JPH09110751A - Method for producing pentanuclear novolak compound - Google Patents

Method for producing pentanuclear novolak compound

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JPH09110751A
JPH09110751A JP27030695A JP27030695A JPH09110751A JP H09110751 A JPH09110751 A JP H09110751A JP 27030695 A JP27030695 A JP 27030695A JP 27030695 A JP27030695 A JP 27030695A JP H09110751 A JPH09110751 A JP H09110751A
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dimethylbenzyl
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methylphenol
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幸司 市川
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 式(I) (式中、R1 〜R5 の一つは水酸基を表し、R6 〜R10
の一つは水酸基を表し、R1 〜R10の残りは互いに独立
に、水素、炭素数1〜6のアルキルまたは水酸基を表
す)で示される5核体ノボラック化合物を工業的有利に
製造する。 【解決手段】 2,6−ビス(4−ヒドロキシ−3−ヒ
ドロキシメチル−2,5−ジメチルベンジル)−4−メ
チルフェノールを原料とし、これと、式(I)の両末端
に相当する単核フェノール系化合物とを、1:2〜50
のモル比で、酸触媒の存在下に反応させて、5核体ノボ
ラック化合物(I)を製造する。
(57) [Abstract] [Problem] Formula (I) (In the formula, one of R 1 to R 5 represents a hydroxyl group, and R 6 to R 10
Of 1 represents a hydroxyl group, and the rest of R 1 to R 10 independently of each other represents hydrogen, alkyl having 1 to 6 carbons or a hydroxyl group), and industrially advantageously produces a pentanuclear novolak compound. SOLUTION: 2,6-bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl) -4-methylphenol is used as a raw material, and a mononuclear compound corresponding to both terminals of the formula (I) is used. Phenolic compound, 1: 2-50
The pentanuclear novolak compound (I) is produced by reacting in the presence of an acid catalyst at a molar ratio of.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体微細
加工用レジストにおける感光剤の原料または添加剤とし
て有用な、次式(I)で示される5核体ノボラック化合
物の製造方法に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a pentanuclear novolak compound represented by the following formula (I), which is useful as a raw material or an additive for a photosensitizer in a resist for semiconductor fine processing, for example.

【0002】 [0002]

【0003】式中、R1 、R2 、R3 、R4 およびR5
の一つは水酸基を表し、R6 、R7 、R8 、R9 および
10の一つは水酸基を表し、R1 、R2 、R3 、R4
5 、R6 、R7 、R8 、R9 およびR10の残りは互い
に独立に、水素、炭素数1〜6のアルキルまたは水酸基
を表す。
Where R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5
One of R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 represents a hydroxyl group, and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 ,
The rest of R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 independently of each other represent hydrogen, alkyl having 1 to 6 carbons or a hydroxyl group.

【0004】[0004]

【従来の技術】一般に、フェノール性水酸基を有する化
合物をキノンジアジドスルホン酸エステル化して、半導
体微細加工用のレジスト組成物における感光剤として用
いることは公知である。すなわち、キノンジアジド基を
有する化合物とノボラック樹脂からなる組成物を金属基
体上に塗布し、これに300〜500nmの光を照射する
と、キノンジアジド基が分解してカルボキシル基を生
じ、アルカリ不溶の状態からアルカリ可溶の状態になる
ことを利用して、かかる組成物はポジ型レジストとして
用いられる。こうしたポジ型レジストは、解像力に優れ
るという特徴を有することから、半導体用の各種集積回
路の製作に利用されている。また、フェノール性水酸基
を有する化合物を、半導体微細加工用のレジスト組成物
におけるアルカリ可溶性の低分子量添加剤として用い、
レジストの高感度化を図る研究も行われている。
It is generally known that a compound having a phenolic hydroxyl group is converted to a quinonediazide sulfonic acid ester and used as a photosensitizer in a resist composition for semiconductor fine processing. That is, when a composition comprising a compound having a quinonediazide group and a novolac resin is applied on a metal substrate and irradiated with light of 300 to 500 nm, the quinonediazide group is decomposed to form a carboxyl group, which is alkali-insoluble. The composition is used as a positive resist by taking advantage of the fact that the composition becomes soluble. Since such a positive resist has a feature of excellent resolution, it is used for manufacturing various integrated circuits for semiconductors. Further, a compound having a phenolic hydroxyl group is used as an alkali-soluble low molecular weight additive in a resist composition for semiconductor fine processing,
Research is also being conducted to increase the sensitivity of resists.

【0005】こうした感光剤の原料またはアルカリ可溶
性低分子量添加剤として、各種のフェノール系化合物が
提案されている。例えば、特開平 5-323597 号公報 (=E
P-A-570,884)には、3個のフェノール核を2個の脂肪族
連結基で結合した化合物が開示されている。また特開平
6-167805 号公報(=EP-A-573,056) には、4個以上のフ
ェノール核をそれぞれ脂肪族連結基で結合した化合物が
開示されている。
Various phenolic compounds have been proposed as raw materials for such sensitizers or alkali-soluble low molecular weight additives. For example, JP-A-5-323597 (= E
PA-570,884) discloses compounds in which three phenolic nuclei are linked by two aliphatic linking groups. In addition,
Japanese Patent Publication No. 6-167805 (= EP-A-573,056) discloses a compound in which four or more phenol nuclei are bound by an aliphatic linking group.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記特開平 6-167805
号公報には、本発明の目的物である前記式(I)に相当
する5核体ノボラック化合物も一部記載されているが、
その具体的合成法としては、前記式(I)における両末
端のフェノール核を持つ化合物のメチロール体から出発
する方法が開示されている。しかしながらこのような方
法による場合は、副生成物が増加し、目的物の精製が複
雑化するなどの問題があった。
[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-167805
The publication also partially describes a pentanuclear novolak compound corresponding to the above formula (I), which is the object of the present invention,
As a specific synthetic method thereof, a method starting from a methylol compound of the compound having a phenol nucleus at both ends in the formula (I) is disclosed. However, in the case of such a method, there are problems that the amount of by-products increases and the purification of the target product becomes complicated.

【0007】本発明者らは、前記式(I)で示される5
核体ノボラック化合物を工業的有利に製造すべく、鋭意
研究を続けた結果、特定のジメチロール化合物を用いる
ことにより、高純度、高収率で、しかも高い選択率で、
この5核体ノボラック化合物が製造できることを見出
し、本発明を完成した。
The inventors of the present invention have shown that 5 represented by the above formula (I)
In order to industrially produce a nuclear novolak compound, as a result of continued intensive research, by using a specific dimethylol compound, high purity, high yield, and high selectivity,
The present invention was completed by finding that this pentanuclear novolak compound can be produced.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、2,
6−ビス(4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−
2,5−ジメチルベンジル)−4−メチルフェノール
と、前記式(I)の化合物を生成するのに必要なフェノ
ール系化合物とを、1:2〜50のモル比で、酸触媒の
存在下に反応させることにより、前記式(I)で示され
る5核体ノボラック化合物を製造する方法を提供するも
のである。
Means for Solving the Problems That is, the present invention is
6-bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-
2,5-dimethylbenzyl) -4-methylphenol and the phenolic compound necessary to form the compound of formula (I) in a molar ratio of 1: 2 to 50 in the presence of an acid catalyst. The present invention provides a method for producing a pentanuclear novolak compound represented by the formula (I) by reacting.

【0009】ここで、式(I)の化合物を生成するのに
必要なフェノール系化合物とは、次式(II)および(II
I) で示されるものをいう。
Here, the phenolic compound necessary for producing the compound of formula (I) means the following formulas (II) and (II
I) means the one shown.

【0010】 [0010]

【0011】式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 、R7 、R8 、R9 およびR10は前記の意味を表す。
式(II)および(III) のフェノール系化合物として、そ
れぞれ別のものを用いることにより、式(I)における
両末端が異なる化合物を製造することができ、式(II)
または式(III) で示されるただ1種のフェノール系化合
物を用いれば、式(I)における両末端が同じになった
化合物を製造することができる。
In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R
6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 represent the same meaning as described above.
By using different phenolic compounds of the formulas (II) and (III), it is possible to produce compounds having different terminals in the formula (I).
Alternatively, by using only one type of phenolic compound represented by the formula (III), a compound having the same both terminals in the formula (I) can be produced.

【0012】また、本発明でもう一方の反応原料として
用いる2,6−ビス(4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシ
メチル−2,5−ジメチルベンジル)−4−メチルフェ
ノールは、次式(IV)の構造を有し、以下、簡単のため
「ジメチロール(IV)」と呼ぶことがある。
Further, 2,6-bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl) -4-methylphenol used as another reaction raw material in the present invention is represented by the following formula (IV): It has a structure and may be hereinafter referred to as "dimethylol (IV)" for simplicity.

【0013】 [0013]

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】ジメチロール(IV)は、例えば、
2,6−ビス(4−ヒドロキシ−2,5−ジメチルベン
ジル)−4−メチルフェノールとホルムアルデヒドを、
アルカリ触媒の存在下で反応させることにより、製造で
きる。また、2,6−ビス(4−ヒドロキシ−2,5−
ジメチルベンジル)−4−メチルフェノールは、パラク
レゾールをホルムアルデヒドでジメチロール化して2,
6−ビス(ヒドロキシメチル)−4−メチルフェノール
とし、これを2,5−キシレノールと縮合させることに
より、製造できる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Dimethylol (IV) is, for example,
2,6-bis (4-hydroxy-2,5-dimethylbenzyl) -4-methylphenol and formaldehyde,
It can be produced by reacting in the presence of an alkali catalyst. In addition, 2,6-bis (4-hydroxy-2,5-
Dimethylbenzyl) -4-methylphenol is obtained by converting para-cresol into dimethylol with formaldehyde.
6-bis (hydroxymethyl) -4-methylphenol can be produced by condensing this with 2,5-xylenol.

【0015】本発明によれば、ジメチロール(IV)と、
フェノール系化合物(II)および/または(III) との反
応により、5核体ノボラック化合物(I)が得られる。
この際、フェノール系化合物は、ジメチロール(IV)に
対し、2〜50のモル比で用いられ、このモル比は、好
ましくは4〜20、さらに好ましくは6〜20の範囲で
ある。フェノール系化合物の量が少ないと、反応の選択
性が悪くなり、一方その量が多くなると、取り出し収率
が低下する。また本発明においては、ジメチロール(I
V)の純度はあまり影響を受けず、前述のような2,6
−ビス(4−ヒドロキシ−2,5−ジメチルベンジル)
−4−メチルフェノールとホルムアルデヒドとの反応に
より得られた生成物を、あまり精製せずに用いることも
できる。一般には、65〜100重量%の範囲の純度を
有するジメチロール(IV)が使用可能である。
According to the present invention, dimethylol (IV)
The reaction with the phenolic compound (II) and / or (III) gives the pentanuclear novolak compound (I).
At this time, the phenolic compound is used in a molar ratio of 2 to 50 with respect to dimethylol (IV), and this molar ratio is preferably 4 to 20 and more preferably 6 to 20. When the amount of the phenolic compound is small, the selectivity of the reaction becomes poor, while when the amount is large, the extraction yield decreases. Further, in the present invention, dimethylol (I
The purity of V) is not significantly affected, and
-Bis (4-hydroxy-2,5-dimethylbenzyl)
The product obtained by the reaction of -4-methylphenol and formaldehyde can also be used without much purification. Generally, dimethylol (IV) having a purity in the range of 65 to 100% by weight can be used.

【0016】ジメチロール(IV)とフェノール系化合物
との反応は、酸触媒の存在下で行われ、酸触媒は、塩酸
や硫酸のような無機酸、蟻酸や酢酸、プロピオン酸、パ
ラトルエンスルホン酸のような有機酸のいずれでもよい
が、なかでも、塩酸や硫酸のような鉱酸またはパラトル
エンスルホン酸が好ましく、とりわけパラトルエンスル
ホン酸が好ましく用いられる。酸触媒は、ジメチロール
(IV)に対し、通常1当量以下、好ましくは0.01〜1
当量、さらに好ましくは0.1〜0.5当量の範囲で用いら
れる。酸触媒の量が少なすぎると、反応時間が長くなる
傾向にあり、またその量が多すぎると、反応の選択性が
悪くなる傾向にある。
The reaction between dimethylol (IV) and a phenolic compound is carried out in the presence of an acid catalyst, which is an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid, formic acid, acetic acid, propionic acid or paratoluenesulfonic acid. Although any of such organic acids may be used, among them, a mineral acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid or paratoluenesulfonic acid is preferable, and paratoluenesulfonic acid is particularly preferably used. The acid catalyst is usually 1 equivalent or less, preferably 0.01-1, relative to dimethylol (IV).
It is used in an equivalent amount, more preferably in the range of 0.1 to 0.5 equivalent amount. If the amount of the acid catalyst is too small, the reaction time tends to be long, and if the amount is too large, the selectivity of the reaction tends to be poor.

【0017】この反応は溶媒中で行うのが好ましく、
この場合の反応溶媒は、アルコール類、水、芳香族溶媒
などであることができるが、なかでも芳香族溶媒、それ
も芳香族炭化水素溶媒であるのが好ましい。アルコール
類としては、低級アルコール類、例えばメタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール
などが挙げられ、また芳香族炭化水素溶媒としては、例
えばベンゼン、トルエン、キシレンなどが挙げられ、な
かでもトルエンが好ましく用いられる。反応溶媒、例え
ば芳香族溶媒は、フェノール系化合物(II)および(II
I) の合計量を基準に、一般的には0.5〜5重量倍の範
囲で、好ましくは1〜3重量倍、さらに好ましくは1〜
2重量倍の範囲で使用される。溶媒の量が多すぎると、
取り出し収率が悪くなる傾向にあり、一方その量が少な
すぎると、反応の選択性が悪くなる傾向にある。
This reaction is preferably carried out in a solvent,
The reaction solvent in this case may be alcohols, water, an aromatic solvent and the like, but among them, an aromatic solvent, which is also an aromatic hydrocarbon solvent, is preferable. Examples of alcohols include lower alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol and butyl alcohol, and examples of aromatic hydrocarbon solvents include benzene, toluene and xylene. Among them, toluene is preferably used. To be The reaction solvent, such as an aromatic solvent, is a phenolic compound (II) or (II
Based on the total amount of I), it is generally in the range of 0.5 to 5 times by weight, preferably 1 to 3 times by weight, more preferably 1 to
It is used in the range of 2 times by weight. If the amount of solvent is too large,
If the amount is too small, the selectivity of the reaction tends to be poor.

【0018】反応の仕込みは、フェノール系化合物、酸
触媒および反応溶媒からなる混合物中へ、ジメチロール
(IV)を添加していく方法が好ましい。この際ジメチロ
ール(IV)は、0.01〜12時間かけて添加するのが好
ましく、さらには0.5〜4時間、とりわけ1〜2時間で
添加を終了するのがより好ましい。反応は、通常10℃
から還流温度までの範囲、好ましくは15〜50℃の範
囲の温度で行われる。この反応は、通常大気圧下で進行
し、上記ジメチロール(IV)の添加時間を除いて2〜5
時間程度行われる。
The reaction is preferably charged by adding dimethylol (IV) to a mixture of a phenolic compound, an acid catalyst and a reaction solvent. At this time, the dimethylol (IV) is preferably added over 0.01 to 12 hours, more preferably 0.5 to 4 hours, and more preferably 1 to 2 hours. The reaction is usually 10 ° C
To reflux temperature, preferably at a temperature in the range of 15 to 50 ° C. This reaction usually proceeds under atmospheric pressure, and is 2 to 5 except for the addition time of dimethylol (IV).
It takes about an hour.

【0019】芳香族溶媒中、室温付近で反応を行った場
合は、反応の進行とともに、またそれより高い温度で反
応を行った場合は、反応終了後室温付近まで冷却するこ
とにより、目的物である5核体ノボラック化合物(I)
の結晶が析出してくる。この結晶を取り出すことによ
り、粗生成物が得られ、その後任意の精製手段を施すこ
とができる。例えば、この化合物は常温で芳香族溶媒へ
の溶解度が小さいので、芳香族溶媒からの晶析を行うこ
とにより、あるいは必要によりそれを繰り返すことによ
り、精製することができる。この際に用いる晶析溶媒
は、反応に用いたものと同じであっても異なっていても
よい。
When the reaction is carried out near room temperature in an aromatic solvent, the reaction proceeds with the progress of the reaction, and when the reaction is carried out at a temperature higher than that, by cooling to near room temperature after completion of the reaction, the desired product is obtained. A certain pentanuclear novolak compound (I)
Crystals will precipitate. By taking out these crystals, a crude product is obtained, which can then be subjected to any purification means. For example, since this compound has a low solubility in an aromatic solvent at room temperature, it can be purified by performing crystallization from the aromatic solvent or repeating it if necessary. The crystallization solvent used in this case may be the same as or different from that used in the reaction.

【0020】また、この化合物をキノンジアジドスルホ
ン酸エステル化して、半導体製造用のレジスト組成物に
おける感光剤とする場合は、水への溶解度が9g/10
0g以下である溶媒に上記粗生成物を溶解したあと、水
洗分液することにより、金属分を低減させておくのが好
ましい。ここで、水への溶解度が9g/100g以下と
は、20℃の水100gに溶ける最大量が9g以下であ
ることを意味する。またここで用いる溶媒は、20℃に
おいて、5核体ノボラック化合物(I)の溶解度が1g
/100g以上であるのが好ましい。かかる溶媒として
は、酢酸エチルや酢酸n−ブチル、酢酸イソアミルのよ
うな酢酸エステル類、メチルイソブチルケトンや2−ヘ
プタノンのようなケトン類などが挙げられ、なかでも酢
酸エチルが好ましく用いられる。
When this compound is converted to a quinonediazide sulfonic acid ester to be used as a photosensitizer in a resist composition for semiconductor production, the solubility in water is 9 g / 10.
After dissolving the above crude product in a solvent of 0 g or less, it is preferable to reduce the metal content by washing and separating. Here, that the solubility in water is 9 g / 100 g or less means that the maximum amount soluble in 100 g of water at 20 ° C. is 9 g or less. The solvent used here has a solubility of the pentanuclear novolak compound (I) at 20 ° C. of 1 g.
/ 100 g or more is preferable. Examples of such a solvent include acetic acid esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate and isoamyl acetate, and ketones such as methyl isobutyl ketone and 2-heptanone. Among them, ethyl acetate is preferably used.

【0021】こうして金属の低減化を図った5核体ノボ
ラック化合物(I)を含む溶液は、さらに芳香族溶媒を
加えて、目的物を晶析させることができる。ここで用い
る芳香族溶媒は、反応に用いたものと同じであっても異
なっていてもよいが、好ましくはトルエンが用いられ
る。
The solution containing the pentanuclear novolak compound (I) thus reduced in metal can be further crystallized by adding an aromatic solvent. The aromatic solvent used here may be the same as or different from that used in the reaction, but toluene is preferably used.

【0022】かくして得られる5核体ノボラック化合物
(I)は、例えば、半導体製造用レジスト組成物におけ
るアルカリ可溶性低分子量添加剤として用いることがで
き、また例えば、キノンジアジドスルホン酸エステル化
して感光剤とすることができる。後者のエステル化にあ
たっては、1,2−キノンジアジドスルホニルハライ
ド、好ましくは1,2−ナフトキノンジアジド−4−ま
たは−5−スルホニルハライドが用いられる。スルホニ
ルハライドを構成するハロゲンは、例えば塩素や臭素な
どであることができるが、通常は塩素であるのが好まし
く、したがって、1,2−キノンジアジドスルホニルク
ロライドの1種または2種以上が、エステル化剤として
好ましく用いられる。
The pentanuclear novolak compound (I) thus obtained can be used, for example, as an alkali-soluble low molecular weight additive in a resist composition for semiconductor production, and is also converted into a sensitizer by quinone diazide sulfonic acid esterification. be able to. In the latter esterification, 1,2-quinonediazide sulfonyl halide, preferably 1,2-naphthoquinonediazide-4- or -5-sulfonyl halide is used. The halogen constituting the sulfonyl halide can be, for example, chlorine or bromine, but is usually preferably chlorine, and therefore, one or more of 1,2-quinonediazidesulfonyl chloride is an esterifying agent. Is preferably used as.

【0023】このエステル化反応は、通常、脱ハロゲン
化水素剤の存在下で行われる。脱ハロゲン化水素剤とし
ては、一般的に塩基性の化合物、例えば、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウムのような無機塩基、エチルアミ
ン、エタノールアミン、ジエチルアミン、ジエタノール
アミン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N,N−ジエチルアニリンのようなアミン類が挙げ
られる。脱ハロゲン化水素剤は、1,2−ナフトキノン
ジアジド−4−または−5−スルホニルハライドに対
し、通常1.05〜1.5のモル比、好ましくは1.05〜
1.2、さらに好ましくは1.1〜1.2のモル比で用いられ
る。
This esterification reaction is usually carried out in the presence of a dehydrohalogenating agent. Examples of the dehydrohalogenating agent include generally basic compounds such as sodium carbonate, inorganic bases such as sodium hydrogencarbonate, ethylamine, ethanolamine, diethylamine, diethanolamine, triethylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-dimethylaniline, and the like. Examples include amines such as N-diethylaniline. The dehydrohalogenating agent is usually used in a molar ratio of 1.05-1.5, preferably 1.05-1.5, with respect to 1,2-naphthoquinonediazide-4- or -5-sulfonyl halide.
It is used in a molar ratio of 1.2, more preferably 1.1 to 1.2.

【0024】エステル化反応は通常、溶媒中で行われ
る。反応溶媒としては、エーテル類、ラクトン類、脂肪
族ケトン類などが挙げられ、なかでも、ジオキソラン、
1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、γ−ブチロ
ラクトン、アセトンおよび2−ヘプタノンから選ぶのが
好ましい。これらをそれぞれ単独で、または2種以上組
み合わせて用いることができるが、とりわけ1,4−ジ
オキサンが好ましい。反応溶媒は、5核体ノボラック化
合物(I)とキノンジアジドスルホニルハライドの合計
量を基準に、通常は2〜6重量倍の範囲で、好ましくは
3〜5重量倍の範囲で使用される。
The esterification reaction is usually carried out in a solvent. Examples of the reaction solvent include ethers, lactones, and aliphatic ketones, among which dioxolane,
It is preferably selected from 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, γ-butyrolactone, acetone and 2-heptanone. These can be used alone or in combination of two or more, and 1,4-dioxane is particularly preferable. The reaction solvent is usually used in a range of 2 to 6 times by weight, preferably 3 to 5 times by weight, based on the total amount of the pentanuclear novolak compound (I) and the quinonediazidesulfonyl halide.

【0025】このエステル化反応は、常圧下、常温付近
でも十分進行し、一般的には20〜30℃の範囲の温度
が採用され、2〜10時間程度行われる。
This esterification reaction proceeds sufficiently under normal pressure even near room temperature, and generally a temperature in the range of 20 to 30 ° C. is adopted and is carried out for about 2 to 10 hours.

【0026】反応終了後は、酢酸のような酸で中和し、
固形物を濾過したあと、濾液を薄い酸水溶液、例えば
0.1〜2重量%程度の濃度の酢酸水溶液と混合すれば、
目的物であるエステルが析出してくる。これを濾過、洗
浄および乾燥することにより、エステルを取り出すこと
ができる。
After completion of the reaction, neutralize with an acid such as acetic acid,
After filtering the solid, the filtrate is mixed with a dilute aqueous acid solution, for example, an aqueous acetic acid solution having a concentration of about 0.1 to 2% by weight.
The target ester begins to precipitate. The ester can be taken out by filtering, washing and drying this.

【0027】こうしてエステル化された化合物は、紫外
線や遠紫外線(エキシマーレーザー等を含む)などの放
射線に感応する感光剤として有利に使用することができ
る。この感光剤は、アルカリ可溶性ノボラック樹脂と組
み合わせて、ポジ型レジスト用の感光性樹脂組成物とし
た場合に、特に高い効果を発揮する。
The compound thus esterified can be advantageously used as a photosensitizer which is sensitive to radiation such as ultraviolet rays and far ultraviolet rays (including excimer laser and the like). This photosensitizer exhibits a particularly high effect when it is combined with an alkali-soluble novolac resin to form a photosensitive resin composition for a positive resist.

【0028】[0028]

【実施例】次に実施例を挙げて、本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら
限定されるものではない。例中、含有量ないし使用量を
表す%および部は、特にことわらないかぎり重量基準で
ある。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples,% and parts indicating the content or the amount used are based on weight unless otherwise specified.

【0029】参考例1: ジメチロール(IV)の製造 2,6−ビス(4−ヒドロキシ−2,5−ジメチルベン
ジル)−4−メチルフェノール263.6部、水酸化ナト
リウム67.2部、水1169.3部、およびテトラヒドロ
フラン107.5部を四つ口フラスコに仕込んで溶解し、
40℃に調温した。そこへ37%ホルマリン340.9部
を1時間かけて滴下し、その後、同温度でさらに2時間
攪拌した。反応終了後、90%酢酸水溶液134.4部で
中和してから25℃に冷却した。析出した結晶を濾過
し、イオン交換水1000部でリンスした。得られた濾
過物を45℃で一昼夜減圧乾燥して、2,6−ビス(4
−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−2,5−ジメチ
ルベンジル)−4−メチルフェノール265部(純度8
0%)を得た。
Reference Example 1: Preparation of dimethylol (IV) 2,6-bis (4-hydroxy-2,5-dimethylbenzyl) -4-methylphenol 263.6 parts, sodium hydroxide 67.2 parts, water 1169 .3 parts and 107.5 parts of tetrahydrofuran were charged into a four-necked flask and dissolved,
The temperature was adjusted to 40 ° C. 340.9 parts of 37% formalin was added dropwise thereto over 1 hour, and then the mixture was stirred at the same temperature for 2 hours. After completion of the reaction, the mixture was neutralized with 134.4 parts of 90% acetic acid aqueous solution and then cooled to 25 ° C. The precipitated crystals were filtered and rinsed with 1000 parts of ion-exchanged water. The obtained filtered product was dried under reduced pressure at 45 ° C for a whole day and night to give 2,6-bis (4
-Hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl) -4-methylphenol 265 parts (purity 8
0%).

【0030】質量分析: MS 4361 H−NMR(ジメチルスルホキシド) δ(ppm) :1.9
5 (s, 3H); 2.05 (s, 6H); 2.10 (s, 6H);3.78 (s, 4
H); 4.65 (s, 4H); 5.23 (brs, 2H);6.31 (s, 2H); 6.7
0 (s, 2H); 8.18 (brs, 1H);8.60 (brs, 2H).
Mass spectrum: MS 436 1 H-NMR (dimethyl sulfoxide) δ (ppm): 1.9
5 (s, 3H); 2.05 (s, 6H); 2.10 (s, 6H); 3.78 (s, 4
H); 4.65 (s, 4H); 5.23 (brs, 2H); 6.31 (s, 2H); 6.7
0 (s, 2H); 8.18 (brs, 1H); 8.60 (brs, 2H).

【0031】実施例1: 2,6−ビス〔4−ヒドロキ
シ−3−(4−ヒドロキシベンジル)−2,5−ジメチ
ルベンジル〕−4−メチルフェノールの製造
Example 1 Preparation of 2,6-bis [4-hydroxy-3- (4-hydroxybenzyl) -2,5-dimethylbenzyl] -4-methylphenol

【0032】1リットルの四つ口フラスコに、パラトル
エンスルホン酸11.41g、フェノール150.6gおよ
びトルエン300gを仕込んで40℃に調温し、そこ
へ、参考例1で得られた純度80%の2,6−ビス(4
−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−2,5−ジメチ
ルベンジル)−4−メチルフェノール87.31gを10
分割して、1時間30分で投入し、その後同温度でさら
に3時間反応させた。反応終了後、濾過し、トルエン2
00gでリンスした。得られた濾過物を、トルエン20
0gと酢酸エチル1000gの混合液に60℃で仕込ん
で溶解させ、さらにイオン交換水1000gを加えて攪
拌し、分液した。その後、1%シュウ酸水溶液1000
gを仕込んで攪拌し、分液することにより脱金属を行っ
た。次にイオン交換水1000gでの洗浄を4回行った
あと、オイル層を濃縮した。濃縮マスにトルエン100
gを加えて20℃まで冷却し、濾過後、トルエン200
gでリンスした。
A 1-liter four-necked flask was charged with 11.41 g of p-toluenesulfonic acid, 150.6 g of phenol and 300 g of toluene, and the temperature was adjusted to 40 ° C., and the purity obtained in Reference Example 1 was 80%. 2,6-bis (4
-Hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl) -4-methylphenol (87.31 g)
The mixture was divided, charged for 1 hour and 30 minutes, and then reacted at the same temperature for another 3 hours. After completion of the reaction, it is filtered and toluene 2
Rinse with 00g. The filtrate obtained was mixed with toluene 20
A mixed solution of 0 g and 1000 g of ethyl acetate was charged and dissolved at 60 ° C., 1000 g of ion-exchanged water was further added, and the mixture was stirred and separated. After that, 1000% 1% oxalic acid aqueous solution
Demetalization was carried out by charging g, stirring, and separating. Next, after washing with 1000 g of ion-exchanged water four times, the oil layer was concentrated. Toluene 100 in concentrated mass
g, cooled to 20 ° C., filtered, and then toluene 200
rinsed with g.

【0033】得られた濾過物を45℃で一昼夜減圧乾燥
して、2,6−ビス〔4−ヒドロキシ−3−(4−ヒド
ロキシベンジル)−2,5−ジメチルベンジル〕−4−
メチルフェノール42.5g(定量純度96.8%)を得
た。2,6−ビス(4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメ
チル−2,5−ジメチルベンジル)−4−メチルフェノ
ール基準の収率は43.7%であった。
The obtained filtered product was dried under reduced pressure at 45 ° C. for a whole day and night to give 2,6-bis [4-hydroxy-3- (4-hydroxybenzyl) -2,5-dimethylbenzyl] -4-.
42.5 g (quantitative purity 96.8%) of methylphenol was obtained. The yield based on 2,6-bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl) -4-methylphenol was 43.7%.

【0034】質量分析: MS 588Mass Spectrometry: MS 588

【0035】実施例2: 2,6−ビス〔4−ヒドロキ
シ−3−(4−ヒドロキシ−3−メチルベンジル)−
2,5−ジメチルベンジル〕−4−メチルフェノールの
製造
Example 2: 2,6-bis [4-hydroxy-3- (4-hydroxy-3-methylbenzyl)-
Production of 2,5-dimethylbenzyl] -4-methylphenol

【0036】1リットルの四つ口フラスコに、パラトル
エンスルホン酸1.9g、オルソクレゾール86.51gお
よびトルエン177gを仕込んで30℃に調温した。
そこへ、参考例1で得られた純度80%の2,6−ビス
(4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−2,5−ジ
メチルベンジル)−4−メチルフェノール21.83gを
10分割して、1時間30分で投入し、その後同温度で
さらに3時間反応させた。反応終了後、濾過し、トルエ
ン100gでリンスした。得られた濾過物を、トルエン
100gと酢酸エチル200gの混合液に60℃で仕込
んで溶解させ、さらにイオン交換水200gを加えて攪
拌し、分液した。その後、1%シュウ酸水溶液200g
を仕込んで攪拌し、分液することにより脱金属を行っ
た。次にイオン交換水200gでの洗浄を4回行ったあ
と、オイル層を濃縮した。濃縮マスにトルエン100g
を加えて20℃まで冷却し、濾過後、トルエン100g
でリンスした。
A 1-liter four-necked flask was charged with 1.9 g of paratoluenesulfonic acid, 86.5 g of orthocresol and 177 g of toluene, and the temperature was adjusted to 30 ° C.
Then, 21.83 g of 2,6-bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl) -4-methylphenol having a purity of 80% obtained in Reference Example 1 was divided into 10 parts, The mixture was charged in 1 hour and 30 minutes, and then reacted at the same temperature for another 3 hours. After the reaction was completed, it was filtered and rinsed with 100 g of toluene. The obtained filtered product was charged and dissolved in a mixed liquid of 100 g of toluene and 200 g of ethyl acetate at 60 ° C., 200 g of ion-exchanged water was further added, and the mixture was stirred and separated. After that, 200 g of 1% oxalic acid aqueous solution
Was charged, stirred, and separated to demetalize. Next, after washing with 200 g of ion-exchanged water four times, the oil layer was concentrated. Toluene 100g in concentrated mass
And cooled to 20 ° C., filtered, and then toluene 100 g
I rinsed with.

【0037】得られた濾過物を45℃で一昼夜減圧乾燥
して、2,6−ビス〔4−ヒドロキシ−3−(4−ヒド
ロキシ−3−メチルベンジル)−2,5−ジメチルベン
ジル〕−4−メチルフェノール15.5g(定量純度9
5.2%)を得た。 2,6−ビス(4−ヒドロキシ−3
−ヒドロキシメチル−2,5−ジメチルベンジル)−4
−メチルフェノール基準の収率は59.8%であった。
The filtrate obtained was dried under reduced pressure at 45 ° C. for one day to obtain 2,6-bis [4-hydroxy-3- (4-hydroxy-3-methylbenzyl) -2,5-dimethylbenzyl] -4. -Methylphenol 15.5g (quantitative purity 9
(5.2%). 2,6-bis (4-hydroxy-3
-Hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl) -4
-The yield based on methylphenol was 59.8%.

【0038】質量分析: MS 6161 H−NMR(ジメチルスルホキシド) δ(ppm) :1.9
2 (s, 6H); 2.02 (s, 9H); 2.12 (s, 6H);3.74 (s, 4
H); 3.88 (s, 4H); 6.25 (s, 2H);6.60 (d, J = 7.9 H
z, 2H); 6.66 (s, 2H);6.67 (d, J = 7.9 Hz, 2H); 6.7
8 (s, 2H);7.94 (s, 2H); 8.10 (s, 1H); 8.91 (s, 2
H).
Mass spectrum: MS 616 1 H-NMR (dimethyl sulfoxide) δ (ppm): 1.9
2 (s, 6H); 2.02 (s, 9H); 2.12 (s, 6H); 3.74 (s, 4
H); 3.88 (s, 4H); 6.25 (s, 2H); 6.60 (d, J = 7.9 H
z, 2H); 6.66 (s, 2H); 6.67 (d, J = 7.9 Hz, 2H); 6.7
8 (s, 2H); 7.94 (s, 2H); 8.10 (s, 1H); 8.91 (s, 2
H).

【0039】実施例3: 2,6−ビス〔4−ヒドロキ
シ−3−(4−ヒドロキシ−2−メチルベンジル)−
2,5−ジメチルベンジル〕−4−メチルフェノールの
製造
Example 3: 2,6-bis [4-hydroxy-3- (4-hydroxy-2-methylbenzyl)-
Production of 2,5-dimethylbenzyl] -4-methylphenol

【0040】1リットルの四つ口フラスコに、パラトル
エンスルホン酸1.14g、メタクレゾール25.95gお
よびトルエン54.19gを仕込んで30℃に調温した。
そこへ、参考例1で得られた純度80%の2,6−ビス
(4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−2,5−ジ
メチルベンジル)−4−メチルフェノール13.10gを
10分割して、1時間30分で投入し、その後同温度で
さらに3時間反応させた。反応終了後、濾過し、トルエ
ン100gでリンスした。得られた濾過物を、トルエン
100gと酢酸エチル200gの混合液に60℃で仕込
んで溶解させ、さらにイオン交換水200gを加えて攪
拌し、分液した。その後、1%シュウ酸水溶液200g
を仕込んで攪拌し、分液することにより脱金属を行っ
た。次にイオン交換水200gでの洗浄を4回行ったあ
と、オイル層を濃縮した。濃縮マスにトルエン100g
を加えて20℃まで冷却し、濾過後、トルエン100g
でリンスした。
A 1 liter four-necked flask was charged with 1.14 g of paratoluenesulfonic acid, 25.95 g of metacresol and 54.19 g of toluene and the temperature was adjusted to 30 ° C.
Then, 13.10 g of 2,6-bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl) -4-methylphenol having a purity of 80% obtained in Reference Example 1 was divided into 10 parts, The mixture was charged in 1 hour and 30 minutes, and then reacted at the same temperature for another 3 hours. After the reaction was completed, it was filtered and rinsed with 100 g of toluene. The obtained filtered product was charged and dissolved in a mixed liquid of 100 g of toluene and 200 g of ethyl acetate at 60 ° C., 200 g of ion-exchanged water was further added, and the mixture was stirred and separated. After that, 200 g of 1% oxalic acid aqueous solution
Was charged, stirred, and separated to demetalize. Next, after washing with 200 g of ion-exchanged water four times, the oil layer was concentrated. Toluene 100g in concentrated mass
And cooled to 20 ° C., filtered, and then toluene 100 g
I rinsed with.

【0041】得られた濾過物を45℃で一昼夜減圧乾燥
して、2,6−ビス〔4−ヒドロキシ−3−(4−ヒド
ロキシ−2−メチルベンジル)−2,5−ジメチルベン
ジル〕−4−メチルフェノール4.86g(定量純度9
4.5%)を得た。 2,6−ビス(4−ヒドロキシ−3
−ヒドロキシメチル−2,5−ジメチルベンジル)−4
−メチルフェノール基準の収率は31.1%であった。
The filtrate obtained was dried under reduced pressure at 45 ° C. for a whole day and night to give 2,6-bis [4-hydroxy-3- (4-hydroxy-2-methylbenzyl) -2,5-dimethylbenzyl] -4. -Methylphenol 4.86 g (quantitative purity 9
4.5%). 2,6-bis (4-hydroxy-3
-Hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl) -4
-The yield based on methylphenol was 31.1%.

【0042】質量分析: MS 6161 H−NMR(ジメチルスルホキシド) δ(ppm) :1.8
2 (s, 6H); 1.98 (s, 3H); 2.13 (s, 6H);2.28 (s, 6
H); 3.82 (brs, 8H);6.24 (d, J = 8.2 Hz, 2H); 6.25
(s, 2H);6.38 (d, J = 8.2 Hz, 2H); 6.58 (s, 2H);6.7
2 (s, 2H); 7.11 (d, J = 7.9 Hz, 2H);7.49 (d, J =
7.9 Hz, 2H); 8.12 (brs, 1H).
Mass spectrometry: MS 616 1 H-NMR (dimethyl sulfoxide) δ (ppm): 1.8
2 (s, 6H); 1.98 (s, 3H); 2.13 (s, 6H); 2.28 (s, 6
H); 3.82 (brs, 8H); 6.24 (d, J = 8.2 Hz, 2H); 6.25
(s, 2H); 6.38 (d, J = 8.2 Hz, 2H); 6.58 (s, 2H); 6.7
2 (s, 2H); 7.11 (d, J = 7.9 Hz, 2H); 7.49 (d, J =
7.9 Hz, 2H); 8.12 (brs, 1H).

【0043】実施例4: 2,6−ビス〔4−ヒドロキ
シ−3−(2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−
2,5−ジメチルベンジル〕−4−メチルフェノールの
製造
Example 4: 2,6-bis [4-hydroxy-3- (2-hydroxy-5-methylbenzyl)-
Production of 2,5-dimethylbenzyl] -4-methylphenol

【0044】1リットルの四つ口フラスコに、パラトル
エンスルホン酸1.90g、パラクレゾール86.51gお
よびトルエン176.83gを仕込んで30℃に調温し
た。そこへ、参考例1で得られた純度80%の2,6−
ビス(4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−2,5
−ジメチルベンジル)−4−メチルフェノール21.83
gを10分割して、1時間30分で投入し、その後同温
度でさらに3時間反応させた。反応終了後濾過し、トル
エン200gでリンスした。得られた濾過物を、トルエ
ン200gと酢酸エチル400gの混合液に60℃で仕
込んで溶解させ、さらにイオン交換水400gを加えて
攪拌し、分液した。その後、1%シュウ酸水溶液400
gを仕込んで攪拌し、分液することにより脱金属を行っ
た。次にイオン交換水400gでの洗浄を4回行ったあ
と、オイル層を濃縮した。濃縮マスにトルエン200g
を加えて20℃まで冷却し、濾過後、トルエン200g
でリンスした。
A 1-liter four-necked flask was charged with 1.90 g of para-toluenesulfonic acid, 86.5 g of para-cresol and 176.83 g of toluene, and the temperature was adjusted to 30 ° C. There, 2,6-of 80% purity obtained in Reference Example 1
Bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5
-Dimethylbenzyl) -4-methylphenol 21.83
g was divided into 10 parts, charged for 1 hour and 30 minutes, and then reacted at the same temperature for 3 hours. After completion of the reaction, the mixture was filtered and rinsed with 200 g of toluene. The obtained filtered material was charged and dissolved in a mixed solution of 200 g of toluene and 400 g of ethyl acetate at 60 ° C., 400 g of ion-exchanged water was further added, and the mixture was stirred and separated. Then, 1% oxalic acid aqueous solution 400
Demetalization was carried out by charging g, stirring, and separating. Next, after washing with 400 g of ion-exchanged water four times, the oil layer was concentrated. Toluene 200g in concentrated mass
And cooled to 20 ° C., filtered, and then toluene 200 g
I rinsed with.

【0045】得られた濾過物を45℃で一昼夜減圧乾燥
して、2,6−ビス〔4−ヒドロキシ−3−(2−ヒド
ロキシ−5−メチルベンジル)−2,5−ジメチルベン
ジル〕−4−メチルフェノール22.87g(定量純度9
4.6%)を得た。2,6−ビス(4−ヒドロキシ−3−
ヒドロキシメチル−2,5−ジメチルベンジル)−4−
メチルフェノール基準の収率は87.6%であった。
The obtained filtered product was dried under reduced pressure at 45 ° C. for a whole day and night to give 2,6-bis [4-hydroxy-3- (2-hydroxy-5-methylbenzyl) -2,5-dimethylbenzyl] -4. -Methylphenol 22.87g (quantitative purity 9
4.6%). 2,6-bis (4-hydroxy-3-
Hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl) -4-
The yield based on methylphenol was 87.6%.

【0046】質量分析: MS 6161 H−NMR(ジメチルスルホキシド) δ(ppm) :1.8
8 (s, 6H); 1.95 (s, 3H); 2.03 (s, 6H);2.13 (s, 6
H); 3.78 (s, 4H); 3.88 (s, 4H);6.28 (s, 2H); 6.32
(s, 2H);6.68 (d, J = 8.2 Hz, 2H); 6.70 (s, 2H);6.7
4 (d, J = 8.2 Hz, 2H); 7.95 (brs, 2H);8.12 (brs, 1
H); 9.20 (brs, 2H).
Mass spectrum: MS 616 1 H-NMR (dimethyl sulfoxide) δ (ppm): 1.8
8 (s, 6H); 1.95 (s, 3H); 2.03 (s, 6H); 2.13 (s, 6
H); 3.78 (s, 4H); 3.88 (s, 4H); 6.28 (s, 2H); 6.32
(s, 2H); 6.68 (d, J = 8.2 Hz, 2H); 6.70 (s, 2H); 6.7
4 (d, J = 8.2 Hz, 2H); 7.95 (brs, 2H); 8.12 (brs, 1
H); 9.20 (brs, 2H).

【0047】実施例5: 2,6−ビス〔4−ヒドロキ
シ−3−(4−ヒドロキシ−2,5−ジメチルベンジ
ル)−2,5−ジメチルベンジル〕−4−メチルフェノ
ールの製造
Example 5: Preparation of 2,6-bis [4-hydroxy-3- (4-hydroxy-2,5-dimethylbenzyl) -2,5-dimethylbenzyl] -4-methylphenol

【0048】1リットルの四つ口フラスコに、パラトル
エンスルホン酸11.41g、2,5−キシレノール19
5.47gおよびトルエン235gを仕込んで40℃に調
温した。 そこへ、参考例1で得られた純度80%の
2,6−ビス(4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル
−2,5−ジメチルベンジル)−4−メチルフェノール
87.31gを10分割して、1時間30分で投入し、そ
の後同温度でさらに3時間反応させた。反応終了後濾過
し、トルエン200gでリンスした。得られた濾過物
を、トルエン200gと酢酸エチル1000gの混合液
に60℃で仕込んで溶解させ、さらにイオン交換水10
00gを加えて攪拌し、分液した。その後、1%シュウ
酸水溶液1000gを仕込んで攪拌し、分液することに
より脱金属を行った。次にイオン交換水1000gでの
洗浄を4回行ったあと、オイル層を濃縮した。濃縮マス
にトルエン500gを加えて20℃まで冷却し、濾過
後、トルエン500gでリンスした。
In a 1 liter four-necked flask, 11.41 g of para-toluenesulfonic acid and 19,5-xylenol 19 were added.
5.47 g and 235 g of toluene were charged and the temperature was adjusted to 40 ° C. Then, 87.31 g of 2,6-bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl) -4-methylphenol having a purity of 80% obtained in Reference Example 1 was divided into 10 parts, The mixture was charged in 1 hour and 30 minutes, and then reacted at the same temperature for another 3 hours. After completion of the reaction, the mixture was filtered and rinsed with 200 g of toluene. The obtained filtered product was charged and dissolved in a mixed liquid of 200 g of toluene and 1000 g of ethyl acetate at 60 ° C., and further ion-exchanged water 10
00 g was added, and the mixture was stirred and separated. Thereafter, 1000 g of a 1% oxalic acid aqueous solution was charged, and the mixture was stirred and separated to perform demetalization. Next, after washing with 1000 g of ion-exchanged water four times, the oil layer was concentrated. To the concentrated mass was added 500 g of toluene, cooled to 20 ° C., filtered, and rinsed with 500 g of toluene.

【0049】得られた濾過物を45℃で一昼夜減圧乾燥
して、2,6−ビス〔4−ヒドロキシ−3−(4−ヒド
ロキシ−2,5−ジメチルベンジル)−2,5−ジメチ
ルベンジル〕−4−メチルフェノール34.8g(定量純
度95.6%)を得た。2,6−ビス(4−ヒドロキシ−
3−ヒドロキシメチル−2,5−ジメチルベンジル)−
4−メチルフェノール基準の収率は32.3%であった。
The obtained filtrate was dried under reduced pressure at 45 ° C. for one day to obtain 2,6-bis [4-hydroxy-3- (4-hydroxy-2,5-dimethylbenzyl) -2,5-dimethylbenzyl]. 34.8 g of -4-methylphenol (quantitative purity 95.6%) was obtained. 2,6-bis (4-hydroxy-
3-hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl)-
The yield based on 4-methylphenol was 32.3%.

【0050】質量分析: MS 6441 H−NMR(ジメチルスルホキシド) δ(ppm) :1.8
0 (s, 6H); 1.88 (s, 6H); 1.95 (s, 3H);2.13 (s, 6
H); 2.25 (s, 6H); 3.75 (s, 4H);3.78 (s, 4H); 6.16
(s, 2H); 6.26 (s, 2H);6.58 (s, 2H); 6.77 (s, 2H);
7.89 (brs, 2H);8.15 (brs, 1H); 8.80 (brs, 2H).
Mass spectrometry: MS 644 1 H-NMR (dimethyl sulfoxide) δ (ppm): 1.8
0 (s, 6H); 1.88 (s, 6H); 1.95 (s, 3H); 2.13 (s, 6
H); 2.25 (s, 6H); 3.75 (s, 4H); 3.78 (s, 4H); 6.16
(s, 2H); 6.26 (s, 2H); 6.58 (s, 2H); 6.77 (s, 2H);
7.89 (brs, 2H); 8.15 (brs, 1H); 8.80 (brs, 2H).

【0051】実施例6: 2,6−ビス〔4−ヒドロキ
シ−3−(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジ
ル)−2,5−ジメチルベンジル〕−4−メチルフェノ
ールの製造
Example 6: Preparation of 2,6-bis [4-hydroxy-3- (2-hydroxy-3,5-dimethylbenzyl) -2,5-dimethylbenzyl] -4-methylphenol

【0052】1リットルの四つ口フラスコに、パラトル
エンスルホン酸1.9g、2,4−キシレノール97.73
gおよびトルエン199.3gを仕込んで30℃に調温し
た。そこへ参考例1で得られた純度80%の2,6−ビ
ス(4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−2,5−
ジメチルベンジル)−4−メチルフェノール21.83g
を10分割して、1時間30分で投入し、その後同温度
でさらに3時間反応させた。反応終了後濾過し、トルエ
ン100gでリンスした。得られた濾過物を、トルエン
100gと酢酸エチル200gの混合液に60℃で仕込
んで溶解させ、さらにイオン交換水200gを加えて攪
拌し、分液した。その後、1%シュウ酸水溶液200g
を仕込んで攪拌し、分液することにより脱金属を行っ
た。次にイオン交換水200gでの洗浄を4回行ったあ
と、オイル層を濃縮した。濃縮マスにトルエン100g
を加えて20℃まで冷却し、濾過後、トルエン100g
でリンスした。
In a 1 liter four-necked flask, 1.9 g of paratoluenesulfonic acid and 9,773 of 2,4-xylenol were added.
g and 199.3 g of toluene were charged and the temperature was adjusted to 30 ° C. 80% pure 2,6-bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5-obtained in Reference Example 1)
Dimethylbenzyl) -4-methylphenol 21.83 g
Was divided into 10 parts, charged for 1 hour and 30 minutes, and then reacted at the same temperature for another 3 hours. After completion of the reaction, the mixture was filtered and rinsed with 100 g of toluene. The obtained filtered product was charged and dissolved in a mixed liquid of 100 g of toluene and 200 g of ethyl acetate at 60 ° C., 200 g of ion-exchanged water was further added, and the mixture was stirred and separated. After that, 200 g of 1% oxalic acid aqueous solution
Was charged, stirred, and separated to demetalize. Next, after washing with 200 g of ion-exchanged water four times, the oil layer was concentrated. Toluene 100g in concentrated mass
And cooled to 20 ° C., filtered, and then toluene 100 g
I rinsed with.

【0053】得られた濾過物を45℃で一昼夜減圧乾燥
して、2,6−ビス〔4−ヒドロキシ−3−(2−ヒド
ロキシ−3,5−ジメチルベンジル)−2,5−ジメチ
ルベンジル〕−4−メチルフェノール22.86g(定量
純度95.1%)を得た。2,6−ビス(4−ヒドロキシ
−3−ヒドロキシメチル−2,5−ジメチルベンジル)
−4−メチルフェノール基準の収率は84.3%であっ
た。
The obtained filtered product was dried under reduced pressure at 45 ° C. for one day to obtain 2,6-bis [4-hydroxy-3- (2-hydroxy-3,5-dimethylbenzyl) -2,5-dimethylbenzyl]. 22.86 g (quantitative purity 95.1%) of 4-methylphenol was obtained. 2,6-bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl)
The yield based on -4-methylphenol was 84.3%.

【0054】質量分析: MS 6441 H−NMR(ジメチルスルホキシド) δ(ppm) :1.8
8 (s, 6H); 1.95 (s, 3H); 2.00 (s, 6H);2.12 (s, 12
H); 3.77 (s, 4H); 3.88 (s, 4H);6.19 (s, 2H); 6.26
(s, 2H); 6.68 (s, 2H);6.72 (s, 2H); 8.05 (brs, 2
H); 8.14 (brs, 1H);8.18 (brs, 2H).
Mass spectrometry: MS 644 1 H-NMR (dimethyl sulfoxide) δ (ppm): 1.8
8 (s, 6H); 1.95 (s, 3H); 2.00 (s, 6H); 2.12 (s, 12
H); 3.77 (s, 4H); 3.88 (s, 4H); 6.19 (s, 2H); 6.26
(s, 2H); 6.68 (s, 2H); 6.72 (s, 2H); 8.05 (brs, 2
H); 8.14 (brs, 1H); 8.18 (brs, 2H).

【0055】実施例7: 2,6−ビス〔4−ヒドロキ
シ−3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジ
ル)−2,5−ジメチルベンジル〕−4−メチルフェノ
ールの製造
Example 7: Preparation of 2,6-bis [4-hydroxy-3- (4-hydroxy-3,5-dimethylbenzyl) -2,5-dimethylbenzyl] -4-methylphenol

【0056】実施例6における2,4−キシレノールの
代わりに2,6−キシレノールを同量用いた以外は、実
施例6と同様の操作を行い、2,6−ビス〔4−ヒドロ
キシ−3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジ
ル)−2,5−ジメチルベンジル〕−4−メチルフェノ
ール25.86g(定量純度96.4%)を得た。2,6−
ビス(4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−2,5
−ジメチルベンジル)−4−メチルフェノール基準の収
率は96.6%であった。
The same operation as in Example 6 was repeated except that the same amount of 2,6-xylenol was used in place of 2,4-xylenol in Example 6, to obtain 2,6-bis [4-hydroxy-3-). 25.86 g (quantitative purity 96.4%) of (4-hydroxy-3,5-dimethylbenzyl) -2,5-dimethylbenzyl] -4-methylphenol was obtained. 2,6-
Bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5
The yield based on -dimethylbenzyl) -4-methylphenol was 96.6%.

【0057】質量分析: MS 6441 H−NMR(ジメチルスルホキシド) δ(ppm) :1.9
2 (s, 12H); 2.05 (s, 12H); 2.14 (s, 3H);3.77 (s, 4
H); 3.88 (s, 4H); 6.25 (s, 2H);6.60 (s, 4H); 6.66
(s, 2H); 8.12 (brs, 5H).
Mass spectrum: MS 644 1 H-NMR (dimethyl sulfoxide) δ (ppm): 1.9
2 (s, 12H); 2.05 (s, 12H); 2.14 (s, 3H); 3.77 (s, 4
H); 3.88 (s, 4H); 6.25 (s, 2H); 6.60 (s, 4H); 6.66
(s, 2H); 8.12 (brs, 5H).

【0058】実施例8: 2,6−ビス〔4−ヒドロキ
シ−3−(4−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)−2,5−ジメチルベンジル〕−4−メチルフェノ
ールの製造
Example 8: Preparation of 2,6-bis [4-hydroxy-3- (4-hydroxy-2,6-dimethylbenzyl) -2,5-dimethylbenzyl] -4-methylphenol

【0059】実施例6における2,4−キシレノールの
代わりに3,5−キシレノールを同量用いた以外は、実
施例6と同様の操作を行い、2,6−ビス〔4−ヒドロ
キシ−3−(4−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)−2,5−ジメチルベンジル〕−4−メチルフェノ
ール15.86g(定量純度93.8%)を得た。2,6−
ビス(4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−2,5
−ジメチルベンジル)−4−メチルフェノール基準の収
率は57.7%であった。
The same operation as in Example 6 was repeated except that the same amount of 3,5-xylenol was used instead of 2,4-xylenol in Example 6, to give 2,6-bis [4-hydroxy-3-). There were obtained 15.86 g (quantitative purity 93.8%) of (4-hydroxy-2,6-dimethylbenzyl) -2,5-dimethylbenzyl] -4-methylphenol. 2,6-
Bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5
The yield based on -dimethylbenzyl) -4-methylphenol was 57.7%.

【0060】質量分析: MS 6441 H−NMR(ジメチルスルホキシド) δ(ppm) :1.8
5 (s, 6H); 1.88 (s, 3H); 1.92 (s, 6H);2.06 (s, 6
H); 2.12 (s, 6H); 3.70 (s, 4H);3.96 (s, 4H); 6.12
(s, 2H); 6.32 (s, 2H);6.47 (s, 2H); 6.61 (s, 2H);
7.94 (s, 2H);8.02 (s, 1H); 9.40 (s, 2H).
Mass spectrum: MS 644 1 H-NMR (dimethyl sulfoxide) δ (ppm): 1.8
5 (s, 6H); 1.88 (s, 3H); 1.92 (s, 6H); 2.06 (s, 6
H); 2.12 (s, 6H); 3.70 (s, 4H); 3.96 (s, 4H); 6.12
(s, 2H); 6.32 (s, 2H); 6.47 (s, 2H); 6.61 (s, 2H);
7.94 (s, 2H); 8.02 (s, 1H); 9.40 (s, 2H).

【0061】実施例9: 2,6−ビス〔4−ヒドロキ
シ−3−(2−ヒドロキシ−4,5−ジメチルベンジ
ル)−2,5−ジメチルベンジル〕−4−メチルフェノ
ールの製造
Example 9: Preparation of 2,6-bis [4-hydroxy-3- (2-hydroxy-4,5-dimethylbenzyl) -2,5-dimethylbenzyl] -4-methylphenol

【0062】1リットルの四つ口フラスコに、パラトル
エンスルホン酸1.14g、3,4−キシレノール58.6
4gおよびトルエン119.6gを仕込んで30℃に調温
し、そこへ参考例1で得られた純度80%の2,6−ビ
ス(4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−2,5−
ジメチルベンジル)−4−メチルフェノール13.10g
を10分割して、1時間30分で投入し、その後同温度
でさらに3時間反応させた。反応終了後濾過し、トルエ
ン100gでリンスした。得られた濾過物を、トルエン
100gと酢酸エチル200gの混合液に60℃で仕込
んで溶解させ、さらにイオン交換水200gを加えて攪
拌し、分液した。その後、1%シュウ酸水溶液200g
を仕込んで攪拌し、分液することにより脱金属を行っ
た。次にイオン交換水200gでの洗浄を4回行ったあ
と、オイル層を濃縮した。濃縮マスにトルエン100g
を加えて20℃まで冷却し、濾過後、トルエン100g
でリンスした。
In a 1 liter four-necked flask, 1.14 g of paratoluenesulfonic acid and 58.6 of 3,4-xylenol were added.
4 g and 119.6 g of toluene were charged and the temperature was adjusted to 30 ° C., and 2,6-bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5-bis (2-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5-) obtained in Reference Example 1 and having a purity of 80%.
Dimethylbenzyl) -4-methylphenol 13.10 g
Was divided into 10 parts, charged for 1 hour and 30 minutes, and then reacted at the same temperature for another 3 hours. After completion of the reaction, the mixture was filtered and rinsed with 100 g of toluene. The obtained filtered product was charged and dissolved in a mixed liquid of 100 g of toluene and 200 g of ethyl acetate at 60 ° C., 200 g of ion-exchanged water was further added, and the mixture was stirred and separated. After that, 200 g of 1% oxalic acid aqueous solution
Was charged, stirred, and separated to demetalize. Next, after washing with 200 g of ion-exchanged water four times, the oil layer was concentrated. Toluene 100g in concentrated mass
And cooled to 20 ° C., filtered, and then toluene 100 g
I rinsed with.

【0063】得られた濾過物を45℃で一昼夜減圧乾燥
して、2,6−ビス〔4−ヒドロキシ−3−(2−ヒド
ロキシ−4,5−ジメチルベンジル)−2,5−ジメチ
ルベンジル〕−4−メチルフェノール6.86g(定量純
度95.8%)を得た。2,6−ビス(4−ヒドロキシ−
3−ヒドロキシメチル−2,5−ジメチルベンジル)−
4−メチルフェノール基準の収率は42.5%であった。
The obtained filtered product was dried under reduced pressure at 45 ° C. for one day to obtain 2,6-bis [4-hydroxy-3- (2-hydroxy-4,5-dimethylbenzyl) -2,5-dimethylbenzyl]. 6.86 g of 4-methylphenol (quantitative purity 95.8%) was obtained. 2,6-bis (4-hydroxy-
3-hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl)-
The yield based on 4-methylphenol was 42.5%.

【0064】質量分析: MS 6441 H−NMR(ジメチルスルホキシド) δ(ppm) :1.8
2 (s, 6H); 1.91 (s, 6H); 1.94 (s, 3H);2.06 (s, 6
H); 2.14 (s, 6H); 3.75 (s, 4H);3.82 (s, 4H); 6.26
(s, 2H); 6.27 (s, 2H);6.58 (s, 2H); 6.70 (s, 2H);
7.94 (s, 2H);8.12 (s, 1H); 9.08 (s, 2H).
Mass spectrometry: MS 644 1 H-NMR (dimethyl sulfoxide) δ (ppm): 1.8
2 (s, 6H); 1.91 (s, 6H); 1.94 (s, 3H); 2.06 (s, 6
H); 2.14 (s, 6H); 3.75 (s, 4H); 3.82 (s, 4H); 6.26
(s, 2H); 6.27 (s, 2H); 6.58 (s, 2H); 6.70 (s, 2H);
7.94 (s, 2H); 8.12 (s, 1H); 9.08 (s, 2H).

【0065】実施例10: 2,6−ビス〔4−ヒドロキ
シ−3−(4−ヒドロキシ−2,3,6−トリメチルベ
ンジル)−2,5−ジメチルベンジル〕−4−メチルフ
ェノールの製造
Example 10: Preparation of 2,6-bis [4-hydroxy-3- (4-hydroxy-2,3,6-trimethylbenzyl) -2,5-dimethylbenzyl] -4-methylphenol

【0066】1リットルの四つ口フラスコに、パラトル
エンスルホン酸1.14g、2,3,5−トリメチルフェ
ノール43.58gおよびトルエン88.69gを仕込んで
30℃に調温し、そこへ、参考例1で得られた純度80
%の2,6−ビス(4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメ
チル−2,5−ジメチルベンジル)−4−メチルフェノ
ール8.73gを10分割して、1時間30分で投入し、
その後同温度でさらに3時間反応させた。反応終了後濾
過し、トルエン100gでリンスした。得られた濾過物
を、トルエン100gと酢酸エチル200gの混合液に
60℃で仕込んで溶解させ、さらにイオン交換水200
gを加えて攪拌し、分液した。その後、1%シュウ酸水
溶液200gを仕込んで攪拌し、分液することにより脱
金属を行った。次にイオン交換水200gでの洗浄を4
回行ったあと、オイル層を濃縮した。濃縮マスにトルエ
ン100gを加えて20℃まで冷却し、濾過後、トルエ
ン100gでリンスした。
A 1 liter four-necked flask was charged with 1.14 g of paratoluenesulfonic acid, 43.58 g of 2,3,5-trimethylphenol and 88.69 g of toluene, and the temperature was adjusted to 30 ° C. Purity 80 obtained in Example 1
%, 2,6-bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl) -4-methylphenol (8.73 g) was divided into 10 parts and charged in 1 hour and 30 minutes.
Then, the mixture was reacted at the same temperature for 3 hours. After completion of the reaction, the mixture was filtered and rinsed with 100 g of toluene. The obtained filtered product was charged and dissolved in a mixed solution of 100 g of toluene and 200 g of ethyl acetate at 60 ° C., and further ion-exchanged water 200
g was added, and the mixture was stirred and separated. Thereafter, 200 g of a 1% oxalic acid aqueous solution was charged, and the mixture was stirred and separated to perform demetalization. Next, wash with 200 g of deionized water 4
After several rounds, the oil layer was concentrated. To the concentrated mass was added 100 g of toluene, cooled to 20 ° C., filtered, and rinsed with 100 g of toluene.

【0067】得られた濾過物を45℃で一昼夜減圧乾燥
して、2,6−ビス〔4−ヒドロキシ−3−(4−ヒド
ロキシ−2,3,6−トリメチルベンジル)−2,5−
ジメチルベンジル〕−4−メチルフェノール6.86g
(定量純度94.5%)を得た。2,6−ビス(4−ヒド
ロキシ−3−ヒドロキシメチル−2,5−ジメチルベン
ジル)−4−メチルフェノール基準の収率は60.2%で
あった。
The filtrate thus obtained was dried under reduced pressure at 45 ° C. for a whole day and night to give 2,6-bis [4-hydroxy-3- (4-hydroxy-2,3,6-trimethylbenzyl) -2,5-.
Dimethylbenzyl] -4-methylphenol 6.86g
(Quantitative purity 94.5%) was obtained. The yield based on 2,6-bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl) -4-methylphenol was 60.2%.

【0068】質量分析: MS 6721 H−NMR(ジメチルスルホキシド) δ(ppm) :1.8
5 (s, 6H); 1.88 (s, 3H); 1.95 (s, 6H);2.04 (s, 6
H); 2.12 (s, 12H); 3.70 (s, 4H);3.98 (s, 4H); 6.16
(s, 2H); 6.42 (s, 2H);6.64 (s, 2H); 8.12 (s, 1H);
8.18 (brs, 2H);8.24 (brs, 2H).
Mass spectrometry: MS 672 1 H-NMR (dimethyl sulfoxide) δ (ppm): 1.8
5 (s, 6H); 1.88 (s, 3H); 1.95 (s, 6H); 2.04 (s, 6
H); 2.12 (s, 12H); 3.70 (s, 4H); 3.98 (s, 4H); 6.16
(s, 2H); 6.42 (s, 2H); 6.64 (s, 2H); 8.12 (s, 1H);
8.18 (brs, 2H); 8.24 (brs, 2H).

【0069】実施例1〜10で得られた化合物は、それ
ぞれ次の構造を有する。
The compounds obtained in Examples 1 to 10 have the following structures, respectively.

【0070】 [0070]

【0071】 [0071]

【0072】[0072]

【発明の効果】本発明によれば、式(I)で示される5
核体ノボラック化合物が、高い選択率で、しかも高純
度、高収率で製造できる。そして、こうして得られる5
核体ノボラック化合物は、半導体製造用レジスト組成物
における感光剤の原料またはアルカリ可溶性低分子量添
加剤として有用である。
According to the present invention, 5 represented by the formula (I)
A nuclear novolak compound can be produced with high selectivity, high purity and high yield. And 5 obtained in this way
The nuclear novolak compound is useful as a raw material of a photosensitizer or an alkali-soluble low molecular weight additive in a resist composition for semiconductor production.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】2,6−ビス(4−ヒドロキシ−3−ヒド
ロキシメチル−2,5−ジメチルベンジル)−4−メチ
ルフェノールと、下記式(I)の化合物を生成するのに
必要なフェノール系化合物とを、1:2〜50のモル比
で、酸触媒の存在下に反応させることを特徴とする、式
(I) (式中、R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 の一つは水
酸基を表し、 R6 、R7 、R8 、R9 およびR10の一
つは水酸基を表し、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 、R7 、R8 、R9 およびR10の残りは互いに独立
に、水素、炭素数1〜6のアルキルまたは水酸基を表
す)で示される5核体ノボラック化合物の製造方法。
1. A 2,6-bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl) -4-methylphenol and a phenolic system necessary for producing a compound of the following formula (I): A compound of formula (I), characterized in that it is reacted with a compound in a molar ratio of 1: 2 to 50 in the presence of an acid catalyst. (Wherein one of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 represents a hydroxyl group, one of R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 represents a hydroxyl group, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R
The rest of 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 independently of each other represent hydrogen, an alkyl having 1 to 6 carbons or a hydroxyl group).
【請求項2】2,6−ビス(4−ヒドロキシ−3−ヒド
ロキシメチル−2,5−ジメチルベンジル)−4−メチ
ルフェノールに対して酸触媒を0.01〜1当量存在させ
る請求項1記載の方法。
2. The acid catalyst is present in an amount of 0.01 to 1 equivalent based on 2,6-bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl) -4-methylphenol. the method of.
【請求項3】溶媒中で反応を行う請求項1または2記載
の方法。
3. The method according to claim 1, wherein the reaction is carried out in a solvent.
【請求項4】反応溶媒が、アルコール類、水および芳香
族溶媒から選ばれる請求項3記載の方法。
4. The method according to claim 3, wherein the reaction solvent is selected from alcohols, water and aromatic solvents.
【請求項5】原料のフェノール系化合物に対して反応溶
媒を0.5〜5重量倍使用する請求項3または4記載の方
法。
5. The method according to claim 3 or 4, wherein the reaction solvent is used in an amount of 0.5 to 5 times the weight of the starting phenolic compound.
【請求項6】原料フェノール系化合物、酸触媒および反
応溶媒の混合物中へ、2,6−ビス(4−ヒドロキシ−
3−ヒドロキシメチル−2,5−ジメチルベンジル)−
4−メチルフェノールを0.01〜12時間かけて添加す
る請求項3〜5のいずれかに記載の方法。
6. A mixture of a starting phenolic compound, an acid catalyst and a reaction solvent is charged with 2,6-bis (4-hydroxy-).
3-hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl)-
The method according to any one of claims 3 to 5, wherein 4-methylphenol is added over 0.01 to 12 hours.
【請求項7】生成物を芳香族溶媒から晶析させる請求項
1〜6のいずれかに記載の方法。
7. The method according to claim 1, wherein the product is crystallized from an aromatic solvent.
【請求項8】生成物を水への溶解度が9g/100g以
下である溶媒に溶解し、水洗分液を行って、金属含量を
低減させる請求項1〜7のいずれかに記載の方法。
8. The method according to claim 1, wherein the product is dissolved in a solvent having a water solubility of 9 g / 100 g or less, and water separation is performed to reduce the metal content.
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