JPH1140655A - 基板回転保持装置および回転式基板処理装置 - Google Patents

基板回転保持装置および回転式基板処理装置

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JPH1140655A
JPH1140655A JP9193703A JP19370397A JPH1140655A JP H1140655 A JPH1140655 A JP H1140655A JP 9193703 A JP9193703 A JP 9193703A JP 19370397 A JP19370397 A JP 19370397A JP H1140655 A JPH1140655 A JP H1140655A
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JP
Japan
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substrate
holding
rotation
outer peripheral
rotary
Prior art date
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Application number
JP9193703A
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English (en)
Inventor
Mitsuharu Hashimoto
光治 橋本
Yasushi Nakamura
靖 中村
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 上下振動に対して高い保持力を有する基板回
転保持装置およびそれを備えた回転式基板処理装置を提
供することである。 【解決手段】 回転部材2の上面に回転軸Aと同軸の円
周に沿って複数の回転式保持ピン5が取り付けられてい
る。回転式保持ピン5は、円柱状の支持部6およびその
支持部6よりも小さな直径を有する逆円錐台形状の保持
部7からなる。支持部6は、回転部材2に回動可能に取
り付けられ、保持部7は、支持部6の上面に回動軸に対
して偏心して設けられる。支持部6の回動に伴って保持
部7の外周面が基板100の外周端面に当接することに
より、基板100を水平方向に保持する力および基板1
00を下方に押さえる力が作用する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板を水平に保持
しつつ回転させる基板回転保持装置およびそれを備えた
回転式基板処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】回転式塗布装置および回転式現像装置等
の回転式基板処理装置においては、半導体ウエハ等の基
板を水平に保持しながら回転させる必要がある。一般的
には、基板の裏面を真空吸着により吸引保持する吸引式
スピンチャックが用いられている。しかしながら、吸引
式スピンチャクでは、基板を確実に吸引保持するために
強力な吸引を行っているので、基板の裏面に吸着跡が残
る。基板裏面の吸着跡は、露光処理時のフォーカス異常
を引き起こすという問題がある。
【0003】そこで、基板の裏面を支持するとともに基
板の外周端面を保持しつつ基板に回転力を伝達するメカ
式スピンチャックが提案されている。このようなメカ式
スピンチャックに用いる保持ピンとして、回転式保持ピ
ンが提案されている。
【0004】図10(a),(b),(c)はメカ式ス
ピンチャックに用いられる回転式保持ピンの一例を示す
平面図、側面図および斜視図である。
【0005】図10に示すように、回転式保持ピン30
は、円柱状の支持部31および円柱状の保持部32から
なる。保持部32は、支持部31上に偏心して設けられ
ている。この回転式保持ピン30は、鉛直方向の軸の周
りで矢印x,yで示す方向に回動可能に回転部材(回転
ステージ)上に取り付けられている。
【0006】回転式保持ピン30が矢印xの方向に回動
すると、保持部32の外周面が基板100の外周端面に
当接し、基板100が水平方向に保持される。逆に、回
転式保持ピン30が矢印yの方向に回動すると、基板1
00の保持が解除される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】図10に示した回転式
保持ピン30では、上下振動に対する保持力が低いた
め、基板の回転時に、回転速度によっては異音を発生し
たり、基板が上下に振動することがある。
【0008】本発明の目的は、上下振動に対して高い保
持力を有する基板回転保持装置およびそれを備えた回転
式基板処理装置を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段および発明の効果】第1の
発明に係る基板回転保持装置は、基板を水平に保持しつ
つ回転させる基板回転保持装置であって、水平姿勢で回
転駆動される回転部材と、回転部材上に載置される基板
の外周部に沿うように配置され、基板の外周端面に当接
する基板保持位置と基板の外周端面から離間する基板開
放位置との間で移動可能な複数の保持部材とを備え、複
数の保持部材の各々が、上方に向かって漸次径大となる
テーパ状の保持部を有するものである。
【0010】本発明に係る基板回転保持装置において
は、各保持部材が基板保持位置に移動すると、上方に向
かって漸次径大となるテーパ状の保持部の外周面が基板
の外周端面に当接する。それにより、基板を水平方向に
保持する力が作用するとともに、基板を下方に押さえる
力が作用する。したがって、上下振動に対する保持力が
高くなり、異音の発生や基板の上下振動が防止される。
【0011】第2の発明に係る基板回転保持装置は、基
板を水平に保持しつつ回転させる基板回転保持装置であ
って、水平姿勢で回転駆動される回転部材と、回転部材
に鉛直方向の軸の周りで回動可能に取り付けられ、回動
に伴って基板の外周端面に当接する複数の保持部材とを
備え、複数の保持部材の各々が、上方に向かって漸次径
大となるテーパ状の保持部を有するものである。
【0012】本発明に係る基板回転保持装置において
は、各保持部材が鉛直方向の軸の周りで一方向に回動す
ることにより、上方に向かって漸次径大となるテーパ状
の保持部の外周面が基板の外周端面に当接する。それに
より、基板を水平方向に保持する力が作用するととも
に、基板を下方に押さえる力が作用する。したがって、
上下振動に対する保持力が高くなり、異音の発生や基板
の上下振動が防止される。
【0013】また、各保持部材が鉛直方向の軸の周りで
逆方向に回動して保持部の外周面が基板の外周端面から
離れると、基板を上方に搬出することが可能となる。
【0014】第3の発明に係る基板回転保持装置は、第
2の発明に係る基板回転保持装置の構成において、複数
の保持部材の各々が、鉛直方向の軸の周りで回動可能に
回転部材に取り付けられた支持部をさらに含み、各保持
部は、支持部の回動に伴って基板の外周端面に当接する
ように支持部の回動軸に対して偏心して設けられたもの
である。
【0015】この場合、各保持部材の支持部が鉛直方向
の軸の周りで一方向に回動することにより、上方に向か
って漸次径大となるテーパ状の保持部の外周面が基板の
外周端面に当接し、各保持部材の支持部が鉛直方向の軸
の周りで逆方向に回動することにより、保持部の外周面
が基板の外周端面から離れる。
【0016】第4の発明に係る基板回転保持装置は、基
板を水平に保持しつつ回転させる基板回転保持装置であ
って、水平姿勢で回転駆動される回転部材と、回転部材
に鉛直方向の軸の周りで回動可能に取り付けられ、回動
に伴って基板の外周端面に当接する複数の保持部材とを
備え、複数の保持部材の各々は、鉛直方向に延びる一方
の側面と上方に向かって外側に傾斜して延びる他方の側
面とを有する保持部を含むものである。
【0017】本発明に係る基板回転保持装置において
は、各保持部材が鉛直方向の軸の周りで一方向に回動す
ることにより、保持部の上方に向かって外側に傾斜して
延びる側面が基板の外周端面に当接する。それにより、
基板を水平方向に保持する力が作用するとともに、基板
を下方に押さえる力が作用する。したがって、上下振動
に対する保持力が高くなり、異音の発生や基板の上下振
動が防止される。
【0018】また、各保持部材が逆方向に回動して保持
部の鉛直方向に延びる側面が基板の外周端面に対向する
と、基板を上方に搬出することが可能となる。
【0019】第5の発明に係る基板回転保持装置は、第
4の発明に係る基板回転保持装置の構成において、複数
の保持部材の各々が、鉛直方向の軸の周りで回動可能に
回転部材に取り付けられた支持部をさらに含み、各保持
部は、支持部の回動に伴って上方に向かって傾斜して延
びる他方の側面で基板の外周端面に当接するように支持
部に設けられたものである。
【0020】この場合、各保持部材の支持部が鉛直方向
の軸の周りで一方向に回動することにより、保持部の上
方に向かって外側に傾斜して延びる側面が基板の外周端
面に当接し、各保持部材の支持部が鉛直方向の軸の周り
で逆方向に回動することにより、保持部の鉛直方向に延
びる側面が基板の外周端面に対向する。
【0021】第6の発明に係る回転式基板処理装置は、
第1〜第5のいずれかの発明に係る基板回転保持装置
と、基板回転保持装置の回転部材を回転駆動する駆動手
段と、基板回転保持装置に保持される基板に所定の処理
を行う処理手段とを備えたものである。
【0022】本発明に係る回転式基板処理装置において
は、第1〜第5のいずれかの発明に係る基板回転保持装
置が設けられているので、上下振動に対して高い保持力
が得られる。したがって、基板の回転時に異音の発生や
基板の上下振動が発生せず、基板に良好な状態で処理を
行うことが可能となる。
【0023】
【発明の実施の形態】図1は本発明の第1の実施例にお
ける基板回転保持装置を用いた回転式基板処理装置の概
略断面図、図2は図1の基板回転保持装置の概略平面図
である。
【0024】図1および図2において、基板回転保持装
置1は、円形板状の回転部材2を備える。回転部材2
は、モータ3のシャフト4の先端部に水平に固定され、
鉛直方向の回転軸Aの周りで回転駆動される。回転部材
2の上面には回転軸Aと同軸の円周に沿って複数の回転
式保持ピン5が取り付けられている。
【0025】回転式保持ピン5は、円柱状の支持部6、
およびその支持部6よりも小さな直径を有する逆円錐台
形状の保持部7からなる。図2に示すように、支持部6
は、その中心軸と同軸の回動軸6aの周りで回動可能に
回転部材2に取り付けられている。保持部7は、支持部
6の上面に回動軸6aに対して偏心して設けられてい
る。支持部6の回動により保持部7の外周面が基板10
0の外周端面に当接する。
【0026】図1に示すように、回転部材2の下方に
は、リング状磁石9が回転軸Aと同軸に上下動自在に配
設されている。また、基板回転保持装置1の周囲を取り
囲むようにカップ50が上下動自在に配設されている。
回転部材1の上方には、現像液、レジスト液等の処理液
を吐出する処理液吐出ノズル20が上下方向および水平
方向に移動可能に設けられている。
【0027】図3は回転式保持ピンおよびその下部に取
り付けられた磁石保持部を示す斜視図である。図3に示
すように、回転式保持ピン5の支持部6の下部には、回
動軸6aと同軸の回転軸体10を介して円形の磁石保持
部11が取り付けられている。磁石保持部11の中央部
には棒状の永久磁石12が内蔵されている。
【0028】本実施例では、回転式保持ピン5が保持部
材に相当し、モータ3が駆動手段に相当し、処理液吐出
ノズル20が処理手段に相当する。
【0029】図4および図5は図1および図2の基板回
転保持装置1の構成および動作を説明するための図であ
り、(a)は回転式保持ピンおよびその周辺部の部分断
面図、(b)は回転式保持ピンの平面図である。図5
(c)は回転式保持ピンにより基板に作用する力を示す
図である。
【0030】図4(a)および図5(a)に示すよう
に、回転式保持ピン5の回転軸体10は回動軸受け13
を介して回転部材2に回動自在に支持されている。回動
軸受け13には、回動摩擦を抑えるために例えばベアリ
ング機構が設けられている。
【0031】基板100の処理前および処理後には、図
4(a)に示すように、リング状磁石9が回転部材2の
下方に離れて位置する。このとき、リング状磁石9が形
成する磁力線Bは、永久磁石12が配置される高さにお
いて、回転部材2の外側から中心部に向かう方向に向い
ている。したがって、永久磁石12のN極が回転部材2
の中心部に向かう方向に吸引される。それにより、図4
(b)に示すように、回転式保持ピン5は、矢印Xの方
向に回動し、保持部7の外周面が基板100の外周端面
から離れる。
【0032】基板100を処理する際には、図5(a)
に示すように、リング状磁石9が上昇して回転部材2に
接近する。したがって、永久磁石12のS極がリング状
磁石9のN極に吸引される。それにより、図5(b)に
示すように、回転式保持ピン5が矢印Yの方向に回動
し、保持部7の外周面が基板100の外周端面に当接す
る。この場合、保持部7が逆円錐台形状を有するので、
図5(c)に示すように、基板100を水平方向に保持
する力f1 が作用するとともに、基板100を下方に押
える力f2 が作用し、それらの合力f3 が基板100に
作用する。
【0033】このように、本実施例においては、回転式
保持ピン5の逆円錐台形状を有する保持部7により基板
100が水平方向に保持されるとともに、下方に押さえ
られるので、上下振動に対する保持力が高くなる。その
結果、基板100の回転時に、異音の発生や基板100
の上下振動が防止される。
【0034】図6(a),(b)は本発明の第2の実施
例における基板回転保持装置に用いられる回転式保持ピ
ンの平面図および正面図である。また、図7は図6の回
転式保持ピンおよびその下部に取り付けられた磁石保持
部を示す斜視図である。
【0035】図6および図7に示すように、回転式保持
ピン15は、円柱状の支持部16、およびその支持部1
6よりも小さな径を有する保持部17からなる。第1の
実施例と同様に、支持部16は、その中心軸と同軸の回
動軸6aの周りで回動可能に図1および図2の回転部材
2に取り付けられている。
【0036】保持部17は、鉛直方向に延びる一方の側
面17aおよび上方に向かって外側に傾斜して延びる他
方の側面17bを有する。保持部17の底面は円形とな
っており、上面は楕円形となっている。保持部17は、
支持部16の上面に回動軸6aとほぼ同軸に設けられて
いる。支持部16の回動により保持部17の側面17b
が基板100の外周端面に当接する。
【0037】図7に示すように、第1の実施例と同様
に、回転式保持ピン15の支持部16の下部には、回動
軸6aと同軸の回転軸体10を介して円形の磁石保持部
11が取り付けられている。磁石保持部11の中央部に
は棒状の永久磁石12が内蔵されている。本実施例で
は、回転式保持ピン15が保持部材に相当する。
【0038】図8および図9は図6および図7の回転式
保持ピンを用いた基板回転保持装置の構成および動作を
説明するための図であり、(a)は回転式保持ピンおよ
びその周辺部の部分断面図、(b)は回転式保持ピンの
平面図である。
【0039】図8(a)および図9(a)に示すよう
に、回転式保持ピン15の回転軸体10は回動軸受け1
3を介して回転部材2に回動自在に支持されている。回
動軸受け13には、回動摩擦を押さえるために例えばベ
アリング機構が設けられている。
【0040】基板100の処理前および処理後には、図
8(a)に示すように、リング状磁石9が回転部材2の
下方に離れて位置する。このとき、リング状磁石9が形
成する磁力線Bは、永久磁石12が配置される高さにお
いて、回転部材2の外側から中心部に向かう方向に向い
ている。したがって、永久磁石12のN極が回転部材2
の中心部に向かう方向に吸引される。それにより、図8
(b)に示すように、回転式保持ピン15は、矢印Xの
方向に回動し、保持部17の鉛直方向に延びる側面17
(a)が基板100の外周端面に対向する。これによ
り、基板100を上方に持ち上げることができ、逆に、
基板100を複数の回転式保持ピン15の保持部17間
に載置することができる。
【0041】基板100を処理する際には、図9(a)
に示すように、リング状磁石9が上昇して回転部材2に
接近する。したがって、永久磁石12のS極がリング状
磁石12のN極に吸引される。それにより、図9(b)
に示すように、回転式保持ピン15が矢印Yの方向に回
動し、保持部17の上方に向かって外側に傾斜する側面
17bが基板100の外周端面に当接する。その結果、
基板100を水平方向に保持する力が作用するととも
に、基板100を下方に押さえる力が作用する。
【0042】このように、複数の回転式保持ピン15の
保持部17の傾斜した側面17bにより基板100が水
平方向に保持されるとともに下方に押さえられるので、
上下振動に対して高い保持力が得られる。その結果、基
板100の回転時に、異音の発生や基板100の上下振
動が防止される。
【0043】上記実施例では、回転部材2上に取り付け
られる回転式保持ピン5,15のすべてが図1〜図5に
示した保持部7または図6〜図9に示した保持部17を
有する場合について説明したが、回転部材2に取り付け
られる回転式保持ピンのいずれかが図1〜図5の保持部
7または図6〜図9の保持部17を有してもよい。
【0044】上記第1および第2の実施例の基板回転保
持装置1は、基板に現像処理を行う回転式現像装置のみ
ならず、基板にレジスト液等の塗布液の塗布処理を行う
回転式塗布装置、基板の表面を洗浄する回転式基板洗浄
装置等の種々の回転式基板処理装置に適用することがで
きる。
【0045】また、本発明の基板回転保持装置は、半導
体ウエハに限らず、液晶表示装置用ガラス基板、フォト
マスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板等の種々
の基板を処理する基板処理装置に適用することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例における基板回転保持装
置を用いた回転式基板処理装置の概略断面図である。
【図2】図1の基板回転保持装置の概略平面図である。
【図3】図1の基板回転保持装置に用いられる回転式保
持ピンおよび磁石保持部の斜視図である。
【図4】第1の実施例における回転式保持ピンの保持部
が基板の外周端面から離れた状態を示す部分断面図およ
び平面図である。
【図5】第1の実施例における回転式保持ピンの保持部
が基板の外周端面に当接した状態を示す部分断面図およ
び平面図ならびに回転式保持ピンにより基板に作用する
力を示す図である。
【図6】本発明の第2の実施例における基板回転保持装
置に用いられる回転式保持ピンの平面図および正面図で
ある。
【図7】第2の実施例における回転式保持ピンおよび磁
石保持部の斜視図である。
【図8】第2の実施例における回転式保持ピンの保持部
が基板の外周端面から離れた状態を示す部分断面図およ
び平面図である。
【図9】第2の実施例における回転式保持ピンの保持部
が基板の外周端面に当接した状態を示す部分断面図およ
び平面図である。
【図10】従来の基板回転保持装置に用いられる回転式
保持ピンの平面図、正面図および斜視図である。
【符号の説明】
1 基板回転保持装置 2 回転部材 5,15 回転式保持ピン 6,16 支持部 7,17 保持部 17a,17b 側面 A 回転軸 6a 回動軸

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板を水平に保持しつつ回転させる基板
    回転保持装置であって、 水平姿勢で回転駆動される回転部材と、 前記回転部材上に載置される前記基板の外周部に沿うよ
    うに配置され、前記基板の外周端面に当接する基板保持
    位置と前記基板の外周端面から離間する基板開放位置と
    の間で移動可能な複数の保持部材とを備え、 前記複数の保持部材の各々は、上方に向かって漸次径大
    となるテーパ状の保持部を有することを特徴とする基板
    回転保持装置。
  2. 【請求項2】 基板を水平に保持しつつ回転させる基板
    回転保持装置であって、 水平姿勢で回転駆動される回転部材と、 前記回転部材に鉛直方向の軸の周りで回動可能に取り付
    けられ、回動に伴って前記基板の外周端面に当接する複
    数の保持部材とを備え、 前記複数の保持部材の各々は、上方に向かって漸次径大
    となるテーパ状の逆円錐台形状の保持部を有することを
    特徴とする基板回転保持装置。
  3. 【請求項3】 前記複数の保持部材の各々は、鉛直方向
    の軸の周りで回動可能に前記回転部材に取り付けられた
    支持部をさらに含み、 前記各保持部は、前記支持部の回動に伴って前記基板の
    外周端面に当接するように前記支持部の回動軸に対して
    偏心して設けられたことを特徴とする請求項2記載の基
    板回転保持装置。
  4. 【請求項4】 基板を水平に保持しつつ回転させる基板
    回転保持装置であって、 水平姿勢で回転駆動させる回転部材と、 前記回転部材に鉛直方向の軸の周りで回動可能に取り付
    けられ、回動に伴って前記基板の外周端面に当接する複
    数の保持部材とを備え、 前記複数の保持部材の各々は、鉛直方向に延びる一方の
    側面と上方に向かって外側に傾斜して延びる他方の側面
    とを有する保持部を含むことを特徴とする基板回転保持
    装置。
  5. 【請求項5】 前記複数の保持部材の各々は、鉛直方向
    の軸の周りで回動可能に前記回転部材に取り付けられた
    支持部をさらに含み、 前記各保持部は、前記支持部の回動に伴って前記上方に
    向かって外側に傾斜して延びる他方の側面で前記基板の
    外周端面に当接するように前記支持部に設けられたこと
    を特徴とする請求項4記載の基板回転保持装置。
  6. 【請求項6】 請求項1〜5のいずれかに記載の基板回
    転保持装置と、 前記基板回転保持装置の前記回転部材を回転駆動する駆
    動手段と、 前記基板回転保持装置に保持される基板に所定の処理を
    行う処理手段とを備えたことを特徴とする回転式基板処
    理装置。
JP9193703A 1997-07-18 1997-07-18 基板回転保持装置および回転式基板処理装置 Pending JPH1140655A (ja)

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