JPH09100183A - 厚膜グレーズド基板及びその製造方法 - Google Patents
厚膜グレーズド基板及びその製造方法Info
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- JPH09100183A JPH09100183A JP25962795A JP25962795A JPH09100183A JP H09100183 A JPH09100183 A JP H09100183A JP 25962795 A JP25962795 A JP 25962795A JP 25962795 A JP25962795 A JP 25962795A JP H09100183 A JPH09100183 A JP H09100183A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
- C04B41/526—Multiple coating or impregnation with materials having the same composition but different characteristics
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 グレーズガラスの軟化による弛れを防止し、
容易にグレーズ層の形状を制御することができる。グレ
ーズ層全体でみた場合に表面粗さにバラツキがなく、グ
レーズ層の高さが高精度でしかもグレーズ層の端部の直
線性に優れた厚膜グレーズド基板を得る。グレーズ層を
セラミック基板に強力に接合する。 【解決手段】 厚膜グレーズド基板１０は、セラミック
基板１１の片面に結晶化ガラスを主成分とする結晶化ガ
ラスペーストを印刷又は塗布して第１ガラス層１２を形
成し、この第１ガラス層１２の表面に非晶質ガラスを主
成分とする非晶質ガラスペーストを印刷又は塗布して第
２ガラス層１３を形成し、更にセラミック基板１１上の
第１ガラス層１２と第２ガラス層１３を焼成してグレー
ズ層１５を形成することにより作られる。
容易にグレーズ層の形状を制御することができる。グレ
ーズ層全体でみた場合に表面粗さにバラツキがなく、グ
レーズ層の高さが高精度でしかもグレーズ層の端部の直
線性に優れた厚膜グレーズド基板を得る。グレーズ層を
セラミック基板に強力に接合する。 【解決手段】 厚膜グレーズド基板１０は、セラミック
基板１１の片面に結晶化ガラスを主成分とする結晶化ガ
ラスペーストを印刷又は塗布して第１ガラス層１２を形
成し、この第１ガラス層１２の表面に非晶質ガラスを主
成分とする非晶質ガラスペーストを印刷又は塗布して第
２ガラス層１３を形成し、更にセラミック基板１１上の
第１ガラス層１２と第２ガラス層１３を焼成してグレー
ズ層１５を形成することにより作られる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は熱転写式プリンタの
サーマルヘッドに適する厚膜グレーズド基板に関する。
更に詳しくは結晶化ガラスと非晶質ガラスとにより構成
された厚膜グレーズド基板及びその製造方法に関するも
のである。
サーマルヘッドに適する厚膜グレーズド基板に関する。
更に詳しくは結晶化ガラスと非晶質ガラスとにより構成
された厚膜グレーズド基板及びその製造方法に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】この種の厚膜グレーズド基板は、例えば
高速印刷、高印字質等の高精度化に対応したサーマルプ
リンタヘッド用の基板として用いられ、基板のグレーズ
層には一定の曲率を有する凸部が形成される。従来、図
３に示すように、厚膜グレーズド基板５は、セラミック
基板１の表面に非晶質ガラスを主成分とするガラスペー
ストを塗布し熱処理してグレーズ層２を形成し（図３
（ａ））、その後化学エッチング等により部分的にグレ
ーズ層２をカット又は除去して所定の形状の凸部３を形
成し（図３（ｂ））、再度熱処理を行ってグレーズ層２
を軟化させてその角部４を丸くする（図３（ｃ））こと
により、作られる。
高速印刷、高印字質等の高精度化に対応したサーマルプ
リンタヘッド用の基板として用いられ、基板のグレーズ
層には一定の曲率を有する凸部が形成される。従来、図
３に示すように、厚膜グレーズド基板５は、セラミック
基板１の表面に非晶質ガラスを主成分とするガラスペー
ストを塗布し熱処理してグレーズ層２を形成し（図３
（ａ））、その後化学エッチング等により部分的にグレ
ーズ層２をカット又は除去して所定の形状の凸部３を形
成し（図３（ｂ））、再度熱処理を行ってグレーズ層２
を軟化させてその角部４を丸くする（図３（ｃ））こと
により、作られる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の方
法では、グレーズ層が全て非晶質ガラスから作られるた
め、次に挙げる数々の欠点があった。 ガラスを溶かして凸部を形成するときに、グレーズ
層の薄い部分が結晶化し、再度の熱処理でその部分の表
面粗さが小さくなり、グレーズ層全体でみた場合に表面
粗さにバラツキが発生する。 ガラスペーストの弛れに起因して、グレーズ層の高
さを高精度にできないばかりか、図４に示すようにグレ
ーズ層２の端部に湾曲部６が発生し、端部の直線性に劣
る。 グレーズ層の表面粗さを小さくするために、再度熱
処理が必要である。 グレーズ層のセラミック基板に対する接合力が高く
ない。 平坦なグレーズ層から凸部を作り出すために、凸部
形成に時間が多くかかる。 この点を解消するために、凸部をガラスペーストの
印刷により形成しようとしても、ペーストが弛れること
により１回の印刷で所望の形状にできない。 本発明の目的は、グレーズガラスの軟化による弛れを防
止し、容易にグレーズ層の形状を制御することができ、
グレーズ層全体でみた場合に表面粗さにバラツキがな
く、グレーズ層の高さが高精度でしかもグレーズ層の端
部の直線性に優れた厚膜グレーズド基板及びその製造方
法を提供することにある。本発明の別の目的は、グレー
ズ層のセラミック基板に対する接合力が高い厚膜グレー
ズド基板及びその製造方法を提供することにある。本発
明の更に別の目的は、凸部を僅かな熱エネルギで短時間
にかつ高精度に形成できる厚膜グレーズド基板の製造方
法を提供することにある。
法では、グレーズ層が全て非晶質ガラスから作られるた
め、次に挙げる数々の欠点があった。 ガラスを溶かして凸部を形成するときに、グレーズ
層の薄い部分が結晶化し、再度の熱処理でその部分の表
面粗さが小さくなり、グレーズ層全体でみた場合に表面
粗さにバラツキが発生する。 ガラスペーストの弛れに起因して、グレーズ層の高
さを高精度にできないばかりか、図４に示すようにグレ
ーズ層２の端部に湾曲部６が発生し、端部の直線性に劣
る。 グレーズ層の表面粗さを小さくするために、再度熱
処理が必要である。 グレーズ層のセラミック基板に対する接合力が高く
ない。 平坦なグレーズ層から凸部を作り出すために、凸部
形成に時間が多くかかる。 この点を解消するために、凸部をガラスペーストの
印刷により形成しようとしても、ペーストが弛れること
により１回の印刷で所望の形状にできない。 本発明の目的は、グレーズガラスの軟化による弛れを防
止し、容易にグレーズ層の形状を制御することができ、
グレーズ層全体でみた場合に表面粗さにバラツキがな
く、グレーズ層の高さが高精度でしかもグレーズ層の端
部の直線性に優れた厚膜グレーズド基板及びその製造方
法を提供することにある。本発明の別の目的は、グレー
ズ層のセラミック基板に対する接合力が高い厚膜グレー
ズド基板及びその製造方法を提供することにある。本発
明の更に別の目的は、凸部を僅かな熱エネルギで短時間
にかつ高精度に形成できる厚膜グレーズド基板の製造方
法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】図１（ｃ）及び図１
（ｄ）に示すように、本願請求項１に係る発明は、セラ
ミック基板１１上に結晶化ガラスを主成分とする層１２
と非晶質ガラスを主成分とする層１３とがこの順に積層
されてグレーズ層１５が形成された厚膜グレーズド基板
１０である。下層を結晶化ガラスを主成分とする層で構
成することにより、従来の非晶質ガラスのグレーズ層と
比べて、基板との接合力が高まり、グレーズ層端部の直
線性が損なわれず、かつ熱伝導率が良好になる。また下
層を結晶化ガラスを主成分で構成し、上層を非晶質ガラ
スを主成分で構成することにより、グレーズ層中に占め
る非晶質ガラスの割合が小さく済む。この結果、ガラス
ペーストの弛れやグレーズ層の表面うねりが少なくな
り、焼成時、再度熱処理時に変形しにくくなり、かつグ
レーズ層の高さを高精度にすることができる。
（ｄ）に示すように、本願請求項１に係る発明は、セラ
ミック基板１１上に結晶化ガラスを主成分とする層１２
と非晶質ガラスを主成分とする層１３とがこの順に積層
されてグレーズ層１５が形成された厚膜グレーズド基板
１０である。下層を結晶化ガラスを主成分とする層で構
成することにより、従来の非晶質ガラスのグレーズ層と
比べて、基板との接合力が高まり、グレーズ層端部の直
線性が損なわれず、かつ熱伝導率が良好になる。また下
層を結晶化ガラスを主成分で構成し、上層を非晶質ガラ
スを主成分で構成することにより、グレーズ層中に占め
る非晶質ガラスの割合が小さく済む。この結果、ガラス
ペーストの弛れやグレーズ層の表面うねりが少なくな
り、焼成時、再度熱処理時に変形しにくくなり、かつグ
レーズ層の高さを高精度にすることができる。
【０００５】図２（ｄ）及び図２（ｅ）に示すように、
本願請求項２に係る発明は、請求項１に係る発明であっ
て、結晶化ガラスを主成分とする層１２と非晶質ガラス
を主成分とする層１３とが交互にそれぞれ複数積層され
てグレーズ層１５が形成された厚膜グレーズド基板２０
である。積層時に上層となる層の面積を小さくしていけ
ば、凸部１６を短時間に形成することができる。また結
晶化ガラスを主成分とする層１２を介在して積層するこ
とにより、凸部１６が高くなってもその形状を保持する
ので所望の形状を作り出すことができる。
本願請求項２に係る発明は、請求項１に係る発明であっ
て、結晶化ガラスを主成分とする層１２と非晶質ガラス
を主成分とする層１３とが交互にそれぞれ複数積層され
てグレーズ層１５が形成された厚膜グレーズド基板２０
である。積層時に上層となる層の面積を小さくしていけ
ば、凸部１６を短時間に形成することができる。また結
晶化ガラスを主成分とする層１２を介在して積層するこ
とにより、凸部１６が高くなってもその形状を保持する
ので所望の形状を作り出すことができる。
【０００６】図１（ａ）〜図１（ｄ）に示すように、本
願請求項３に係る発明は、セラミック基板１１の片面に
結晶化ガラスを主成分とする結晶化ガラスペーストを印
刷又は塗布して第１ガラス層１２を形成する工程と、こ
の第１ガラス層１２の表面に非晶質ガラスを主成分とす
る非晶質ガラスペーストを印刷又は塗布して第２ガラス
層１３を形成する工程と、セラミック基板１１上の第１
ガラス層１２と第２ガラス層１３を焼成してグレーズ層
１５を形成する工程とを含む厚膜グレーズド基板１０の
製造方法である。
願請求項３に係る発明は、セラミック基板１１の片面に
結晶化ガラスを主成分とする結晶化ガラスペーストを印
刷又は塗布して第１ガラス層１２を形成する工程と、こ
の第１ガラス層１２の表面に非晶質ガラスを主成分とす
る非晶質ガラスペーストを印刷又は塗布して第２ガラス
層１３を形成する工程と、セラミック基板１１上の第１
ガラス層１２と第２ガラス層１３を焼成してグレーズ層
１５を形成する工程とを含む厚膜グレーズド基板１０の
製造方法である。
【０００７】図２（ａ）〜図２（ｄ）に示すように、本
願請求項４に係る発明は、セラミック基板１１の片面に
第１ガラス層１２と第２ガラス層１３を交互にそれぞれ
複数積層した後、この積層体１４を焼成してグレーズ層
１５を形成する厚膜グレーズド基板２０の製造方法であ
る。凸部１６を作り出すように積層体１４を形成すれ
ば、従来のように余分なグレーズ層を取り去る必要がな
く、少ない工程で短時間に少ない熱エネルギで凸部を形
成することができる。
願請求項４に係る発明は、セラミック基板１１の片面に
第１ガラス層１２と第２ガラス層１３を交互にそれぞれ
複数積層した後、この積層体１４を焼成してグレーズ層
１５を形成する厚膜グレーズド基板２０の製造方法であ
る。凸部１６を作り出すように積層体１４を形成すれ
ば、従来のように余分なグレーズ層を取り去る必要がな
く、少ない工程で短時間に少ない熱エネルギで凸部を形
成することができる。
【０００８】本願請求項５に係る発明は、請求項３又は
４に係る製造方法であって、第１ガラス層１２を仮焼又
は焼成した後、第２ガラス層１３を形成する厚膜グレー
ズド基板１０又は２０の製造方法である。第１ガラス層
１２を仮焼又は焼成した後、第２ガラス１３を形成する
ことにより、ガラスペーストの弛れを最小に抑えて、パ
ターン通りにより正確にグレーズ層を形成することがで
きる。
４に係る製造方法であって、第１ガラス層１２を仮焼又
は焼成した後、第２ガラス層１３を形成する厚膜グレー
ズド基板１０又は２０の製造方法である。第１ガラス層
１２を仮焼又は焼成した後、第２ガラス１３を形成する
ことにより、ガラスペーストの弛れを最小に抑えて、パ
ターン通りにより正確にグレーズ層を形成することがで
きる。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の結晶化ガラスはＴｉＯ3
を結晶化剤として含むＡｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラスに結
晶化促進剤としてコランダム相のＡｌ2Ｏ3粉を３〜６重
量％添加した無機粉末であり、非晶質ガラスは８５０℃
以上の軟化点を有する非晶質のアルミノケイ酸塩ガラス
である。結晶化ガラス粉末及び非晶質ガラス粉末をそれ
ぞれ個別に溶剤とともに混合しガラスペーストを調製す
る。第１の厚膜グレーズド基板１０の製造方法は、図１
に示すように、先ずアルミナ等の絶縁性セラミック基板
１１の片面に結晶化ガラスを主成分とする結晶化ガラス
ペーストを印刷又は塗布して第１ガラス層１２を形成す
る（図１（ａ）及び図１（ｂ））。ここで第１ガラス層
１２は結晶化ガラスペーストが単に乾燥した状態の層の
みならず、結晶化ガラスペーストが乾燥した後、９００
〜１１００℃程度の温度で仮焼又は１２００〜１３００
℃の温度で焼成した状態の層をも含む。次いで第１ガラ
ス層１２の表面全体に非晶質ガラスを主成分とする非晶
質ガラスペーストを印刷又は塗布し乾燥して第２ガラス
層１３を形成する（図１（ｃ））。引き続いてセラミッ
ク基板１１上の第１ガラス層１２と第２ガラス層１３を
１２００〜１３００℃程度の温度で焼成して表面が平坦
なグレーズ層１５を形成する。
を結晶化剤として含むＡｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラスに結
晶化促進剤としてコランダム相のＡｌ2Ｏ3粉を３〜６重
量％添加した無機粉末であり、非晶質ガラスは８５０℃
以上の軟化点を有する非晶質のアルミノケイ酸塩ガラス
である。結晶化ガラス粉末及び非晶質ガラス粉末をそれ
ぞれ個別に溶剤とともに混合しガラスペーストを調製す
る。第１の厚膜グレーズド基板１０の製造方法は、図１
に示すように、先ずアルミナ等の絶縁性セラミック基板
１１の片面に結晶化ガラスを主成分とする結晶化ガラス
ペーストを印刷又は塗布して第１ガラス層１２を形成す
る（図１（ａ）及び図１（ｂ））。ここで第１ガラス層
１２は結晶化ガラスペーストが単に乾燥した状態の層の
みならず、結晶化ガラスペーストが乾燥した後、９００
〜１１００℃程度の温度で仮焼又は１２００〜１３００
℃の温度で焼成した状態の層をも含む。次いで第１ガラ
ス層１２の表面全体に非晶質ガラスを主成分とする非晶
質ガラスペーストを印刷又は塗布し乾燥して第２ガラス
層１３を形成する（図１（ｃ））。引き続いてセラミッ
ク基板１１上の第１ガラス層１２と第２ガラス層１３を
１２００〜１３００℃程度の温度で焼成して表面が平坦
なグレーズ層１５を形成する。
【００１０】第２の厚膜グレーズド基板２０の製造方法
は、図２に示すように、先ずセラミック基板１１の片面
に結晶化ガラスを主成分とする結晶化ガラスペーストを
印刷又は塗布して第１ガラス層１２を形成する（図２
（ａ））。次いで第１ガラス層１２の表面全体に非晶質
ガラスを主成分とする非晶質ガラスペーストを印刷又は
塗布して第２ガラス層１３を形成する（図２（ｂ））。
次にこの第２ガラス層１３の表面の一部に上記と同じ結
晶化ガラスペーストを印刷又は塗布して第１ガラス層１
２を形成し、更にその表面全体に第２ガラス層１３を形
成する。引き続きこの第３ガラス層１３の表面の一部に
第１ガラス層１２を形成した後、その表面全体に第２ガ
ラス層１３を形成する。ここで第１の製造方法と同様に
第１ガラス層１２及び第２ガラス層１３はガラスペース
トが単に乾燥した状態の層のみならず、ガラスペースト
が乾燥した後、９００〜１１００℃程度の温度で仮焼又
は１２００〜１３００℃の温度で焼成した状態の層をも
含む。このようにして第１ガラス層１２及び第２ガラス
層１３が交互に積層された積層体１４を一度に焼成して
グレーズ層１５を形成する。層毎にパターンを変えるこ
とにより、凸部１６を作り出すことができる。第１ガラ
ス層１２及び第２ガラス層１３の各層の厚さは厚膜グレ
ーズド基板の用途により異なるが、第１ガラス層１２の
厚さｔ1及び第２ガラス層１３の厚さｔ2はそれぞれ２０
〜１００μｍの範囲から選ばれ、その厚さの比率ｔ1／
ｔ2は必要に応じて凸部の形状及び高さによって決めら
れる。
は、図２に示すように、先ずセラミック基板１１の片面
に結晶化ガラスを主成分とする結晶化ガラスペーストを
印刷又は塗布して第１ガラス層１２を形成する（図２
（ａ））。次いで第１ガラス層１２の表面全体に非晶質
ガラスを主成分とする非晶質ガラスペーストを印刷又は
塗布して第２ガラス層１３を形成する（図２（ｂ））。
次にこの第２ガラス層１３の表面の一部に上記と同じ結
晶化ガラスペーストを印刷又は塗布して第１ガラス層１
２を形成し、更にその表面全体に第２ガラス層１３を形
成する。引き続きこの第３ガラス層１３の表面の一部に
第１ガラス層１２を形成した後、その表面全体に第２ガ
ラス層１３を形成する。ここで第１の製造方法と同様に
第１ガラス層１２及び第２ガラス層１３はガラスペース
トが単に乾燥した状態の層のみならず、ガラスペースト
が乾燥した後、９００〜１１００℃程度の温度で仮焼又
は１２００〜１３００℃の温度で焼成した状態の層をも
含む。このようにして第１ガラス層１２及び第２ガラス
層１３が交互に積層された積層体１４を一度に焼成して
グレーズ層１５を形成する。層毎にパターンを変えるこ
とにより、凸部１６を作り出すことができる。第１ガラ
ス層１２及び第２ガラス層１３の各層の厚さは厚膜グレ
ーズド基板の用途により異なるが、第１ガラス層１２の
厚さｔ1及び第２ガラス層１３の厚さｔ2はそれぞれ２０
〜１００μｍの範囲から選ばれ、その厚さの比率ｔ1／
ｔ2は必要に応じて凸部の形状及び高さによって決めら
れる。
【００１１】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、セ
ラミック基板上に結晶化ガラスを主成分とする層と非晶
質ガラスを主成分とする層とをこの順に積層してグレー
ズ層を形成することにより、従来の非晶質ガラスから作
られたグレーズ層と比較して、グレーズガラスの軟化に
よる弛れを防止でき、これにより容易にグレーズ層の形
状を制御することができ、グレーズ層全体でみた場合に
表面粗さにバラツキがなく、グレーズ層の高さが高精度
でしかもグレーズ層の端部の直線性に優れる。また、セ
ラミック基板に接する層が結晶化ガラスからなるため、
グレーズ層が基板に対して強力に接合し、かつ熱伝導性
に優れる。更にグレーズ層に凸部を形成する場合に、凸
部を僅かな熱エネルギで短時間にかつ高精度に形成する
ことができる。
ラミック基板上に結晶化ガラスを主成分とする層と非晶
質ガラスを主成分とする層とをこの順に積層してグレー
ズ層を形成することにより、従来の非晶質ガラスから作
られたグレーズ層と比較して、グレーズガラスの軟化に
よる弛れを防止でき、これにより容易にグレーズ層の形
状を制御することができ、グレーズ層全体でみた場合に
表面粗さにバラツキがなく、グレーズ層の高さが高精度
でしかもグレーズ層の端部の直線性に優れる。また、セ
ラミック基板に接する層が結晶化ガラスからなるため、
グレーズ層が基板に対して強力に接合し、かつ熱伝導性
に優れる。更にグレーズ層に凸部を形成する場合に、凸
部を僅かな熱エネルギで短時間にかつ高精度に形成する
ことができる。
【図１】本発明の厚膜グレーズド基板の製造方法を示す
断面図。
断面図。
【図２】本発明の厚膜グレーズド基板の別の製造方法を
示す断面図。
示す断面図。
【図３】従来の厚膜グレーズド基板の製造方法を示す断
面図。
面図。
【図４】従来の厚膜グレーズド基板の斜視図。
１０，２０ 厚膜グレーズド基板 １１ セラミック基板 １２ 結晶化ガラスを主成分とする層（第１ガラス層） １３ 非晶質ガラスを主成分とする層（第２ガラス層） １４ 積層体 １５ グレーズ層 １６ 凸部
Claims (5)
- 【請求項１】 セラミック基板(11)上に結晶化ガラスを
主成分とする層(12)と非晶質ガラスを主成分とする層(1
3)とがこの順に積層されてグレーズ層(15)が形成された
厚膜グレーズド基板。 - 【請求項２】 結晶化ガラスを主成分とする層(12)と非
晶質ガラスを主成分とする層(13)とが交互にそれぞれ複
数積層されてグレーズ層(15)が形成された請求項１記載
の厚膜グレーズド基板。 - 【請求項３】 セラミック基板(11)の片面に結晶化ガラ
スを主成分とする結晶化ガラスペーストを印刷又は塗布
して第１ガラス層(12)を形成する工程と、 前記第１ガラス層(12)の表面に非晶質ガラスを主成分と
する非晶質ガラスペーストを印刷又は塗布して第２ガラ
ス層(13)を形成する工程と、 前記セラミック基板(11)上の第１ガラス層(12)と第２ガ
ラス層(13)を焼成してグレーズ層(15)を形成する工程と
を含む厚膜グレーズド基板の製造方法。 - 【請求項４】 セラミック基板(11)の片面に第１ガラス
層(12)と第２ガラス層(13)を交互にそれぞれ複数積層し
た後、前記積層体(14)を焼成してグレーズ層(15)を形成
する請求項３記載の厚膜グレーズド基板の製造方法。 - 【請求項５】 第１ガラス層(12)を仮焼又は焼成した
後、第２ガラス層(13)を形成する請求項３又は４記載の
厚膜グレーズド基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25962795A JPH09100183A (ja) | 1995-10-06 | 1995-10-06 | 厚膜グレーズド基板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25962795A JPH09100183A (ja) | 1995-10-06 | 1995-10-06 | 厚膜グレーズド基板及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09100183A true JPH09100183A (ja) | 1997-04-15 |
Family
ID=17336711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25962795A Withdrawn JPH09100183A (ja) | 1995-10-06 | 1995-10-06 | 厚膜グレーズド基板及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09100183A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001044143A1 (en) * | 1999-12-16 | 2001-06-21 | Tokuyama Corporation | Joint body of glass-ceramic and aluminum nitride sintered compact and method for producing the same |
| JP2011121337A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Seiko Instruments Inc | サーマルヘッドおよびプリンタ |
| JP2021130212A (ja) * | 2020-02-18 | 2021-09-09 | ローム株式会社 | サーマルプリントヘッドの製造方法、サーマルプリントヘッドおよびサーマルプリンタ |
| CN115008900A (zh) * | 2022-05-13 | 2022-09-06 | 华中科技大学 | 一种柔性显示喷印薄膜边缘直线度控制方法和系统 |
-
1995
- 1995-10-06 JP JP25962795A patent/JPH09100183A/ja not_active Withdrawn
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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