JPH09100422A

JPH09100422A - 紫外線硬化性塗料組成物とそれを用いた光磁気ディスク及びその製造方法

Info

Publication number: JPH09100422A
Application number: JP8202320A
Authority: JP
Inventors: Kiyoshi Uchida; 清内田; Keiji Nishigori; 圭史錦織
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1995-08-03
Filing date: 1996-07-31
Publication date: 1997-04-15

Abstract

(57)【要約】【課題】有機ポリシロキサン、脂肪酸エステル、フル
オロアルキル基または不飽和型脂肪族アルキル基の側鎖
を分子末端に有する有機化合物を含む紫外線硬化性塗料
を用いて、保護コートの表面の潤滑性が優れ、耐摺動性
が良好で、長期間の信頼性を確保することができる高品
質の光磁気ディスクを提供する。【解決手段】（メタ）アクリル酸エステル100重量部
に対して、光重合性プレポリマー30-80重量部、光重合
開始剤10-40重量部、有機ポリシロキサン0.1-10重量部
を含む紫外線硬化性塗料を光磁気ディスクの反射膜１４
の上にスピンコート法を用いて約１０μｍ塗布し、常温
で紫外線（照度：６００ｍＷ／ｃｍ²、光量：８００ｍ
Ｊ／ｃｍ²）を照射して保護コート１５を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁界変調方式の記
録を行う光磁気ディスクの、特に耐摺動性を有する保護
コートに用いる紫外線硬化性塗料と、それを用いた光磁
気ディスク及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、光磁気ディスクは高密度記録メデ
ィアとして注目されてきている。光磁気ディスクは略同
芯円状の案内溝が形成された光学的に透明な基板上に、
保護層と光磁気記録層と保護層と反射層と保護コートを
順次形成した構成が用いられる例が多い。基板はポリカ
ーボネートなどの光学的に透明な材料で構成する。光磁
気記録層はＴｂＦｅＣｏなどの垂直磁気異方性と磁気光
学効果を有する希土類金属と遷移金属の非晶質合金を薄
膜化して構成する。保護層はシリコン窒化膜などで構成
し、光磁気記録層の酸化防止のために必要である。反射
層はアルミニウムまたはアルミニウムを主成分とする合
金の薄膜で構成し、再生信号の検出効率の向上と熱拡散
の制御のために設置される。保護コートは、光重合開始
剤、光重合性プレポリマー、及び（メタ）アクリル酸エ
ステルからなる紫外線硬化性樹脂により形成され、湿気
が光磁気記録層に侵入するのを防止するために用いられ
る。

【０００３】このような光磁気ディスクに対して情報信
号を書き込むための記録装置は、前記光磁気ディスクに
レーザ光束を照射する光学ピックアップ装置と、前記光
磁気ディスクに外部磁界を印加する磁界印加装置と、前
記光磁気ディスクを回転移動する機構と、前記光ピック
アップ装置を移動する手段と前記磁界印加装置を移動す
る機構を備えている。

【０００４】前記光学ピックアップ装置は、半導体レー
ザ等の光源と、この光源より発する光束を導き集光させ
る所定の光学デバイス等を有して構成されている。この
光学ピックアップ装置は、前記光磁気ディスクから一定
の距離を隔てた位置に配置され、前記光磁気ディスクの
光磁気記録層に対して、光束を集光させて照射する。こ
の光束の照射は、前記光磁気ディスクの基板の光磁気記
録層が形成された側の主面部の裏側より、前記基板を透
して行われる。前記光学ピックアップ装置に於いて、光
束の光出力を変調させる場合には、前記半導体レーザ等
の発光出力が、ドライブ回路などによって変調される。
このように、前記光束の光出力を変調することによって
情報信号の書き込みを行う方式は、光変調方式と呼ばれ
る。

【０００５】一方、前記磁界印加装置として、磁界発生
用のコイルと、このコイルが卷回される磁性コア等を有
して構成される磁気ヘッド装置を設置することができ
る。この磁気ヘッド装置は、前記光磁気ディスクに近接
する位置に配置され、前記光磁気ディスクの光磁気記録
層に対して、この光磁気記録層の表面部に対して垂直方
向に外部磁界を印加する。この外部磁界の印加は、前記
光磁気ディスクの基板の光磁気記録層が形成された側の
主面部より行う。この磁気ヘッド装置に於いて、外部磁
界の強度及び方向を変調させるには、磁界発生用のコイ
ルに供給される電流を、ドライブ回路などによって変調
する。このように外部磁界の強度及び方向を変調するこ
とにより情報信号の書き込みを行う記録方式は磁界変調
方式と呼ばれている。

【０００６】磁界変調方式の光変調方式に対する利点
は、情報信号の書き込みに先だって予め記録膜の磁化の
方向を一方向に揃える初期化操作が不要である点、情報
の重ね書きができる点、及びマーク長記録に適している
という点である。

【０００７】光変調方式に於ける情報の重ね書きの方式
も提案されているが、このような光磁気ディスクは光磁
気記録層が複数の磁性薄膜で構成されて複雑であり、製
造の煩雑さ等がある。これに対し、磁界変調方式を採用
すると、簡単な構成の光磁気ディスクにより容易に重ね
書きを行うことができ、広く実用化されようとしてい
る。

【０００８】前記したように、磁界変調方式は、集束さ
せたレーザ光を前記光磁気ディスクの案内溝に沿って走
査し、同時に外部印加磁界を変調して、光磁気記録層の
レーザ光が照射された部分の磁化の向きを変えて記録す
る方式である。光磁気記録層の磁化を反転するために必
要な磁界は、比較的高い周波数（数百ｋＨｚ以上）でそ
の方向と強度を変える必要があり、そのような磁界の発
生は前記磁気ヘッド装置の磁性コアの近傍に限定され
る。このため、前記光磁気ディスクの光磁気記録層のレ
ーザ光照射部分と磁気ヘッド装置の距離はできる限り短
くする必要がある。

【０００９】前記磁気ヘッド装置をこのような状態に配
設する手法としては、前記磁気ヘッド装置を前記光磁気
記録層の上に当接載置させたままで前記光磁気ディスク
を回転させることが考えられる。すなわち、前記磁気ヘ
ッド装置をバネなどによって前記光磁気ディスクに圧接
させた状態で、前記光磁気ディスクを回転操作すれば、
前記磁気ヘッド装置は、前記光磁気ディスクに対して常
に摺接され、前記光磁気ディスクの光磁気記録層に対す
る距離が一定となり、かつ、光磁気記録層に対して最も
近接した位置となる。

【００１０】しかしながら、前記光磁気ディスクの光磁
気記録層に外部磁界を印加するために、前記磁気ヘッド
装置を前記光磁気ディスクに摺接させると、前記光磁気
ディスクの保護コートと前記磁気ヘッド装置の間に発生
する摩擦力が回転操作に対する負荷の増大を招き、また
摩耗による前記磁気ヘッド及び前記保護コートの破損等
を招く恐れがある。このため、上記保護コートと上記磁
気ヘッド装置との摩擦力を低減する手法が数例提案され
ている。

【００１１】この手法に関する従来の第１の例として特
開平０５−３０７７７７号公報に記載されている内容を
説明する。構成は前記光磁気ディスクの保護コート上
に、シリコンオイルから成る潤滑剤層を形成するもので
ある。その形成方法は溶剤により希釈した潤滑剤を含浸
させた不織布等の塗布部材を前記光磁気ディスクの保護
コート形成面上に設置し、プレス機によってこの塗布部
材を前記光磁気ディスクの保護コートに圧接させて、こ
の光磁気ディスクの保護コート上に潤滑剤層を形成する
ものである。

【００１２】また、従来の第２の例として特開平０５−
１６３５６４号公報に記載されている内容を説明する。
構成は前記光磁気ディスクの保護コート上に、１つ以上
の活性な極性基を有するフッ素と炭素を主成分とするフ
ロロカーボン潤滑油により形成された潤滑剤層を設置し
たものである。その形成方法は有機の樹脂で形成された
保護コートの表面に、ポリフロロカーボン潤滑油をイソ
プローピールアルコールに溶解させたものをスピンコー
ト法により塗布した後、これを８０℃に加熱して溶媒を
蒸発させることにより潤滑剤層を形成するものである。

【００１３】従来の第３の例として前記光磁気ディスク
の保護コートに潤滑剤を含浸させる手法を例示すること
ができる。特開昭６４−０４３８３４号公報には、前記
光磁気ディスクの薄膜層上に、脂肪酸またはエステル若
しくはその混合物からなる潤滑剤を含浸した高分子シー
トを接着により保護コート上に形成する構成が開示され
ている。また、特開昭６３−０９８８５７号公報には、
含浸させる潤滑剤としてフッ化カーボン系潤滑剤が開示
されており、特開平０３−１６０６４２号公報には含浸
させる潤滑剤として反応性シリコーン化合物が開示さ
れ、特開平０４−２０９３４６号公報には含浸させる潤
滑剤としてイソシアネート基を末端に有するパーフルオ
ロポリエーテルを重合して用いた例が開示されている。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
た従来の磁界変調記録が可能な３つの手法による光磁気
ディスクでは、製造工程の煩雑さ、摺動耐久性の不足な
どの課題がある。

【００１５】即ち、第１の従来例においては、潤滑剤を
希釈するために用いた溶剤が揮発する際に、光磁気ディ
スクの基板を構成するポリカーボネートと反応し、基板
の光透過率を減少させる課題がある。また従来の光磁気
ディスクの製造の設備に加えて、防爆の為に揮発した溶
剤を回収する為の設備が必要になり、プレス設備を追加
する必要があるという課題もあり、光磁気ディスクを低
価格で提供することが難しい。

【００１６】また、第２の従来例の於いては潤滑剤を希
釈するために用いた溶剤を蒸発させるための加熱設備と
防爆対応の蒸発溶剤の回収設備が従来の光磁気ディスク
の製造の設備に加えて必要である。

【００１７】更に、第３の従来例に於いては脂肪酸エス
テル潤滑剤、フッ化カーボン系潤滑剤、反応性シリコー
ン化合物の潤滑剤を単独に混合しただけでは、初期特性
に於ける摩擦力低減には効果があるが、高温多湿環境下
で摩擦力が上昇し、摺動耐久性が確保できないという課
題を有していた。

【００１８】本発明は、前記従来の問題点を解決するた
め、保護コートの表面の潤滑性に優れ、耐摺動性が良好
で、長期間の信頼性を確保することができ、しかも製造
コストの低い光磁気ディスクを製造するための紫外線硬
化性塗料組成物とそれを用いた光磁気ディスク及びその
製造方法を提供することを目的とする。

【００１９】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の紫外線硬化性塗料組成物は、（メタ）アク
リル酸エステルと光重合性プレポリマーと、光重合開始
剤と、有機ポリシロキサンを含む紫外線硬化性塗料にお
いて、各成分の組成割合が、（ａ）（メタ）アクリル酸エステル１００重量部（ｂ）光重合性プレポリマー３０〜８０重量部（ｃ）光重合開始剤１０〜４０重量部（ｄ）有機ポリシロキサン０．１〜１０重量部であることを特徴とする。

【００２０】ここで（メタ）アクリル酸エステルとは、
アクリル酸エステルとメタクリル酸エステルを含むもの
である。有機ポリシロキサンとは、前記式（化１）に示
す分子構造を有するものをいい、側鎖Ｘ、Ｙにより種々
の変性品が存在しうる。

【００２１】前記式（化１）において、側鎖Ｘ、Ｙとし
て本実施例に好ましく利用できるものとしては、例えば
アルキル基、高級脂肪酸エステル基、メチル塩素化フェ
ニル基、炭素数４〜１８のアルキル基を有する直鎖状ま
たは分枝状分子鎖、メチルフェニル基などである。側鎖
Ｘ、Ｙは互いに同一であっても、または異なっていても
よい。有機変性ポリシロキサンは下記式（化２）及び下
記式（化３）に示されるポリメチルシロキサンであって
もよい。ポリメチルシロキサンは１種類であってもよい
し、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【００２２】

【化２】

【００２３】

【化３】

【００２４】前記構成においては、（メタ）アクリル酸
エステル１００重量部に対して脂肪酸エステルを０．１
〜１０重量部添加することが好ましい。またこの場合、
（メタ）アクリル酸エステル１００重量部に対して、フ
ルオロアルキル基または不飽和型脂肪族アルキル基の側
鎖を分子末端に有する有機化合物を０．１〜１０重量部
添加することが好ましい。ここでいうフルオロアルキル
基とは飽和型または不飽和型のものを含む。

【００２５】また前記構成においては、光重合性プレポ
リマーがウレタン（メタ）アクリレート及びエポキシ
（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも１つであ
ることが好ましい。ここでウレタン（メタ）アクリレー
トとはイソシアネート基を有する有機化合物に、ヒドロ
キシ基を有する（メタ）アクリレートとポリエステルを
反応させて合成したものをいう。またエポキシ（メタ）
アクリレートとは、フェノールノボラック型やビスフェ
ノールＡ型、または脂環型のエポキシ樹脂のエポキシ基
を（メタ）アクリル酸でエステル化し官能基をアクリロ
イル基としたものである。

【００２６】前記構成においては、（メタ）アクリル酸
エステルが、ラウリル（メタ）アクリレート、エトキシ
ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキ
シエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリ
ル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリ
レート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ト
リエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、及びヘキサ
ンジオールジ（メタ）アクリレートから選ばれ少なくと
も１つであることが好ましい。

【００２７】前記構成においては、脂肪酸エステルが有
する脂肪族アルキル基の炭素数が１０から１８の範囲で
あることが好ましい。前記構成においては、フルオロア
ルキル基または不飽和型脂肪族アルキル基の側鎖を分子
末端に有する有機化合物（以下、含アルキル基有機化合
物という）が、脂肪酸アルキルコハク酸ジエステルであ
ることが好ましい。ここで脂肪酸アルキルコハク酸ジエ
ステルとは、下記式（化４）に示されるものをいう。

【００２８】

【化４】

【００２９】前記構成においては、２５℃における粘度
が２０〜１００センチポイズであることが好ましい。次
に本発明の光磁気ディスクの製造方法は、光学的に透明
な基板上に、無機化合物の薄膜からなる光磁気記録層を
形成し、前記光磁気記録層の上に有機化合物からなる保
護コート層を形成する光磁気ディスクの製造方法におい
て、（ａ）（メタ）アクリル酸エステル１００重量部（ｂ）光重合性プレポリマー３０〜８０重量部（ｃ）光重合開始剤１０〜４０重量部（ｄ）有機ポリシロキサン０．１〜１０重量部の組成からなる紫外線硬化性塗料を前記薄膜に塗布し、
照度が３００ｍＷ／ｃｍ ²以上１０００ｍＷ／ｃｍ²以
下の範囲にあり、光量が５００ｍＪ／ｃｍ²以上１５０
０ｍＪ／ｃｍ²以下の範囲である紫外線を前記紫外線硬
化性塗料に照射して塗料を硬化して保護コート層を形成
することを特徴とする。

【００３０】前記製造方法においては、紫外線硬化性塗
料を無機化合物の薄膜に５〜５０μｍの範囲の厚さに塗
布することが好ましい。前記製造方法においては、（メ
タ）アクリル酸エステル１００重量部に対して脂肪酸エ
ステルを０．１〜１０重量部を含むことが好ましい。

【００３１】また前記製造方法においては、（メタ）ア
クリル酸エステル１００重量部に対して、フルオロアル
キル基または不飽和型脂肪族アルキル基の側鎖を分子末
端に有する有機化合物０．１〜１０重量部を含むことが
好ましい。

【００３２】また前記製造方法においては、光重合性プ
レポリマーが、ウレタン（メタ）アクリレート及びエポ
キシ（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも１つ
であることが好ましい。

【００３３】また前記製造方法においては、（メタ）ア
クリル酸エステルが、ラウリル（メタ）アクリレート、
エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、
フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロ
フルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メ
タ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリ
レート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、
及びヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートから選ば
れる少なくとも１つであることが好ましい。

【００３４】また前記製造方法においては、脂肪酸エス
テルが有する脂肪族アルキル基の炭素数が１０以上１８
以下の範囲であることが好ましい。また前記製造方法に
おいては、フルオロアルキル基または不飽和型脂肪族ア
ルキル基の側鎖を分子末端に有する有機化合物が、脂肪
酸アルキルコハク酸ジエステルであることが好ましい。

【００３５】また前記製造方法においては、（メタ）ア
クリル酸エステルが、アクリル酸エステルまたはメタク
リル酸エステルであることが好ましい。また前記製造方
法においては、２５℃における粘度が、２０〜１００セ
ンチポイズであることが好ましい。

【００３６】また前記製造方法においては、有機ポリシ
ロキサンが、前記式（化１）であることが好ましい。次
に本発明の光磁気ディスクは、光学的に透明な基板上
に、無機化合物の薄膜からなる光磁気記録層を形成し、
前記光磁気記録層の上に有機化合物からなる保護コート
層を形成する光磁気ディスクにおいて、前記有機化合物
が（ａ）（メタ）アクリル酸エステル１００重量部（ｂ）光重合性プレポリマー３０〜８０重量部（ｃ）光重合開始剤１０〜４０重量部（ｄ）有機変性ポリシロキサン０．１〜１０重量部の組成からなる紫外線硬化性塗料の硬化物であることを
特徴とする。

【００３７】前記光磁気ディスクにおいては、有機化合
物で構成された保護コートの厚みが５〜５０μｍの範囲
にあることが好ましい。また前記光磁気ディスクにおい
ては、（メタ）アクリル酸エステル１００重量部に対し
て脂肪酸エステル０．１〜１０重量部を含むことが好ま
しい。

【００３８】また前記光磁気ディスクにおいては、（メ
タ）アクリル酸エステル１００重量部に対して、フルオ
ロアルキル基または不飽和型脂肪族アルキル基の側鎖を
分子末端に有する有機化合物０．１〜１０重量部を含む
ことが好ましい。

【００３９】また前記光磁気ディスクにおいては、光重
合性プレポリマーがウレタン（メタ）アクリレート及び
エポキシ（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも
１つであることが好ましい。

【００４０】また前記光磁気ディスクにおいては、（メ
タ）アクリル酸エステルが、ラウリル（メタ）アクリレ
ート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレ
ート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラ
ヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル
（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）ア
クリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレー
ト、及びヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートから
選ばれる少なくとも１つであることが好ましい。

【００４１】また前記光磁気ディスクにおいては、脂肪
酸エステルが有する脂肪族アルキル基の炭素数が１０以
上１８以下の範囲であることが好ましい。また前記光磁
気ディスクにおいては、フルオロアルキル基または不飽
和型脂肪族アルキル基の側鎖を分子末端に有する有機化
合物が、脂肪酸アルキルコハク酸ジエステルであること
が好ましい。

【００４２】また前記光磁気ディスクにおいては、（メ
タ）アクリル酸エステルがアクリル酸エステルまたはメ
タクリル酸エステルであることが好ましい。また前記光
磁気ディスクにおいては、有機ポリシロキサンが前記式
（化１）で示されることが好ましい。

【００４３】

【発明の実施の形態】本発明の光磁気ディスクの保護コ
ートを構成する光重合性プレポリマーは保護コートの主
たる構造体を構成する。（メタ）アクリル酸エステルを
添加することによって前記組成物塗料を５〜５０μｍの
薄膜状に形成しやすくなる。すなわち、光重合性プレポ
リマーは一般に粘度が高く、通常光ディスクの保護コー
トの生産に用いるスピンコーター装置では５０μｍ以下
の薄膜を構成することが困難である。そこで粘度が低い
単官能及び二官能から選ばれる少なくとも一つの官能基
を有する（メタ）アクリル酸エステルを混合することに
より低粘度化してスピンコーター装置にて前記組成物塗
料を５〜５０μｍの薄膜状に容易に形成することができ
る。前記において単官能（メタ）アクリル酸エステルと
は、エステル基の末端が反応性を有さないものをいい、
二官能（メタ）アクリル酸エステルとは、エステル基の
末端も反応性−ＯＨ基などのようにを有するものをい
う。またジ（メタ）アクリル酸エステルのように両末端
にアクリル基またはメタクリル基を有する化合物も二官
能物質である。

【００４４】保護コートに含まれる有機変性ポリシロキ
サンは光重合性プレポリマー及び（メタ）アクリル酸エ
ステルの保護コートの表面の潤滑性と耐擦傷性を向上さ
せ耐摩耗性を向上させる。脂肪酸エステルは摩擦力の低
減に効果を発揮する。含アルキル基有機化合物は、脂肪
酸エステルとの複合効果により高温多湿環境下での摺動
特性を向上させる。

【００４５】図１は本実施例の光磁気ディスクの構成を
示す概略断面図である。光磁気ディスクは、例えばポリ
カーボネートで形成した光学的に透明な円盤状の基板１
０、基板１０上に形成した第１の保護層１１、第１の保
護層１１上に形成した光磁気記録層１２、光磁気記録層
１２上に形成した第２の保護層１３、第２の保護層１３
上に形成した反射膜１４、反射膜１４上に形成された保
護コート１５から構成される。例えば、保護層１１及び
保護層１３はＳｉＮを主たる成分とする。光磁気記録層
１２はＴｂＦｅＣｏＣｒを主たる成分とする。反射膜１
４はＡｌＴｉを主たる成分とする。

【００４６】基板１０は、ポリカーボネート以外に光学
的に透明で且つ寸法安定性に優れたガラスやポリメチル
ペンテン等を用いても構成することができる。基板１０
の少なくとも片面には、略同芯円に沿って溝や凹凸のピ
ットを形成する。基板１０に形成する溝は集光したレー
ザ光束を導く案内溝としての主たる役割があり、凹凸の
ピットはレーザ光束を任意の位置に移動するための位置
情報などを記録するために用いる。基板１０は溝や凹凸
ピットを形成するために原盤から複製して作製する。原
盤は表面が清浄な円盤状のガラス板上に感光性樹脂をス
ピンナー法等を利用して塗布し、前記感光性樹脂上の溝
や凹凸ピットを形成する領域に部分的に光を照射して焼
き付け、現像してメッキを行いマスター盤を作製する工
程と、マスター盤からマザー盤を複製する工程と、マザ
ー盤からスタンパーを複製する工程を順次経て作製す
る。基板１０の構成材料であるポリカーボネートを溶融
して金型と金型に設置されたスタンパーにより作られた
空間に射出成形して基板１０を形成する。基板１０のサ
イズは直径６５〜９０ｍｍ程度、厚さ０．５〜１．２ｍ
ｍ程度である。

【００４７】第１の保護層１１と第２の保護層１３は、
光磁気記録層１２を湿気から保護する役割を主として担
う。この役割の他に第１の保護層１１は、集光したレー
ザ光束が光磁気記録層１２に照射された際に発生する熱
から基板１０を保護する役割と、レーザ光束が光磁気記
録層１２に効果的に吸収、反射されるように調節する機
能も有する。第２の保護層１３は上記の光磁気記録層１
２を湿気から保護する主たる役割以外に、レーザ光束が
光磁気記録層１２に効果的に吸収、反射されるように調
節する機能と光磁気記録層１２の局所的な昇温が効率的
に行われるように熱拡散の状況を調整する機能を有す
る。

【００４８】第１の保護層１１と第２の保護層１３は、
ＳｉＮの他に、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ ₃、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｔ
ｉＯ₂等の金属酸化物や、ＡｌＮ等の金属窒化物や、Ｔ
ｉＣ、ＳｉＣ等の無機炭化物や、ＡｌＴａＯ、ＺｎＳ、
ＺｎＳｅ、ＺｎＳＳｉＯ₂、ＺｎＳｅＳｉＯ₂、上記金
属酸化物と金属窒化物の複合化合物等の光学的な透明性
が確保できる材料を薄膜状にして構成することができ
る。

【００４９】光磁気記録層１２は垂直磁気異方性と磁気
光学効果を有する材料を用いて構成され、ＴｂＦｅ、Ｔ
ｂＦｅＣｏ、ＤｙＦｅＣｏなどの希土類金属と遷移金属
の非晶質合金や、ＭｎＢｉやＰｔＣｏ等の垂直磁化を有
する磁性材料の薄膜が利用できる。また、各合金または
各単体金属の薄膜を層状に構成して利用することもでき
る。

【００５０】反射膜１４は光磁気記録層１２を透過した
レーザ光束を反射するために用いる。反射膜１４はＡ
ｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｌ等の金属またはその合金を薄膜状
にして利用する。必要に応じてＴａ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｚ
ｒ、Ｖ、Ｐｂ、Ｍｏ、Ｐｄ等を少量添加しても良い。

【００５１】第１の保護層１１、第２の保護層１３、光
磁気記録層１２、反射膜１４は真空蒸着法やスパッタ法
を用いて形成する。その形成厚みは第１の保護層１１が
８０ｎｍから１２０ｎｍの範囲、光磁気記録層１２が１
０ｎｍから５０ｎｍの範囲、第２の保護層１３が５ｎｍ
から３０ｎｍの範囲、反射膜１４が２０ｎｍから６０ｎ
ｍの範囲であることが好ましい。

【００５２】保護コート１５は、反射膜１４を機械的な
損傷から守る機能と、湿気等が直接反射膜１４に接触す
ることを防止する機能と、摺接する磁気ヘッドに対する
摩擦力を回転操作に支障がでない程度に低減する機能
と、摩耗による磁気ヘッドと保護コート１５の破壊を防
止する機能を確保する為のものである。保護コート１５
は紫外線硬化性塗料をスピンコート法やスクリーン印刷
法を用いて、反射膜１４上に塗布し、紫外線を照射して
形成する。

【００５３】次に本実施例の紫外線硬化性塗料組成物の
構成成分を詳細に説明する。本実施例の光磁気ディスク
の保護コート１５を構成する為の紫外線硬化性塗料組成
物の構成成分である光重合性プレポリマーは、保護コー
ト１５の主たる構造体を構成するものである。前記光重
合性プレポリマーはポリエステルアクリレート、シリコ
ンアクリレート、メラミンアクリレート、ウレタンアク
リレート、エポキシアクリレート等を利用することがで
きるが、硬度と柔軟性を備えたウレタンアクリレートと
エポキシアクリレートが好ましい。さらに好ましくは、
紫外線硬化性塗料を低粘度化するためにエポキシアクリ
レートを用いる。

【００５４】本実施例の光磁気ディスクの保護コート１
５を構成する為の紫外線硬化性塗料組成物の構成成分で
ある単官能のアクリル酸エステルは、光重合性プレポリ
マーの粘度の低減と、反射膜１４と保護コート１５の密
着性の確保のために用いる。単官能のアクリル酸エステ
ルとして、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、ラウリルメタアクリレ
ート、ジエチルアミノエチルメタアクリレート、メチル
メタアクリレート、ｎ−ブメチルメタアクリレート、ノ
ニルフェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフル
フリルオキシエチルアクリレート、シクロヘキサンオキ
シエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシ
ヘキサノリドアクリレート、１,３-ジオキソランアクリ
レート、トリシクロデカニルオキシアクリレート、イソ
アミルアクリレート、ステアリルアクリレート、ブトキ
シエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコー
ルアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアク
リレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレ
ート、イソボニルアクリレート、ラウリルアクリレー
ト、エトキシジエチレングリコールアクリレート、フェ
ノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルア
クリレート、イソボルニルアクリレート、トリシクロデ
カニルアクリレート等を利用することができる。耐候性
と密着性向上のために好ましくは、ラウリルアクリレー
ト、エトキシジエチレングリコールアクリレート、フェ
ノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルア
クリレート、イソボルニルアクリレート、トリシクロデ
カニルアクリレートを単独または混合して用いることが
できる。

【００５５】本実施例の光磁気ディスクの保護コート１
５を構成する為の紫外線硬化性塗料組成物の構成成分で
ある二官能のアクリル酸エステルは、光重合性プレポリ
マーの粘度の低減と、重合反応速度の高速化のために用
いる。二官能のアクリル酸エステルとして、１,３-ブタ
ンジオールジアクリレート、１,４-ブタンジオールジア
クリレート、１,６-ヘキサンジオールジアクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレング
リコールジアクリレート、トリシクロデカンジメチロー
ルジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヘキサ
ンジオールジアクリレート等を利用することができる。
希釈性向上のために好ましくはトリエチレングリコール
ジアクリレートと、ネオペンチルグリコールジアクリレ
ートと、ヘキサンジオールジアクリレートを単独または
混合して用いることができる。

【００５６】また前記アクリル酸エステルは、単官能の
アクリル酸エステルを単独で用いてもよいし、二官能の
アクリル酸エステルを単独で用いてもよいし、単官能の
アクリル酸エステルと二官能のアクリル酸エステルを併
用してもよい。さらに前記アクリル酸エステルは、Ｈが
メチル基に置換したメタクリル酸エステルであってもよ
い。また２５℃に於ける紫外線硬化性塗料の粘度が１０
０センチポイズを越えない範囲で、三官能以上の（メ
タ）アクリル酸エステルを添加しても良い。添加する三
官能以上の（メタ）アクリル酸エステルとしてトリメチ
ルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスルトールヘキサアクリレート、ジ
ペンタエリスルトールモノヒドロキシペンタアクリレー
ト等が利用できる。

【００５７】本実施例の光磁気ディスクの保護コート１
５を構成する為の紫外線硬化性塗料の構成要素である脂
肪酸エステルは、保護コート１５の表面の摩擦力を低減
するために用いる。脂肪酸エステルは酪酸、吉草酸、カ
プロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カ
プリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルチミン酸、
ステアリン酸、オレイン酸、アジピン酸、セバシン酸、
マレイン酸等の脂肪族とアルコールとが反応してエステ
ル結合で構成されたものである。これらの脂肪酸エステ
ルの中で、特に炭素原子数が１０から１８の範囲内にあ
るカプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルチミン
酸、ステアリン酸、オレイン酸などとアルコールとが反
応した脂肪酸エステルが好ましい。

【００５８】含アルキル基有機化合物としては脂肪酸ア
ルキルコハク酸ジエステルの他に、脂肪酸アルキルコハ
ク酸モノエステル、脂肪酸アルキルコハク酸トリエステ
ルなどを利用できる。本実施例の光磁気ディスクの保護
コート１５を構成する為の紫外線硬化性塗料の構成要素
である光重合開始剤として、アセトフェノン、トリクロ
ロアセトフェノン、ジクロロアセトフェノン、tert-ブ
チルトリクロロアセトフェノン、２,２-ジエトキシアセ
トフェノン、４-ジアルキルアミノアセトフェノン、p,p
´-ジメチルアミノアセトフェノン、p-ジメチルアミノ
プロピオフェノン等のアセトフェノン系、ベンゾフェノ
ン、２-クロロベンゾフェノン、p,p´-ジクロロベンゾ
フェノン、p,p´-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、
４,４-ビスジメチルアミノベンゾフェノン(ミヒラーケ
トン)等のベンゾフェノン系、ベンジル、ベンジルジメ
チルケタール、フェニルメトキシケトン、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン等のケトン系、ベンゾ
イン、ベンゾイルベンゾエート、ベンゾイルパーオキサ
イド、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン-n-
ブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、
ベンゾイン-n-プロピルエーテル等のベンゾイン系、チ
オキサンソン、２-クロロチオキサンソン、メチルベン
ゾイルフォーメート、α-アシロキシムエステル、２,４
-ジエチルチオキサンソン、２-クロロチオキサンソン、
２-メチルチオキサンソン等のチオキサンソン系、及び
ピアセチル、テトラメチルチウラムサルファイド、アゾ
ビスイソブチロニトリル、ジ-tert-ブチルパーオキサイ
ド、２-ヒドロキシ-２-メチル-１-フェニル-プロパン-
１-オン、１-（４-イソプロピルフェニル）-２-ヒドロ
キシ-２-メチルプロパン-１-オン、２,２-ジメトキシ-
１,２−ジフェニルエタン-１-オン等を単独または複合
して利用することができる。光吸収波長の適合性の点で
好ましくは、アセトフェノン、p,p´-ジメチルアミノア
セトフェノン、２,２−ジエトキシアセトフェノン、ベ
ンゾフェノン、４,４−ビスジメチルアミノベンゾフェ
ノン、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、フェニル
メトキシケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、ベンゾイン、ベンゾインイソブチルエーテ
ル、ピアセチル、テトラメチルチウラムサルファイド、
アゾビスイソブチロニトリル、ジ-tert-ブチルパーオキ
サイド、チオキサンソン、２,４-ジエチルチオキサンソ
ン、２,２-ジメトキシ-１,２−ジフェニルエタン-１-オ
ンなどを単独または複数組み合わせて使用するのがよ
い。

【００５９】以上に記載したような、光重合性プレポリ
マー、アクリル酸エステル、有機変性ポリシロキサン、
光重合開始剤と、必要あれば脂肪酸エステル、含アルキ
ル基有機化合物を使用した紫外線硬化性塗料をスピンコ
ート法を用いて、反射膜１４上に塗布し、紫外線を照射
して保護コートを形成する。スピンコート法は塗料の被
塗布面のほぼ中央部分に紫外線硬化性塗料を適量塗滴
し、その後被塗布面を比較的高速で回転して、塗滴した
紫外線硬化性塗料を被塗布面全面に広げる方式である。
そしてそれを実施するスピンコート装置は、塗料を塗滴
する為のノズル装置と、塗料を蓄えるタンクと、前記タ
ンクから前記ノズル装置に塗料を輸送する配管と、所定
量の塗料をノズルから塗滴する制御装置と、被塗布面を
回転させる回転テーブル装置と、前記回転テーブル装置
を覆うように設置された外壁と、前記外壁に付着した塗
料を回収する回収装置を備えている。

【００６０】本実施例の光磁気ディスクの保護コート１
５を形成する場合、第１の保護層１１、光磁気記録層１
２、第２の保護層１３、反射膜１４を順次形成した基板
１０を、ノズル装置と反射膜１４の形成面が向かい合
い、且つ前記ノズル装置のノズルが基板１０の中心部の
近傍に位置するように配置する。つぎに基板１０に毎分
１０回転から毎分１００回転の回転数で回転運動を与え
つつ、ノズルから紫外線硬化性塗料を適量塗適する。そ
の後、基板１０に毎分２０００回転から毎分５０００回
転の回転数で回転運動を与えると、基板１０の中心部に
塗適された紫外線硬化性塗料は遠心力により基板の外周
方向に伸び広がり、基板１０の反射膜１４上に紫外線硬
化性塗料が厚み５〜５０μｍの状態で残り、塗布が完了
する。

【００６１】この時、遠心力の作用により基板１０上に
塗布した紫外線硬化性塗料の９５％以上はスピンコート
装置の外壁まで到達し、実際に塗布されるのは５％未満
である。このため紫外線硬化性樹脂を有効に利用するた
めに、外壁に付着した紫外線硬化性塗料を回収使用する
必要がある。この回収を効率的に行うためには、紫外線
硬化性塗料の粘度は低い方が好ましい。本発明者らは鋭
意検討の結果、紫外線硬化性塗料の粘度が１００センチ
ポイズを越えると、外壁に付着した紫外線硬化性塗料の
輸送やフィルタリングの際に詰まりや気泡混入などの問
題点が発生する確立が高まることを明らかにした。

【００６２】紫外線硬化性塗料の粘度が１００センチポ
イズを越えないように、本実施例では（メタ）アクリル
酸エステル１００重量部に対して、光重合性プレポリマ
ーを３０〜８０重量部と、光重合開始剤を１０〜４０重
量部と、有機変性ポリシロキサンを０．１〜１０重量部
の範囲に調整し、紫外線硬化性塗料を構成している。さ
らに、上記の配合に加えて脂肪酸エステルを０．１〜１
０重量部添加してもよい。脂肪酸エステルを添加した場
合、さらに含アルキル基有機化合物を０．１〜５重量部
添加してもよい。有機変性ポリシロキサンは保護コート
１５の表面の潤滑性と耐擦傷性を確保するために用い、
脂肪酸エステルは保護コート１５の表面の摩擦力を低減
するために用い、含アルキル基有機化合物は脂肪酸エス
テルとの複合効果により高温多湿環境下での摺動特性を
向上させるために用いている。そしてこれらは互いの相
乗効果により保護コート１５の表面の潤滑性と、耐摺動
性を確保するので、各構成要素のバランスが重要であ
る。塗料は硬化前であれば核磁気共鳴法などで成分分析
が可能である。（メタ）アクリル酸エステル１００重量
部に対する光重合性プレポリマーが３０重量部を下まわ
ると、保護コート１５の機械的強度が不十分となり、８
０重量部を越えると紫外線硬化性塗料の粘度が１００セ
ンチポイズを越える。また、光重合開始剤が１０重量部
を下回ると光重合性プレポリマーの重合反応が不十分と
なり、４０重量部を越えると光重合開始剤が保護コート
１５中に残留し硬化の遅延をもたらす。有機変性ポリシ
ロキサンと脂肪酸エステル及び含アルキル基有機化合物
の合算が２５重量部を越えると保護コート１５の表面に
存在する潤滑剤（有機変性ポリシロキサンと脂肪酸エス
テル及び含アルキル基有機化合物）の量が過多となり摩
擦力が大きくなる。

【００６３】

【実施例】

（実施例１）光重合性プレポリマーとして下記式（化
５）で示されるビスフェノールＡ型ジエポキシアクリル
酸付加物であるエポキシアクリレートを使用し、単官能
のアクリル酸エステルとして下記式（化６）で示される
テトラヒドロフルフリルアクリレートと下記式（化７）
で示されるトリシクロデカニルアクリレートを併用し、
二官能のアクリル酸エステルとして下記式（化８）で示
されるネオペンチルグリコールジアクリレートを使用
し、有機ポリシロキサンとして下記式（化９）及び（化
１０）で示される２種のポリメチルシロキサンを混合し
たもの（共栄社化学販売の商品名「グラノールＢ−１４
８４」）を使用し、光重合開始剤としてベンゾフェノン
と下記式（化１１）で示されるp′p−ジメチルアミノア
セトフェノンを使用し以下に述べるような配合で紫外線
硬化性塗料を調整した。

【００６４】

【化５】

【００６５】

【化６】

【００６６】

【化７】

【００６７】

【化８】

【００６８】

【化９】

【００６９】

【化１０】

【００７０】

【化１１】

【００７１】本実施例の紫外線硬化性塗料は、上記の構
成成分を有機ポリシロキサンの配合のみを以下のように
変化させて配合したものである。２５℃における塗料の
粘度は３５センチポイズであった。

【００７２】（ａ）アクリル酸エステル１００重量
部（テトラヒドロフルフリルアクリレート：１４重量
部、トリシクロデカニルアクリレート：５４重量部、ネ
オペンチルグリコールジアクリレート：３２重量部）（ｂ）光重合性プレポリマー３８重量部（ｃ）光重合開始剤１５重量部（ベンゾフェノン：
１０重量部、p、p-ジメチルアミノアセトフェノン：５重
量部）（ｄ）ポリメチルシロキサン０、０．５、１．
０、１．７、３．１、４．６、６．３、８．
８各重量部本実施例の光磁気ディスクは直径約７０ｍｍ、厚さ１．
２ｍｍのポリカーボネート基板に、第一の保護層１１：
９５ｎｍ厚、光磁気記録層１２：２５ｎｍ厚、第二の保
護層１３：２０ｎｍ厚、反射層１４：３０ｎｍ厚をスパ
ッタ法で形成したものである。スピンコート法を用い
て、反射膜１４上に紫外線硬化性塗料を約１０μｍ塗布
し、常温で紫外線（照度：６００ｍＷ／ｃｍ² 、光量：
８００ｍＪ／ｃｍ²）を照射して保護コート１５を形成
した。

【００７３】図２は本実施例の保護コート１５の摩擦力
の有機ポリシロキサン組成に対する依存性を示す。摩擦
力は変性ポリアミドを１０ｍＮの力で保護コート１５に
圧着し、保護コート１５と変性ポリアミドの相対速度を
毎秒１．２ｍとした場合の摩擦力である。なお、測定条
件は、温度：２０℃、相対湿度：５０％ＲＨ、１時間摺
動時のＭａｘ値とした。

【００７４】図２から明らかなように、有機ポリシロキ
サンの添加量が０．５重量％で急激に摩擦力が下がり、
２重量部まで摩擦力が低減し、８．８重量部の添加まで
その効果が維持された。

【００７５】（実施例２）本実施例の紫外線硬化性塗料
は、実施例１で用いた構成成分に、脂肪酸エステルとし
てステアリン酸ｎブチルを使用し、その配合のみを以下
のように変化させて調整したものである。２５℃におけ
る塗料の粘度は３５センチポイズであった。

【００７６】（ａ）アクリル酸エステル１００重量
部（テトラヒドロフルフリルアクリレート：１４重量
部、トリシクロデカニルアクリレート：５４重量部、ネ
オペンチルグリコールジアクリレート：３２重量部）（ｂ）光重合性プレポリマー３８重量部（ｃ）光重合開始剤１４重量部（ベンゾフェノン：
１０重量部、p、p-ジメチルアミノアセトフェノン：４重
量部）（ｄ）ポリメチルシロキサン６重量部（ｅ）ステアリン酸ｎブチル０、３．３、４．
９、６．６、８．２、９．８各重量部上記の塗料を実施例１と全く同様の方法で、反射膜１４
上に約１０μｍ塗布し、常温で紫外線（照度：６００ｍ
Ｗ／ｃｍ²、光量：８００ｍＪ／ｃｍ²）を照射して保護
コートを形成した。

【００７７】図３は本実施例の保護コート１５の温度が
４０℃、相対湿度が９０％の環境中での一定時間摺動時
のＭａｘ値の摩擦力の変化の様子を示したものである。
図３から明らかなように脂肪酸エステルの添加量が３．
３〜９．８重量部の範囲で安定した低い摩擦力が得られ
た。

【００７８】（実施例３）本実施例の紫外線硬化性塗料
は、実施例２で用いた構成成分に、含アルキル基有機化
合物として下記式（化１２）で示される脂肪酸アルキル
コハク酸ジエステルを使用し、その配合のみを以下のよ
うに変化させて調整したものである。

【００７９】

【化１２】

【００８０】２５℃における塗料の粘度は３５センチポ
イズであった。（ａ）アクリル酸エステル１００重量部（テトラヒ
ドロフルフリルアクリレート：１４重量部、トリシクロ
デカニルアクリレート：５４重量部、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート：３２重量部）（ｂ）光重合性プレポリマー３８重量部（ｃ）光重合開始剤１３重量部（ベンゾフェノン：
９重量部、p、p-ジメチルアミノアセトフェノン：４重量
部）（ｄ）ポリメチルシロキサン７重量部（ｅ）ステアリン酸ｎブチル７重量部（ｆ）脂肪酸アルキルコハク酸ジエステル０、
０．８、３．３、４．１、４．９各重量部上記の塗料を実施例１と全く同様の方法で、反射膜１４
上に約１０μｍ塗布し、常温で紫外線（照度：６００ｍ
Ｗ／ｃｍ²、光量：８００ｍＪ／ｃｍ²）を照射して保護
コートを形成した。

【００８１】図４は本実施例の保護コート１５の温度が
４０℃、相対湿度が９０％の環境中での摩擦力の変化の
様子を示したものである。図４から明らかなように含ア
ルキル基有機化合物の添加量が０．８〜４．９重量部の
範囲で摩擦力の低減効果が得られた。

【００８２】（実施例４）射出成形法により実施例１で
用いたのと同様のポリカーボネート製の基板１０を成形
し、続いて第１の保護層１１、光磁気記録層１２、第２
の保護層１３、反射膜１４をスパッタ法を用いて実施例
１と同様に形成した。つぎに、反射膜１４を形成した面
の中央に近い部分に、脂肪酸アルキルコハク酸ジエステ
ルを４重量部として、その他を実施例３と同一とした紫
外線硬化性樹脂を、略同芯円上に塗滴により設置し、そ
の後比較的速い回転数（毎分２０００回転〜毎分５００
０回転）で被塗布面を回転し、紫外線硬化性塗料を被塗
布面全面に広げて、反射膜１４上に紫外線硬化性塗料を
約１０μｍ塗布した。この後、反射膜１４上の紫外線硬
化性塗料に実施例１と同様に紫外線を照射して保護コー
ト１５を形成した。

【００８３】図５に紫外線の光量と照度に対する保護コ
ート１５の摩擦力の変化を示す。紫外線の光量及び照度
は３３０ｎｍから３７０ｎｍの波長域での測定結果であ
り、摩擦力は変性ポリアミドを１０ｍＮの力で保護コー
ト１５に圧着し、保護コート１５と変性ポリアミドの相
対速度を毎秒１．２ｍとした場合の摩擦力である。また
照射に使用した紫外線ランプは高圧水銀灯である。図５
から明らかなように紫外線の照度が３００ｍＷ／ｃｍ²
以上１０００ｍＷ／ｃｍ²以下の範囲で摩擦力の低減に
効果があり、紫外線の光量が５００ｍＪ／ｃｍ²以上１
５００ｍＪ／ｃｍ²以下の範囲で摩擦力の低減に効果が
あった。

【００８４】本実施例では基板１０上に、ＳｉＮを主た
る成分とする第１の保護層１１と、ＴｂＦｅＣｏＣｒを
主たる成分とする光磁気記録層１２と、ＳｉＮを主たる
成分とする第２の保護層１３と、ＡｌＴｉを主たる成分
とする反射膜１４を順次形成したが、本構成に限定され
るものではなく、光磁気記録層１２を含む膜構成であれ
ば本実施例の効果は実現される。

【００８５】（実施例５）実施例１と同一の化合物を用
い、（ａ）アクリル酸エステル：１００重量部（テトラ
ヒドロフルフリルアクリレート：１４重量部、トリシク
ロデカニルアクリレート：５４重量部、ネオペンチルグ
リコールジアクリレート：３２重量部）に対して、
（ｂ）光重合性プレポリマーと、（ｃ）光重合開始剤
と、（ｄ）ポリメチルシロキサンを表１に示す添加量で
配合し、塗料組成物とし、実施例１と同様にスピンコー
ト法を用いて、反射膜１４上に紫外線硬化性塗料を約１
０μｍ塗布し、常温で紫外線（照度：６００ｍＷ／ｃｍ
²、光量：８００ｍＪ／ｃｍ²）を照射して保護コート１
５を形成した。

【００８６】得られた光磁気ディスクの特性を表１に示
す。

【００８７】

【表１】

【００８８】表１から明らかな通り、本実施例の実験番
号２〜５，８〜１１の光磁気ディスクは、保護コートの
表面の潤滑性に優れ、高温多湿環境下においても摺動特
性に優れ、長期間の信頼性を確保できた。

【００８９】

【発明の効果】以上説明した通り、本発明の紫外線硬化
性塗料によれば、光重合開始剤、光重合性プレポリマ
ー、単官能または二官能の（メタ）アクリル酸エステル
と有機変性ポリシロキサン、必要あれば脂肪酸エステ
ル、さらには飽和型もしくは不飽和型フルオロアルキル
基または不飽和型脂肪族アルキル基の側鎖を分子末端に
有する有機化合物を含むことにより、保護コートの表面
の潤滑性に優れ、高温多湿環境下においても摺動特性に
優れ、長期間の信頼性を確保することができ、保護コー
トの反射膜に対する密着性が良好で且つ摩擦力を低減し
た摺動耐久性に優れた光磁気ディスクを実現できる。

【００９０】また本発明の紫外線硬化性塗料を塗布、硬
化させる製造方法により、従来の製造設備に新たに製造
設備を追加する必要がなく、高品質の光磁気ディスクを
設備コストの増加を伴わず低価格で提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の光磁気ディスクの構成を
示す概略断面図

【図２】本発明の一実施例の保護コートの有機変性ポ
リシロキサン組成と摩擦力との関係を示すグラフ図

【図３】本発明の一実施例の保護コートの脂肪酸エス
テル組成と摩擦力との関係を示すグラフ図

【図４】本発明の一実施例の保護コートの含アルキル
基有機化合物組成と摩擦力との関係を示すグラフ図

【図５】本発明の一実施例の保護コートの紫外線の光
量と照度に対する摩擦力の変化を示すグラフ図

【符号の説明】

１０基板１１第１の保護層１２光磁気記録層１３第１の保護層１４反射膜１５保護コート

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ１１Ｂ 11/10 ５２１ 9075−5ＤＧ１１Ｂ 11/10 ５２１Ｅ５４１ 9075−5Ｄ５４１Ｆ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（メタ）アクリル酸エステルと光重合性
プレポリマーと、光重合開始剤と、有機ポリシロキサン
を含む紫外線硬化性塗料において、各成分の組成割合
が、（ａ）（メタ）アクリル酸エステル１００重量部（ｂ）光重合性プレポリマー３０〜８０重量部（ｃ）光重合開始剤１０〜４０重量部（ｄ）有機ポリシロキサン０．１〜１０重量部であることを特徴とする光磁気ディスク製造用紫外線硬
化性塗料組成物。
【請求項２】（メタ）アクリル酸エステル１００重量
部に対して脂肪酸エステルを０．１〜１０重量部を含む
請求項１に記載の紫外線硬化性塗料組成物。
【請求項３】（メタ）アクリル酸エステル１００重量
部に対して、フルオロアルキル基または不飽和型脂肪族
アルキル基の側鎖を分子末端に有する有機化合物０．１
〜１０重量部を含む請求項２に記載の紫外線硬化性塗料
組成物。
【請求項４】光重合性プレポリマーが、ウレタン（メ
タ）アクリレート及びエポキシ（メタ）アクリレートか
ら選ばれる少なくとも１つである請求項１に記載の紫外
線硬化性塗料組成物。
【請求項５】（メタ）アクリル酸エステルが、ラウリ
ル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコー
ル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）ア
クリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレ
ート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロ
デカニル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、及びヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレートから選ばれ少なくとも１つである請求
項１に記載の紫外線硬化性塗料組成物。
【請求項６】脂肪酸エステルが有する脂肪族アルキル
基の炭素数が１０以上１８以下の範囲である請求項２に
記載の紫外線硬化性塗料組成物。
【請求項７】フルオロアルキル基または不飽和型脂肪
族アルキル基の側鎖を分子末端に有する有機化合物が、
脂肪酸アルキルコハク酸ジエステルである請求項３に記
載の紫外線硬化性塗料組成物。
【請求項８】（メタ）アクリル酸エステルが、アクリ
ル酸エステルまたはメタクリル酸エステルである請求項
１に記載の紫外線硬化性塗料組成物。
【請求項９】２５℃における粘度が、２０〜１００セ
ンチポイズである請求項１に記載の紫外線硬化性塗料組
成物。
【請求項１０】有機ポリシロキサンが、下記式（化
１）で示される請求項１に記載の紫外線硬化性塗料組成
物。【化１】
【請求項１１】光学的に透明な基板上に、無機化合物
の薄膜からなる光磁気記録層を形成し、前記光磁気記録
層の上に有機化合物からなる保護コート層を形成する光
磁気ディスクの製造方法において、（ａ）（メタ）アクリル酸エステル１００重量部（ｂ）光重合性プレポリマー３０〜８０重量部（ｃ）光重合開始剤１０〜４０重量部（ｄ）有機ポリシロキサン０．１〜１０重量部の組成からなる紫外線硬化性塗料を前記薄膜に塗布し、
照度が３００ｍＷ／ｃｍ ²以上１０００ｍＷ／ｃｍ²以
下の範囲にあり、光量が５００ｍＪ／ｃｍ²以上１５０
０ｍＪ／ｃｍ²以下の範囲である紫外線を前記紫外線硬
化性塗料に照射して塗料を硬化して保護コート層を形成
することを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。
【請求項１２】紫外線硬化性塗料を無機化合物の薄膜
に５〜５０μｍの範囲の厚さに塗布する請求項１１に記
載の光磁気ディスクの製造方法。
【請求項１３】（メタ）アクリル酸エステル１００重
量部に対して脂肪酸エステルを０．１〜１０重量部を含
む請求項１１に記載の光磁気ディスクの製造方法。
【請求項１４】（メタ）アクリル酸エステル１００重
量部に対して、フルオロアルキル基または不飽和型脂肪
族アルキル基の側鎖を分子末端に有する有機化合物０．
１〜１０重量部を含む請求項１１に記載の光磁気ディス
クの製造方法。
【請求項１５】光重合性プレポリマーが、ウレタン
（メタ）アクリレート及びエポキシ（メタ）アクリレー
トから選ばれる少なくとも１つである請求項１１に記載
の光磁気ディスクの製造方法。
【請求項１６】（メタ）アクリル酸エステルが、ラウ
リル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコ
ール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）
アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリ
レート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシク
ロデカニル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ（メタ）アクリレート、及びヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレートから選ばれる少なくとも１つである請
求項１１に記載の光磁気ディスクの製造方法。
【請求項１７】脂肪酸エステルが有する脂肪族アルキ
ル基の炭素数が１０以上１８以下の範囲である請求項１
１に記載の光磁気ディスクの製造方法。
【請求項１８】フルオロアルキル基または不飽和型脂
肪族アルキル基の側鎖を分子末端に有する有機化合物
が、脂肪酸アルキルコハク酸ジエステルである請求項１
１に記載の光磁気ディスクの製造方法。
【請求項１９】（メタ）アクリル酸エステルが、アク
リル酸エステルまたはメタクリル酸エステルである請求
項１１に記載の光磁気ディスクの製造方法。
【請求項２０】２５℃における粘度が、２０〜１００
センチポイズである請求項１１に記載の光磁気ディスク
の製造方法。
【請求項２１】有機ポリシロキサンが、前記式（化
１）である請求項１１に記載の光磁気ディスクの製造方
法。
【請求項２２】光学的に透明な基板上に、無機化合物
の薄膜からなる光磁気記録層を形成し、前記光磁気記録
層の上に有機化合物からなる保護コート層を形成する光
磁気ディスクにおいて、前記有機化合物が（ａ）（メタ）アクリル酸エステル１００重量部（ｂ）光重合性プレポリマー３０〜８０重量部（ｃ）光重合開始剤１０〜４０重量部（ｄ）有機変性ポリシロキサン０．１〜１０重量部の組成からなる紫外線硬化性塗料の硬化物であることを
特徴とする光磁気ディスク。
【請求項２３】前記有機化合物で構成された保護コー
トの厚みが５〜５０μｍの範囲にある光磁気ディスク。
【請求項２４】（メタ）アクリル酸エステル１００重
量部に対して脂肪酸エステル０．１〜１０重量部を含む
請求項２２に記載の光磁気ディスク。
【請求項２５】（メタ）アクリル酸エステル１００重
量部に対して、フルオロアルキル基または不飽和型脂肪
族アルキル基の側鎖を分子末端に有する有機化合物０．
１〜１０重量部を含む請求項２２に記載の光磁気ディス
ク。
【請求項２６】光重合性プレポリマーがウレタン（メ
タ）アクリレート及びエポキシ（メタ）アクリレートか
ら選ばれる少なくとも１つである請求項２２に記載の光
磁気ディスク。
【請求項２７】（メタ）アクリル酸エステルが、ラウ
リル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコ
ール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）
アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリ
レート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシク
ロデカニル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ（メタ）アクリレート、及びヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレートから選ばれる少なくとも１つである請
求項２２に記載の光磁気ディスク。
【請求項２８】脂肪酸エステルが有する脂肪族アルキ
ル基の炭素数が１０以上１８以下の範囲である請求項２
４に記載の光磁気ディスク。
【請求項２９】フルオロアルキル基または不飽和型脂
肪族アルキル基の側鎖を分子末端に有する有機化合物
が、脂肪酸アルキルコハク酸ジエステルである請求項２
５に記載の光磁気ディスク。
【請求項３０】（メタ）アクリル酸エステルがアクリ
ル酸エステルまたはメタクリル酸エステルである請求項
２２に記載の光磁気ディスク。
【請求項３１】有機ポリシロキサンが前記式（化１）
で示される請求項２２に記載の光磁気ディスク。