JPH09107021A - 基板回転保持装置および回転式基板処理装置 - Google Patents

基板回転保持装置および回転式基板処理装置

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JPH09107021A
JPH09107021A JP26263795A JP26263795A JPH09107021A JP H09107021 A JPH09107021 A JP H09107021A JP 26263795 A JP26263795 A JP 26263795A JP 26263795 A JP26263795 A JP 26263795A JP H09107021 A JPH09107021 A JP H09107021A
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JP
Japan
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holding
rotary
holding device
outer peripheral
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Application number
JP26263795A
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English (en)
Inventor
Akihiko Morita
彰彦 森田
Joichi Nishimura
讓一 西村
Nobuyasu Hiraoka
伸康 平岡
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 常に強い保持力で基板を水平方向に保持する
ことができる基板回転保持装置およびそれを用いた回転
式基板処理装置を提供することである。 【解決手段】 回転式保持部材5は、円柱状の支持部6
およびその支持部6よりも小さな直径を有する円柱状の
保持部7からなる。支持部6は、その中心軸と同軸の回
転軸6aの周りで回動可能に回転部材1に取り付けられ
る。保持部7は、支持部6の上面部に回転軸6aに対し
て偏心して設けられる。支持部6の回動に伴って保持部
7の外周面が基板100の外周端縁に当接し、基板10
0が水平方向に保持される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板を水平に保持
しつつ回転させる基板回転保持装置およびそれを備えた
回転式基板処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】回転式塗布装置、回転式現像装置等の回
転式基板処理装置においては、半導体ウエハ等の基板を
水平に保持しながら回転させる必要がある。一般的に
は、基板の裏面を真空吸着により吸着保持する吸引式ス
ピンチャックが用いられている。しかしながら、吸引式
スピンチャックでは、基板を回転時に確実に吸着保持す
るために強力な吸引を行っているので、吸着による基板
裏面の汚染が生じる。
【0003】そこで、基板の裏面の周縁部を支持すると
ともに基板の外周端縁を保持しつつ基板に回転力を伝達
する外周端縁保持型の基板回転保持装置(機械式スピン
チャック)が提案されている。このような基板回転保持
装置では、基板の回転時に、基板の外周端縁に当接する
部材と基板との間の滑りを極力抑えることが要求され
る。
【0004】図14は従来の外周端縁保持型の基板回転
保持装置の平面図である。また、図15(a),(b)
は基板回転保持装置に用いられる従来の回転式保持部材
(チャックピン)のそれぞれ平面図および側面図であ
る。
【0005】図14に示すように、円形の回転部材1の
上面に複数の固定式保持部材2および回転式保持部材2
aが取り付けられている。各固定式保持部材2は、円柱
状の基板支持部3およびその基板支持部3よりも小さい
直径を有する円柱状の水平位置規制部4からなる。固定
式保持部材2の基板支持部3の上面部が基板100の裏
面の周縁部に当接し、水平位置規制部4の外周面が基板
100の外周端縁に当接することにより、基板100が
水平姿勢に支持されるとともに基板100の水平方向の
位置が規制される。
【0006】一方、回転式保持部材2aは、円柱状の支
持部3および4分の1の円柱状の保持部4aからなる。
図15に示すように、回転式保持部材2aは、回転軸4
0の周りで矢印x,yで示す方向に回動可能に回転部材
1(図14参照)に取り付けられている。回転式保持部
材2aが矢印xの方向に回動すると、保持部4aの外側
の端縁41が基板100の外周端縁に当接し、基板10
0が水平方向に保持される。逆に、回転式保持部材2a
が矢印yの方向に回動すると、基板100の保持が解除
される。
【0007】図16は従来の回転基板保持装置に用いら
れる回転式保持部材の他の例を示す平面図である。図1
6に示す回転式保持部材2bは、円柱状の支持部3およ
び円弧状の保持部4bとからなる。保持部4bの内側の
中央部には2つの突起42が設けられている。回転式保
持部材2bが矢印xの方向に回動すると、突起42の一
方が基板100の外周端縁に当接し、基板100が水平
方向に保持される。逆に、回転式保持部材2bが矢印y
の方向に回動すると、基板100の保持が解除される。
【0008】また、基板100のノッチ部(凹状切欠
き)が突起42の箇所に位置して突起42がノッチ部に
入り込んだときには、保持部4bの端部43が基板10
0の外周端縁に当接し、基板100が水平方向に保持さ
れる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上記のような回転式保
持部材2a,2bにおいては、基板100に当接する保
持部4a,4bの当接部分と回転軸との間の距離が長く
なるほど保持力が弱くなる。これを、図17を用いて説
明する。
【0010】図17に示すように、棒200の中央部2
01に回転力Pを加え、回転軸Oを中心として棒200
を回動させて物体を保持する場合を考える。図17
(a)は棒200の端部202で物体を保持する場合を
示し、図17(b)は棒200の中心部201で物体を
保持する場合を示す。回転力Pを2Aとすると、図17
(a)の場合には、保持力HはAとなり、図17(b)
の場合には、保持力Hは2Aとなる。このように、回転
軸Oと保持部(当接部分)との間の距離が長くなるほ
ど、保持力は弱くなる。
【0011】図15の回転式保持部材2aにおいては、
保持部4aの外周部に存在する端縁41が基板100の
外周端縁に当接するので、回転軸40と当接部分との間
の距離が長く、回転力に対する保持力が弱い。
【0012】一方、図16の回転式保持部材2bにおい
ては、回転軸の近くに存在する突起42が基板100の
外周端縁に当接するので、回転軸と当接部分との間の距
離が短く、回転力に対する保持力が強い。しかしなが
ら、基板100のノッチ部が突起42の箇所に位置した
ときには、保持部4bの端部43が基板100の外周端
縁に当接するため、回転軸と当接部分との間の距離が長
くなり、突起42が当接する場合に比べて回転力に対す
る保持力が弱くなる。
【0013】したがって、従来の回転式保持部材2a,
2bを用いた基板回転保持装置では、基板の回転時に基
板と保持部材との間に滑りが生じるおそれがある。本発
明の目的は、常に強い保持力で基板を水平方向に保持す
ることができる基板回転保持装置およびそれを用いた回
転式基板処理装置を提供することである。
【0014】
【課題を解決するための手段および発明の効果】第1の
発明に係る基板回転保持装置は、基板を水平に保持しつ
つ回転させる基板回転保持装置であって、水平姿勢で回
転駆動される回転部材と、基板の外周端縁に当接して基
板の水平位置を規制する複数の保持部材とを備え、複数
の保持部材のうち少なくとも1つの保持部材は、所定の
回転軸の周りで回動可能に回転部材に取り付けられた支
持部と、凸状の曲面を有する保持部とからなり、保持部
の曲面は、支持部の回動に伴って基板の外周端縁に当接
するように支持部に回転軸に対して偏心して設けられた
ものである。
【0015】第2の発明に係る基板回転保持装置は、第
1の発明に係る基板回転保持装置の構成において、支持
部が、基板の裏面の周縁部を支持する上面部を有し、保
持部が、支持部の上面部に回転軸に対して偏心して設け
られた円柱体からなるものである。
【0016】第3の発明に係る基板回転保持装置は、第
1または第2の発明に係る基板回転保持装置の構成にお
いて、保持部の直径が基板のノッチ部の寸法よりも大き
いものである。
【0017】第4の発明に係る基板回転保持装置は、第
1の発明に係る基板回転保持装置の構成において、支持
部が、基板の裏面の周縁部を支持する上面部を有し、保
持部の曲面が、支持部の上面部にほぼ回転軸から外周縁
にかけて形成されたものである。
【0018】第1〜第4の発明に係る基板回転保持装置
においては、上記少なくとも1つの保持部材の支持部を
回転軸の周りで一方向に回動させることにより保持部の
凸状の曲面が基板の外周端縁に当接し、支持部を回転軸
の周りで逆方向に回動させることにより凸状の曲面が基
板の外周端縁から離れる。この場合、基板の外周端縁へ
の当接部分は凸状の曲面の頂部となり、回転軸と当接部
分との間の距離が短い。したがって、回転力に対する保
持力が強くなる。その結果、基板を強い保持力で水平方
向に保持することができ、基板と保持部材との間に滑り
が生じない。
【0019】特に、第2の発明に係る基板回転保持装置
においては、支持部の上面部が基板の裏面の周縁部に当
接するとともに、円柱体からなる保持部の外周面が基板
の外周端縁に当接することにより、基板が水平姿勢で支
持されるとともに水平方向に保持される。この場合、支
持部の回転変位量に比較して基板の外周端縁へ向かう方
向への保持部の変位量が小さいので、回転力に対する保
持力がより強くなる。
【0020】また、第3の発明に係る基板回転保持装置
においては、保持部の直径が基板のノッチ部の寸法より
も大きいので、基板のノッチ部が保持部の箇所に位置し
た場合でも、保持部がノッチ部に入り込まない。したが
って、ノッチ部の位置に関わらず基板を常に同一位置で
かつ同一の保持力で保持することができる。
【0021】また、第4の発明に係る基板回転保持装置
においては、支持部の上面部が基板の裏面の周縁部に当
接するとともに、保持部の曲面が基板の外周端縁に当接
することにより、基板が水平姿勢で支持されるとともに
水平方向に保持される。この場合、基板への当接部分が
支持部の回転軸と外周縁との間に存在するので、回転軸
と当接部分との間の距離が短くなり、回転力に対する保
持力がより強くなる。
【0022】第5の発明に係る回転式基板処理装置は、
第1、第2、第3または第4の発明に係る基板回転保持
装置を備えたものである。第5の発明に係る回転式基板
処理装置においては、第1、第2、第3または第4の発
明に係る基板回転保持装置が設けられているので、基板
を強い保持力で水平方向に保持して回転させることがで
きる。したがって、基板の回転時に、基板と保持部材と
の間に滑りが生じない。
【0023】
【発明の実施の形態】図1は本発明の第1の実施例にお
ける基板回転保持装置の斜視図、図2は図1の基板回転
保持装置の平面図である。
【0024】図1および図2において、円形の回転部材
1は回転軸1aの周りで回転駆動される。回転部材1の
下方には、リング状磁石11が回転軸1aと同軸に配設
されている。回転部材1の上面には、回転軸1aと同軸
の円周に沿って複数の固定式回転保持部材2および2つ
の回転式保持部材5が取り付けられている。固定式保持
部材2の構成は、図13に示した固定式保持部材2の構
成と同様である。
【0025】図3(a),(b)は回転式保持部材5の
それぞれ平面図および側面図である。図3に示すよう
に、回転式保持部材5は、円柱状の支持部6およびその
支持部6よりも小さな直径を有する円柱状の保持部7か
らなる。支持部6は、その中心軸と同軸の回転軸6aの
周りで回動可能に回転部材1(図1および図2参照)に
取り付けられる。保持部7は、支持部6の上面部にその
回転軸6aに対して偏心して設けられている。すなわ
ち、支持部6の回転軸6aと保持部7の中心軸7aとは
所定の距離だけずれている。
【0026】図4は回転式保持部材およびその下部に取
り付けられた磁石保持部を示す斜視図である。図4に示
すように、回転式保持部材5の支持部6の下部には、回
転軸6aと同軸の回転軸体8を介して円形の磁石保持部
9が取り付けられている。磁石保持部9の中央には棒状
の永久磁石10が内蔵されている。
【0027】図5および図6は図1の基板回転保持装置
の構成および動作を説明するための図であり、(a)は
回転式保持部材およびその周辺部の部分断面図、(b)
は回転式保持部材の平面図である。
【0028】図5(a)および図6(a)に示すよう
に、回転式保持部材5の回転軸体8は回動軸受け12を
介して回転部材1に回動自在に支持されている。回動軸
受け12には、回動摩擦を抑えるために例えばベアリン
グ機構が設けられている。
【0029】基板100の処理前および処理後には、図
5(a)に示すように、リング状磁石11が回転部材1
の下方に離れて位置する。このとき、リング状磁石11
が形成する磁力線Bは、永久磁石10が設置される高さ
において、回転部材1の外側から中心部に向かう方向に
向いている。したがって、永久磁石10のN極が回転部
材1の中心部に向かう方向に吸引される。それにより、
図5(b)に示すように、回転式保持部材5は矢印Xの
方向に回動し、保持部7の外周面が基板100の外周端
縁から離れる。
【0030】基板100を処理する際には、図6(a)
に示すように、リング状磁石11が上昇して回転部材1
に接近する。したがって、永久磁石10のS極がリング
状磁石11のN極に吸引される。それにより、図6
(b)に示すように、回転式保持部材5が矢印Yの方向
に回動し、保持部7の外周面が基板100の外周端縁に
当接し、基板100が水平方向に保持される。
【0031】本実施例の回転式保持部材5においては、
支持部6の回転軸6a(図3参照)の近くに存在する保
持部7の外周面が基板100の外周端縁に当接するの
で、永久磁石10とリング状磁石11による回転力に対
する基板100の保持力が強くなる。
【0032】しかも、図7に示すように、支持部6の回
転変位量Rに対する保持部7の変位量Lが小さいので、
回転力に対して大きな保持力が得られる。その結果、基
板100が保持部7に対して滑りを生じることなく確実
に保持される。
【0033】また、図8に示すように、基板100がノ
ッチ部101を有する場合、そのノッチ部101の開口
の寸法が例えば3mmであるとすると、回転式保持部材
5の支持部6の直径を例えば16mmに設定し、保持部
7の直径を例えば10mmに設定する。それにより、保
持部7の箇所にノッチ部101が位置しても、保持部7
がノッチ部101に入り込まない。したがって、基板1
00のノッチ部101の位置に関わらず基板100をほ
ぼ同一位置で同一の保持力で保持することができる。
【0034】また、図9に示すように、基板100がオ
リエンテーションフラット部(直線状切欠き)102を
有する場合、回転式保持部材5の箇所にオリエンテーシ
ョンフラット部102が位置しても、保持部7がオリエ
ンテーションフラット部102に向かう方向に入り込ま
ず、保持部7がオリエンテーションフラット部102に
当接しない。したがって、基板100の領域103をブ
ラシで洗浄する際に、回転式保持部材5が洗浄の妨げに
なることはない。
【0035】さらに、保持部7が突起ではなく曲面で基
板100の外周端縁に当接するので、保持部7が破損す
るおそれが少ない。図10および図11は本発明の第2
の実施例における基板回転保持装置に用いられる回転式
保持部材を示す図であり、(a)は平面図、(b)は側
面図である。
【0036】図10および図11に示すように、回転式
保持部材15は、円柱状の支持部16と、曲面部17a
を有する保持部17とからなる。支持部16は、その中
心軸と同軸の回転軸16aの周りで回動可能に回転部材
に取り付けられる。保持部17は支持部16の上面部に
設けられ、曲面部17aは、支持部16の回転軸16a
から外周面にかけてほぼ中央部が凸になるように形成さ
れている。
【0037】図10(a),(b)に示すように、回転
式保持部材15が回転軸16aの周りで矢印Xの方向に
回動すると、保持部17の曲面部17aが基板100の
外周端縁から離れる。逆に、図11(a),(b)に示
すように、回転式保持部材15が回転軸16aの周りで
矢印Yの方向に回動すると、保持部17の曲面部17a
のほぼ中央部が基板100の外周端縁に当接する。それ
により、基板100が水平方向に保持される。
【0038】本実施例の回転式保持部材15において
は、回転軸16aの近くに存在する曲面部17aの頂部
が基板100の外周端縁に当接するので、強い保持力が
得られる。
【0039】図12は第1および第2の実施例の基板回
転保持装置を適用可能な基板処理装置の全体の概略斜視
図である。図12の基板処理装置は、基板100に洗浄
処理、塗布処理、現像処理、密着強化処理、加熱処理、
冷却処理等の一連の処理を行うための装置であり、正面
側に第1の基板処理領域301を有し、後方側に第2の
基板処理領域302を有し、第1の基板処理領域301
と第2の基板処理領域302との間に搬送領域303を
有する。
【0040】第1の基板処理領域301には、基板の洗
浄処理を行う回転式洗浄部(スピンスクラバー)SS、
処理液の塗布処理を行う回転式塗布部(スピンコータ)
SCおよび現像処理を行う回転式現像部(スピンデベロ
ッパー)SDが配列されている。また、第2の基板処理
領域302には、密着強化処理を行う密着強化部AH、
加熱処理を行う基板加熱部(ホットプレート)HPおよ
び冷却処理を行う基板冷却部(クーリングプレート)C
Pが配置されている。搬送領域303には、基板搬送装
置60が移動自在に設けられている。
【0041】さらに、この基板処理装置の側部側には、
基板100の搬入および搬出を行うインデクサINDが
設けられている。インデクサINDの移載ロボット61
は、カセット62から基板100を取り出して基板搬送
装置60に送り出し、逆に、一連の処理が施された基板
100を基板搬送装置60からカセット62に戻す。
【0042】基板搬送装置60は、第1の基板処理領域
301および第2の基板処理領域302の側に進退移動
可能となっており、各処理部との間で処理済みの基板1
00と未処理の基板100とを交換する。
【0043】図12の基板処理装置において、回転式洗
浄部SS、回転式塗布部SCおよび回転式現像部SDに
第1または第2の実施例の基板回転保持装置が設けられ
る。それにより、回転式洗浄部SS、回転式塗布部SC
および回転式現像部SDにおいて、滑りを生じることな
く基板100を確実に回転保持しつつ所定の処理を施す
ことが可能となる。
【0044】特に、本発明を回転式洗浄部SSに適用す
ると以下のような効果を生じる。つまり、回転式洗浄部
SSにおいて、図13に示すように、基板100が回転
式保持部材5の保持部7により矢印Yの方向に保持され
た状態で回転式保持部材5とともに矢印R1の方向に回
転しているものとする。このとき、ブラシ等の洗浄具
(図示せず)が回転中の基板100に接すると、基板1
00は回転式保持部材5に対して回転方向とは逆の方向
(矢印R2の方向)に滑ろうとするが、その滑ろうとす
る方向が保持部7により基板100が保持される方向と
なる。そのため、洗浄具が回転中の基板100に接して
いる間は回転式保持部材5による保持力が強くなる。こ
のように、本発明によると、単に保持力を一定に強くす
るのみならず、必要なときだけ保持力を強くすることが
可能となる。
【0045】なお、本発明の基板回転保持装置は、上記
実施例に限らず種々の回転式基板処理装置に適用するこ
とができる。例えば、本発明の基板回転保持装置を回転
式エッジ露光装置に適用することにより、滑りを生じる
ことなく基板を確実に回転保持しつつ基板のエッジ露光
を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例における基板回転保持装
置の概略斜視図である。
【図2】図1の基板回転保持装置の平面図である。
【図3】図1の基板回転保持装置に用いられる回転式保
持部材の平面図および側面図である。
【図4】図1の基板回転保持装置に用いられる回転式保
持部材および磁石保持部材の斜視図である。
【図5】回転式保持部材の保持部が基板の外周端縁から
離れた状態を示す部分断面図および平面図である。
【図6】回転式保持部材の保持部が基板の外周端縁に当
接した状態を示す部分断面図および平面図である。
【図7】回転式保持部材の支持部の回転変位量と保持部
の変位量との関係を示す平面図である。
【図8】回転式保持部材の保持部と基板のノッチ部との
関係を示す平面図である。
【図9】回転式保持部材と基板のオリエンテーションフ
ラット部との関係を示す平面図である。
【図10】本発明の第2の実施例における回転式保持部
材の保持部が基板の外周端縁から離れた状態を示す平面
図および側面図である。
【図11】本発明の第2の実施例における回転式保持部
材の保持部が基板の外周端縁に当接した状態を示す平面
図および側面図である。
【図12】本発明の第1および第2の実施例における基
板回転保持装置が適用される基板処理装置の全体の概略
斜視図である。
【図13】本発明を回転式洗浄部に適用した場合の効果
を説明するための図である。
【図14】従来の基板回転保持装置の平面図である。
【図15】図13の基板回転保持装置に用いられる回転
式保持部材の平面図および側面図である。
【図16】従来の回転式保持部材の他の例を示す平面図
である。
【図17】回転式保持部材の回転力と保持力との関係を
説明するための図である。
【符号の説明】
1 回転部材 2 固定式保持部材 3 基板支持部 4 水平位置規制部 5,15 回転式保持部材 6,16 支持部 7,17 保持部 7a 中心軸 6a,16a 回転軸 17a 曲面部

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板を水平に保持しつつ回転させる基板
    回転保持装置であって、 水平姿勢で回転駆動される回転部材と、 前記基板の外周端縁に当接して前記基板の水平位置を規
    制する複数の保持部材とを備え、 前記複数の保持部材のうち少なくとも1つの保持部材
    は、所定の回転軸の周りで回動可能に前記回転部材に取
    り付けられた支持部と、凸状の曲面を有する保持部とか
    らなり、 前記保持部の前記曲面は、前記支持部の回動に伴って前
    記基板の外周端縁に当接するように前記支持部に前記回
    転軸に対して偏心して設けられたことを特徴とする基板
    回転保持装置。
  2. 【請求項2】 前記支持部は、前記基板の裏面の周縁部
    を支持する上面部を有し、 前記保持部は、前記支持部の前記上面部に前記回転軸に
    対して偏心して設けられた円柱体からなることを特徴と
    する請求項1記載の基板回転保持装置。
  3. 【請求項3】 前記保持部の直径は前記基板のノッチ部
    の寸法よりも大きいことを特徴とする請求項2記載の基
    板回転保持装置。
  4. 【請求項4】 前記支持部は、前記基板の裏面の周縁部
    を支持する上面部を有し、 前記保持部の前記曲面は、前記支持部の前記上面部にほ
    ぼ前記回転軸から外周縁にかけて形成されたことを特徴
    とする請求項1記載の基板回転保持装置。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載の基板回
    転保持装置を備えたことを特徴とする回転式基板処理装
    置。
JP26263795A 1995-10-11 1995-10-11 基板回転保持装置および回転式基板処理装置 Pending JPH09107021A (ja)

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WO2000005761A1 (en) * 1998-07-24 2000-02-03 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Wafer holding hand
KR20030055847A (ko) * 2001-12-27 2003-07-04 삼성전자주식회사 웨이퍼 홀더

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US6216883B1 (en) 1998-07-24 2001-04-17 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Wafer holding hand
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