に加温してから注入するので、高分子分散型液晶の持
率が向上でき、電圧保持特性にすぐれ、注入速度を速く
でき、気泡残りなく均一に注入でき、均一な品質の素子
を簡単に低コストで作製することができる。
【0046】また前記製造方法の構成において、前記注
入が常圧下で行われるので、高分子分散型液晶の保持率
が向上でき、電圧保持特性にすぐれ、注入速度を速くで
き、気泡残りなく均一に注入でき、均一な品質の素子を
簡単に低コストで作製することができる。
【0047】上述のように、本発明の液晶表示素子及び
その製造方法によれば、気泡混入や注入ムラ等がない、
均一なパネルを作製できる。しかも簡単に、常圧のまま
液晶と重合性材料などを含む組成物とを注入ができるた
め、コストも今までより大幅にダウンすることが可能と
なる。
【0048】また、本発明の熱可塑性ポリマーの使用に
より、組成物等の材料の注入もスピーディーに安全にで
きる。また本発明の液晶表示素子によれば、特に、高分
子分散型液晶の保持率向上及び駆動電圧の低電圧化が可
能となる。また本発明の液晶表示素子の製造方法は、特
に、高分子分散型液晶の作製に有効なものであり、少な
くとも液晶と光重合性材料を含む組成物を混合し、相溶
させた混合物を簡単に注入でき、光により高分子材料と
液晶に分離する光重合相分離法を使って作製することが
できる(尚、熱重合性材料を用いて、相分離させること
も可能である)。光重合性組成物は、プレポリマーやモ
ノマーなどの重合性有機化合物と光開始剤から成ってお
り、組成物調整のため高分子化合物や無機系充填剤や有
機系添加物を混合してもよく、更に、熱重合開始剤を混
合しても良い。プレポリマーやモノマーとしてはビニル
基を有する化合物が適しておりなかでも、アクリル系化
合物が好ましい。例えば、t−ブチルアクリレート、2
−エチルヘキシルアクリレート、2−メトキシエチルア
クリレート、2−フェノキシエチルアクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、トリメトキシプロパントリア
クリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、
1、6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリアクリレートなどのモノマーや、商品
名:MANDA、TC−110,HX−220,HX−
620などの日本化薬製多官能アクリレートや、ポリエ
ステルアクリレート、エポキシアクリレート、ポリウレ
タンアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどの市
販のプレポリマーが単独もしくは組み合わせて使用でき
る。光開始剤としては、ベンゾインメチルエーテルベン
ゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエ
ーテル、ベンゾフェノン、ベンジリデンメチルケター
ル、2、2−ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキ
シ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オンなど
が適している。また、上記のラジカル重合性組成物以外
にも、カチオン重合性エポキシ樹脂組成物を用いること
も可能である。本発明に用いられる液晶材料は、電圧に
よってダイレクタ方位を制御できる誘電率異方性を有
し、且つ屈折率異方性を有しておれば良く、組成系およ
び異方性の正負は問わない。また、前記液晶材料中に色
素のような添加物を混合することが可能であることも付
記して置く。
【0049】
【実施例】以下、本発明の具体例について説明する。但
し、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
【0050】(実施例1)モノマーとして2-エチルヘキ
シルアクリレート(ナカライテスク(株)製)17.6wt
%、プレポリマーとしてビスコート#3700(大阪有機化
学工業(株)製)1.93wt%光硬化開始剤としてDarocur1
173(メルク社製)0.07wt%からなる光重合性材料と、
液晶としてTL205[N-I point=87℃,ne=1.744,no=
1.527](メルク・ジャパン(株)製)80.4wt%を混合し
て組成物とした。
【0051】図1に示すように、一対の電極付基板3,
4の電極面を対向させ、基板間に13.0μmのスペーサー
を介して、四隅(角)に対し、シール部の無いシールパ
ターンで、エポキシ系シール材、ストラクトボンド(三
井東圧(株)製)により貼り合わせ、空セルとした。
【0052】空セル形成について、具体的に、図1のよ
うに大小、大きさの異なる矩形の基板1枚ずつを対向さ
せて成る。大基板3側の大きさは、59mm×70mmよりな
り、小基板4側の大きさは、49mm×65mmのものを使用し
た。小基板4の短軸側(短辺)基板端4b,4cよりそ
れぞれ1.5mmで、長軸側(長辺)基板端4a、4aから
0.5mmの位置から長軸方向のシール部1aをそれぞれ形
成する。短軸側のシールも同様にして、小基板4の長軸
側(長辺)基板端4aより1.5mmで、短軸側基板端4
b,4cから0.5mmの位置から短軸方向のシール部1b
を形成する。シール幅は 0.4mmとした。このシール部1
a,1bを形成した基板を90℃で10分加熱し、続い
て、基板同士を貼り合わせ、真空パック機により押さえ
つけた後、150℃ で2時間加熱した。これによって、空
セルを得た。
【0053】この空セルに対し、図1の様に、小基板4
の注入側(A)の短手端(短辺)部4bにおいて、大基
板3上に基板端3bまで、ロックタイト352A(日本ロッ
クタイト(株)製)を小基板3高さより若干高く、線幅
1mm程度に形成し、紫外線(350nm)55mW/cm2 ,90秒照射
して硬化して堰部2、2を形成する。
【0054】続いて、上記堰部2、2間で囲まれた注入
部(組成物供給部)5に、組成物6を注入が終わるまで
供給し、貯留する。この注入の時、基板及び組成物の温
度は25℃に保たれている。
【0055】組成物がパネル全体に注入された後、25
℃に保たれた環境下で、紫外線(30mW/cm2,3分間)照射
し、素子を得た。こうして、得られた素子は全体に均一
な(面内輝度も均一)パネルで、ムラ無く、気泡残りも
無いものであった。
【0056】また、堰部2、2は、ロックタイト352Aに
限らず、他のUV硬化性樹脂でも、熱硬化性樹脂でも同
結果を得た。シール材も、ストラクトボンドに限るもの
でなく、他の樹脂でも同様の結果を得た。
【0057】基板3、4の大きさも、上記したものに限
るのではなく、大基板3側の大きさが 100mm×150mmよ
りなり、小基板4側の大きさが90mm×145mmのものを使
用しても同様に、ムラ無く、気泡残りの無い素子を得る
事ができた。
【0058】(比較例1)実施例1のように、四隅
(角)をカットしたシールパターンでなく、真空注入を
試みると、組成物が揮発した。
【0059】また、堰部及び四隅カットのシールパター
ンを設けなく、常圧注入を試みると、注入側と反対側に
組成物が回り込み、排出口を閉じてしまい、気泡の残っ
てしまうものも得られてしまう歩留まりの悪い結果とな
ってしまった。 (実施例2)図2に示すように、実施例1とほぼ同様の
シールパターン1a,1a,1b,1cと、堰部2、2
を形成する。
【0060】空セル形成について、実施例1と同様、具
体的には図2のように大小、大きさの異なる基板1枚ず
つを対向させて成る。大基板3側の大きさは、59mm×70
mmよりなり、小基板4側の大きさは、49mm×65mmのもの
を使用した。小基板4の短軸側基板端4b,4cより
2.5mmで、大基板3の長軸側基板端4aから0.5mmの位置
から長軸方向のシール部 1a,1aを形成する。短軸
側のシールも同様に、小基板4の長軸側基板端4bより
2.5mmで、短軸側基板端4aから0.5mmの位置から短軸
方向のシール部 1b,1cをそれぞれ形成する。四隅
(角)部のシールは長軸短軸シール端から1mm 離れた位
置(開口部 1mm)から図2のようにシール部1d,1
d,1d,1dを形成して行った。シール幅は0.4mmと
した。このシール材を形成した基板 3、4を90℃で
10分加熱し、続いて、基板同士を貼り合わせ、真空パ
ック機により押さえつけた後、150℃ で2時間加熱し
た。これによって、空セルを得た。
【0061】堰部2、2も実施例1と同様に形成した。
実施例1と同様の注入方法により、高分子分散型液晶を
作製した。この実施例の結果、実施例1と同様に、均一
なパネル(素子)を得る事ができた。また、このシール
パターンの方が空セル状態でのパネルセル厚さの均一性
は実施例1の場合よりも良く、干渉縞はほとんどなかっ
た。
【0062】また、基板大きさ、堰部の位置等も実施例
1記載の様に、上記したものに限るのではなく、大基板
側の大きさが100mm×150mmよりなり、小基板側の大きさ
が90mm×145mm のものを使用しても同様に、ムラ無く、
気泡残りの無い素子を得る事ができた。
【0063】(実施例3)図3のように、シールパター
ンを実施例2と同様に形成し、堰部も図3のように設
け、実施例2と同様に作製した。
【0064】空セル形成について、実施例1と同様、具
体的には、図3のように大小、大きさの異なる基板3、
4をそれぞれ1枚ずつを対向させてなっている。大基板
3側の大きさは、59mm×70mmよりなり、小基板4側の大
きさは、49mm×65mmのものを使用した。小基板4の短軸
側基板端4b、4cよりそれぞれ 1.5mmで、長軸側基板
端4aから0.5mmの位置から長軸方向のシール部 1aを
形成する。短軸側のシールも同様に、小基板4の長軸側
基板端4aより1.5mm で、短軸側基板端4b,4cから
それぞれ 0.5mmの位置から短軸方向のシール部1b、1
cをそれぞれ形成する。また四隅(角)部において、小
基板4の短軸長軸基板端4a,4bから0.5mmの位置に
おいて直径0.5mmのドット状シール1e,1e,1e,
1eを図3のように形成した。シール幅は 0.4mmとし
た。このシール材を形成した基板を90℃,10分加熱
し、続いて、基板3,4同士を貼り合わせ、真空パック
機により押さえつけた後、150℃ で2時間加熱した。こ
れによって、空セルを得た。
【0065】堰部2,2は、図3のように小基板端から
大基板端に対し、実施例1と同様の方法で形成した。こ
の実施例の結果、実施例2よりも、若干、注入速度が速
く注入が完了し、均一なパネルを得る事ができた。
【0066】また、基板の大きさも、上記したものに限
るのではなく、大基板3側の大きさが100mm×150mmより
なり、小基板4側の大きさが 90mm×145mmのものを使用
しても同様に、ムラ無く、気泡残りの無い素子を得る事
ができた。
【0067】(実施例4)実施例1と同様に、シールパ
ターンを図4の様に四隅にシール無しとし、さらに、そ
れぞれ短辺側にシ−ル開口部を1カ所ずつ設け、堰部も
図4の様に設け、実施例1と同様な作製を行った。
【0068】空セル形成について、実施例1と同様、具
体的に、図4のように大小、大きさの異なる基板1枚ず
つを対向させて成る。大基板3側の大きさは、59mm×70
mmよりなり、小基板4側の大きさは、49mm×65mmのもの
を使用した。小基板4の短軸側基板端4bより 1.5mm
で、長軸側基板端4aから 0.5mmの位置から長軸方向の
シール部1aを形成する。短軸側のシール1b,1cも
同様に、小基板4の長軸側基板端4aより 1.5mmで、短
軸側基板端4b、4cから 0.5mmの位置から短軸方向の
シール部1b,1cを形成する。短軸シール1b,1c
の中央において、 1mmの開口部11を図4のように設け
た。シール幅は 0.4mmとした。このシール材を形成した
基板を90℃で10分加熱し、続いて、基板同士を貼り
合わせ、真空パック機により押さえつけた後、 150℃
で2時間加熱した。これによって、空セルを得た。
【0069】堰部2、2も実施例1と同様に形成した。
実施例1と同様の注入方法により、高分子分散型液晶を
作製した。その結果、実施例3よりも更に、注入速度が
速く注入が完了し、均一なパネルを得る事ができた。
【0070】(実施例5)実施例4と同様に、シールパ
ターンを図5の様に四隅にシール無しとし、短軸側1
b,1cにそれぞれシ−ル開口部11、11、11を3
カ所ずつ1mm 開口させて設け、堰部2、2も図5の様に
設け、実施例1と同様に作製した。
【0071】この実施例の結果、実施例4よりも更に、
注入速度が速く注入が完了し、均一なパネルを得る事が
できた。また、基板大きさも実施例1記載のばあいと同
様に、上記したものに限るのではなく、大基板側の大き
さが300mm×350mmよりなり、小基板側の大きさが 290mm
×345mm のものを使用しても同様に、ムラ無く、気泡残
りの無い素子を得る事ができた。
【0072】(実施例6)実施例5に対し、短軸と長軸
を反対にした条件、図6の様にシールパターンを長軸側
1a,1aにそれぞれシ−ル開口部11、11、11を
3カ所ずつ1mm 開口させて設け、堰部2、2も長軸
(辺)の両端に短辺の端縁を延ばした線に沿う状態で同
様に設け、実施例5と同様な作製を行った。
【0073】この実施例の結果、実施例5よりも更に、
注入速度が速く注入が完了し、均一なパネルを得る事が
できた。また、基板大きさも実施例1記載の様に、上記
したものに限るのではなく、大基板3側の大きさが300m
m×350mmよりなり、小基板4側の大きさが290mm×345mm
のものを使用しても同様に、実施例5よりも速く注入が
完了し、ムラ無く、気泡残りの無い素子を得る事ができ
た。
【0074】(実施例7)シールパターンを図7の様に
し、堰部2、2も図7のように設け、実施例5と同様な
作製を行った。
【0075】結果、実施例6と同程度の注入速度で注入
ができ、均一なパネルを得る事ができた。また、シール
部1a,1b,1cもムラなく作製することができた。
【0076】実施例6と同様、大基板側の大きさが300m
m×350mmよりなり、小基板側の大きさが290mm×345mmの
ものを使用しても同様に、実施例6と同程度に速く注入
が完了し、ムラ無く、気泡残りの無い素子を得る事がで
きた。
【0077】(実施例8)実施例1における堰部2、2
の位置を注入側小基板4端から7mm 離れた位置において
長軸と垂直方向に図8の様に小基板端4bから大基板端
3aに延ばして設けた。
【0078】注入方法も、実施例1と異なり、組成物溜
7に対し、組成物6液面が堰部2、2より下の位置とな
るように空セル10を設置する事によって行った。この
時、空セル10及び、組成物溜7の組成物6の温度は2
5℃に保たれていた。
【0079】結果、実施例1と同様、ムラ無く、気泡残
りの無い均一な素子を得た。また、実施例1の時より
も、若干速く注入が完了した。 (実施例9)実施例8と同様に、実施例2における堰部
2、2の位置を注入側小基板端4aから7mm 離れた位置
において長軸と垂直方向に図9の様に小基板端4aから
大基板端3aに延ばして設けた。
【0080】注入方法も同様に、実施例2と異なり、組
成物溜7に対し、組成物液面が堰部2、2より下の位置
となるように空セル10を設置する事によって行った。
この時、空セル10及び、組成物溜7の組成物6の温度
は25℃に保たれていた。
【0081】この実施例の結果、実施例2と同様、ムラ
無く、気泡残りの無い均一な素子を得た。また、実施例
2の時よりも、若干速く注入が完了した。 (実施例10)実施例8と同様に、実施例3における堰
部2、2の位置を注入側小基板端4bから7mm 離れた位
置において長軸と垂直方向に図10の様に小基板端から
大基板端に設けた。
【0082】注入方法も実施例8または9と同様に、実
施例3と異なり、組成物溜7に対し、組成物液面が堰部
2,2より下の位置となるように空セル10を設置する
事によって行った。この時、空セル10及び組成物溜7
の組成物の温度は25℃に保たれていた。
【0083】本実施例の結果、実施例3と同様、ムラ無
く、気泡残りの無い均一な素子を得た。また、実施例3
の時よりも、若干速く注入が完了した。 (実施例11)実施例8と同様に、実施例4における堰
部2、2の位置を注入側小基板端4bから7mm 離れた位
置において長軸と垂直方向に図11の様に小基板端4a
から大基板端3aに延ばして設けた。
【0084】注入方法も実施例8または9または10と
同様に、実施例4と異なり、組成物溜7に対し、組成物
液面が堰部2、2より下の位置となるように空セル10
を設置する事によって行った。この時、空セル10及
び、組成物溜7の組成物6の温度は25℃に保たれてい
た。
【0085】本実施例の結果、実施例4と同様、ムラ無
く、気泡残りの無い均一な素子を得た。また、実施例4
の時よりも、若干速く注入が完了した。 (実施例12)実施例8と同様に、実施例5における堰
部2、2の位置を注入側小基板端4bから7mm 離れた位
置において長軸と垂直方向に図12の様に小基板端4a
から大基板端3aに延ばして設けた。
【0086】注入方法も実施例8または9または10ま
たは11と同様に、実施例5と異なり、組成物溜に対
し、組成物液面が堰部2、2より下の位置となるように
空セル10を設置する事によって行った。この時、空セ
ル10及び、組成物溜7の組成物6の温度は25℃に保
たれていた。
【0087】本実施例の結果、実施例5と同様、ムラ無
く、気泡残りの無い均一な素子を得た。また、実施例5
の時よりも、若干速く注入が完了した。そして堰部2を
設けなくても、図12に示すようなシールパターンを有
し、実施例12に示すような注入方法によれば、同様な
均一な素子を得ることが可能であることを確認できた。
【0088】(実施例13)実施例6における堰部2、
2の位置を注入側小基板端4bから10mm離れた位置にお
いて短軸と垂直方向に図13の様に小基板端4aから大
基板端3aに延ばして設けた。
【0089】注入方法も、実施例6と異なり、組成物溜
6に対し、組成物液面が堰部2、2より下の位置となる
ように空セル10を設置する事によって行った。この
時、空セル10及び、組成物溜7の組成物6の温度は2
5℃に保たれていた。
【0090】本実施例の結果、実施例6と同様、ムラ無
く、気泡残りの無い均一な素子を得た。また、実施例6
の時よりも、若干速く注入が完了した。 (実施例14)実施例1における堰部2、2の位置を図
14の様に対角方向に小基板端4aから大基板端3aに
延ばして設けた。
【0091】注入方法も、堰部の無い1角を組成物溜7
に漬け、組成物液面は注入側角において、小基板角が3m
m 液面下に有るように空セル10を設置する事によって
行った。この時、空セル10及び、組成物溜7の組成物
6の温度は25℃に保たれていた。
【0092】結果、実施例1と同様、ムラ無く、気泡残
りの無い均一な素子を得た。 (実施例15)実施例2における堰部2、2の位置を図
15の様に対角方向に小基板端の角から大基板端3a,
3aに延ばして設けた。
【0093】注入方法も、堰部2、2の無い1角を組成
物溜7に漬け、組成物液面は注入側角において、小基板
角が3mm 液面下に有るように空セル10を設置する事に
よって行った。この時、空セル10及び、組成物溜7の
組成物6の温度は25℃に保たれていた。
【0094】本実施例の結果、実施例2と同様、ムラ無
く、気泡残りの無い均一な素子を得た。 (実施例16)実施例3における堰部2、の2位置を図
16の様に対角方向に小基板端4aから大基板端3aに
のばして設けた。
【0095】注入方法も、堰部2、2の無い1角を組成
物溜7に漬け、組成物液面は注入側角において、小基板
角が3mm 液面下に有るように空セル10を設置する事に
よって行った。この時、空セル及び、組成物溜7の組成
物6の温度は25℃に保たれていた。
【0096】本実施例の結果、実施例3と同様、ムラ無
く、気泡残りの無い均一な素子を得た。 (実施例17)実施例1における堰部2、2の位置を図
17の様に変える。
【0097】注入側と反対側の長軸シール端より2mm下
の位置に対し、垂直方向に、小基板端4aから大基板端
3aに延ばして堰部2、2を設ける。空セル形成につい
て、実施例1と同様、具体的に、図4のように大小、大
きさの異なる基板1枚ずつを対向させて成る。
【0098】注入方法も、最初、小基板下端(注入側
(A))4bより2mm 上に組成物液面があり、セル内進
行の組成物高さが小基板下端(注入側)4bより4mm の
位置に来たところで、組成物溜7の液面と進行組成高さ
の距離が2mm の間隔を保つように、赤外線センサー8に
より、空セルの組成物溜7に漬ける深さを制御した。こ
の時、空セルの電極端子部は、マスキングテープ(N-38
0)(日東電工(株)製)により保護していた。また、パ
ネル10及び、組成物溜7の組成物の温度は25℃に保
たれていた。
【0099】結果、実施例1と同様、ムラ無く、気泡残
りの無い均一な素子を得た。注入も、一定速度で、注入
方向に均一に入った。輝度計で測定してもほとんどムラ
は検値されなかった。
【0100】また、電極端子部の保護は上に示したもの
に限らず、マスキングテープ スコッチ202(住友ス
リーエム(株)製)を用いても、ストリップマスク #5
03□ーSH((株)アサヒ化学研究所製)を用いても、
同様の結果となり良かった。
【0101】(実施例18)実施例2〜5に関しても、
実施例17と同様に変えて検討した結果、同様な結果を
得た。ムラ無く、気泡残りの無い均一な素子を得た。
【0102】特に、実施例5に対する本検討では、基板
大きさも実施例1記載の様に、上記したものに限るので
はなく、大基板側の大きさが300mm×350mmよりなり、小
基板側の大きさが290mm×345mmのものを使用しても同様
に、注入が完了し、ムラ無く、気泡残りの無い素子を得
る事ができた。
【0103】(実施例19)実施例6に対し、実施例1
7と同様に図18のように注入した。その結果、ムラ無
く、気泡残りの無い均一な素子を得た。
【0104】また、この場合も、大基板側の大きさが30
0mm×350mmよりなり、小基板側の大きさが290mm×345mm
のものを使用しても同様に、注入が完了し、ムラ無く、
気泡残りの無い素子を得る事ができた。
【0105】(実施例20)基板表面に対し、形状記憶
効果を有する熱可塑性ポリマーを用いる。熱可塑性ポリ
マーとしては今回、特開平2ー116102号公報に提
案されているポリウレタンを使用する。このウレタン系
ポリマーの構造式の一例を下記式(化1)に示す。
【0106】
【化1】
【0107】ポリウレタンは部分結晶化されており、ガ
ラス転移点(Tg)以上になると分子鎖のミクロブラウ
ン運動によりゴム弾性状態になる。この状態で外力を受
けた場合、分子鎖は外力の方向に容易に配向し、形状も
変化する。この状態でTg以下の温度に冷却した場合、
分子鎖のミクロブラウン運動が凍結されてプラスチック
状態となり、変形が固定され、形状が記憶されることに
なる。その後、Tg以上の再加熱により分子鎖のミクロ
ブラウン運動が開始され、分子鎖の配向は解かれ、元の
形に復元する事になる。
【0108】上記機能を有するポリウレタンを塗膜形成
し、ラビングを施す。ラビングにより外力を受け、ラビ
ング方向に分子鎖が一軸延伸される。次に、ポリウレタ
ンのTg以上の温度に基板を再加熱することにより、ポ
リウレタンの分子鎖の配向が解かれ、ポリウレタンは非
延伸状態になる。これによって、液晶分子の配向を容易
に制御できる。
【0109】実施例1〜19に示されている大小基板は
次のものを用いた。 固形分濃度6重量%のポリウレタン溶液(例えば、MS55
00(Tg点:55℃):三菱重工業(株)製)を凸版印刷に
より大小両基板の電極面側に転写し、80 ℃で1時間焼成
してポリウレタン層(配向膜)を形成した。ポリウレタ
ン層の膜厚80nm程度であった。次に、ポリウレタン層表
面をレーヨンクロスにより、組成物の注入進行方向(1
方向)にラビングした。これによって得られた基板を使
用した。
【0110】高分子分散型液晶の作製も、実施例1〜1
9とは異なり、以下のように行った。また、注入時間は
大変速く、実施例1〜19に対し、それぞれ、1/3注
入時間を短縮することができた。
【0111】注入後、パネル周辺を高分子樹脂で封口す
る。今回、素子内には紫外線があたらないようにマスク
をし、UV樹脂をパネル周辺に施し、組成物を封口し
た。(例えば、ロックタイト352A(日本ロックタイト
(株)製)をUV(350nm) 55mW/cm2 ,90秒 照射により
硬化する。)その後、マスクをした状態で、パネルを60
℃,1時間加熱した。一度ラビングによりポリウレタン
配向膜に付与された一軸延伸効果がTg以上の加熱によ
り完全に失われ、非延伸状態となるように変化した。ま
た、60℃,1時間加熱する事によって、一部に残っていた
パネル内ムラが完全に解消された。続いて、25℃にまで
毎秒15℃の速度で冷却した。パネル温度25℃になった
後、マスクをはずして、紫外線照射して高分子分散型液
晶を得た。
【0112】その結果、ムラ無く、気泡残りの無い均一
な素子を得た。また、注入速度も速く、電圧保持特性も
実施例1〜19に示される素子よりも良いものを得るこ
とができた。
【0113】(実施例21)実施例20のポリウレタン
溶液をTg点が素子の使用環境温度付近のものを使用す
る(例えば、MS3500(Tg点:35℃):三菱重
工業(株)製)。実施例20と同様に行い、実施例20
におけるラビング効果を喪失させる60℃加熱を40℃
加熱とした。他は同条件として、高分子分散型液晶の素
子を得た。
【0114】結果、同様に、ムラ無く、気泡残りの無い
均一な素子を得た。また、注入速度も速く、電圧保持特
性も良く、駆動電圧も低いものを得る事ができた。 (実施例22)実施例1〜21における組成物を以下の
ように変えた。
【0115】モノマーとして2-エチルヘキシルアクリレ
ート(ナカライテスク(株)製)3.0wt%、2-ヒド
ロキシエチルアクリレート(ナカライテスク(株)製)
9.0wt%、ネオペンチルグリコールジアクリレート
である KAYARAD MANDA(日本化薬(株)製)2.48w
t%、オリゴマーとしてEO変性ビスフェノールAジア
クリレートであるKAYARAD R-551(日本化薬(株)製 )
5.36wt%、光硬化開始剤としてベンジルジメチル
ケタールであるイルガキュア 651(日本チバガイギー
(株)製)0.16wt%から成る光重合性材料と、液
晶として塩素系液晶TL205[N-I point=87℃, ne=
1.744,no=1.527](メルク・ジャパン(株)製)8
0.0wt%を混合して組成物とした。
【0116】結果、実施例1〜21と同様に、ムラ無
く、気泡残りの無い均一な素子を得た。 (実施例23)実施例22における組成物を以下のよう
に変えた。
【0117】プレポリマー材料として2-エチルヘキシル
アクリレート(ナカライテスク(株)製)17.55w
t%、アクリル酸4−ヒドロキシブチルであるアクリエ
ステル 4HBA(三菱レイヨン(株)製 )0.44w
t%、メタクリル酸2−サクシノロイルオキシエチルで
あるアクリエステルSA(三菱レイヨン(株)製)0.
20wt%,KAYARAD TPGDA(日本化薬(株)製)1.1
1wt%、光硬化開始剤として2ーヒドロキシー2−メ
チル−1−フェニルプロパン−1−オンであるダロキュ
ア−1173(メルク社製)0.20wt%から成る光重合
性材料と、液晶としてTL205[N-I point=87℃, ne
=1.744,no=1.527](メルク・ジャパン(株)製)8
0.5wt%を混合して組成物とした。
【0118】この結果、実施例22と同様に、ムラ無
く、気泡残りの無い均一な素子を得た。なお、以上に示
される実施例1〜23における組成物等材料はこれに限
定されるものではなく、他の材料でも多く実施されるも
のである。実施例1〜23において紫外線強度は示して
いる強度のみに限定されるものではなく、3〜160mW/cm2
において、本発明の特徴を有するものが得られることが
確認できた。また、素子のセル厚は13.0μmに限定され
るものではない。
【0119】また、以上の実施例では、高分子分散型液
晶の場合を示しているが、高分子分散型液晶に限定され
るものではなく、他の液晶表示素子及びその製造に関し
てもあてはまるものであり、ムラの無い均一な液晶表示
素子を得る条件である。
【0120】
【発明の効果】本発明の液晶表示素子及びその製造方法
によれば、常圧においても、組成物等の材料を気泡混入
や注入ムラが無く簡単にパネルに注入でき、均一なパネ
ルの供給が可能である。また今までのような減圧操作等
圧力変動を利用しない為、組成物への影響もなく、注入
ができる。
【0121】特に、高分子分散型液晶のような、組成物
として、少なくとも、液晶材料と高分子樹脂材料の混合
物を注入する場合、モノマーの揮発等の問題より、圧力
変動による作製が難しく、気泡混入や注入ムラが起き易
かったが、本発明の製造方法により、この問題を解消す
る事ができる。
【0122】また、本発明の熱可塑性ポリマーの使用に
より、組成物等の材料の注入もスピーディーに、問題な
く行うことができる。さらに熱可塑性ポリマー層が基板
表面に形成されることによって、保持率向上もはかれ
る。製造方法によれば、常圧においても、組成物等の材
料を気泡混入や注入ムラが無く簡単にパネルに注入で
き、均一なパネルの供給が可能である。また今までのよ
うな減圧操作等圧力変動を利用しない為、組成物への影
響もなく、注入ができる。
【0123】特に、高分子分散型液晶のような、組成物
として、少なくとも、液晶材料と高分子樹脂材料の混合
物を注入する場合、モノマーの揮発等の問題より、圧力
変動による作製が難しく、気泡混入や注入ムラが起き易
かったが、本発明の製造方法により、この問題を解消す
る事ができる。
【0124】また、本発明の熱可塑性ポリマーの使用に
より、組成物等の材料の注入もスピーディーに、問題な
く行うことができる。さらに熱可塑性ポリマー層が基板
表面に形成されることによって、保持率向上もはかれ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の表示素子の第1の実施例の組成物注入
前の空セルを示す概略平面図である。
【図2】本発明の表示素子の第2の実施例の組成物注入
前の空セルを示す概略平面図である。
【図3】本発明の表示素子の第3の実施例の組成物注入
前の空セルを示す概略平面図である。
【図4】本発明の表示素子の第4の実施例の組成物注入
前の空セルを示す概略平面図である。
【図5】本発明の表示素子の第5の実施例の組成物注入
前の空セルを示す概略平面図である。
【図6】本発明の表示素子の第6の実施例の組成物注入
前の空セルを示す概略平面図である。
【図7】本発明の表示素子の第7の実施例の組成物注入
前の空セルを示す概略平面図である。
【図8】本発明の表示素子の製造方法の第1の実施例を
説明する組成物注入時の素子作製略図である。
【図9】本発明の表示素子の製造方法の第2の実施例を
説明する組成物注入時の素子作製略図である。
【図10】本発明の表示素子の製造方法の第3の実施例
を説明する組成物注入時の素子作製略図である。
【図11】本発明の表示素子の製造方法の第4の実施例
を説明する組成物注入時の素子作製略図である。
【図12】本発明の表示素子の製造方法の第5の実施例
を説明する組成物注入時の素子作製略図である。
【図13】本発明の表示素子の製造方法の第6の実施例
を説明する組成物注入時の素子作製略図である。
【図14】本発明の表示素子の製造方法の第7の実施例
を説明する組成物注入時の素子作製略図である。
【図15】本発明の表示素子の製造方法の第8の実施例
を説明する組成物注入時の素子作製略図である。
【図16】本発明の表示素子の製造方法の第9の実施例
を説明する組成物注入時の素子作製略図である。
【図17】本発明の表示素子の製造方法の第10の実施
例を説明する組成物注入時の素子作製略図である。
【図18】本発明の表示素子の製造方法の第11の実施
例を説明する組成物注入時の素子作製略図である。
【符号の説明】
1a,1b,1c,1d,1e,1f シール部 2 堰部(ストッパー) 3 大基板 4 小基板 5 組成物供給部 6 組成物 7 組成物溜 8 センサー 10 空セル

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも一方が透明である一対の電極
    付基板を、該基板の電極側を対向させてシール材料であ
    る高分子樹脂材料でシール部において貼り合わせ、基板
    間に空隙を有する空セルを形成し、該空セル内に液晶材
    料を含む組成物を注入してなる液晶表示素子であって、
    液晶表示素子の表示面が矩形であり、前記基板の各辺の
    端部に沿って形成されたシール部にシール材料のない2
    個以上の開口を設けたことを特徴とする液晶表示素子。
  2. 【請求項2】 前記開口が基板の4つの角部に形成され
    ている請求項1記載の液晶表示素子。ことが好ましい。
  3. 【請求項3】 前記シール部が注入方向に垂直な2辺に
    おいて、それぞれ少なくとも、1カ所以上シール材料の
    無い部分により開口が形成されている請求項1記載の液
    晶表示素子。
  4. 【請求項4】 前記シール部が、点線状に高分子樹脂で
    形成され、開口が形成されている請求項1、2記載の液
    晶表示素子。
  5. 【請求項5】 少なくとも一方が透明である一対の電極
    付基板の電極側を対向させてシール材料である高分子樹
    脂材料で基板間に空隙を形成して貼り合わせ、シール材
    料のない部分で注入口、排出口等の開口をもうけて空セ
    ルを形成して、注入口の設けられている辺の両端に組成
    物が注入側から反対側に、特に排出口に回り込まないよ
    うに堰部を設け、注入口の設けられている部分と堰部に
    よって囲まれた部分に液晶材料を含む組成物を溜める
    か、または、前記注入口の設けられている部分と堰部に
    よって囲まれた部分を前記組成物が保持されている容器
    内に浸漬し、注入が完了するまで、組成物が無くならな
    いように連続的に供給することを特徴とする液晶表示素
    子の製造方法。
  6. 【請求項6】 また前記空セルが前記注入口の設けられ
    ている辺の両端に組成物が注入側から反対側に、特に排
    出口に回り込まないように堰部が設けられてなる請求項
    1、2、3、4記載の液晶表示素子。
  7. 【請求項7】 少なくとも一方が透明である一対の電極
    付基板の電極側を対向させてシール材料である高分子樹
    脂材料で基板間に空隙を設けて貼り合わせるとともに、
    少なくとも注入口、排出口の開口を設けて空セルを形成
    し、前記注入口の設けられている辺の両端に組成物が注
    入側から反対側に、特に排出口に回り込まないように堰
    部を設け、前記シール部に基板の4つの角部において、
    開口を設けて形成するか、注入方向に垂直な2辺におい
    て、それぞれ少なくとも、1カ所以上シール材料の無い
    部分により開口を設けるか、点線状に高分子樹脂で形成
    し、液晶材料を含む組成物を貯留する組成物溜に空セル
    を漬けることによって注入することを特徴とする液晶表
    示素子の製造方法。
  8. 【請求項8】 前記堰部を注入部と垂直方向の2辺に対
    して注入側より上方に位置させて設け、空セルを液晶材
    料を含む組成物溜に漬けることによって空セルに注入す
    る請求項5、7記載の液晶表示素子の製造方法。
  9. 【請求項9】 堰部が注入部と垂直方向の2辺に対して
    注入側より上方に位置して設けられ、液晶材料を含む組
    成物溜に漬けられて液晶材料が空セルに注入されてなる
    請求項6記載の液晶表示素子。
  10. 【請求項10】 前記組成物溜に赤外線センサーもしく
    は温感センサーもしくは光学センサーを装備し、前記組
    成物溜の液面の高さを空セル内に注入されて行く高さに
    常に位置するように空セルの浸漬位置を制御し、堰部を
    排出口側に近い排出口の設けられている辺と垂直方向の
    シール端部に設けて組成物を注入する請求項7、8記載
    の液晶表示素子の製造方法。
  11. 【請求項11】 前記基板の電極の端子部及び基板外表
    面を保護した後、組成物を注入する請求項7、8記載の
    液晶表示素子の製造方法。
  12. 【請求項12】 空パネルの1角の開口部を注入口と
    し、その1角に対して隣合う角部の2つに対し、高分子
    樹脂材料からなる堰部を設け、注入側を該堰部より下に
    配し、液晶材料を含む組成物溜に漬けて注入する請求項
    7、8、10記載の液晶表示素子の製造方法。
  13. 【請求項13】 空セルの1角の開口に注入口が形成さ
    れ、その1角に対して隣合う角部の2つに対し、高分子
    樹脂材料からなる堰部が設けられ、液晶材料を含む組成
    物が空セル内に注入されてなる請求項1、2、3、4記
    載の液晶表示素子。
  14. 【請求項14】 少なくとも一方が透明な一対の電極付
    基板の少なくとも一方の電極側基板表面に形状記憶効果
    を有する熱可塑性ポリマー層を形成し、組成物の注入さ
    れて行く方向に、前記熱可塑性ポリマー層にラビングを
    施し、該ポリマー層には、一軸延伸を施し、基板間に注
    入口より組成物を注入して素子を形成し、注入が完了し
    た後、素子から組成物が漏れないように、封口樹脂で封
    口し、前記熱可塑性ポリマーのガラス転移温度(Tg
    点)以上に素子を一定時間加熱し、前記熱可塑性ポリマ
    ーの一軸延伸を解き、非延伸状態と成った後、温度降下
    させることにより作製することを特徴とする液晶表示素
    子の製造方法。
  15. 【請求項15】 少なくとも一方が透明な一対の電極付
    基板の少なくとも一方の電極側基板表面に形状記憶効果
    を有する熱可塑性ポリマー層が形成され、該熱可塑性ポ
    リマー層は一軸延伸され、その表面には組成物の注入さ
    れて行く方向にラビングが施されたものであり、基板間
    に組成物が注入され、注入口が封口樹脂で封口され、そ
    の後前記熱可塑性ポリマーはガラス転移温度(Tg点)
    以上に一定時間加熱され、一軸延伸が解かれて非延伸状
    態となっていることを特徴とする液晶表示素子。
  16. 【請求項16】 前記形状記憶効果を有する熱可塑性ポ
    リマーのガラス転移温度(Tg点)が素子の使用環境温
    度よりも高い請求項15記載の液晶表示素子。
  17. 【請求項17】 少なくとも一方が透明な一対の電極付
    基板の少なくとも一方の電極側基板上にガラス転移温度
    (Tg点)または軟化点が素子の使用環境温度以下のポ
    リマーが塗膜形成されている請求項1、2、3、4記載
    の液晶表示素子。
  18. 【請求項18】 前記形状記憶効果を有する熱可塑性ポ
    リマーがポリウレタンである請求項15,16,17記
    載の液晶表示素子。
  19. 【請求項19】 前記基板が前記電極付基板の少なくと
    も一方の電極側基板上にガラス転移温度(Tg点)また
    は軟化点が素子の使用環境温度以下のポリマーが塗膜形
    成され、該熱可塑性ポリマーのガラス転移温度(Tg
    点)以上に素子が一定時間加熱され、前記熱可塑性ポリ
    マーの一軸延伸が解かれ、非延伸状態とされている請求
    項1,2,3,4記載の液晶表示素子。
  20. 【請求項20】 前記空セルに注入される組成物が液晶
    材料と高分子材料との混合物より成る請求項6,13,
    15記載の液晶表示素子。
  21. 【請求項21】 前記組成物の注入に際して、注入する
    組成物及び基板を一定温度に加温してから注入する請求
    項5、7、8、10、11、12、14記載の液晶表示
    素子の製造方法。
  22. 【請求項22】 前記注入が常圧下で行われる請求項
    5、7、8、10、11、12、14記載の液晶表示素
    子の製造方法。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5946070A (en) * 1997-03-28 1999-08-31 Denso Corporation Liquid crystal cell having filling passage preventing turn-around flow of liquid crystal
US6288766B1 (en) 1998-02-16 2001-09-11 Sharp Kabushiki Kaisha Manufacturing method of liquid crystal element for injecting the liquid crystal into the cell and liquid crystal injecting device
JP2001249344A (ja) * 1999-12-28 2001-09-14 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
US6844910B2 (en) 1999-12-28 2005-01-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
US7196765B2 (en) 2003-11-21 2007-03-27 Seiko Epson Corporation Liquid crystal device and electronic apparatus, and method for fabricating liquid crystal device
US20100105276A1 (en) * 2007-03-12 2010-04-29 Sharp Kabushiki Kaisha Apparatus and method for manufacturing liquid crystal display panel
US9791759B2 (en) 2010-09-03 2017-10-17 Cardinal Ig Company Multiple glazing with variable scattering by liquid crystals and its method of manufacture
US9891454B2 (en) 2011-12-29 2018-02-13 Cardinal Ig Company Multiple glazing with variable diffusion by liquid crystals and method of manufacture thereof
CN111290180A (zh) * 2020-02-27 2020-06-16 亚世光电股份有限公司 一种大尺寸lcd采用灌注方式生产的工艺方法

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5946070A (en) * 1997-03-28 1999-08-31 Denso Corporation Liquid crystal cell having filling passage preventing turn-around flow of liquid crystal
US6288766B1 (en) 1998-02-16 2001-09-11 Sharp Kabushiki Kaisha Manufacturing method of liquid crystal element for injecting the liquid crystal into the cell and liquid crystal injecting device
US8648995B2 (en) 1999-12-28 2014-02-11 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
US6844910B2 (en) 1999-12-28 2005-01-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
US7679710B2 (en) 1999-12-28 2010-03-16 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
JP2011164662A (ja) * 1999-12-28 2011-08-25 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶表示装置の製造方法
JP2001249344A (ja) * 1999-12-28 2001-09-14 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
US7196765B2 (en) 2003-11-21 2007-03-27 Seiko Epson Corporation Liquid crystal device and electronic apparatus, and method for fabricating liquid crystal device
US20100105276A1 (en) * 2007-03-12 2010-04-29 Sharp Kabushiki Kaisha Apparatus and method for manufacturing liquid crystal display panel
US8179515B2 (en) * 2007-03-12 2012-05-15 Sharp Kabushiki Kaisha Apparatus and method for manufacturing liquid crystal display panel
US9791759B2 (en) 2010-09-03 2017-10-17 Cardinal Ig Company Multiple glazing with variable scattering by liquid crystals and its method of manufacture
US9891454B2 (en) 2011-12-29 2018-02-13 Cardinal Ig Company Multiple glazing with variable diffusion by liquid crystals and method of manufacture thereof
CN111290180A (zh) * 2020-02-27 2020-06-16 亚世光电股份有限公司 一种大尺寸lcd采用灌注方式生产的工艺方法

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