JPH08989A - 微粉体材料製造装置 - Google Patents
微粉体材料製造装置Info
- Publication number
- JPH08989A JPH08989A JP13530694A JP13530694A JPH08989A JP H08989 A JPH08989 A JP H08989A JP 13530694 A JP13530694 A JP 13530694A JP 13530694 A JP13530694 A JP 13530694A JP H08989 A JPH08989 A JP H08989A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cylindrical container
- fine powder
- ceramic
- fine powdery
- rolling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 38
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 36
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 35
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 30
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 5
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 abstract description 4
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 abstract 4
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 abstract 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 38
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 36
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 20
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 3
- 230000005674 electromagnetic induction Effects 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Crushing And Grinding (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
集を起こしていない一次粒子体の集まりであるところの
微粉体材料を容易に得ることができる微粉体材料製造装
置を提供する。 【構成】本発明にかかる微粉体製造装置は、横向き支持
されて軸心P回りに回転駆動される円筒容器1と、この
円筒容器1内の長手方向に沿って離間する位置ごとに取
り付けられた仕切部材2と、これら仕切部材2間に収納
された多数個の転動媒体3と、仕切部材2を貫通して転
動媒体3上にまで引き込まれた微粉体原料Lの供給管1
3と、転動媒体3を収納した円筒容器1の内部を加熱す
る加熱手段6とを備えており、仕切部材2の各々は微粉
体材料Sのみを通過させる開口4bが形成されたものと
なっている。
Description
熱処理操作を加えて固体状の微粉体材料を得る際に用い
られる微粉体材料製造装置に関する。
ば、セラミック成分と溶液との混合物である坏土やスラ
リー(以下、セラミックスラリーという)に対して乾燥
や仮焼などの熱処理操作を加えたうえで固体状の微粉体
材料、すなわち、セラミック材料を得る際には、バッチ
式や連続式といわれるような周知構造の熱処理炉(いず
れも図示していない)を使用するのが一般的となってい
る。そして、バッチ式熱処理炉においては、セラミック
や耐熱金属を用いて作製された箱形の容器である匣の内
部にセラミックスラリーを注入し、かつ、セラミックス
ラリーが注入された匣を加熱室内に載置した後、所要温
度下で所定時間にわたって加熱することによって乾燥及
び仮焼、または、乾燥もしくは仮焼のみといった熱処理
操作を加えることによって固体状のセラミック材料を得
ることが行われている。
型トンネル炉やロータリーキルンが一般的であり、プッ
シャー型トンネル炉においては、セラミックスラリーが
注入された匣を入口側から出口側へと順次移送しながら
加熱したうえで冷却することによってセラミック材料を
得るようになっている。さらにまた、ロータリーキルン
では、セラミックや耐熱金属からなる円筒容器であると
ころの炉芯管を所要温度まで加熱したうえで回転させな
がら、この炉芯管の入口側端部から滴下して供給された
セラミックスラリーを炉芯管で移送しながら加熱するこ
とが行われており、固体状となったセラミック材料は炉
芯管の出口側端部から排出されてくるようになってい
る。なお、以上の手順に従って得られた固体状の微粉体
材料であるセラミック材料は、ボールミルや粉砕機を用
いて粉砕されたうえで本焼成工程へと送られることにな
る。
製造装置を使用して得られたセラミック材料は、熱処理
操作に伴う凝集を起こしているのが一般的であり、ある
程度の大きさに固まった多孔質状の二次粒子体として得
られるのが普通である。そして、二次粒子体となったセ
ラミック材料は、粉砕などの後処理を行ったとしても細
かな微粉末状態とするのが大変に難しく、熱処理操作時
に発生していた空孔を完全に無くすことができないもの
となってしまう。そこで、粉砕済みのセラミック材料を
本焼成して得られるセラミック焼結体中にも空孔が残存
して緻密化し難くなることは避けられず、最終製品にお
ける特性劣化を招いてしまうのが実情であった。
されたものであって、凝集を起こしていない一次粒子体
の集まりであるところの微粉体材料を容易に得ることが
できる微粉体材料製造装置の提供を目的としている。
造装置は、横向き支持されて軸心回りに回転駆動される
円筒容器と、この円筒容器内の長手方向に沿って離間す
る位置ごとに取り付けられた仕切部材と、これら仕切部
材間に収納された多数個の転動媒体と、仕切部材を貫通
して転動媒体上にまで引き込まれた微粉体原料の供給管
と、転動媒体を収納した円筒容器の内部を加熱する加熱
手段とを備えており、かつ、仕切部材の各々は微粉体材
料のみを通過させる開口が形成されたものとなってい
る。
に供給された流動状の微粉体原料は転動媒体上に滴下し
て供給されることになり、微粉体原料中の溶液は加熱手
段によって加熱された円筒容器の内部に供給されたこと
によって速やかに蒸発させられてしまう。そこで、円筒
容器の回転に伴って混合されている転動媒体の表面上に
は微粉体原料に含まれていた固体分としてのセラミック
成分のみが付着して残ることになり、転動媒体の表面上
に付着していたセラミック成分は転動媒体同士が互いに
擦り合わされているために細かく粉砕されることにな
る。そして、粉砕されたセラミック成分は転動媒体で囲
まれていることによって熱処理操作を加えられながら徐
々に仕切部材側へと円筒容器の回転に伴って移動させら
れた後、仕切部材に形成されていた開口を通過したうえ
で固体状のセラミック材料として外部へと排出される。
する。
流動状の微粉体原料の一例であるセラミックスラリーに
対して乾燥や仮焼などのような熱処理操作を加えること
によって固体状の微粉体材料であるセラミック材料を得
るために使用されるものであり、図1は微粉体材料製造
装置の全体構成を簡略化して示す断面図、図2は仕切部
材の構成を示す外観斜視図である。
されたうえで軸心P回りに沿って回転駆動される円筒容
器1を備えており、この円筒容器1は熱処理操作に必要
な所要時間に対応した2.5ないし5°程度の角度だけ
軸心Pが傾いた状態で横向き支持されている。そして、
この円筒容器1内の長手方向に沿って所定距離だけ離間
する位置ごとには仕切部材2が取り付けられており、こ
れら仕切部材2間にはメディア(玉石)などと呼ばれる
多数個の転動媒体3が収納されている。なお、ここでの
円筒容器1は所定厚みのセラミックや石英、耐熱金属な
どを用いて作製されたものであり、600mm程度の全
長を有し、かつ、処理量に対応した100ないし250
mm程度の内径を有するものとなっている。
の素材を用いて作製されたものであり、図2で示すよう
に、円筒容器1の内径と対応した外径を有する所定厚み
の円板部4と、この円板部4の端縁から延出された複数
の支持板部5とから構成されている。そして、これら仕
切部材2の円板部4には、転動媒体3の通過を阻止しな
がら処理済みとなったセラミック材料Sのみを通過させ
る所定幅のスリット状となった複数個の開口4aが形成
されており、各円板部4は支持板部5のそれぞれが円筒
容器1の内周面に当接することによって位置決めされた
うえで円筒容器1を閉塞する状態で取り付けられてい
る。さらに、これら仕切部材2のうちの一方を構成する
円板部4の軸心位置、すなわち、円筒容器1の軸心Pと
一致する位置には、後述するスラリー供給管を貫通させ
るための貫通孔4bが形成されている。一方、転動媒体
3のそれぞれはセラミックや耐熱金属を用いたうえで直
径が1ないし50mm程度の球形状や円柱形状などとし
て作製されており、収納される転動媒体3の個数や素材
は円筒容器1の内容積やセラミックスラリーL(セラミ
ック材料S)の特性などを考慮したうえで選択されてい
る。
部、すなわち、円筒容器1そのもの及びこれに収納され
た転動媒体3を所要温度まで加熱したうえで加熱状態を
維持する加熱手段としての電熱ヒータ6と、これら電熱
ヒータ6を内蔵したうえで円筒容器1の外周囲を取り囲
んで配置された断熱壁7とを備えている。そして、円筒
容器1の両端部は断熱壁7に設けられた開口から外部へ
とそれぞれ突出させられており、一方側の端部は電動機
8が連結された駆動ローラ9によって、また、その他方
側の端部は従動ローラ10によって各別に支持されてい
る。そこで、この円筒容器1は、電動機8によって駆動
ローラ9及び従動ローラ10を介したうえでの低速で回
転駆動されることになる。
は、円筒容器1に対してセラミックスラリーLを供給す
るためのスラリー供給装置11を備えており、このスラ
リー供給装置11は断熱壁5から突出した円筒容器1の
他方側端部の外側上方位置に設置されている。すなわ
ち、このスラリー供給装置11は、調製済みとなったセ
ラミックスラリーLが溜められたスラリー貯溜槽12
と、これから延出されたスラリー供給管13とから構成
されたものであり、スラリー供給管13は仕切部材2の
円板部4に形成された貫通孔4bを貫通したうえで転動
媒体3上にまで引き込まれている。なお、この際におけ
るスラリー供給管13の引き込み長さ、つまりスラリー
供給管13の開放端の位置を調整することによっても、
熱処理時間の調整を行いうることは勿論である。
からは、円筒容器1内に収納された転動媒体3上に向か
ってセラミックスラリーLが滴下されることになる。な
お、必ずしもセラミックスラリーLを滴下によって供給
しなければならない訳ではなく、スラリー供給管13の
開放端にノズル(図示していない)などを取り付けたう
えでセラミックスラリーLを筒形容器1の上側に位置す
る内面などに対して噴霧してもよいことは勿論である。
また、この際、スラリー供給管13の中途位置には、セ
ラミックスラリーLの供給量を制御するための開閉弁1
4が介装されている。
たうえでの熱処理操作を加えることにより、セラミック
スラリーLからセラミック材料Sを得る際の手順につい
て説明する。
有機溶媒などの溶液との混合物である成分調製済みのセ
ラミックスラリーLを用意する一方、多数個の転動媒体
3を収納した円筒容器1を電動機8によって低速で回転
させながら電熱ヒータ4を用いて円筒容器1及び転動媒
体3が所要温度となるまで加熱する。なお、この際、セ
ラミックスラリーLの乾燥を行うに際しては円筒容器1
及び転動媒体3を500℃程度、また、仮焼を行う場合
には1000℃程度となるまで加熱することになる。そ
して、スラリー供給手段11を構成する開閉弁14によ
って調整しながらスラリー貯溜容器12に溜められてい
たセラミックスラリーLをスラリー供給管13の開放端
から転動媒体3に向かって少量ずつ滴下する。すると、
滴下されたセラミックスラリーLに含まれていた水など
の溶液は転動媒体3と接触することによって速やかに蒸
発させられることになり、転動媒体3の表面上にはセラ
ミックスラリーLに含まれていた微粉体成分であるセラ
ミック成分のみが付着して残ることになる。
円筒容器1の回転に伴って混合されて互いに擦り合わさ
れているのであるから、転動媒体3それぞれの表面上に
付着して残っていたセラミック成分は転動媒体3同士が
衝突し合いながら擦り合わされていることによって細か
く粉砕されてしまう。そして、粉砕済みとなったセラミ
ック成分は転動媒体3で囲まれているために更なる熱処
理操作を加えられながら徐々に仕切部材2側、すなわ
ち、軸心Pが傾いた状態で横向き支持された円筒容器1
における下側位置に取り付けられた仕切部材2側へと円
筒容器1の回転に伴って移動させられることになり、仕
切部材2を構成する円板部4の開口4aを通過したうえ
で固体状のセラミック材料Sとして外部へと排出され
る。なお、このようにして排出された熱処理済みのセラ
ミック材料Sは、予め設置されていた回収容器15によ
って回収された後、引き続き本焼成工程へと送られてい
くことになる。
ク材料Sの排出を容易化するとともに、熱処理に要する
時間調整のために円筒容器1を若干の角度だけ軸心Pが
傾いた状態で横向き支持することとしているが、この円
筒容器1をいずれにも傾いていない水平状で支持してお
いてもよく、このようにした場合には円筒容器1内に取
り付けられた仕切部材2の双方からセラミック材料Sが
排出されてくることになる。なお、これら仕切部材2の
構成が図2に限定されることはないのであり、例えば、
図3の変形例で示すような耐熱金属からなる網16を用
いて構成されたものであっても、あるいはまた、図4の
変形例で示すような仕切部材2、すなわち、板体17を
介したうえでの同心状として連結された一対の管体1
8,19からなる二重管構成とされたものであってもよ
い。そして、図4で示すような二重管構成の仕切部材2
を用いる場合、板体17と管体18,19とで囲まれた
貫通部分(図4中、符号20で示す)を転動媒体3の大
きさよりも小さいものとしておく必要があることは勿論
である。
して電熱ヒータ4を使用することによって円筒容器1及
びこれに収納された転動媒体3を加熱するとしている
が、電磁誘導加熱や誘電加熱を利用してなる加熱手段を
使用することも可能である。そして、電磁誘導加熱を利
用する場合は円筒容器1の材質に関わりなく、少なくと
も転動媒体3が導電性を有してさえいればセラミックス
ラリーL(セラミック材料S)の加熱を行えることにな
り、また、誘電加熱を利用する場合は円筒容器1及び転
動媒体3の材質に関わりなく、セラミックスラリーL
(セラミック材料S)そのものを直接的に加熱しうるこ
とになる。
粉体材料製造装置によれば、加熱手段によって加熱され
た円筒容器の内部に滴下して供給された微粉体原料中の
溶液は速やかに蒸発して失われてしまうことになり、微
粉体原料中の微粉体成分は転動媒体の表面上に付着して
残ったうえ、これら転動媒体同士が擦り合わされること
によって粉砕されてしまう。したがって、微粉体原料に
対する熱処理操作を加えたにも拘わらず、従来例におけ
るような熱処理操作に伴っての凝集が生じた二次粒子体
ではなく、全く凝集を起こしていない一次粒子体として
の微粉体材料が得られることになる。
材料を用いた際には、理論密度に近い密度を有する製品
の作製が可能となり、最終製品における特性の向上及び
品質の安定化を実現できるという効果が得られることに
なる。
成を簡略化して示す断面図である。
る。
Claims (1)
- 【請求項1】 流動状の微粉体原料(L)に熱処理操作
を加えて固体状の微粉体材料(S)を得る微粉体材料製
造装置であって、 横向き支持されて軸心(P)回りに回転駆動される円筒
容器(1)と、この円筒容器(1)内の長手方向に沿っ
て離間する位置ごとに取り付けられた仕切部材(2)
と、これら仕切部材(2)間に収納された多数個の転動
媒体(3)と、仕切部材(2)を貫通して転動媒体
(3)上にまで引き込まれた微粉体原料(L)の供給管
(13)と、転動媒体(3)を収納した円筒容器(1)
の内部を加熱する加熱手段(6)とを備えており、 仕切部材(2)の各々は微粉体材料(S)のみを通過さ
せる開口(4b)が形成されたものであることを特徴と
する微粉体材料製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13530694A JP3554940B2 (ja) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | 微粉体材料製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13530694A JP3554940B2 (ja) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | 微粉体材料製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08989A true JPH08989A (ja) | 1996-01-09 |
| JP3554940B2 JP3554940B2 (ja) | 2004-08-18 |
Family
ID=15148641
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13530694A Expired - Fee Related JP3554940B2 (ja) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | 微粉体材料製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3554940B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011115746A (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Taiheiyo Cement Corp | 反応容器およびこれを用いた反応生成物の排出方法 |
-
1994
- 1994-06-17 JP JP13530694A patent/JP3554940B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011115746A (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Taiheiyo Cement Corp | 反応容器およびこれを用いた反応生成物の排出方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3554940B2 (ja) | 2004-08-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6104015A (en) | Continuous microwave rotary furnace for processing sintered ceramics | |
| RU2444685C2 (ru) | Способ и устройство для получения и/или кондиционирования порошкообразного материала | |
| SU1243618A3 (ru) | Способ подготовки шихты дл варки стекла и устройство дл его осуществлени | |
| JP3132267B2 (ja) | セラミック熱処理装置 | |
| US5709345A (en) | Fine powder heat treating apparatus | |
| JPH08989A (ja) | 微粉体材料製造装置 | |
| JPH07116491A (ja) | 微粉体材料製造装置 | |
| JPH07100403A (ja) | 微粉体の製造方法及び製造装置 | |
| JP3319081B2 (ja) | セラミック原料熱処理装置 | |
| JP3166444B2 (ja) | セラミック原料熱処理装置 | |
| US4578029A (en) | Method for driving a rotary kiln for roasting cement raw meals | |
| JP3326973B2 (ja) | セラミック原料熱処理装置 | |
| JP3319080B2 (ja) | セラミック原料熱処理装置 | |
| JPH05332680A (ja) | 連続式熱処理炉 | |
| JP6183347B2 (ja) | 造粒装置 | |
| JPH1029842A (ja) | 軽量骨材原料の予熱方法およびその方法に用いる予熱装置 | |
| JPH07109167A (ja) | セラミック原料熱処理装置 | |
| CN108421466B (zh) | 一种陶瓷制釉工艺 | |
| CN120333089A (zh) | 一种三元前驱体粉末烘干装置 | |
| JP3508895B2 (ja) | 微粉体材料製造装置 | |
| JPH05164467A (ja) | 焼成炉 | |
| JP2606775B2 (ja) | 粉体焼成装置 | |
| JPH0579758A (ja) | 粒状体の回転熱処理炉 | |
| JPH06229682A (ja) | 焼成炉 | |
| IT202300015183A1 (it) | Impianto e uso di un impianto per ottenere polveri metalliche per bruciatori |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20040203 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20040225 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040413 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040426 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090521 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 5 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090521 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100521 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |