JPH1092912A - 基板回転保持装置および回転式基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の中心が回転中心と一致した状態で回転
させることができ、かつパーティクルを発生することな
く基板を円滑に取り出すことが可能な基板回転保持装置
および回転式基板処理装置を提供する。 【解決手段】 回転ステージ２には基板１００の外周縁
に沿って複数の回動保持ピン７ａと複数のストッパー付
き回動保持ピン７ｂとが対向して配置されている。回動
保持ピン７ａは軸受け８により回転ステージ２に対して
回動可能に取り付けられ、ストッパ付き回動保持ピン７
ｂは、ストッパー付き軸受け２８を介して回転ステージ
２に回動可能に取り付けられている。基板１００の保持
時には、環状磁石１１からの磁力により回動保持ピン７
ａのピン部材が基板１００の外周端面を押圧するととも
に、ロックピンにより回動を停止したストッパ付き回動
保持ピン７ｂが基板１００をセンタリング位置に停止さ
せる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板を水平に保持
しつつ回転させる基板回転保持装置およびそれを備えた
回転式基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】回転式塗布装置、回転式現像装置等の回
転式基板処理装置においては、半導体ウエハ等の基板を
水平に保持しながら回転させるために基板回転保持装置
を備えている。基板回転保持装置としては、基板の裏面
を真空吸着により吸引保持する吸引式スピンチャックが
一般的に用いられている。ところが、吸引式スピンチャ
ックでは、基板を確実に吸着保持するために強力な吸引
を行っているので、基板の裏面に吸着跡が残る。基板の
裏面の吸着跡は、露光処理時のフォーカス異常を引き起
こす問題がある。また、基板の裏面洗浄を行う場合、基
板の裏面におけるスピンチャックの吸着部分が十分に洗
浄しきれず、基板の裏面がパーティクルで汚染される。
基板の裏面に付着したパーティクルは、後工程において
他の基板の表面等を汚染するといった問題を引き起こ
す。

【０００３】そこで、基板の裏面を支持するとともに基
板の外周端面を保持しつつ基板に回転力を伝達するメカ
式スピンチャックが提案されている。メカ式スピンチャ
ックは、水平姿勢で回転駆動される回転ステージ上に、
基板の裏面を垂直に支持する複数の支持ピンと、基板の
外周端面に当接して基板の水平位置を規制しかつ基板に
回転力を伝達する複数の保持ピンとが固定されてなる。

【０００４】各保持ピンと基板の外周端面との間には、
基板の搬入および搬出を容易にするために僅かな隙間が
設けられている。そして、このメカ式スピンチャックが
鉛直方向の軸の周りで回転駆動されると、複数の保持ピ
ンのいくつかが基板の外周端面に圧接され、基板の中心
が回転中心からやや偏心した状態で基板がメカ式スピン
チャックとともに回転する。

【０００５】しかしながら、このメカ式スピンチャック
では、基板の中心が回転中心からやや偏心した状態で基
板が回転するので、負荷の不平衡による振動が発生し、
その振動が他の基板処理ユニットに影響を与える可能性
がある。また、複数の保持ピンのうちのいくつかが基板
の外周端面に接しているため、基板の取り出し時に基板
の端面と保持ピンとが擦れてパーティクルが発生し易
い。さらに、基板の回転によって基板の端面が保持ピン
に強く喰い込んだ場合には、基板の搬送不良や基板の破
損が発生するおそれがある。

【０００６】さらに、このメカ式スピンチャックを回転
式現像装置に用いた場合には、基板上に液盛りされた現
像液が、基板の外周端面に当接している保持ピンを伝っ
てこぼれ落ちやすい。これにより、基板上の現像液にむ
らが生じ、現像処理が不均一になる。また、こぼれ落ち
た現像液を補うために現像液を追加する必要が生じ、現
像液の消費量が増加することになる。

【０００７】そこで、上記の複数の保持ピンの一部を基
板の外周端面に対して離接可能な可動ピンを用いて構成
したメカ式スピンチャックがさらに提案されている。こ
のメカ式スピンチャックでは、基板の中心が回転中心に
一致するように外周端面に当接して水平方向の基板の位
置を規定する複数の固定ピンが基板の外周に沿って配置
され、さらに基板の外周端面に当接した位置と離間した
位置とを移動可能に形成されかつ所定の押圧力をもって
基板の外周端面に当接する可動ピンが基板の外周に沿っ
て配置されている。このメカ式スピンチャックでは、固
定ピンによって基板の中心が回転中心と一致するように
規制されるため、基板の偏心による上記のような問題は
生じない。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このメ
カ式スピンチャックでは、固定ピンに基板外周が接触し
ないように基板をスピンチャックに載置しなければなら
ず、そのために機構上の工夫が必要となる。また、基板
の取り出し時には固定された保持ピンと基板の端面との
摺動が生じ、パーティクルが発生するおそれがある。

【０００９】さらに、回転式現像装置に用いた場合に
は、先のメカ式スピンチャックと同様に、基板上に現像
液を液盛りした場合、基板の外周端面に当接している保
持ピンを伝って現像液がこぼれ落ち、現像むらの要因と
なったり、現像液の消費量の増加原因となる。

【００１０】本発明の目的は、基板の中心を回転中心と
一致させた状態で基板を回転させることができ、かつパ
ーティクルを発生することなく基板の取り出しを円滑に
行うことができる基板回転保持装置およびそれを備えた
回転式基板処理装置を提供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る基板回転保持装置は、基板を水平に保持しつ
つ回転させる基板回転保持装置であって、基板の下面を
支持し、水平姿勢で回転駆動される回転部材と、回転部
材の回転中心から等距離の位置に分散配置され、基板の
外周端面に当接して基板を水平方向に保持する基板保持
位置と基板の外周端面から離間する基板解放位置との間
で移動可能な複数の第１保持部材と、回転部材の回転中
心から等距離の位置に分散配置され、基板の中心が回転
部材の回転中心に一致する位置において基板の外周端面
に当接した状態で停止して基板を水平に保持する基板保
持位置と基板の外周端面から離間する基板解放位置との
間で移動可能な複数の第２保持部材と、複数の第１保持
部材および複数の第２保持部材を基板保持位置と基板解
放位置との間で移動させる移動手段とを備えたものであ
る。

【００１２】第２の発明に係る基板回転保持装置は、第
１の発明に係る基板回転保持装置の構成において、複数
の第１保持部材が基板の一方の外周半円に沿って配置さ
れ、複数の第２保持部材が他方の外周半円に沿って配置
されているものである。

【００１３】第３の発明に係る基板回転保持装置は、第
１または第２の発明に係る基板回転保持装置の構成にお
いて、複数の第１保持部材および複数の第２保持部材の
各々は、鉛直方向の回転軸の周りで回動可能に回転部材
に取り付けられた支持部と、支持部の回動に伴って基板
の外周端面に当接するように支持部の回転軸に対して偏
心して設けられた保持部とを含み、複数の第２保持部材
は、基板の中心が回転部材の回転中心に一致する位置に
おいて保持部が基板の外周端面に当接した状態で停止す
るように支持部の回動を停止させる停止部材をさらに含
むものである。

【００１４】第４の発明に係る基板回転保持装置は、第
３の発明に係る基板回転保持装置の構成において、移動
手段が、複数の第１保持部材の各々の支持部に取り付け
られた第１磁石部材と、複数の第２保持部材の各々の支
持部に取り付けられた第２磁石部材と、第１磁石部材お
よび第２磁石部材に対して近接および離間して複数の第
１保持部材および第２保持部材を駆動する第３磁石部材
とを有しており、第２磁石部材の磁力は第１磁石部材の
磁力よりも大きく設定されているものである。

【００１５】第５の発明に係る基板回転保持装置は、第
１〜第４のいずれかの発明に記載の基板回転保持装置を
備えたものである。第１〜第４の発明に係る基板回転保
持装置および第５の発明に係る回転式基板処理装置にお
いては、基板を水平方向に保持する複数の第１保持部材
および第２保持部材を基板の外周端面から離間する基板
解放位置に移動可能に構成したことにより、基板の取り
出し時に基板解放位置に移動させることによって基板の
端面と第１および第２保持部材との摺動を防止すること
ができ、これによってパーティクルの発生を防止するこ
とができる。しかも、この基板回転保持装置を回転式現
像装置に用いた場合においては、基板上に液盛り現像を
行った場合でも、基板上の現像液が第１および第２保持
部材を伝ってこぼれ落ちることを防止することができ
る。

【００１６】さらに、基板の中心が回転部材の回転中心
に一致する位置に複数の第２保持部材が停止しうるよう
に構成したことにより、基板が偏心した位置に停止する
ことなく基板の中心と回転部材の回転中心とが一致する
位置に基板を移動して保持することができる。これによ
り、基板の偏心に起因する振動を生じさせることなく基
板を回転させることができる。

【００１７】特に、第２の発明に係る基板回転保持装置
においては、複数の第１保持部材と複数の第２保持部材
とを対向して配置したことにより、基板の中心が回転部
材の回転中心に一致する位置に停止した第２保持部材に
対して第１保持部材が基板を水平方向に押圧することに
より基板の中心と回転部材の回転中心とが一致するよう
に基板を保持することができる。

【００１８】第３の発明に係る基板回転保持装置におい
ては、第２保持部材の停止部材が所定の位置に第２保持
部材の回動を停止させ、この位置において基板の中心が
回転部材の回転中心に一致するように基板を水平方向に
保持する。これにより、基板を正規の位置に保持して回
転させることができる。

【００１９】特に、第４の発明に係る基板回転保持装置
においては、第１保持部材および第２保持部材がそれぞ
れ第３磁石部材からの磁力によって駆動される。このた
め、機械的な摺動部分が形成されることなく第１および
第２保持部材が駆動されることにより、パーティクルの
発生が防止される。しかも、磁力を用いて駆動すること
により、回転部材とともに回転する第１および第２保持
部材に対しても所定の駆動力を与えることができる。ま
た、第２磁石部材の磁力を第１磁石部材の磁力よりも大
きく設定することにより、基板を所定の位置に停止させ
る第２保持部材が第１保持部材からの押圧力を受けて移
動することが防止され、これにより基板を正規の位置に
保持することができる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について説
明する。ここでは、本発明の基板回転保持装置を備えた
回転式基板処理装置として、回転式現像装置を例に説明
する。図１は、本発明の一実施例による回転式現像装置
の断面図である。また、図２は図１の回転式現像装置の
主要部の平面図である。

【００２１】図１において、回転式現像装置は、基板１
００を水平に保持する回転保持部１を備える。回転保持
部１はモータ３のシャフト４の先端に固定され、モータ
３の回転により基板１００を保持して鉛直方向の軸の回
りで回転駆動される。回転保持部１の上方には、現像液
を吐出する現像ノズル１７が上下方向および水平方向に
移動可能に設けられている。この現像ノズル１７は、現
像処理前および現像処理後に基板１００の上方から外れ
た位置に待機し、現像処理時に基板１００の中心部の上
方に移動する。また、回転保持部１の周囲には、カップ
１６が上下動自在に配設されている。

【００２２】モータ３のシャフト４は中空体により構成
され、その内部に裏面洗浄用のバックリンスノズル１５
が挿入されている。このバックリンス１５は、基板１０
０の裏面中央部に洗浄液を吐出し、基板１００の裏面の
汚染物を洗浄する。

【００２３】上記の回転式現像装置において、回転保持
部１および環状磁石１１を含む磁石支持部材１２が基板
回転保持装置を構成する。回転保持部１は円形板状の回
転ステージ２を備えている。回転ステージ２は、モータ
３のシャフト４の先端部に水平に固定され、鉛直方向の
軸の回りで回転駆動される。回転ステージ２の上面に
は、環状支持部５が固定されており、この環状支持部５
の上面に基板１００の裏面を支持する複数の基板支持ピ
ン６が設けられている。

【００２４】また、回転ステージ２の周縁部には環状壁
部１０が設けられている。さらに、回転ステージ２には
昇降ピン１４を貫通させる貫通孔１３が形成されてい
る。昇降ピン１４はこの貫通孔１３を通り昇降して基板
１００を上下移動させる。

【００２５】回転保持部１の下方には環状磁石１１が配
設されている。この環状磁石１１は、駆動装置（図示省
略）により上下動自在に設けられた磁石支持部材１２に
固定されている。

【００２６】回転ステージ２には、基板１００の水平位
置を規制する複数の回動保持ピン７ａおよびストッパ付
き回動保持ピン７ｂがそれぞれ軸受け８およびストッパ
付き軸受け２８を介して回転ステージ２に対して回動可
能に取り付けられている。図２に示すように、複数の回
動保持ピン７ａは基板１００の一方の外周端面側（図中
左側）に配置され、複数のストッパ付き回動保持ピン７
ｂは基板１００の他方の外周端面側（図中右側）に回動
保持ピン７ａに対向して配置されている。しかも、複数
の回動保持ピン７ａおよびストッパ付き回動保持ピン７
ｂは、その回動中心が回転ステージ２の回転中心Ｐから
等距離に分散して配置されている。

【００２７】図３（ａ）は回動保持ピン７ａの斜視図で
ある。図３（ａ）に示すように、回動保持ピン７ａは、
円柱状の支持部２１、円柱状（棒状）のピン部材（保持
部）２２、連結シャフト２３および磁石収納部２４から
なる。ピン部材２２は、支持部２１の上面に支持部２１
の中心に対して偏心して設けられている。磁石収納部２
４は、支持部２１の下部に連結シャフト部２３を介して
固定されている。磁石収納部２４内には棒状の永久磁石
９が収納されている。連結シャフト部２３は、回転ステ
ージ２に固定される軸受け８にベアリング３０を介在し
て回動自在に取り付けられている。したがって、この回
動保持ピン７ａは、連結シャフト部２３の中心を通る鉛
直方向の軸Ｑの回りに矢印Ｒ１に示すように自在に回転
することができる。

【００２８】図３（ｂ）は、ストッパ付き回動保持ピン
７ｂの斜視図である。図３（ｂ）に示すように、ストッ
パ付き回動保持ピン７ｂは、円柱状の支持部２１、円柱
状（棒状）のピン部材（保持部）２２、連結シャフト部
２３、磁石収納部２４およびロックピン（停止部材）１
９からなる。ロックピン１９を除く部材は上記の回動保
持ピン７ａと同様に構成されている。ロックピン１９
は、磁石収納部２４の上面から上方に突出して形成され
ている。

【００２９】連結シャフト部２３は、ベアリング３０を
介在して回転ステージ２に固定されたストッパ付き軸受
け２８に回動可能に取り付けられている。円柱状のスト
ッパ付き軸受け２８の下部には切欠き部２９が形成され
ている。切欠き部２９は回転軸Ｑを中心に所定の角度で
扇状に切欠かれて形成されており、ロックピン１９に当
接してストッパ付き回動保持ピン７ｂの回動を停止させ
る第１および第２の当接壁面２９ａ，２９ｂを有してい
る。このストッパ付き軸受け２８の切欠き部２９によ
り、ストッパ付き回動保持ピン７ｂは、ロックピン１９
が第１の当接壁面２９ａに当接する位置から第２の当接
壁面２９ｂに当接する範囲内において矢印Ｒ２に示すよ
うに回動することができる。

【００３０】ここで、上記の回転ステージ２が本発明の
回転部材を構成し、回動保持ピン７ａが第１保持部材
を、ストッパ付き回動保持ピン７ｂが第２保持部材を構
成する。さらに、回動保持ピン７ａの永久磁石９、スト
ッパ付き回動保持ピン７ｂの永久磁石９および環状磁石
１１がそれぞれ本発明の移動手段の第１磁石部材、第２
磁石部材および第３磁石部材を構成する。

【００３１】次に、上記の回転保持部１における基板１
００の保持および解放動作について説明する。図４はス
トッパ付き回動保持ピンの基板解放動作の説明図であ
り、図５はストッパ付き回動保持ピンの基板保持動作の
説明図である。また、図６は回動保持ピンの基板解放動
作の説明図であり、図７は回動保持ピンの基板保持動作
の説明図である。図４〜図６において、（ａ）はストッ
パ付き回動保持ピン７ｂ、回動保持ピン７ａおよびその
周辺部の部分断面図、（ｂ）はストッパ付き回動保持ピ
ン７ｂ、回動保持ピンａの平面図である。さらに、図４
（ｃ）は図４（ａ）中のＡ線断面図であり、図５（ｃ）
は図５（ａ）中のＣ線断面図である。

【００３２】まず、基板１００の受け渡し時および現像
液の液盛り後における基板の解放動作について図４およ
び図６を参照して説明する。図４（ａ）および図６
（ａ）に示すように、このときには、環状磁石１１が回
転ステージ２の下方に離れて位置する。そして、環状磁
石１１が形成する磁力線Ｂは、ストッパ付き回動保持ピ
ン７ｂおよび回動保持ピン７ａのそれぞれの永久磁石９
が設置される高さにおいて回転ステージ２の外側から中
心に向かう方向に向いている。

【００３３】したがって、ストッパ付き回動保持ピン７
ｂでは永久磁石９のＮ極が回転ステージ２の中心部に向
かう方向に吸引される。それにより、図４（ｂ）に示す
ように、ストッパ付き回動保持ピン７ｂが矢印Ｘ方向に
回動し、ピン部材２２の外周面が基板１００の外周端面
から離れる。そして、図４（ｃ）に示すように、ロック
ピン１９がストッパ付き軸受け２８の第１の当接壁面２
９ａに当接した位置でストッパ付き回動保持ピン７ｂの
回転が停止する。この状態では、ピン部材２２が基板１
００の外周端面から離間した位置に停止する。

【００３４】また、図６に示す回動保持ピン７ａでは、
同様に永久磁石９のＮ極が回転ステージ２の中心部に向
かう方向に吸引される。それにより、図６（ｂ）に示す
ように、回動保持ピン７ａが矢印Ｘ方向に回動し、ピン
部材２２の外周面が基板１００の外周端面から離れる。
そして、環状磁石１１からの磁力と永久磁石９の磁力と
が釣り合った状態で回動保持ピン７ａの回動が停止す
る。

【００３５】上記の動作によって、全ての回動保持ピン
７ａおよびストッパ付き回動保持ピン７ｂが基板１００
の外周端面から離れた位置に停止する。これによって、
基板１００の外周端面がピン部材２２と摺動することな
く基板１００を取り出すことができる。また、液盛り現
像時には、基板１００の表面上に液盛りされた現像液は
離間したピン部材２２を伝って溢れることがなく基板１
００上に保持される。

【００３６】次に、基板１００の保持動作について図５
および図７を参照して説明する。図５（ａ）および図７
（ａ）に示すように、環状磁石１１が上昇して回転ステ
ージ２に接近する。したがって、ストッパ付き回動保持
ピン７ｂおよび回転保持ピン７ａのそれぞれの永久磁石
９のＳ極が環状磁石１１のＮ極に吸引される。

【００３７】それにより、ストッパ付き回動保持ピン７
ｂでは、図５（ｂ）に示すように、矢印Ｙ方向に回動
し、ピン部材２２の外周面が基板１００の外周端面に当
接する。このとき、図５（ｃ）に示すように、ロックピ
ン１９がストッパ付き軸受け２８の第２の当接壁面２９
ｂに当接する。これによってストッパ付き回動保持ピン
７ｂの回動が停止する。この停止位置では、ピン部材２
２が基板１００の外周端面に当接し、かつ基板１００の
中心が回転ステージ２の回転中心に一致する位置（以
下、センタリング位置と称する）となるように、ストッ
パ付き軸受け２８の第２の当接壁面２９ｂとロックピン
１９との位置が調整されている。

【００３８】一方、回動保持ピン７ａでは、図７（ｂ）
に示すように、矢印Ｙ方向に回動し、ピン部材２２の外
周面が基板１００の外周端面に当接し、基板１００を水
平方向に押圧して保持する。

【００３９】上記の動作により、図２において、基板１
００は、基板１００をセンタリング位置に停止させる複
数のストッパ付き回動保持ピン７ｂと、基板１００の外
周端面を押圧して水平方向に移動させる複数の回動保持
ピン７ａとによってセンタリング位置で保持される。そ
して、モータ３により回転駆動される。ここで、ストッ
パ付き回動保持ピン７ｂの永久磁石９は回動保持ピン７
ａの永久磁石９よりも磁力の強い磁石を用いる必要があ
る。例えば永久磁石自体が大きく磁力の強いもの、ある
いは磁束密度の高い永久磁石を用いてもよい。また、環
状磁石１１との間の引力を高めるために、ストッパ付き
回動保持ピン７ｂの永久磁石９と環状磁石１１との隙間
を回動保持ピン７ａの永久磁石９と環状磁石１１との隙
間よりも近接して配置してもよい。これにより、ストッ
パ付き回動保持ピン７ｂは回動保持ピン７ａからの水平
方向の押圧力に対抗して基板１００をセンタリング位置
に保持することができる。

【００４０】なお、上記の実施例において回転式現像装
置に用いた基板回転保持装置は、回転式塗布装置あるい
は回転式洗浄装置等に用いることもできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における回転式現像装置の断
面図である。

【図２】図１の回転式現像装置の主要部の平面図であ
る。

【図３】図１の回転式現像装置における回転保持ピン
（ａ）およびストッパ付き回動保持ピン（ｂ）の斜視図
である。

【図４】ストッパ付き回動保持ピンのピン部材が基板の
外周端面から離れた状態を示す部分断面図および平面図
である。

【図５】ストッパ付き回動保持ピンのピン部材が基板の
外周端面に当接した状態を示す部分断面図および平面図
である。

【図６】回動保持ピンのピン部材が基板の外周端面から
離れた状態を示す部分断面図および平面図である。

【図７】回動保持ピンのピン部材が基板の外周端面に当
接した状態を示す部分断面図および平面部である。

【符号の説明】

１ 回転保持部 ２ 回転ステージ ６ 基板支持ピン ７ａ 回動保持ピン ７ｂ ストッパ付き回動保持ピン ８ 軸受け ９ 永久磁石 １１ 環状磁石 １２ 磁石支持部材 １９ ロックピン ２１ 支持部 ２２ ピン部材 ２３ 連結シャフト部 ２４ 磁石収納部 ２８ ストッパ付き軸受け ２９ 切欠き部 ２９ａ 第１の当接壁面 ２９ｂ 第２の当接壁面

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を水平に保持しつつ回転させる基板
   回転保持装置であって、 前記基板の下面を支持し、水平姿勢で回転駆動される回
   転部材と、 前記回転部材の回転中心から等距離の位置に分散配置さ
   れ、前記基板の外周端面に当接して前記基板を水平方向
   に保持する基板保持位置と前記基板の外周端面から離間
   する基板解放位置との間で移動可能な複数の第１保持部
   材と、 前記回転部材の回転中心から等距離の位置に分散配置さ
   れ、前記基板の中心が前記回転部材の回転中心に一致す
   る位置において前記基板の外周端面に当接した状態で停
   止して前記基板を水平方向に保持する基板保持位置と前
   記基板の外周端面から離間する基板解放位置との間で移
   動可能な複数の第２保持部材と、 前記複数の第１保持部材および前記複数の第２保持部材
   を前記基板保持位置と前記基板解放位置との間で移動さ
   せる移動手段とを備えたことを特徴とする基板回転保持
   装置。
2. 【請求項２】 前記複数の第１保持部材は前記基板の一
   方の外周半円に沿って配置され、前記複数の第２保持部
   材は他方の外周半円に沿って配置されていることを特徴
   とする請求項１記載の基板回転保持装置。
3. 【請求項３】 前記複数の第１保持部材および前記複数
   の第２保持部材の各々は、 鉛直方向の回転軸の周りで回動可能に前記回転部材に取
   り付けられた支持部と、 前記支持部の回動に伴って前記基板の外周端面に当接す
   るように前記支持部の前記回転軸に対して偏心して設け
   られた保持部とを含み、 前記複数の第２保持部材は、前記基板の中心が前記回転
   部材の回転中心に一致する位置において前記保持部が前
   記基板の外周端面に当接した状態で停止するように前記
   支持部の回動を停止させる停止部材をさらに含むことを
   特徴とする請求項１記載または２記載の基板回転保持装
   置。
4. 【請求項４】 前記移動手段は、 前記複数の第１保持部材の各々の前記支持部に取り付け
   られた第１磁石部材と、 前記複数の第２保持部材の各々の前記支持部に取り付け
   られた第２磁石部材と、 前記第１磁石部材および前記第２磁石部材に対して近接
   および離間して前記複数の第１保持部材および前記第２
   保持部材を駆動する第３磁石部材とを有しており、 前記第２磁石部材の磁力は前記第１磁石部材の磁力より
   も大きく設定されていることを特徴とする請求項３記載
   の基板回転保持装置。
5. 【請求項５】 請求項１〜４のいずれかに記載の基板回
   転保持装置を備えたことを特徴とする回転式基板処理装
   置。