JPH09103646A - 燃焼排ガスの処理方法及び装置 - Google Patents
燃焼排ガスの処理方法及び装置Info
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- JPH09103646A JPH09103646A JP8210463A JP21046396A JPH09103646A JP H09103646 A JPH09103646 A JP H09103646A JP 8210463 A JP8210463 A JP 8210463A JP 21046396 A JP21046396 A JP 21046396A JP H09103646 A JPH09103646 A JP H09103646A
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- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単な装置構成で、熱効率がよく、ダイオキ
シン及び窒素酸化物を効率よく除去することができる燃
焼排ガスの処理方法と装置を提供する。 【解決手段】 廃棄物燃焼施設からの燃焼排ガスの処理
方法において、該排ガスを１８０℃〜２３０℃に減温２
して乾式集塵装置３で除塵後、触媒として酸化バナジウ
ム系触媒を用いるダイオキシン及び窒素酸化物除去装置
４を通した後、１８０℃〜２３０℃の該排ガスを更に熱
交換器５を通して熱回収することとしたものであり、前
記酸化バナジウム系触媒は、バナジウム酸化物単独か、
又はバナジウム酸化物に、モリブデン、スズ、イットリ
ウム、ホウ素、鉛からなる群から選ばれた少なくとも一
種の元素の酸化物又は金を併用するか、又はさらにこれ
らとタングステン酸化物とを併用して３成分とし、チタ
ニアに担持して用いるのがよい。
シン及び窒素酸化物を効率よく除去することができる燃
焼排ガスの処理方法と装置を提供する。 【解決手段】 廃棄物燃焼施設からの燃焼排ガスの処理
方法において、該排ガスを１８０℃〜２３０℃に減温２
して乾式集塵装置３で除塵後、触媒として酸化バナジウ
ム系触媒を用いるダイオキシン及び窒素酸化物除去装置
４を通した後、１８０℃〜２３０℃の該排ガスを更に熱
交換器５を通して熱回収することとしたものであり、前
記酸化バナジウム系触媒は、バナジウム酸化物単独か、
又はバナジウム酸化物に、モリブデン、スズ、イットリ
ウム、ホウ素、鉛からなる群から選ばれた少なくとも一
種の元素の酸化物又は金を併用するか、又はさらにこれ
らとタングステン酸化物とを併用して３成分とし、チタ
ニアに担持して用いるのがよい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、燃焼排ガスの処理
に係り、特に、廃棄物燃焼ボイラ及び燃焼炉の燃焼排ガ
ス中のダイオキシン及び窒素酸化物を触媒を用いて比較
的低温度で処理する燃焼排ガスの処理方法と装置に関す
る。
に係り、特に、廃棄物燃焼ボイラ及び燃焼炉の燃焼排ガ
ス中のダイオキシン及び窒素酸化物を触媒を用いて比較
的低温度で処理する燃焼排ガスの処理方法と装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の廃棄物発電の燃焼排ガスの処理系
統を図３に、また、事業用及び自家用火力発電の燃焼排
ガスの処理系統を図４に示す。廃棄物発電の燃焼排ガス
の処理は、図３に示されるように、廃棄物の燃焼排ガス
中に含まれるダスト、重金属、ＳＯｘ、ＨＣｌ等を除去
する目的で、乾式集塵装置（電気集塵機・バグフィルタ
ー）３の後段に、湿式集塵装置（スクラバー）１０を設
置し、燃焼排ガスの浄化と温度の低減後に、排ガス加熱
器（蒸気式加熱器）１１で燃焼排ガス温度を上げた後
に、ダイオキシン及び窒素酸化物分解（触媒）装置１２
を設置している。
統を図３に、また、事業用及び自家用火力発電の燃焼排
ガスの処理系統を図４に示す。廃棄物発電の燃焼排ガス
の処理は、図３に示されるように、廃棄物の燃焼排ガス
中に含まれるダスト、重金属、ＳＯｘ、ＨＣｌ等を除去
する目的で、乾式集塵装置（電気集塵機・バグフィルタ
ー）３の後段に、湿式集塵装置（スクラバー）１０を設
置し、燃焼排ガスの浄化と温度の低減後に、排ガス加熱
器（蒸気式加熱器）１１で燃焼排ガス温度を上げた後
に、ダイオキシン及び窒素酸化物分解（触媒）装置１２
を設置している。
【０００３】この従来技術には、次のような問題点があ
る。 （１）機器が多く装置系統運用が複雑である。 （２）設備の建設コスト及びランニングコストが高い。 （３）保守及び管理の労力が大きい。 （４）燃焼排ガスを湿式集塵装置で冷却後に再加熱する
ので熱効率（発電の場合は発電効率）が低い。 （５）ダイオキシン及び窒素酸化物の除去効率が低い。
る。 （１）機器が多く装置系統運用が複雑である。 （２）設備の建設コスト及びランニングコストが高い。 （３）保守及び管理の労力が大きい。 （４）燃焼排ガスを湿式集塵装置で冷却後に再加熱する
ので熱効率（発電の場合は発電効率）が低い。 （５）ダイオキシン及び窒素酸化物の除去効率が低い。
【０００４】また、従来の事業用及び自家用火力発電の
燃焼排ガスの処理は、図４に示されるように、燃料性状
が一定しているので、ボイラ出口の高温部に窒素酸化物
分解装置１２を設置し、高い脱硝効率を得ているが、こ
の技術においても、次のような問題点がある。 （１）燃焼排ガス温度が３００〜３５０℃と高いため、
ダイオキシンが冷却過程で（後段の空気予熱器２等の高
温から３００℃以下に移る過程がある装置内で）再合成
される可能性がある。 （２）脱硝装置が集塵装置３の前段にあるため、廃棄物
に適用すると触媒が被毒及びダスト汚染を受けやすい。
燃焼排ガスの処理は、図４に示されるように、燃料性状
が一定しているので、ボイラ出口の高温部に窒素酸化物
分解装置１２を設置し、高い脱硝効率を得ているが、こ
の技術においても、次のような問題点がある。 （１）燃焼排ガス温度が３００〜３５０℃と高いため、
ダイオキシンが冷却過程で（後段の空気予熱器２等の高
温から３００℃以下に移る過程がある装置内で）再合成
される可能性がある。 （２）脱硝装置が集塵装置３の前段にあるため、廃棄物
に適用すると触媒が被毒及びダスト汚染を受けやすい。
【０００５】また、従来は触媒によるダイオキシンの低
減は、経済性、効率性、低温での活性のいずれも劣って
いて実用化されていなかった。しかし、脱硝触媒でごく
低い効率ではあるが、ダイオキシンが分解されることが
確認されていた。これを高効率で除去するためには、図
５に示すように、消石灰又は活性炭を添加後、バグフィ
ルター３を通し、次いでコークフィルター１５を通す、
吸着又は活性炭使用による二段方式が用いられていた。
図６に上記図５の消石灰及び活性炭を用いたダイオキシ
ンの除去例を示す。図６によればダイオキシン濃度１０
ｎｇ−ＴＥＱ／Ｎｍ3 の排ガスを０．１ｎｇ−ＴＥＱ／
Ｎｍ3 にまで低下することができる。しかし、この場合
の排ガスの温度はダイオキシンの物性及び活性炭の物性
から１５０℃以下にするのが望ましく、また、システム
の構築が複雑でエネルギー回収の立場からも合理性を欠
いている。
減は、経済性、効率性、低温での活性のいずれも劣って
いて実用化されていなかった。しかし、脱硝触媒でごく
低い効率ではあるが、ダイオキシンが分解されることが
確認されていた。これを高効率で除去するためには、図
５に示すように、消石灰又は活性炭を添加後、バグフィ
ルター３を通し、次いでコークフィルター１５を通す、
吸着又は活性炭使用による二段方式が用いられていた。
図６に上記図５の消石灰及び活性炭を用いたダイオキシ
ンの除去例を示す。図６によればダイオキシン濃度１０
ｎｇ−ＴＥＱ／Ｎｍ3 の排ガスを０．１ｎｇ−ＴＥＱ／
Ｎｍ3 にまで低下することができる。しかし、この場合
の排ガスの温度はダイオキシンの物性及び活性炭の物性
から１５０℃以下にするのが望ましく、また、システム
の構築が複雑でエネルギー回収の立場からも合理性を欠
いている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の諸問題点を解消し、簡単な装置構成で、熱効率がよ
く、また、ダイオキシン及び窒素酸化物を効率よく除去
することができる燃焼排ガスの処理方法及び装置を提供
することを課題とする。
術の諸問題点を解消し、簡単な装置構成で、熱効率がよ
く、また、ダイオキシン及び窒素酸化物を効率よく除去
することができる燃焼排ガスの処理方法及び装置を提供
することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明では、廃棄物燃焼施設からの燃焼排ガスの処
理方法において、該排ガスを１８０℃〜２３０℃に減温
して乾式集塵装置で除塵後、触媒として酸化バナジウム
系触媒を用いるダイオキシン及び窒素酸化物除去装置を
通した後、１８０℃〜２３０℃の該排ガスを更に熱交換
器を通して熱回収することを特徴とする燃焼排ガスの処
理方法としたものである。また、本発明では、廃棄物燃
焼施設からの燃焼排ガスの処理装置において、該排ガス
を１８０℃〜２３０℃に減温する減温装置と、乾式集塵
装置と、触媒として酸化バナジウム系触媒を充填したダ
イオキシン及び窒素酸化物除去装置と、１８０℃〜２３
０℃の排ガスから熱回収する熱交換器とを順次接続して
設けたことを特徴とする燃焼排ガスの処理装置としたも
のである。
に、本発明では、廃棄物燃焼施設からの燃焼排ガスの処
理方法において、該排ガスを１８０℃〜２３０℃に減温
して乾式集塵装置で除塵後、触媒として酸化バナジウム
系触媒を用いるダイオキシン及び窒素酸化物除去装置を
通した後、１８０℃〜２３０℃の該排ガスを更に熱交換
器を通して熱回収することを特徴とする燃焼排ガスの処
理方法としたものである。また、本発明では、廃棄物燃
焼施設からの燃焼排ガスの処理装置において、該排ガス
を１８０℃〜２３０℃に減温する減温装置と、乾式集塵
装置と、触媒として酸化バナジウム系触媒を充填したダ
イオキシン及び窒素酸化物除去装置と、１８０℃〜２３
０℃の排ガスから熱回収する熱交換器とを順次接続して
設けたことを特徴とする燃焼排ガスの処理装置としたも
のである。
【０００８】上記本発明において、乾式集塵装置に入る
前に、排ガスには火炉又は煙道で炭酸カルシウム又は消
石灰を噴霧して、燃焼排ガス中のダイオキシンの一部と
共に、ＳＯｘ、ＨＣｌ等を乾式集塵装置で除去するのが
よく、これらの除去によりその分圧が下がり、露点が低
下するので、熱交換器での熱回収率をより大きくするこ
とができる。また、前記乾式集塵装置としては、電気集
塵機又はバグフィルターを用いるのがよく、排ガスから
熱回収する熱交換器は燃焼空気又は給水を予熱するため
に用いるのがよい。
前に、排ガスには火炉又は煙道で炭酸カルシウム又は消
石灰を噴霧して、燃焼排ガス中のダイオキシンの一部と
共に、ＳＯｘ、ＨＣｌ等を乾式集塵装置で除去するのが
よく、これらの除去によりその分圧が下がり、露点が低
下するので、熱交換器での熱回収率をより大きくするこ
とができる。また、前記乾式集塵装置としては、電気集
塵機又はバグフィルターを用いるのがよく、排ガスから
熱回収する熱交換器は燃焼空気又は給水を予熱するため
に用いるのがよい。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に、本発明を詳細に説明する。
装置の構成は上記説明及び実施例から明らかであるの
で、ここでは特に、本発明のダイオキシン及び窒素酸化
物の除去装置に用いる酸化バナジウム系触媒について詳
述する。上記燃焼排ガスの処理（ダイオキシン及び窒素
酸化物の分解）触媒として、バナジウム酸化物もしくは
これを主成分とする複合触媒を使用する。特に、バナジ
ウム酸化物とモリブデン、スズ、イットリウム、ホウ素
及び鉛からなる群から選ばれた少なくとも一種の元素の
酸化物とを含む触媒、及び金を含む酸化バナジウム触
媒、もしくは次の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の三成分、
即ち、（Ａ）バナジウム酸化物、（Ｂ）タングステン酸
化物、及び（Ｃ）モリブデン、イットリウム、ホウ素、
スズ及び鉛からなる群から選ばれた少なくとも一種の元
素の酸化物又は金を含む酸化バナジウム触媒等が好適に
使用できる。
装置の構成は上記説明及び実施例から明らかであるの
で、ここでは特に、本発明のダイオキシン及び窒素酸化
物の除去装置に用いる酸化バナジウム系触媒について詳
述する。上記燃焼排ガスの処理（ダイオキシン及び窒素
酸化物の分解）触媒として、バナジウム酸化物もしくは
これを主成分とする複合触媒を使用する。特に、バナジ
ウム酸化物とモリブデン、スズ、イットリウム、ホウ素
及び鉛からなる群から選ばれた少なくとも一種の元素の
酸化物とを含む触媒、及び金を含む酸化バナジウム触
媒、もしくは次の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の三成分、
即ち、（Ａ）バナジウム酸化物、（Ｂ）タングステン酸
化物、及び（Ｃ）モリブデン、イットリウム、ホウ素、
スズ及び鉛からなる群から選ばれた少なくとも一種の元
素の酸化物又は金を含む酸化バナジウム触媒等が好適に
使用できる。
【００１０】このような酸化物触媒は、特に硫黄酸化物
に対する耐被毒性に優れている。酸化物触媒は、通常担
体に担持して使用されるが、その担体として、シリカ、
アルミナ、珪藻土等が使用できるが、特に、本発明で用
いる触媒の担体としては、チタニア（ＴｉＯ2 ）を使用
するのが好ましい。殊に、燃焼排ガス中に硫黄酸化物が
含まれている場合には、チタニアを用いるのが好まし
い。上記担体へのバナジウム酸化物の担持量は、担体に
対し、通常０．５〜５０ｗｔ％、好ましくは２〜４０ｗ
ｔ％である。複合触媒として、バナジウム酸化物と、モ
リブデン、スズ、イットリウム、ホウ素及び鉛からなる
群から選ばれた少なくとも一種の元素の酸化物とを含む
触媒を用いる場合、それらの担体に対する担持量はそれ
ぞれ０．１〜５０ｗｔ％、好ましくは０．３〜４０ｗｔ
％がよい。またこのような第二成分はバナジウム酸化物
に対して、通常０．１〜１重量倍使用する。また、金を
含む酸化バナジウム触媒を担持して用いる場合は、担体
に対する金の担持量は０．００１〜２０ｗｔ％の範囲に
あるのが良い。このときの、金のバナジウム酸化物に対
する使用量比は、通常０．００１〜０．２重量倍とする
のが良い。
に対する耐被毒性に優れている。酸化物触媒は、通常担
体に担持して使用されるが、その担体として、シリカ、
アルミナ、珪藻土等が使用できるが、特に、本発明で用
いる触媒の担体としては、チタニア（ＴｉＯ2 ）を使用
するのが好ましい。殊に、燃焼排ガス中に硫黄酸化物が
含まれている場合には、チタニアを用いるのが好まし
い。上記担体へのバナジウム酸化物の担持量は、担体に
対し、通常０．５〜５０ｗｔ％、好ましくは２〜４０ｗ
ｔ％である。複合触媒として、バナジウム酸化物と、モ
リブデン、スズ、イットリウム、ホウ素及び鉛からなる
群から選ばれた少なくとも一種の元素の酸化物とを含む
触媒を用いる場合、それらの担体に対する担持量はそれ
ぞれ０．１〜５０ｗｔ％、好ましくは０．３〜４０ｗｔ
％がよい。またこのような第二成分はバナジウム酸化物
に対して、通常０．１〜１重量倍使用する。また、金を
含む酸化バナジウム触媒を担持して用いる場合は、担体
に対する金の担持量は０．００１〜２０ｗｔ％の範囲に
あるのが良い。このときの、金のバナジウム酸化物に対
する使用量比は、通常０．００１〜０．２重量倍とする
のが良い。
【００１１】また複合触媒として、上記（Ａ）、（Ｂ）
及び（Ｃ）の三成分を含む酸化バナジウム触媒を用いる
場合は、上記担体へのバナジウム酸化物（Ａ）及びタン
グステン酸化物（Ｂ）の担持量は、担体に対し、それぞ
れ０．５〜５０ｗｔ％、好ましくは２〜４０ｗｔ％とす
るのが良く、また（Ｃ）モリブデン、イットリウム、ホ
ウ素、スズ及び鉛からなる群から選ばれた少なくとも一
種の元素の酸化物の担持量は、担体に対し、通常０．１
〜５０ｗｔ％、好ましくは０．３〜４０ｗｔ％とし、金
の担持量は、担体に対し０．００１〜２０ｗｔ％とする
のが好適である。前記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含む
複合触媒においては、バナジウム酸化物の含有量に対す
るタングステン酸化物の含有量は、通常０．１〜３０重
量倍、好ましくは１〜１０重量倍が良い。また、バナジ
ウム酸化物の含有量に対するモリブデン、イットリウ
ム、ホウ素、スズ及び鉛からなる群から選ばれた少なく
とも一種の元素の酸化物の含有量は、通常０．０１〜３
重量倍、好ましくは０．１〜１重量倍とし、金の含有量
は、通常０．００１〜０．２重量倍とするのが良い。
及び（Ｃ）の三成分を含む酸化バナジウム触媒を用いる
場合は、上記担体へのバナジウム酸化物（Ａ）及びタン
グステン酸化物（Ｂ）の担持量は、担体に対し、それぞ
れ０．５〜５０ｗｔ％、好ましくは２〜４０ｗｔ％とす
るのが良く、また（Ｃ）モリブデン、イットリウム、ホ
ウ素、スズ及び鉛からなる群から選ばれた少なくとも一
種の元素の酸化物の担持量は、担体に対し、通常０．１
〜５０ｗｔ％、好ましくは０．３〜４０ｗｔ％とし、金
の担持量は、担体に対し０．００１〜２０ｗｔ％とする
のが好適である。前記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含む
複合触媒においては、バナジウム酸化物の含有量に対す
るタングステン酸化物の含有量は、通常０．１〜３０重
量倍、好ましくは１〜１０重量倍が良い。また、バナジ
ウム酸化物の含有量に対するモリブデン、イットリウ
ム、ホウ素、スズ及び鉛からなる群から選ばれた少なく
とも一種の元素の酸化物の含有量は、通常０．０１〜３
重量倍、好ましくは０．１〜１重量倍とし、金の含有量
は、通常０．００１〜０．２重量倍とするのが良い。
【００１２】触媒の大きさ及び形状は、一般に、原料性
状、ダストの有無、ガス量、反応器の大きさ等により決
定される。そして、触媒の形状としては、円柱状、球
状、ハニカム状、板状などが挙げられる。上記の担持触
媒は、例えば、五酸化バナジウムの蓚酸水溶液を担体に
含浸した後、焼成して製造することができる。複合触媒
の場合は、用いる元素を含む化合物の水溶液を用いて、
上記のバナジウム水溶液と混合して担持させたり、ある
いは先に酸化バナジウムを担持したものに上記の化合物
の水溶液を含浸、焼成して製造することができる。この
担持の順序は逆でも構わない。
状、ダストの有無、ガス量、反応器の大きさ等により決
定される。そして、触媒の形状としては、円柱状、球
状、ハニカム状、板状などが挙げられる。上記の担持触
媒は、例えば、五酸化バナジウムの蓚酸水溶液を担体に
含浸した後、焼成して製造することができる。複合触媒
の場合は、用いる元素を含む化合物の水溶液を用いて、
上記のバナジウム水溶液と混合して担持させたり、ある
いは先に酸化バナジウムを担持したものに上記の化合物
の水溶液を含浸、焼成して製造することができる。この
担持の順序は逆でも構わない。
【００１３】また、ハニカム状又は板状の担持触媒を調
製する場合は、所望形状の基材上にまず担体成分をコー
ティングし、その上で、この担体成分に上記と同様の方
法で触媒成分を担持する方法を用いてもよく、また、チ
タニア等の担体成分と、所定の触媒成分もしくはその原
料とを、成形助剤とともに混練した上、押出成形法等の
成形法により所望の形状に賦形してもよい。そして、ハ
ニカム触媒等の基材を用いた触媒において、担体成分及
び触媒成分の合計量は、製造後の触媒重量の５〜７０ｗ
ｔ％、好ましくは１０〜５０ｗｔ％とするのがよい。
製する場合は、所望形状の基材上にまず担体成分をコー
ティングし、その上で、この担体成分に上記と同様の方
法で触媒成分を担持する方法を用いてもよく、また、チ
タニア等の担体成分と、所定の触媒成分もしくはその原
料とを、成形助剤とともに混練した上、押出成形法等の
成形法により所望の形状に賦形してもよい。そして、ハ
ニカム触媒等の基材を用いた触媒において、担体成分及
び触媒成分の合計量は、製造後の触媒重量の５〜７０ｗ
ｔ％、好ましくは１０〜５０ｗｔ％とするのがよい。
【００１４】本発明で用いる触媒は、低温（１８０〜２
１０℃）でダイオキシン及び窒素酸化物を分解・除去で
きる低温活性の触媒であり、従来公知の触媒では得られ
なかった低温での処理が可能となり、後工程でのダイオ
キシン再生成の恐れがなくなった。また、この触媒は燃
焼排ガス温度２３０℃以下であれば、排ガスを既存の乾
式集塵装置（バグフィルター）で処理するだけでよく、
塩化水素濃度が高くても使用上の問題はない。従来技術
においては、排ガスのバグフィルター入口温度は、ダス
ト、重金属、有害物質を除去（反応）するため低い温
度、望ましくは１５０℃以下で運転する必要があった。
しかし、本発明では排ガスのバグフィルター入口温度を
燃焼排ガス中の除去物質に拘らず、バグフィルターの許
容温度まで上昇させることができる。燃焼排ガス温度２
００〜２３０℃におけるバグフィルターでのダスト、重
金属（水銀）、有害物質（塩化水素）の除去例を表１に
示す。
１０℃）でダイオキシン及び窒素酸化物を分解・除去で
きる低温活性の触媒であり、従来公知の触媒では得られ
なかった低温での処理が可能となり、後工程でのダイオ
キシン再生成の恐れがなくなった。また、この触媒は燃
焼排ガス温度２３０℃以下であれば、排ガスを既存の乾
式集塵装置（バグフィルター）で処理するだけでよく、
塩化水素濃度が高くても使用上の問題はない。従来技術
においては、排ガスのバグフィルター入口温度は、ダス
ト、重金属、有害物質を除去（反応）するため低い温
度、望ましくは１５０℃以下で運転する必要があった。
しかし、本発明では排ガスのバグフィルター入口温度を
燃焼排ガス中の除去物質に拘らず、バグフィルターの許
容温度まで上昇させることができる。燃焼排ガス温度２
００〜２３０℃におけるバグフィルターでのダスト、重
金属（水銀）、有害物質（塩化水素）の除去例を表１に
示す。
【００１５】
【表１】 従って、燃焼排ガス温度は２３０℃以下の運転で、排ガ
ス中のダスト、重金属、有害物質の除去に問題はなく、
処理排ガスの温度を現状技術より約８０℃高くすること
が可能で、エネルギー回収を有効にできる。燃焼排ガス
温度が２３０℃で、バグフィルターは勿論、その後段に
設置する触媒によるダイオキシン及び窒素酸化物除去は
可能で、触媒の被毒もさして問題なく、湿式集塵装置を
必要としない。
ス中のダスト、重金属、有害物質の除去に問題はなく、
処理排ガスの温度を現状技術より約８０℃高くすること
が可能で、エネルギー回収を有効にできる。燃焼排ガス
温度が２３０℃で、バグフィルターは勿論、その後段に
設置する触媒によるダイオキシン及び窒素酸化物除去は
可能で、触媒の被毒もさして問題なく、湿式集塵装置を
必要としない。
【００１６】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれによって限定されるものではない。 実施例１ 図１に本発明の排ガス処理装置の一例の全体工程図を示
し、図２に図１の排ガス処理部分の要部工程図を示す。
図１において、燃焼排ガスは、ボイラ１又は空気予熱器
２で、１８０℃〜２３０℃に減温して、乾式集塵装置３
に導入し除塵される。除塵された１８０℃〜２３０℃の
排ガスは、ダイオキシンと窒素酸化物を同時に除去する
触媒装置４に導入する。この触媒装置４での温度降下は
装置表面からの放熱損失であり、排出ガスはなお１８０
℃〜２３０℃の温度を有するので、該ガスを空気予熱器
５又は給水加熱器に通し、廃熱を回収することができ
る。
るが、本発明はこれによって限定されるものではない。 実施例１ 図１に本発明の排ガス処理装置の一例の全体工程図を示
し、図２に図１の排ガス処理部分の要部工程図を示す。
図１において、燃焼排ガスは、ボイラ１又は空気予熱器
２で、１８０℃〜２３０℃に減温して、乾式集塵装置３
に導入し除塵される。除塵された１８０℃〜２３０℃の
排ガスは、ダイオキシンと窒素酸化物を同時に除去する
触媒装置４に導入する。この触媒装置４での温度降下は
装置表面からの放熱損失であり、排出ガスはなお１８０
℃〜２３０℃の温度を有するので、該ガスを空気予熱器
５又は給水加熱器に通し、廃熱を回収することができ
る。
【００１７】次に、本発明の排ガスの処理を図２を用い
て詳しく説明する。図２において、乾式集塵装置（バグ
フィルター）３の前には、硫黄酸化物、塩化水素及びダ
イオキシン等との反応又は吸着を目的として、消石灰又
は活性炭等の添加剤７を噴霧する。また、触媒装置４の
前には脱硝を行うためのアンモニア８を少量（後段で硫
酸水素アンモニウムが生成しない程度）噴霧し、脱硝効
率を向上させることができる。この触媒装置４には、触
媒として本発明の酸化バナジウム系触媒を充填する。そ
して、ダイオキシン及び窒素酸化物を除去する触媒装置
４の出口での燃焼排ガスは、消石灰及び添加剤の反応も
加わり、ダイオキシン、窒素酸化物、塩化水素、硫黄酸
化物等が除去され清浄であるが、温度は高く大きな熱エ
ネルギーを保有している。この熱エネルギーを空気予熱
器５によって回収することにより、燃焼排ガスを更に低
温とし、熱効率を上げることが可能で、触媒装置４の設
置により熱効率が低下することにはならない。
て詳しく説明する。図２において、乾式集塵装置（バグ
フィルター）３の前には、硫黄酸化物、塩化水素及びダ
イオキシン等との反応又は吸着を目的として、消石灰又
は活性炭等の添加剤７を噴霧する。また、触媒装置４の
前には脱硝を行うためのアンモニア８を少量（後段で硫
酸水素アンモニウムが生成しない程度）噴霧し、脱硝効
率を向上させることができる。この触媒装置４には、触
媒として本発明の酸化バナジウム系触媒を充填する。そ
して、ダイオキシン及び窒素酸化物を除去する触媒装置
４の出口での燃焼排ガスは、消石灰及び添加剤の反応も
加わり、ダイオキシン、窒素酸化物、塩化水素、硫黄酸
化物等が除去され清浄であるが、温度は高く大きな熱エ
ネルギーを保有している。この熱エネルギーを空気予熱
器５によって回収することにより、燃焼排ガスを更に低
温とし、熱効率を上げることが可能で、触媒装置４の設
置により熱効率が低下することにはならない。
【００１８】実施例２ 次に、本発明の触媒を使用した場合の実験例を示す。用
いた触媒は次のようにして製造した。 （１）担体の調製 チタニア粉２０．７重量部、チタニアゾル３２．７重量
部及び１ｗｔ％硝酸水溶液１５０重量部をボールミルに
入れ、回転数１００ｒｐｍで２４時間処理し、固体分濃
度１６．２ｗｔ％のチタニアスラリーを調製した。この
チタニアスラリーに、基材として、有効表面積２０．５
ｃｍ2 ／ｃｍ2 、開孔率７３％、セル数２０５セル／ｉ
ｎｃｈ2 、容積３０ｍｌのセラミック繊維状ハニカム
（ニチアス社製）を浸漬した後、空気ブローを行った。
そして、この浸漬及び空気ブローを３回繰り返し、前記
のハニカム基材にチタニアをコーティングしてチタニア
担体を製造した。これを１５０℃で一夜乾燥後、７００
℃で３時間焼成した。
いた触媒は次のようにして製造した。 （１）担体の調製 チタニア粉２０．７重量部、チタニアゾル３２．７重量
部及び１ｗｔ％硝酸水溶液１５０重量部をボールミルに
入れ、回転数１００ｒｐｍで２４時間処理し、固体分濃
度１６．２ｗｔ％のチタニアスラリーを調製した。この
チタニアスラリーに、基材として、有効表面積２０．５
ｃｍ2 ／ｃｍ2 、開孔率７３％、セル数２０５セル／ｉ
ｎｃｈ2 、容積３０ｍｌのセラミック繊維状ハニカム
（ニチアス社製）を浸漬した後、空気ブローを行った。
そして、この浸漬及び空気ブローを３回繰り返し、前記
のハニカム基材にチタニアをコーティングしてチタニア
担体を製造した。これを１５０℃で一夜乾燥後、７００
℃で３時間焼成した。
【００１９】（２）触媒の担持 水１２０ｍｌに五酸化バナジウム２０ｇ、パラモリブデ
ン酸アンモニウム４．９ｇ及び蓚酸４０ｇを溶解した水
溶液に上記のコーティングで得たチタニア担体を室温で
３時間浸漬し、液切り後、６０℃で５時間、１２０℃で
一夜それぞれ乾燥し、更に５００℃に３時間焼成した。
この様にして調製した触媒の組成は、Ｖ2 Ｏ5 ６．９
ｗｔ％、ＭｏＯ3 １．４ｗｔ％、ＴｉＯ2 ３４．０
ｗｔ％、残部はハニカム基材であった。この触媒を用い
て、模擬ガスでのダイオキシンと窒素酸化物の除去性能
を試験した。その結果を表２に示す。表２で、実験例Ａ
は燃焼排ガス温度２００℃で、ＳＶ値３０００Ｎｍ3 ／
ｍ3・ｈであり、実験例Ｂは燃焼排ガス温度２１０℃、
ＳＶ値３５００Ｎｍ3 ／ｍ3・ｈである。
ン酸アンモニウム４．９ｇ及び蓚酸４０ｇを溶解した水
溶液に上記のコーティングで得たチタニア担体を室温で
３時間浸漬し、液切り後、６０℃で５時間、１２０℃で
一夜それぞれ乾燥し、更に５００℃に３時間焼成した。
この様にして調製した触媒の組成は、Ｖ2 Ｏ5 ６．９
ｗｔ％、ＭｏＯ3 １．４ｗｔ％、ＴｉＯ2 ３４．０
ｗｔ％、残部はハニカム基材であった。この触媒を用い
て、模擬ガスでのダイオキシンと窒素酸化物の除去性能
を試験した。その結果を表２に示す。表２で、実験例Ａ
は燃焼排ガス温度２００℃で、ＳＶ値３０００Ｎｍ3 ／
ｍ3・ｈであり、実験例Ｂは燃焼排ガス温度２１０℃、
ＳＶ値３５００Ｎｍ3 ／ｍ3・ｈである。
【００２０】
【表２】 このように、本発明の触媒はダイオキシン類、窒素酸化
物を高効率で分解し除去することができた。
物を高効率で分解し除去することができた。
【００２１】実施例３ 実施例２と同様にして、チタニア担体に、触媒として酸
化バナジウムと、スズ、イットリウム、ホウ素、鉛の酸
化物又は金とをそれぞれ併用した触媒を製造した。これ
らの触媒を用いて、燃焼排ガス温度２１０℃、ＳＶ値３
５００Ｎｍ3 ／ｍ3 ・ｈで、ダイオキシンと窒素酸化物
の除去性能を試験した。その結果を表３に示す。
化バナジウムと、スズ、イットリウム、ホウ素、鉛の酸
化物又は金とをそれぞれ併用した触媒を製造した。これ
らの触媒を用いて、燃焼排ガス温度２１０℃、ＳＶ値３
５００Ｎｍ3 ／ｍ3 ・ｈで、ダイオキシンと窒素酸化物
の除去性能を試験した。その結果を表３に示す。
【００２２】
【表３】
【００２３】実施例４ （１）触媒の調製 メタバナジン酸アンモニウム１９．３ｇとパラタングス
テン酸アンモニウム５４．６ｇとを８０℃に加温した１
０ｗｔ％モノエタノールアミン水溶液３００ｇに溶解し
原料液（イ）とした。次いで別の容器に硝酸イットリウ
ム六水和物５．１ｇを水３０ｇに溶解し原料液（ロ）と
した。これらの原料液（イ）及び原料液（ロ）とチタニ
ア粉末４３５ｇとを双腕型ニーダーを用いて２時間混練
し、得られた混練物を押出機により直径３ｍｍ、長さ３
〜１５ｍｍの円柱状に成形した。この組成物を１３０℃
で一夜乾燥し、更に６００℃で３時間焼成し、触媒（以
下「Ｖ−Ｗ−Ｙ」と記す）を得た。触媒の組成は表４に
示す通りである。 （２）活性試験 内径４３ｍｍのガラス製反応器に上記の触媒３０ｃｃを
充填し、実施例２と同様にして、模擬ガスでのダイオキ
シンと窒素酸化物の除去性能を試験した。このときの燃
焼排ガス温度は２００℃、ＳＶ値は５０００Ｎｍ3 ／ｍ
3 ・ｈであった。結果を表４に示す。
テン酸アンモニウム５４．６ｇとを８０℃に加温した１
０ｗｔ％モノエタノールアミン水溶液３００ｇに溶解し
原料液（イ）とした。次いで別の容器に硝酸イットリウ
ム六水和物５．１ｇを水３０ｇに溶解し原料液（ロ）と
した。これらの原料液（イ）及び原料液（ロ）とチタニ
ア粉末４３５ｇとを双腕型ニーダーを用いて２時間混練
し、得られた混練物を押出機により直径３ｍｍ、長さ３
〜１５ｍｍの円柱状に成形した。この組成物を１３０℃
で一夜乾燥し、更に６００℃で３時間焼成し、触媒（以
下「Ｖ−Ｗ−Ｙ」と記す）を得た。触媒の組成は表４に
示す通りである。 （２）活性試験 内径４３ｍｍのガラス製反応器に上記の触媒３０ｃｃを
充填し、実施例２と同様にして、模擬ガスでのダイオキ
シンと窒素酸化物の除去性能を試験した。このときの燃
焼排ガス温度は２００℃、ＳＶ値は５０００Ｎｍ3 ／ｍ
3 ・ｈであった。結果を表４に示す。
【００２４】実施例５、６ 実施例４において、硝酸イットリウム六水和物５．１ｇ
に代えてそれぞれホウ酸５．３ｇ（実施例５）又は硝酸
鉛４．５ｇ（実施例６）を用いたこと以外は、実施例４
と同様にして触媒を調製した（それぞれ「Ｖ−Ｗ−
Ｂ」、及び「Ｖ−Ｗ−Ｐｂ」と記す）。この触媒を用い
て、実施例４と同様にして触媒の活性試験を行った。触
媒の組成及び評価結果を表４に示す。 実施例７ 実施例４において、原料液（ロ）に代えて、塩化スズ
（II）二水和物４．５ｇを１ｗｔ％塩酸３０ｇに溶解し
た原料液を用いたこと以外は、実施例４と同様にして触
媒を調製した（「Ｖ−Ｗ−Ｓｎ」と記す）。この触媒を
用いて、実施例４と同様にして触媒の活性試験を行っ
た。触媒の組成及び評価結果を表４に示す。
に代えてそれぞれホウ酸５．３ｇ（実施例５）又は硝酸
鉛４．５ｇ（実施例６）を用いたこと以外は、実施例４
と同様にして触媒を調製した（それぞれ「Ｖ−Ｗ−
Ｂ」、及び「Ｖ−Ｗ−Ｐｂ」と記す）。この触媒を用い
て、実施例４と同様にして触媒の活性試験を行った。触
媒の組成及び評価結果を表４に示す。 実施例７ 実施例４において、原料液（ロ）に代えて、塩化スズ
（II）二水和物４．５ｇを１ｗｔ％塩酸３０ｇに溶解し
た原料液を用いたこと以外は、実施例４と同様にして触
媒を調製した（「Ｖ−Ｗ−Ｓｎ」と記す）。この触媒を
用いて、実施例４と同様にして触媒の活性試験を行っ
た。触媒の組成及び評価結果を表４に示す。
【００２５】
【表４】
【００２６】実施例８ 直径３ｍｍの円柱状ではなくハニカム状に押出成形した
こと以外は実施例４と同様にして触媒（Ｖ−Ｗ−Ｙ）を
調製した。この触媒３０ｃｃを使用し、実施例２と同様
にして模擬排ガスの処理試験を行った。試験装置として
は、実施例１と同様の活性試験装置を使用し、ダイオキ
シン類（２，３，７，８−テトラクロロジベンゾダイオ
キシン（ＴＥＱ）換算）４８．５ｎｇ−ＴＥＱ／Ｎｍ3
及び窒素酸化物（いわゆるＮＯｘ）７５ｐｐｍを含有す
るガスを、アンモニア７５ｐｐｍを添加しつつ、温度２
００℃で触媒充填層にＳＶ３０００Ｎｍ3 ／ｍ3 ・ｈで
で通過させることにより、ガス中のダイオキシン類及び
ＮＯｘの分解を連続的に行った。処理後の排ガスの分析
は実施例４と同様にして行った。処理前後の排ガス中の
ダイオキシン類及びＮＯｘの含有量及び分解率を表５に
示す。
こと以外は実施例４と同様にして触媒（Ｖ−Ｗ−Ｙ）を
調製した。この触媒３０ｃｃを使用し、実施例２と同様
にして模擬排ガスの処理試験を行った。試験装置として
は、実施例１と同様の活性試験装置を使用し、ダイオキ
シン類（２，３，７，８−テトラクロロジベンゾダイオ
キシン（ＴＥＱ）換算）４８．５ｎｇ−ＴＥＱ／Ｎｍ3
及び窒素酸化物（いわゆるＮＯｘ）７５ｐｐｍを含有す
るガスを、アンモニア７５ｐｐｍを添加しつつ、温度２
００℃で触媒充填層にＳＶ３０００Ｎｍ3 ／ｍ3 ・ｈで
で通過させることにより、ガス中のダイオキシン類及び
ＮＯｘの分解を連続的に行った。処理後の排ガスの分析
は実施例４と同様にして行った。処理前後の排ガス中の
ダイオキシン類及びＮＯｘの含有量及び分解率を表５に
示す。
【００２７】
【表５】
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば次のような効果を得るこ
とができる。 （１）ダイオキシン及び窒素酸化物分解触媒装置の出口
では、ダイオキシン再合成温度以下であり、ダイオキシ
ンの再生成はない。 （２）集塵装置以後に触媒装置を設置したので、触媒の
被毒及び汚染がなく、触媒の圧力損失が少なく、かつ寿
命が長い。 （３）装置系統運用が簡単である。 （４）設備の建設コスト及びランニングコストが安い。
とができる。 （１）ダイオキシン及び窒素酸化物分解触媒装置の出口
では、ダイオキシン再合成温度以下であり、ダイオキシ
ンの再生成はない。 （２）集塵装置以後に触媒装置を設置したので、触媒の
被毒及び汚染がなく、触媒の圧力損失が少なく、かつ寿
命が長い。 （３）装置系統運用が簡単である。 （４）設備の建設コスト及びランニングコストが安い。
【００２９】（５）保守及び管理の労力が少ない。 （６）燃焼排ガスは中間での冷却及び加熱の必要がない
ので、熱効率（発電の場合は発電効率）が高い。 （７）低温でも活性が高い触媒を使用することにより、
脱硝及びダイオキシンの除去率が高い。 これらの利点（特徴）により、窒素酸化物が多く、ダイ
オキシンが発生する恐れがある廃棄物発電における設備
の公害を少なくするばかりでなく、熱効率を高めること
による排ガス中の地球温暖化に影響する二酸化炭素（Ｃ
Ｏ2 ）の発生低減が可能で、その効果は大きい。
ので、熱効率（発電の場合は発電効率）が高い。 （７）低温でも活性が高い触媒を使用することにより、
脱硝及びダイオキシンの除去率が高い。 これらの利点（特徴）により、窒素酸化物が多く、ダイ
オキシンが発生する恐れがある廃棄物発電における設備
の公害を少なくするばかりでなく、熱効率を高めること
による排ガス中の地球温暖化に影響する二酸化炭素（Ｃ
Ｏ2 ）の発生低減が可能で、その効果は大きい。
【図１】本発明の排ガス処理装置の一例を示す全体工程
図。
図。
【図２】図１の排ガス処理部分の要部工程図。
【図３】従来の廃棄物発電の排ガス処理の全体工程図。
【図４】従来の事業用及び自家用火力発電の排ガス処理
の全体工程図。
の全体工程図。
【図５】従来の排ガス中のダイオキシンの除去工程図。
【図６】図５で処理した場合のダイオキシン濃度を示す
グラフ。
グラフ。
１：ボイラ、２：空気予熱器、３：乾式集塵装置、４：
触媒装置、５：空気予熱器、６：煙突、７：消石灰又は
添加剤、８：アンモニア、９：減温器、１０：湿式集塵
装置、１１：排ガス加熱器、１２：脱硝装置、１３：脱
硫装置、１４：脱硫ファン、１５：コークフィルター
触媒装置、５：空気予熱器、６：煙突、７：消石灰又は
添加剤、８：アンモニア、９：減温器、１０：湿式集塵
装置、１１：排ガス加熱器、１２：脱硝装置、１３：脱
硫装置、１４：脱硫ファン、１５：コークフィルター
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 23/68 Ｂ０１Ｄ 53/36 １０２Ｂ １０２Ｄ (72)発明者 塚本 圭祐 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内 (72)発明者 大谷 浩一 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内 (72)発明者 川口 一 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内 (72)発明者 増山 鉄男 三重県四日市市東邦町１番地 三菱化学株 式会社四日市事業所内 (72)発明者 白神 研 三重県四日市市東邦町１番地 三菱化学株 式会社四日市事業所内 (72)発明者 角脇 清 三重県四日市市東邦町１番地 三菱化学株 式会社四日市事業所内 (72)発明者 清野 健一 三重県四日市市東邦町１番地 三菱化学株 式会社四日市事業所内 (72)発明者 井田 和孝 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内 (72)発明者 滝 義宏 東京都千代田区丸の内２丁目５番２号 三 菱化学株式会社内 (72)発明者 田中 勝久 東京都千代田区丸の内２丁目５番２号 三 菱化学株式会社内
Claims (9)
- 【請求項１】 廃棄物燃焼施設からの燃焼排ガスの処理
方法において、該排ガスを１８０℃〜２３０℃に減温し
て乾式集塵装置で除塵後、触媒として酸化バナジウム系
触媒を用いるダイオキシン及び窒素酸化物除去装置を通
した後、１８０℃〜２３０℃の該排ガスを更に熱交換器
を通して熱回収することを特徴とする燃焼排ガスの処理
方法。 - 【請求項２】 前記酸化バナジウム系触媒は、バナジウ
ム酸化物単独か、又はバナジウム酸化物に、モリブデ
ン、スズ、イットリウム、ホウ素、鉛からなる群から選
ばれた少なくとも一種の元素の酸化物又は金を含むこと
を特徴とする請求項１記載の燃焼排ガスの処理方法。 - 【請求項３】 前記酸化バナジウム系触媒は、次の
（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の三成分を含むことを特徴と
する請求項１記載の燃焼排ガスの処理方法。 （Ａ）バナジウム酸化物 （Ｂ）タングステン酸化物 （Ｃ）モリブデン、イットリウム、ホウ素、スズ及び鉛
からなる群から選ばれた少なくとも一種の元素の酸化物
又は金 - 【請求項４】 前記酸化バナジウム系触媒は、チタニア
に担持され、チタニアに対するバナジウム酸化物の担持
量が０．５〜５０ｗｔ％であり、また、チタニアに対す
るモリブデン、スズ、イットリウム、ホウ素、鉛からな
る群から選ばれた少なくとも一種の元素の酸化物の担持
量が０．１〜５０ｗｔ％であり、チタニアに対する金の
担持量が０．００１〜２０ｗｔ％であることを特徴とす
る請求項２記載の燃焼排ガスの処理方法。 - 【請求項５】 前記酸化バナジウム系触媒は、チタニア
に担持され、チタニアに対する（Ａ）バナジウム酸化物
の担持量が０．５〜５０ｗｔ％であり、（Ｂ）タングス
テン酸化物の担持量が０．５〜５０ｗｔ％であり、また
（Ｃ）モリブデン、イットリウム、ホウ素、スズ及び鉛
からなる群から選ばれた少なくとも一種の元素の酸化物
の担持量が０．１〜５０ｗｔ％及び金の担持量が０．０
０１〜２０ｗｔ％であることを特徴とする請求項３記載
の燃焼排ガスの処理方法。 - 【請求項６】 触媒中のバナジウム酸化物の含有量に対
しタングステン酸化物の含有量が０．１〜３０重量倍で
あることを特徴とする請求項３又は５に記載の燃焼排ガ
スの処理方法。 - 【請求項７】 前記乾式集塵装置で除塵される排ガス
は、炭酸カルシウム及び／又は消石灰を噴霧された処理
排ガスであることを特徴とする請求項１記載の燃焼排ガ
スの処理方法。 - 【請求項８】 廃棄物燃焼施設からの燃焼排ガスの処理
装置において、該排ガスを１８０℃〜２３０℃に減温す
る減温装置と、乾式集塵装置と、触媒として酸化バナジ
ウム系触媒を充填したダイオキシン及び窒素酸化物除去
装置と、１８０℃〜２３０℃の排ガスから熱回収する熱
交換器とを順次接続して設けたことを特徴とする燃焼排
ガスの処理装置。 - 【請求項９】 前記乾式集塵装置が、電気集塵機又はバ
グフィルターであることを特徴とする請求項８記載の燃
焼排ガスの処理装置。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21046396A JP3589529B2 (ja) | 1995-08-08 | 1996-07-23 | 燃焼排ガスの処理方法及び装置 |
| CA002182331A CA2182331A1 (en) | 1995-08-08 | 1996-07-30 | Method and apparatus for treating combustion exhaust gases |
| US08/690,825 US6027697A (en) | 1995-08-08 | 1996-08-01 | Method and apparatus for treating combustion exhaust gases |
| AT96112681T ATE228030T1 (de) | 1995-08-08 | 1996-08-06 | Verfahren und vorrichtung zum behandeln von verbrennungsabgasen |
| EP96112681A EP0787521B1 (en) | 1995-08-08 | 1996-08-06 | Method and apparatus for treating combustion exhaust gases |
| DE69624904T DE69624904T2 (de) | 1995-08-08 | 1996-08-06 | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Verbrennungsabgasen |
| TW085109582A TW296422B (en) | 1995-08-08 | 1996-08-07 | Method and apparatus for treating combustion exhaust gases |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22120495 | 1995-08-08 | ||
| JP7-221204 | 1995-08-08 | ||
| JP21046396A JP3589529B2 (ja) | 1995-08-08 | 1996-07-23 | 燃焼排ガスの処理方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09103646A true JPH09103646A (ja) | 1997-04-22 |
| JP3589529B2 JP3589529B2 (ja) | 2004-11-17 |
Family
ID=26518069
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21046396A Expired - Lifetime JP3589529B2 (ja) | 1995-08-08 | 1996-07-23 | 燃焼排ガスの処理方法及び装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6027697A (ja) |
| EP (1) | EP0787521B1 (ja) |
| JP (1) | JP3589529B2 (ja) |
| AT (1) | ATE228030T1 (ja) |
| CA (1) | CA2182331A1 (ja) |
| DE (1) | DE69624904T2 (ja) |
| TW (1) | TW296422B (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000016898A1 (fr) * | 1998-09-22 | 2000-03-30 | Osaka Gas Co., Ltd. | Catalyseur de decomposition des composes organiques chlores |
| KR20010018330A (ko) * | 1999-08-18 | 2001-03-05 | 정태섭 | 다이옥신 제거용 촉매 제조 |
| JP2001062292A (ja) * | 1999-06-25 | 2001-03-13 | Nippon Shokubai Co Ltd | 有機ハロゲン化合物の除去用触媒および有機ハロゲン化合物の除去方法 |
| JP2001170452A (ja) * | 1999-10-04 | 2001-06-26 | Nippon Shokubai Co Ltd | 排ガスの処理装置 |
| JP2001340764A (ja) * | 2000-06-02 | 2001-12-11 | Nippon Shokubai Co Ltd | 排ガス処理用触媒の製造方法 |
| JP2003220317A (ja) * | 2002-01-30 | 2003-08-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 燃焼排ガスの処理方法およびそのシステム |
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