JPH09111128A - 帯電防止されたプラスチックフィルム材料およびそれを用いたハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

帯電防止されたプラスチックフィルム材料およびそれを用いたハロゲン化銀写真感光材料

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JPH09111128A
JPH09111128A JP7274284A JP27428495A JPH09111128A JP H09111128 A JPH09111128 A JP H09111128A JP 7274284 A JP7274284 A JP 7274284A JP 27428495 A JP27428495 A JP 27428495A JP H09111128 A JPH09111128 A JP H09111128A
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conductive
film
particles
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film material
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JP7274284A
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English (en)
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Ikuo Kurachi
育夫 倉地
Hidetoshi Ezure
秀敏 江連
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Konica Minolta Inc
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Konica Minolta Inc
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 透明性、塗布液の安定性、作業性などの問題
を解決し、低湿度下でも高い帯電防止性能を有する透明
プラスチックフィルム材料又はそれを支持体として用い
たハロゲン化銀写真感光材料を提供すること。 【構成】 少なくとも１層の導電性層を有するフィルム
材料であって、該フィルム材料の周波数２０Ｈｚにおけ
るインピーダンスの絶対値が４×１０5Ω以上であり、
かつ該少なくとも１層の導電性層に、高分子バインダー
と、導電体および／もしくは半導体粒子を該導電性層の
１ｖｏｌ％以上５０ｖｏｌ％以下と、Ｔｇもしくは融点
が５０℃以下の有機化合物を０．０００１ｖｏｌ％以上
１０ｖｏｌ％以下とを含有することを特徴とするフィル
ム材料により達成された。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は湿度変化の影響が少
なくなるように帯電防止性能を改良したプラスチックフ
ィルムに関するものであり、磁気テープ、フロッピーデ
ィスク、フレキシブル基板、メンブレンスイッチ用基
材、プリンター記録紙などに用いる事ができるプラスチ
ックフィルム材料に関し、特に透明性を損なわないフィ
ルムも提供できるので、ＯＨＰ用フィルム、液晶表示装
置、タッチパネル、ステンドグラスなどの用途に利用で
きるプラスチックフィルムに関する。また、その優れた
透明性が写真特性に悪影響を与える事無く良好なので写
真感光材料にも用いる事ができる。特に写真感光材料で
は、その優れた特性故に、感光材料が、従来から用いら
れてきた銀塩のみならず銀塩以外の感光材料を用いた分
野まで用いることが可能である。
【０００２】
【従来の技術】一般にプラスチックフィルムは帯電性が
強く、この物性を利用した用途以外は使用上制限を受け
たり、その特性が障害となる場合が多い。例えば、写真
感光材料は、一般に透明な支持体として、電気絶縁性を
有するプラスチックフィルムが用いられ、この支持体上
に写真感光層が塗布され、いわゆる複合材料となってい
る。
【０００３】写真感光材料の製造工程中並びに使用時
に、同種又は異種物質の表面との間の接触摩擦又は剥離
の際に帯電しやすい。帯電により蓄積された静電電荷は
多くの障害を引き起こす。最も重大な障害は、現像処理
前に蓄積された静電電荷が放電することにより感光性乳
剤層を感光し、写真フィルムを現像処理した際に、いわ
ゆるスタチックマークと呼ばれている点状スポット又は
樹枝状や羽毛状の線斑を生ずることである。例えばこの
現象が医療用又は工業用Ｘ線フィルム等に現れた場合に
は、診断を誤るなどの非常に危険な判断につながる可能
性がある。この現象は現像してみて初めて明らかになる
もので非常に厄介な問題の一つである。
【０００４】また、これらの蓄積された静電電荷によ
り、フィルム表面へゴミが付着したり、フィルム表面へ
の均一な塗布が行なえない等の故障が生じる原因にもな
る。
【０００５】かかる帯電は、前述した以外にも数多く発
生する。例えば製造工程においては写真フィルムとロー
ラーとの接触摩擦あるいは写真フィルムの巻き取り、巻
き戻し工程中での支持体面と乳剤面の分離等によって生
じる。また仕上がり製品においては写真フィルムを巻き
取り、切換えを行った場合のベース面と乳剤面との分離
によって、またはＸ線フィルムの自動撮影中での機械部
分、あるいは蛍光増感紙との間の接触分離等が原因とな
って発生する。その他包装材料との接触等でも発生す
る。
【０００６】かかる静電電荷の蓄積によって誘起される
写真感光材料のスタチックマークは、写真感光材料の感
度が上昇し、処理速度が増加するに従って顕著となる。
特に最近においては、写真感光材料の高度化及び高速塗
布、高速撮影、高速自動処理等による過酷な取扱いを受
ける機会が多くなったことによって、一層スタチックマ
ークの発生が出易くなっている。
【０００７】更に現像処理後のゴミ付着も近年大きな問
題となっており、現像処理後にも帯電防止性を保持する
ような改良が要求されている。
【０００８】これらの静電気による障害をなくすのに最
も良い方法は、物質の電気伝導性を上げて、蓄積電荷が
放電する前に静電電荷を短時間に散逸せしめるようにす
ることである。
【０００９】従って、従来から写真感光材料の支持体や
各種塗布表面層の導電性を向上させる方法が考えられ種
々の吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、
ポリマー等の利用が試みられてきた。
【００１０】例えば、特開昭４９−９１１６５号及び同
４９−１２１５２３号にはポリマー主鎖中に解離基を有
するイオン型ポリマーを適用する例が開示されている。
その他特開平２−９６８９号、特開平２−１８２４９１
号に記載されているような導電性ポリマー、特開昭６３
−５５５４１号、特開昭６３−１４８２５４号、特開昭
６３−１４８２５６号、特開平１−３１４１９１号等に
記載されているような界面活性剤に関する発明等が知ら
れている。
【００１１】しかしながら、これら多くの物質は、フィ
ルム支持体の種類や写真組成物の違いによって特異性を
示し、ある特定のフィルム支持体及び写真乳剤やその他
の写真構成要素には良い結果を与えるが、他の異なった
フィルム支持体及び写真構成要素では帯電防止に全く役
に立たないばかりでなく、写真性に悪影響を及ぼす場合
がある。さらに重要な欠点として、これらの多くの物質
は、低湿度下では導電層としての機能を失ってしまう。
【００１２】この低湿度下での性能劣化を改善する目的
で、特公昭３５−６６１６号と特公平１−２０７３５号
には金属酸化物を帯電防止処理剤として用いる技術につ
いて記載されている。前者の技術は、コロイド状のゾル
分散液を用いる方法が開示され、後者においては、前者
の導電性の問題点改善を目的として高温度で処理を行っ
た結晶性の高い金属酸化物粉体を用いる方法が開示され
た。
【００１３】しかし後者の技術は結晶性の高い粉末を用
いているので光散乱に対して、粒子径と粒子／バインダ
ーの比などを考慮する必要のあることが述べられてい
る。また特開平４−２９１３４号においては、低湿度下
での性能改善のみならず他の欠点の改善を目的として、
写真感光材料に用いる導電性素材に、粒子状の金属酸化
物と繊維状の金属酸化物を用いる方法が開示されている
が、添加量の問題が残されていた。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】このように、プラスチ
ックフィルムの静電気による障害を克服するための努力
が長年に亘り為されてきたにも関わらず、その発生メカ
ニズムと材料との関係が未だ不明で、特に障害が商品に
致命的な影響として現れる写真分野においては、導電性
の高い材料、たとえば導電性金属酸化物粒子を塗布する
のが最良の手段として選ばれてきた。しかし、導電性金
属酸化物粒子を含有する層を設けた写真感光材料に関し
ては、特公昭３５−６６１６号が開示されて以来、低湿
度下での性能劣化を改善する手段として３０年以上の長
期にわたり研究されてきたにもかかわらず、いまだに多
くの未解決の問題が残されたまま現在に至っている。
【００１５】例えば、かかる導電性金属酸化物粒子を含
有する層をハロゲン化銀と接して設けた場合には、取扱
い中に摩擦される事によって画像に圧力カブリ若しくは
スリキズが生じ易いという問題、あるいは、バインダー
に混合して使用した場合には、製造工程或いは取扱い中
の摩擦により、表面に存在する微粒子が脱落するので、
製造工程においてはローラーに付着して搬送する製品に
キズをつけるという問題などである。さらに、これらの
金属元素を主成分とする材料は、一般に比重が高く、写
真感光材料への塗布の場合に微粒子の沈降などの問題が
あり、塗布液の均一性、保存性などに問題が生じてい
た。
【００１６】これらの問題のほとんどは、粒子を微粒化
することにより解決できるが、微粒化により次のような
新たな問題が発生する。すなわち微粒化に伴う塗布液の
増粘現象、同時にその現象から生じる作業性の問題、凝
集力の増大による凝集粒子沈降の問題などが生じる。
【００１７】塗布液増粘の問題解決の１手段は、粒子の
添加量を減らす事により解決できる。凝集粒子沈降の問
題も濃度を低くする、すなわち導電性粒子の添加量を減
らす事により改善することが可能である。
【００１８】従って本発明の目的は、添加量の比較的少
ない領域において、低湿度下でも高い帯電防止性能を有
し、添加量が多い事により引き起こされる透明性、塗布
液の安定性、作業性などの問題を解決した、帯電防止層
を有する透明プラスチックフィルム材料又はハロゲン化
銀写真感光材料を提供することである。本発明は、特に
透明性改善に有効であるが、本発明の効果は、透明フィ
ルム以外にも適用可能である。
【００１９】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、少
なくとも１層の導電性層を有するフィルム材料であっ
て、該フィルム材料の周波数２０Ｈｚにおけるインピー
ダンスの絶対値が４×１０5Ω以上であり、かつ該少な
くとも１層の導電性層に、高分子バインダーと、導電体
粒子および／もしくは半導体粒子を該導電性層の１ｖｏ
ｌ％以上５０ｖｏｌ％以下と、Ｔｇもしくは融点が５０
℃以下の有機化合物を０．０００１ｖｏｌ％以上１０ｖ
ｏｌ％以下とを含有することを特徴とするプラスチック
フィルム材料により達成された。
【００２０】以下、本発明を詳細に説明する。
【００２１】少なくとも１層の導電性層を有するフィル
ム材料で、該フィルム材料を表面比抵抗の値が低い面を
上方に向け、平行な平面で構成される二電極間に設置
し、交流電圧をかけながら空隙法で計測した、周波数２
０Ｈｚにおけるインピーダンスの絶対値が４×１０5Ω
以上であり、かつ該材料の導電性層の少なくとも１層
に、高分子バインダーと、導電体および／もしくは半導
体粒子と、Ｔｇもしくは融点が５０℃以下の有機化合物
からなり、導電体および／もしくは半導体粒子を１ｖｏ
ｌ％以上５０ｖｏｌ％以下と、Ｔｇもしくは融点が５０
℃以下の有機化合物を０．０００１ｖｏｌ％以上１０ｖ
ｏｌ％以下とを含有することを特徴とする帯電防止され
たプラスチックフィルム材料により達成された。
【００２２】本発明におけるｖｏｌ％については、化学
便覧など公知の資料に記載されている比重の値を用いて
求めた。公知の資料に記載されていない素材の比重につ
いては、同一化学式もしくは組成式で示された値を用い
た。
【００２３】例えば、酸化スズゾルに含まれる酸化スズ
の比重については、ＳｎＯ2の比重で代用する。本発明
では、７を用いた。
【００２４】本発明によると、写真感光材料以外に磁気
テープ、フロッピーディスク、フレキシブル基板、メン
ブレンスイッチ用基材、プリンター記録紙などに用いる
事ができ、特に透明性を損なわないフィルムも提供でき
るので、ＯＨＰ用フィルム、液晶表示装置、タッチパネ
ル、ステンドグラスなどの用途をはじめ、各種フィルム
の帯電防止に用いる事ができる。
【００２５】公知のように材料の導電性は、陽イオン、
陰イオンもしくは、電子、正孔など粒子中に存在する電
荷担体により発現する。
【００２６】主な電荷担体がイオンのとき固体電解質と
なり、電荷担体が電子の場合は、半導体となる。通常の
導電性材料は両者が混合された導電体であり、酸素不足
酸化物、金属過剰酸化物、金属不足酸化物、酸素過剰酸
化物などの不定比化合物が半導体となる。多くの導電性
材料の導電性は、このように発揮され、導電体もしくは
半導体材料で構成される微粒子を絶縁体高分子中に分散
し、高分子に導電性を与えて帯電防止を行う方法は、よ
く研究されている。発明者らは、ポリマーと導電体もし
くは半導体粒子との組み合わせを各種検討し、透明性と
導電性の両者を満たす条件を発見した。
【００２７】さらに、導電性について詳細な検討を行っ
たところ、一般には次の公知の式に見られるように材料
の導電性が上がれば、抵抗の項を含むインピーダンスＺ
の絶対値が減少することは良く知られている。
【００２８】
【数１】
【００２９】但し、Ｒ：抵抗、Ｃ：静電容量、ω：２π
ｆ、ｆ：周波数を表す。
【００３０】しかし、バインダー成分である有機物に対
する導電体粒子の添加量を少なくした場合のある特殊な
条件、即ち、周波数２０Ｈｚにおけるインピーダンスの
絶対値が４×１０5Ω以上において、ゴミ付着などのフ
ィルムの帯電により生じる問題が解決されることを見い
だした。
【００３１】たとえば、帯電防止のために、フィルムの
透明性を損なう程度まで過剰に導電性粒子を透明フィル
ムに塗布すると、フィルム表面の導電性が向上し、直流
電流を用いて測定された表面比抵抗の大きさが十分に低
くなり、同時に交流で測定されるインピーダンスの絶対
値も低くなる。このようなフィルム材料は、静電気の障
害を生じないが、透明性を著しく損なうゆえに本発明の
目的に反する。透明性を優先し、導電性粒子の添加量を
減らしてゆくと、表面比抵抗が上昇し、インピーダンス
の絶対値も大きくなる。しかし、ゴミ付着などの静電気
に伴う障害が発生し、透明性は改善されるが帯電防止性
能が悪化するという問題が発生する。
【００３２】明らかなように、表面比抵抗を下げれば、
すなわちインピーダンスの絶対値を下げれば帯電防止性
能は向上する。これまでの帯電防止技術は、このような
考え方に基づき、開発努力が続けられてきたが、本発明
では透明性を犠牲にしないで、インピーダンスの絶対値
と組成とのある特殊な組み合わせで静電気による障害を
克服したものである。
【００３３】すなわち、透明性を満たす為には、微粒子
の添加量を少なくする必要があるが、微粒子の添加量を
少なくすると先に説明したように、表面比抵抗の改善が
難しくなる。しかし、発明者らは、帯電防止性能とイン
ピーダンスの関係を鋭意検討し、透明性に影響を及ぼさ
ない導電性粒子の少量添加領域において、インピーダン
スの絶対値を４×１０5Ωよりも大きくすることにより
帯電防止が可能となることを発見した。インピーダンス
の絶対値を上昇させることは、導電性粒子の添加量を増
加させる必要がなく、導電性を有しないがフィルムの諸
物性を改善できる有機物で制御することが可能となり、
透明性の制限をうけながら帯電防止を達成する新しい手
段であることを発見した。
【００３４】このように、透明性に影響を及ぼさない程
度の導電性粒子の少ない添加領域において、光学的に影
響の少ない有機物で周波数２０Ｈｚにおけるインピーダ
ンスの絶対値を制御することで、透明性と帯電防止の両
者を満足するフィルムを完成できると考え、フィルム材
料の満たすべきインピーダンスの絶対値の条件と、透明
性に影響を及ぼさない導電性粒子の添加量の明確化と、
その範囲におけるバインダーの組成を明らかにする努力
を行い本発明を完成させた。
【００３５】以下に、更に本発明を詳しく説明する。
【００３６】本発明におけるフィルム材料のインピーダ
ンス測定に関しては、電子部品の誘電率測定に用いる一
般のインピーダンス測定装置を用いることができるが、
好ましくは周波数１Ｈｚ以上の測定が可能なインピーダ
ンス測定装置と、フィルム測定用電極を組み合わせた装
置である。例えば、横河・ヒューレット・パッカード社
製（以下ＹＨＰ社製）プレシジョンＬＣＲメーターＨＰ
４２８４ＡとＨＰ１６４５１Ｂの組み合わせである。他
の装置を用いる場合には、電極部分の補正を行う必要が
ある。本発明達成の為には、フィルム材料のインピーダ
ンスを正しく測定する必要があるので、補正不可能の装
置を用いた場合には、好ましい結果が得られない。この
装置の組み合わせでさらに２０Ｈｚにおけるインピーダ
ンスの絶対値を求める一例を詳細に記すが、フィルム材
料の正確な周波数２０Ｈｚのインピーダンスの絶対値が
測定できるならば、本発明では測定方法を制限しない。
【００３７】平行な平面で構成される二電極とガード電
極を有するＨＰ１６４５１Ｂの接続されたプレシジョン
ＬＣＲメータＨＰ４２８４Ａを用い、２３℃、２０％Ｒ
Ｈ雰囲気下で、空隙法によりフィルム材料のインピーダ
ンスの絶対値を計測する。空隙法の測定に関しては、Ｈ
Ｐ１６４５１Ｂの取り扱い説明書に記載された電極非接
触法に従う。サンプルの大きさについては、電極平面よ
りも大きければ特に制限は無いが、主電極の直径が３．
８ｃｍの場合には、大きさ６ｃｍ×６ｃｍから５ｃｍ×
５ｃｍの正方形サンプルが好ましい。サンプルの直流電
流を用いて測定された表面比抵抗の大きさが、表裏で等
しければ、どちらの面を上方にしてもよいが、表裏で等
しくなければ、表面比抵抗の値が低い面を上方に向け、
平行な平面で構成される二電極間にサンプルを設置し交
流電圧をかけながら空隙法で計測する。
【００３８】計測された好ましい範囲は、面積が１１か
ら１２ｃｍ2の電極を用いて測定した周波数２０Ｈｚに
おけるインピーダンスの絶対値が４×１０5Ω以上、好
ましくは８×１０5Ω以上、さらに好ましくは１×１０6
Ω以上１０20Ω以下で、次にのべる組成の範囲ならば帯
電防止性能と透明性の両立したフィルム材料を製造可能
となる。
【００３９】導電性粒子の添加量であるが、導電性粒子
の色、形態、組成など粒子の種類により好ましい添加量
の範囲は変化するが、透明性を考慮すると帯電防止層の
単位体積あたりの含有率が、５０ｖｏｌ％以下、好まし
くは４０ｖｏｌ％以下、さらに好ましくは３７ｖｏｌ％
以下がよい。透明性の条件を厳しく選べば２８ｖｏｌ％
以下が、さらに好ましくは２０ｖｏｌ％以下が良い。導
電性粒子の最低必要量は、インピーダンスの絶対値が先
に記載した好ましい範囲にはいる条件から選定される。
この条件を重視すると、導電性粒子は１ｖｏｌ％以上必
要であり、好ましくは５ｖｏｌ％以上、さらに好ましく
は１０ｖｏｌ％以上必要である。
【００４０】一方、Ｔｇもしくは融点が５０℃以下の有
機化合物については、帯電防止層に添加することにより
ひび割れ等の防止効果も期待でき多く添加した方が好ま
しい結果が得られるが、あまり多く添加するとインピー
ダンスが低下して好ましくない。このような理由から、
添加量はインピーダンスの絶対値から決定されるが、好
ましい添加量は、帯電防止層に対し、０．０００１ｖｏ
ｌ％以上１０ｖｏｌ％以下であり、好ましくは０．００
０１ｖｏｌ％以上８ｖｏｌ％以下、さらに好ましくは
０．０００１ｖｏｌ％以上５ｖｏｌ％以下である。
【００４１】導電性粒子と、Ｔｇもしくは融点が５０℃
以下の有機化合物と、高分子バインダーとの３成分を基
本成分として本発明の帯電防止層は構成され、インピー
ダンスの絶対値が制御されるが、必要に応じて、本発明
の範囲内で架橋材、界面活性剤、マット材など他の成分
の添加がなされても良い。しかし、これら他の成分をイ
ンピーダンスの絶対値の低下を招くに至る添加、すなわ
ち本発明の範囲を越える添加は、本発明の目的を達成で
きないので好ましくない。
【００４２】添加する導電性粒子の例をあげれば、有機
材料、無機材料あるいはそれらの複合材料など何でも良
い。すなわち導電性粒子の主成分が体積固有抵抗で１０
9Ωｃｍ以下１０-5Ωｃｍ以上の材料であり、同一の材
料で構成されていても、異質の材料との組み合わせであ
ってもよい。好ましくは、白色もしくは無色の金属酸化
物系粒子であり、このような粒子では、導電性は低くな
る傾向にあるので、１０9Ωｃｍ以下１０-1Ωｃｍ以上
の材料が選ばれる。
【００４３】透明性を望まれる写真感光材料の用途で
は、非晶質の金属酸化物ゾルが好ましく、１０8Ωｃｍ
以下１０1Ωｃｍ以上の材料が選ばれる。これら粒子の
粒径については、特に制限をしないが、電子顕微鏡で撮
影された像において、小さい方の径が１０μｍ以下であ
るのが好ましく、さらに好ましくは１μｍ以下である。
透明性が要求される場合には、０．５μｍ以下が望まし
く、もっとも好ましいのは非晶質の金属酸化物ゾルの形
態をとる０．００１μｍ以上０．５μｍ以下である。
【００４４】体積固有抵抗の値に関しては、粉体に一定
圧力をかけて得られた成形体の体積固有抵抗を１０2で
除した値を採用する。一定圧力については、特に制限を
しないが、好ましくは１０ｋｇ／ｃｍ2以上の圧力が良
く、さらに好ましくは、１００ｋｇ／ｃｍ2以上１０ｔ
／ｃｍ2未満の圧力をかけて成形した材料の体積固有抵
抗を１０2で除した値を採用する。一般に粉体にかけら
れた圧力とその成形体の体積固有抵抗に関しては、圧力
が高くなると、体積固有抵抗が低くなる傾向にある。し
かし、静水圧加圧装置で３ｔ／ｃｍ2の等方圧をかけた
場合でも、単結晶で得られる体積固有抵抗値よりも低い
値は得られず、１００倍程度高い値となる。ゆえに、粉
体の状態で一定圧力をかけて得られた成形体の体積固有
抵抗を１０2で除した値を採用する。
【００４５】また、一般に半導体とは、体積固有抵抗で
１０Ωｃｍ以上１０12Ωｃｍ未満の材料を、導体とは、
１０Ωｃｍ未満の材料を意味する。本発明では、半導体
でも導体でも導電性粒子と呼ぶ。
【００４６】また導電性粒子の構造は、結晶性であって
も非晶性であってもよく、その高次構造が傾斜組成をと
っていても、規則的な組成分布、不均一分布をとってい
ても、本発明の構成ならびに目的を達成すれば何でも良
い。
【００４７】有機材料の例をあげれば、テトラシアノキ
ノジメタン（ＴＣＮＱ）、テトラチオフルバレン、ポリ
アセチレン（ＴＴＦ）、コーテリレン、ポリパラフェニ
レン、ポリチオフェン、ポリピロール，ポリアニリン等
の共役系高分子、あるいはそれらに適当なドーピング剤
をドープした高分子、あるいはポリビニルベンゼンスル
ホン酸塩類、ポリビニルベンジルトリメチルアンモニウ
ムクロリド、４級塩ポリマー類などのイオン導電性高分
子からなる化合物も用いる事が可能である。
【００４８】また、炭素材料を有機高分子に分散し、硬
化させた微粒子なども用いる事ができる。炭素材料に関
しては、有機化合物を出発原料として、炭化プロセスに
より製造された材料であり、コークス、炭素繊維、ガラ
ス状炭素、熱分解炭素、ホイスカー、カーボンブラック
などを上げる事ができる。
【００４９】有機と無機との境界領域の粒子でも導電性
さえあれば用いることが可能で、例えばＰ＝Ｎ骨格を有
するホスファゼン誘導体で、導電性が１０9Ωｃｍ以下
の材料であれば好適である。
【００５０】無機材料の例をあげれば、金属、導電性を
有するカルコゲナイトガラス、金属酸化物の粒子などが
あげられ、化学的安定性から、金属酸化物が好ましい
が、本発明の目的を達成できれば、導電性を有する無機
材料であれば何でも良い。金属酸化物を用いる場合、そ
の合成方法は、公知の合成方法で本発明の目的を達成で
きるものであればいかなる方法でもよい。例えば、金属
もしくは金属を含む化合物を原料とした共沈法、多段湿
式法、ゾルゲル法、アトマイジング法、プラズマ熱分解
法など微粒子及び超微粒子の製造方法をあげることがで
きる。ここで金属もしくは金属を含む化合物とは、粉体
合成法に応じて、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ，Ｃｓ，Ｂｅ，
Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｔ
ｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｎｂ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃ
ｏ，Ｎｉ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ｃ
ｕ，Ａｇ，Ａｕ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ｈｇ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉ
ｎ，Ｔｌ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂ
ｉ，Ｓｅ，Ｔｅ，Ｐｏ元素を含む化合物であり、好まし
くはＮｉ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｎｂ，Ｃｅ，Ｚｒ，Ｔｈ，Ｈ
ｆ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｉｎ，Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂ
ａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｖを主成分とする化合物である。好まし
くは水溶性もしくは有機溶媒に可溶な化合物で、例え
ば、ＦｅＳＯ4・７Ｈ2Ｏ、ＣｕＳＯ4などの水溶性金属
塩類、ＮｉＣｌ2、ＰｄＣｌ2などの有機溶媒に可溶な金
属化合物、Ｔｉ（ＯＣ3Ｈ7）4などの金属アルコキシド
やフェロセンなどの有機金属化合物などが選ばれるが、
粉体合成法に応じて、金属もしくは金属を含む化合物を
主成分とする室温で固体の材料も組み合わせて用いる事
ができ、特に粉体原料並びに製造方法に制限を加えるも
のではなく、本発明の目的を達成する原料ならびに製造
方法であれば何でも良い。
【００５１】これら製造方法により得られる金属酸化物
粒子の組成並びに結晶形態であるが、非晶質、結晶質で
も本発明の目的を達成できるものであればいかなる組成
並びに結晶形態でもよい。
【００５２】例えば、単純立方格子、体心立方格子、面
心立方格子、単純正方格子、体心正方格子、単純斜方格
子、底面心斜方格子、体心斜方格子、面心斜方格子、単
純単斜格子、底面心単斜格子、三斜格子、菱面体格子、
六方格子などの特定構造をとる化合物が挙げられる。
【００５３】また、本発明では、結晶性多孔質材料も、
用いる事が可能である。
【００５４】これらの特定の結晶性化合物以外に、粉末
Ｘ線回折法で粉末を評価したときに、シャ−プな回折ピ
ークの得られない粉末でも良い。もしその組成が、本来
特定の結晶形態をとるので有れば、もしくは回折ピーク
のほとんどの値が、ある特定の結晶に同定できるのだ
が、一部広幅化しているために不明確な場合、あるいは
すべてが広幅化している非晶質粉末の粉末でも本発明の
目的を達成できるならば、用いる事ができる。このよう
な金属酸化物の例として、コロイド状のＳｎＯ2ゾルを
あげることができる。この化合物は、沈降等の問題が発
生せず、本発明の目的を達成するために好適な化合物で
ある。ＳｎＯ2超微粒子の製造方法に関しては、特に温
度条件が重要で、高温度の熱処理を伴う方法は、一次粒
子の成長や、結晶性が高くなる現象を生じるので好まし
くなく、やむをえず熱処理を行う必要があるときには、
４００℃以下好ましくは３００℃以下さらに好ましくは
２００℃以下さらに好ましくは１５０℃以下に止めるべ
きである。特公昭３５−６６１６号実施例に記載された
製造法のＳｎＯ2ゾルは、本発明に好適な例である。さ
らに、この特公昭３５−６６１６号に記載された方法に
準じてフッ素、Ｓｂなどの異種元素をドープした材料も
好適である。
【００５５】Ｔｇもしくは融点が５０℃以下の有機化合
物については、本発明の目的を達成する範囲内のモノマ
ー、オリゴマー、ポリマーのカテゴリーから選択される
材料で、特に制限は無いが、好ましくはエチレングリコ
ール、プロピレングリコール、１，１，１−トリメチロ
ールプロパン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコールなどのポリエーテル系化合物、ポリアクリ
ル酸ブチル、ポリアクリルアミドなどのアクリル系化合
物、ポリビニルアルコール、ポリエステル系化合物など
が良い。その添加方法は、本発明記載の成分を混合する
ときに添加してもよいし、水や有機溶媒などに本発明記
載の成分を分散する場合には、あらかじめ水や有機溶媒
などの分散媒に分散した後本発明記載の他の成分の分散
された溶媒を添加してもよく、特に制限を加えない。
【００５６】本発明で使用するバインダーは、フィルム
形成能を有する物であれば特に限定されるものではない
が、例えばゼラチン、カゼイン等のタンパク質、カルボ
キシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、
アセチルセルロース、ジアセチルセルロース、トリアセ
チルセルロース等のセルロース化合物、デキストラン、
寒天、アルギン酸ソーダ、デンプン誘導体等の糖類、ポ
リビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸
エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリスチレン、
ポリアクリルアミド、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポ
リエステル、ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸等の合成
ポリマー等を挙げる事ができる。特に、ゼラチン（石灰
処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、酵素分解ゼラチン、フ
タル化ゼラチン、アセチル化ゼラチン等）、アセチルセ
ルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロ
ース、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリア
クリル酸ブチル、ポリアクリルアミド、デキストラン、
水溶性ポリエステル樹脂等が好ましい。
【００５７】本発明の導電体および半導電体粒子は、バ
インダー中に分散又は溶解させて用いられる。あるい
は、金属酸化物粒子を導電性高分子化合物で表面処理も
しくはマイクロカプセル化などの処理を行った粉体、金
属酸化物粒子を導電性高分子化合物の溶解もしくは分散
された溶媒中に混合後、スプレードライ法、凍結乾燥法
などの処理を行った粉体をバインダー中に分散して塗布
を行っても良い。
【００５８】本発明の高分子バインダーと、Ｔｇもしく
は融点が５０℃以下の有機化合物中への導電体もしくは
半導体粒子の分散方法であるが、自由回転運動を利用す
る方法、じゃま板を設けた容器中の障害運動を利用する
方法、密閉容器を水平軸のまわりに回転を行う転倒運動
を利用する方法、容器を上下に振とうする振とう運動を
利用する方法、ロール上で剪断力などを利用する方法な
どいろいろあるが、本発明の目的を損なわない限りいか
なる方法を選択しても良い。
【００５９】本発明で使用するプラスチックフィルム材
料としては、例えば、セルロースナイトレートフィル
ム、セルロースアセテートフィルム、セルロースアセテ
ートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピ
オネートフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィル
ム、その他これらの積層物等がある。これらのフィルム
材料のうち、高分子の重合条件を選択し、高度に立体規
則的なポリマーを用いることも可能である。たとえば、
シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）を主成分と
するプラスチックフィルムを用いても良い。ＳＰＳフィ
ルムのように特に帯電しやすいフィルムにおいては、本
発明の効果は更に有効である。
【００６０】本発明において、シンジオタクチックポリ
スチレンを主成分とするフィルムとは、立体規則性構造
（タクチシチー）が主としてシンジオタクチック構造、
すなわち炭素−炭素結合から形成される主鎖に対して側
鎖であるフェニル基や置換フェニル基が交互に反対方向
に位置する立体構造を有するものであり、主鎖の主たる
連鎖が、ラセモ連鎖であるスチレン系重合体あるいは、
それを含む組成物であり、スチレンの単独重合体であれ
ば、特開昭６２−１１７７０８号記載の方法で重合する
ことが可能であり、またその重合体については、特開平
１−４６９１２号、同１−１７８５０５号等に記載され
た方法により重合することで得ることができる。
【００６１】そのタクチシチーは同位体炭素による核磁
気共鳴法（13Ｃ−ＮＭＲ法）により定量される。13Ｃ−
ＮＭＲ法により測定されるタクチシチーは、連続する複
数個の構成単位の存在割合、例えば、２個の場合はダイ
アッド、３個の場合はトリアッド、５個の場合はペンタ
ッドによって示すことができるが、本発明にいう主とし
てシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体と
は、通常ラセミダイアッドで７５％以上、好ましくは８
５％以上、もしくはラセミトリアッド６０％以上、好ま
しくは７５％以上もしくはラセミペンタッド３０％以上
好ましくは５０％以上であることが好適である。
【００６２】シンジオタクチックポリスチレン系組成物
を構成する重合体の具体的なモノマーとしては、スチレ
ン、メチルスチレン等のアルキルスチレン、クロロメチ
ルスチレン、クロロスチレン等のハロゲン化（アルキ
ル）スチレン、アルコキシスチレン、ビニル安息香酸エ
ステル等を主成分とする単独もしくは混合物である。特
に、アルキルスチレンとスチレンの共重合体は、５０μ
ｍ以上の膜厚を有するフィルムを得るためには、好まし
い組み合わせである。
【００６３】本発明のシンジオタクチック構造を有する
ポリスチレン系樹脂は、上記のような原料モノマーを重
合用の触媒として特開平５−３２０４４８号４−１０ペ
ージに記載の（イ）（ａ）遷移金属化合物及び（ｂ）ア
ルミノキサンを主成分とするもの、または（ロ）（ａ）
遷移金属化合物及び（ｃ）遷移金属化合物と反応してイ
オン性錯体を形成しうる化合物を主成分とするものを用
いて重合して製造することができる。
【００６４】これらのプラスチックフィルム材料は、写
真感光材料の支持体として、用いることが出来る。また
透明な支持体は無色透明のものだけでなく、染料、顔料
を添加して着色透明にすることができる。
【００６５】本発明にかかる感光材料としては、通常の
白黒ハロゲン化銀感光材料（例えば、撮影用白黒感材、
Ｘ線用白黒感材、印刷用白黒感材）等、通常の多層カラ
ー感光材料（例えば、カラーリバーサルフィルム、カラ
ーネガティブフィルム、カラーポジティブフィルム
等）、転写画像形成材料（例えば印刷の校正刷りに用い
るカラープルーフ）など種々の感光材料を挙げる事がで
きる。
【００６６】
【実施例】次に本発明について実施例により詳しく説明
するが、本発明に制限を加えるものではない。
【００６７】（導電性粒子Ｐ１の分散液）（ＮＰ（ＮＨ
Ｃ6Ｈ5）1.6（ＮＨＣ6Ｈ4ＳＯ3Ｈ）0.4）ｎ：（ｎ＝５
４５）の１，１，２，２−テトラクロロエタン１０％溶
液をスプレードライ法により噴霧乾燥後粉体として回収
する。得られた粉体は、平均粒子径０．１５μｍで比重
は１．２５、体積固有抵抗は２．３×１０4Ωｃｍであ
った。
【００６８】この導電性粉末を濃度８ｗｔ％となるよう
に水に分散した。
【００６９】（導電性粒子Ｐ２の分散液）塩化第二スズ
水和物６５ｇを水溶液２０００ｃｃに溶解し均一溶液を
得た。次いでこれを煮沸し共沈澱物を得た。生成した沈
澱物をデカンテーションにより取り出し、蒸留水にて沈
澱を何度も水洗する。沈澱を洗浄した蒸留水中に硝酸銀
を滴下し塩素イオンの反応がないことを確認する。この
沈殿物を蒸留水１０００ｃｃ中に添加して分散後、全量
を２０００ｃｃとする。さらに３０％アンモニア水を４
０ｃｃ加え、水浴中で加温すると、ＳｎＯ2ゾル溶液が
生成する。
【００７０】塗布液として用いるときには、このゾル溶
液へアンモニアを吹き込みながら濃度約８％に濃縮して
用いる。また、このゾル溶液に含まれる粒子の体積固有
抵抗については、ゾル溶液を用いてシリカガラス上に薄
膜を形成し、四端子法で測定した値を粒子の体積固有抵
抗値とした。測定された体積固有抵抗は３．４×１０4
Ωｃｍであった。
【００７１】（導電性粒子Ｐ３分散液）塩化第二スズ水
和物６５ｇと三塩化アンチモン１．０ｇを水溶液２００
０ｃｃに溶解し均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し共
沈澱物を得た。生成した沈澱物をデカンテーションによ
り取り出し、蒸留水にて沈澱を何度も水洗する。沈澱を
洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反応が
ないことを確認する。この沈殿物を蒸留水１０００ｃｃ
中に添加して分散後、全量を２０００ｃｃとする。さら
に３０％アンモニア水を４０ｃｃ加え、水浴中で加温す
ると、ＳｎＯ2ゾル溶液が生成する。
【００７２】このゾル溶液を４００℃に加熱した電気炉
中に噴霧し導電性粉末を合成した。得られた粉末を錠剤
成型器にて成形後、４端子法で測定された体積固有抵抗
は１．５×１０1Ωｃｍであった。
【００７３】この導電性粉末をｐＨ１０のアンモニア水
に濃度８ｗｔ％となるように分散した。
【００７４】（導電性粒子Ｐ４分散液）チタン酸カリの
表面を導電性酸化スズで被覆した粒子（大塚化学（株）
製ＤＥＮＴＡＬＬ）を、ｐＨ１０のアンモニア水に濃度
８ｗｔ％となるように分散した。
【００７５】（実施例１） （ハロゲン化銀写真感光材料用支持体の作成）２軸延伸
・熱固定後の厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの両面に８Ｗ分／ｍ2のコロナ放電処理を
施し、一方の面に特開昭５９−１９９４１号記載のよう
に下記下引き塗布液Ｂ−１を乾燥膜厚０．８μｍになる
よう下引き層Ｂ−１として塗布し、１００℃１分間乾燥
した。またポリエチレンテレフタレートフィルムに対し
下引き層Ｂ−１と反対側の面に特開昭５９−７７４３９
号記載のように下記下引き塗布液Ｂ−２−１を下引き層
Ｂ−２として塗布し、１１０℃、１分間乾燥した。
【００７６】 ＊下引き第１層 ＜下引き塗布液Ｂ−１＞ ブチルアクリレート３０重量％、ｔ−ブチルアクリレート２０重量％、スチレ ン２５重量％及び２−ヒドロキシエチルアクリレート２５重量％の共重合体ラテ ックス液（固形分３０％） ２７０ｇ 化合物Ａ ０．６ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ 水で１ｌに仕上げる。
【００７７】 ＜下引き塗布液Ｂ−２−１＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２３ｇ 導電性Ｐ２分散液 ４１５ｇ ポリエチレングリコール（分子量６００） ０．０００１２ｇ 水 ５６８ｇ ＊下引き第２層 さらに上記下引き層Ｂ−１及びＢ−２−１の上に８Ｗ分
／ｍ2のコロナ放電を施し、下記塗布液Ｂ−３を乾燥膜
厚０．１μｍになるように塗布し、１００℃１分間乾燥
した。
【００７８】 ＜下引き塗布液Ｂ−３＞ ゼラチン １０ｇ 化合物Ａ ０．４ｇ 化合物Ｂ ０．１ｇ 平均粒径３μｍのシリカ粒子 ０．１ｇ 水で１ｌに仕上げる。
【００７９】
【化１】
【００８０】（乳剤調製）ｐＨ３．０の酸性雰囲気下で
コントロールダブルジェット法によりロジウムを銀１モ
ル当たり１０-5モル含有する粒子を作成した。粒子の成
長は、ベンジルアデニンを１％のゼラチン水溶液１ｌ当
たり３０ｍｇ含有する系で行った。銀とハライドとの混
合後６−メチル−４−ヒドロキシ−１，３，３ａ，７−
テトラザインデンをハロゲン化銀１モル当たり６００ｍ
ｇ加え、その後水洗、脱塩した。
【００８１】次いで、ハロゲン化銀１モル当たり６０ｍ
ｇの６−メチル−４−ヒドロキシ−１，３，３ａ，７−
テトラザインデンを加えた後、イオウ増感をした。イオ
ウ増感後安定剤として６−メチル−４−ヒドロキシ−
１，３，３ａ，７−テトラザインデンを加えた。
【００８２】（ハロゲン化銀乳剤層）前記各乳剤に添加
剤を下記の付量になるように調製添加し、前記、支持体
上に塗布した。
【００８３】 ラテックスポリマー：スチレン−ブチルアクリレート−アクリル酸３元共重合 ポリマー １．０ｇ／ｍ2 テトラフェニルホスホニウムクロライド ３０ｍｇ／ｍ2 サポニン ２００ｍｇ／ｍ2 ポリエチレングリコール １００ｍｇ／ｍ2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム １００ｍｇ／ｍ2 ハイドロキノン ２００ｍｇ／ｍ2 フェニドン １００ｍｇ／ｍ2 スチレンスルホン酸ナトリウム−マレイン酸共重合体（Ｍｗ＝２５万） ２００ｍｇ／ｍ2 没食子酸ブチルエステル ５００ｍｇ／ｍ2 テトラゾリウム化合物 ３０ｍｇ／ｍ2 ５−メチルベンゾトリアゾール ３０ｍｇ／ｍ2 ２−メルカプトベンツイミダゾール−５−スルホン酸 ３０ｍｇ／ｍ2 イナートオセインゼラチン（等電点４．９） １．５ｇ／ｍ2 １−（ｐ−アセチルアミドフェニル）−５メルカプトテトラゾール ３０ｍｇ／ｍ2 銀量 ２．８ｇ／ｍ2
【００８４】
【化２】
【００８５】（乳剤層保護膜）乳剤層保護膜として、下
記の付量になるよう調製塗布した。
【００８６】 フッ素化ジオクチルスルホコハク酸エステル ３００ｍｇ／ｍ2 マット剤：ポリメタクリル酸メチル（平均粒径３．５μｍ） １００ｍｇ／ｍ2 硝酸リチウム塩 ３０ｍｇ／ｍ2 酸処理ゼラチン（等電点７．０） １．２ｇ／ｍ2 コロイダルシリカ ５０ｍｇ／ｍ2 スチレンスルホン酸ナトリウム−マレイン酸共重合体 １００ｍｇ／ｍ2 媒染剤 ３０ｍｇ／ｍ２ 染料 ３０ｍｇ／ｍ２
【００８７】
【化３】
【００８８】（バッキング層）乳剤層とは反対側の支持
体に、下記組成のバッキング染料を塗布した。ゼラチン
層はグリオキザール及び１−オキシ−３，５−ジクロロ
−Ｓ−トリアジンナトリウム塩及びヒドロキシ含有エポ
キシ化合物である（ｄ）で硬膜した。
【００８９】 ハイドロキノン １００ｍｇ／ｍ2 フェニドン ３０ｍｇ／ｍ2 ラテックスポリマー：ブチルアクリレート−スチレン共重合体 ０．５ｇ／ｍ2 スチレン−マレイン酸共重合体 １００ｍｇ／ｍ2 クエン酸 ４０ｍｇ／ｍ2 ベンゾトリアゾール １００ｍｇ／ｍ2 スチレンスルフォン酸−マレイン酸共重合体 １００ｍｇ／ｍ2 硝酸リチウム塩 ３０ｍｇ／ｍ2 バッキング染料（ａ）（ｂ）（ｃ） ４０，３０，３０ｍｇ／ｍ2 オセインゼラチン ２．０ｇ／ｍ２
【００９０】
【化４】
【００９１】以上のようにして得られた試料を全面露光
し下記に示す現像液、定着液を使用して現像処理した
後、表面比抵抗試験並びに灰付着テスト法を行った。結
果は表１に示した。
【００９２】 ＜現像液処方＞ ハイドロキノン ２５ｇ １−フェニル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン ０．４ｇ 臭化ナトリウム ３ｇ ５−メチルベンゾトリアゾール ０．３ｇ ５−ニトロインダゾール ０．０５ｇ ジエチルアミノプロパン−１，２−ジオール １０ｇ 亜硫酸カリウム ９０ｇ ５−スルホサリチル酸ナトリウム ７５ｇ エチレンジアミン４酢酸ナトリウム ２ｇ 水で１ｌに仕上げた。
【００９３】ｐＨは苛性ソーダで１１．５とした。
【００９４】 ＜定着液処方＞ （組成Ａ） チオ硫酸アンモニウム（７２．５ｗ％水溶液） ２４０ｍｌ 亜硫酸ナトリウム １７ｇ 酢酸ナトリウム・３水塩 ６．５ｇ ほう酸 ６ｇ クエン酸ナトリウム・２水塩 ２ｇ 酢酸（９０ｗ％ 水溶液） １３．６ｍｌ （組成Ｂ） 純水（イオン交換水） １７ｍｌ 硫酸（５０ｗ％の水溶液） ３．０ｇ 硫酸アルミニウム（Ａｌ２Ｏ3換算含量が８．１ｗ％の水溶液） ２０ｇ 定着液の使用時に水５００ｍｌ中に上記組成Ａ、組成Ｂ
の順に溶かし、１ｌに仕上げて用いた。この定着液のｐ
Ｈは約５．６であった。
【００９５】（現像処理条件） （工程） （温度） （時間） 現像 ４０℃ ８秒 定着 ３５℃ ８秒 水洗 常温 １０秒 （帯電防止性能の評価：灰付着テスト法） ２３℃、２０％ＲＨの条件下で、現像済試料の乳剤側面
をゴムローラーで数回こすり、タバコの灰を近づけて、
フィルムにくっつくかどうかを下記評価に従って調べ
た。
【００９６】○ ：１ｃｍまで近づけても全く付着しな
い ○△：１ｃｍ〜４ｃｍまで近づけると付着する △ ：４ｃｍ〜１０ｃｍまで近づけると付着する × ：１０ｃｍ以上でも付着する ○△以上ならば実用上支障がない。
【００９７】（表面比抵抗測定法）川口電機社製テラオ
ームメーターＶＥ−３０を用い、印加電圧１００Ｖ、２
３℃、２０％ＲＨの条件下で測定した。
【００９８】（インピーダンスの絶対値測定方法）イン
ピーダンス測定に関しては、横河・ヒューレット・パッ
カード社製（以下ＹＨＰ社製）プレシジョンＬＣＲメー
ターＨＰ４２８４ＡとＨＰ１６４５１Ｂの組み合わせを
用いた。
【００９９】２３℃２０％ＲＨ雰囲気下で、空隙法によ
りフィルム材料のインピーダンスの絶対値を計測した。
空隙法の測定に関しては、ＨＰ１６４５１Ｂの取り扱い
説明書（部品番号１６４５１−９７０００，印刷１９８
９年１２月）に記載された電極非接触法に従う。主電極
の直径が３．８ｃｍの電極−Ａを用いて、サンプルの大
きさは、５．５ｃｍ×５．５ｃｍの正方形に切り取っ
た。導電性粒子の分散層を上方に向け計測した。
【０１００】（ヘーズ試験）第２層まで下引き処理を行
った試料すなわち下引き塗布液Ｂ−１、Ｂ−２−１及び
それぞれの上層にＢ−３を塗布した段階での試料を東京
電色株式会社製濁度計Ｍｏｄｅｌ Ｔ−２６００ ＤＡ
を用いて測定してヘーズを％で表示した。
【０１０１】（実施例２）試料作成条件は、下引き塗布
液Ｂ−２−１の代わりに下引き塗布液Ｂ−２−２を用い
た以外実施例１と同様に作成し、実施例１と同様の評価
を行った。
【０１０２】 ＜下引き塗布液Ｂ−２−２＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２３ｇ 導電性Ｐ２分散液 ４１５ｇ ポリプロピレングリコール（分子量４５０） ０．００００１ｇ 水 ５６８ｇ （実施例３）試料作成条件は、下引き塗布液Ｂ−２−１
の代わりに下引き塗布液Ｂ−２−３を用いた以外実施例
１と同様に作成し、実施例１と同様の評価を行った。
【０１０３】 ＜下引き塗布液Ｂ−２−３＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２３ｇ 導電性Ｐ３分散液 ７６０ｇ ポリエチレングリコール（分子量６００） １．６５ｇ 水 ７００ｇ （実施例４）試料作成条件は、下引き塗布液Ｂ−２−１
の代わりに下引き塗布液Ｂ−２−４を用いた以外実施例
１と同様に作成し、実施例１と同様の評価を行った。
【０１０４】 ＜下引き塗布液Ｂ−２−４＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２４ｇ 導電性Ｐ２分散液 ６００ｇ ポリエチレングリコール（分子量６００） １．２ｇ 水 ８００ｇ （実施例５）試料作成条件は、下引き塗布液Ｂ−２−１
の代わりに下引き塗布液Ｂ−２−５を用いた以外実施例
１と同様に作成し、実施例１と同様の評価を行った。
【０１０５】 ＜下引き塗布液Ｂ−２−５＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７ｇ 導電性Ｐ２分散液 ８０ｇ ポリビニルアルコール（分子量３５０） ０．０００１ｇ 水 ７００ｇ （実施例６）試料作成条件は、下引き塗布液Ｂ−２−１
の代わりに下引き塗布液Ｂ−２−６を用いた以外実施例
１と同様に作成し、実施例１と同様の評価を行った。
【０１０６】 ＜下引き塗布液Ｂ−２−６＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７ｇ 導電性Ｐ４分散液 ６２ｇ ポリエチレングリコール（分子量６００） ０．０００１２ｇ 水 ７００ｇ （実施例７）試料作成条件は、下引き塗布液Ｂ−２−１
の代わりに下引き塗布液Ｂ−２−７を用いた以外実施例
１と同様に作成し、実施例１と同様の評価を行った。
【０１０７】 ＜下引き塗布液Ｂ−２−７＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７ｇ 導電性Ｐ４分散液 ３９ｇ ポリエチレングリコール（分子量６００） ０．５２ｇ 水 ６９０ｇ （実施例８）試料作成条件は、下引き塗布液Ｂ−２−１
の代わりに下引き塗布液Ｂ−２−８を用いた以外実施例
１と同様に作成し、実施例１と同様の評価を行った。
【０１０８】 ＜下引き塗布液Ｂ−２−８＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７ｇ 導電性Ｐ４分散液 １６ｇ ポリエチレングリコール（分子量６００） ０．３３ｇ 水 ７５０ｇ （実施例９）試料作成条件は、下引き塗布液Ｂ−２−１
の代わりに下引き塗布液Ｂ−２−９を用いた以外実施例
１と同様に作成し、実施例１と同様の評価を行った。
【０１０９】 ＜下引き塗布液Ｂ−２−９＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７ｇ 導電性Ｐ３分散液 ４３０ｇ ポリエチレングリコール（分子量６００） ０．０００１ｇ 水 ７２０ｇ （実施例１０）試料作成条件は、下引き塗布液Ｂ−２−
１の代わりに下引き塗布液Ｂ−２−１０を用いた以外実
施例１と同様に作成し、実施例１と同様の評価を行っ
た。
【０１１０】 ＜下引き塗布液Ｂ−２−１０＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７ｇ 導電性Ｐ３分散液 ４２０ｇ ポリエチレングリコール（分子量６００） ０．０００１５ｇ 水 ７３０ｇ （実施例１１）試料作成条件は、下引き塗布液Ｂ−２−
１の代わりに下引き塗布液Ｂ−２−１１を用いた以外実
施例１と同様に作成し、実施例１と同様の評価を行っ
た。
【０１１１】 ＜下引き塗布液Ｂ−２−１１＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７ｇ 導電性Ｐ２分散液 ７００ｇ ポリエチレングリコール（分子量６００） １．６ｇ 水 ８００ｇ （実施例１２）試料作成条件は、下引き塗布液Ｂ−２−
１の代わりに下引き塗布液Ｂ−２−１２を用いた以外実
施例１と同様に作成し、実施例１と同様の評価を行っ
た。
【０１１２】 ＜下引き塗布液Ｂ−２−１２＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２３ｇ 導電性Ｐ３分散液 ６２０ｇ ポリエチレングリコール（分子量６００） １．５５ｇ 水 ６９０ｇ （実施例１３）試料作成条件は、下引き塗布液Ｂ−２−
１の代わりに下引き塗布液Ｂ−２−１３を用いた以外実
施例１と同様に作成し、実施例１と同様の評価を行っ
た。
【０１１３】 ＜下引き塗布液Ｂ−２−１３＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７ｇ 導電性Ｐ２分散液 ８２ｇ ポリエチレングリコール（分子量６００） ０．１７ｇ 水 ６９０ｇ （実施例１４）試料作成条件は、下引き塗布液Ｂ−２−
１の代わりに下引き塗布液Ｂ−２−１４を用いた以外実
施例１と同様に作成し、実施例１と同様の評価を行っ
た。
【０１１４】 ＜下引き塗布液Ｂ−２−１４＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７ｇ 導電性Ｐ１分散液 ８２ｇ ポリエチレングリコール（分子量６００） ０．０００１２ｇ 水 ６８０ｇ （実施例１５）試料作成条件は、下引き塗布液Ｂ−２−
１の代わりに下引き塗布液Ｂ−２−１５を用いた以外実
施例１と同様に作成し、実施例１と同様の評価を行っ
た。
【０１１５】 ＜下引き塗布液Ｂ−２−１５＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７ｇ 導電性Ｐ２分散液 ４１ｇ ポリエチレングリコール（分子量６００） ０．９６ｇ 水 ７００ｇ （実施例１６）試料作成条件は、下引き塗布液Ｂ−２−
１の代わりに下引き塗布液Ｂ−２−１６を用いた以外実
施例１と同様に作成し、実施例１と同様の評価を行っ
た。
【０１１６】 ＜下引き塗布液Ｂ−２−１６＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７ｇ 導電性Ｐ２分散液 ８３ｇ ポリエチレングリコール（分子量６００） ０．４８ｇ 水 ７００ｇ （実施例１７）試料作成条件は、プラスチックフィルム
として、下記のＳＰＳフィルムを用いた以外は、実施例
１と同様に作成し、実施例１と同様の評価を行った。
【０１１７】（ＳＰＳフィルム）特開平３−１３１８４
３号に準じてＳＰＳペレットを作成した。得られたペレ
ットを３３０℃で溶融押し出しした。この溶融ポリマー
をパイプを通じて押しだしダイに押し出した。そしてダ
イスリットより冷却したキャスティングドラムに静電印
加させながら押し出して冷却することにより膜厚１００
０μｍのＳＰＳ未延伸シートを得た。
【０１１８】作成したシートを１１５℃で予熱した後に
縦方向に３．３倍延伸した。テンター内で１００℃で予
熱したのち１３０℃で横方向に３．３倍延伸した。更に
やや横方向に緩和させながら２２５℃で熱固定し１００
μｍ厚のＳＰＳフィルムを得た。
【０１１９】（比較例１）試料作成条件は、下引き層と
して下引き塗布液Ｂ−２−１の代わりに下引き塗布液Ｂ
−０−１を用いた以外実施例１と同様に作成し、実施例
１と同様のヘイズ値評価を行った。
【０１２０】 ＜下引き塗布液Ｂ−０−１＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７０ｇ 水で１ｌに仕上げる。
【０１２１】（比較例２）試料作成条件は、下引き層と
して下引き塗布液Ｂ−２−１の代わりに下引き塗布液Ｂ
−０−２を用いた以外実施例１と同様に作成し、実施例
１と同様の評価を行った。但し、下引き塗布液Ｂ−０−
２に含まれる酸化錫粉末溶液とは、９００℃の温度で酸
化アンチモンを３％添加した酸化錫を焼成し、ボールミ
ルで粉砕した粉末を８ｗｔ％含むアンモニア水溶液であ
る。この粉末の平均粒径は０．５μｍで比重は６．９で
あった。
【０１２２】下引き塗布液の調製方法は実施例１と同様
に行ったが、フィルム塗布後の塗布液容器中には酸化錫
粉末の沈澱物が観察された。
【０１２３】 ＜下引き塗布液Ｂ−０−２＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７ｇ 酸化錫粉末溶液 ９０ｇ ポリエチレングリコール（分子量６００） １．３ｇ 水 ８００ｇ （比較例３）試料作成条件は、下引き層として下引き塗
布液Ｂ−２−１の代わりに下引き塗布液Ｂ−０−３を用
いた以外実施例１と同様に作成し、実施例１と同様のヘ
イズ値評価を行った。作成されたフィルムは、やや灰色
味を帯びていた。
【０１２４】 ＜下引き塗布液Ｂ−０−３＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７ｇ 導電性Ｐ３分散液 ４５ｇ 水 ７５０ｇ （比較例４）試料作成条件は、下引き層として下引き塗
布液Ｂ−２−１の代わりに下引き塗布液Ｂ−０−４を用
いた以外実施例１と同様に作成し、実施例１と同様のヘ
イズ値評価を行った。作成されたフィルムは、やや灰色
味を帯びていた。
【０１２５】 ＜下引き塗布液Ｂ−０−４＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及びグリジルアクリレー ト４０重量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％） １０ｇ 導電性Ｐ３分散液 ５８０ｇ ポリエチレングリコール（分子量６００） １．４ｇ 水 ４８０ｇ （比較例５）試料作成条件は、下引き塗布液Ｂ−０−１
を用いた以外は、実施例１７と同様に作成し、実施例１
と同様の評価を行った。
【０１２６】
【表１】
【０１２７】表１から明らかな通り、本発明の写真感光
材料は、ゴミ付着テストも良好で、透明性も良好である
ことが解る。
【０１２８】
【発明の効果】透明性の優れた、低湿度下でも高い帯電
防止性能を有する、プラスチックフィルム材料またはハ
ロゲン化銀写真感光材料が提供できた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 25/06 ＬＤＴ Ｃ０８Ｌ 25/06 ＬＤＴ Ｇ０３Ｃ 1/795 Ｇ０３Ｃ 1/795 1/85 1/85

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 少なくとも１層の導電性層を有するフィ
    ルム材料であって、該フィルム材料の周波数２０Ｈｚに
    おけるインピーダンスの絶対値が４×１０5Ω以上であ
    り、かつ該少なくとも１層の導電性層に、高分子バイン
    ダーと、導電体粒子および／もしくは半導体粒子を該導
    電性層の１ｖｏｌ％以上５０ｖｏｌ％以下と、Ｔｇもし
    くは融点が５０℃以下の有機化合物を０．０００１ｖｏ
    ｌ％以上１０ｖｏｌ％以下とを含有することを特徴とす
    るプラスチックフィルム材料。
  2. 【請求項２】 導電体粒子もしくは半導体粒子が、金属
    元素を含む酸化物ゾルであることを特徴とする請求項１
    記載のプラスチックフィルム材料。
  3. 【請求項３】 導電体粒子もしくは半導体粒子が、４０
    ０℃以下の温度で製造された金属元素を含む酸化物であ
    ることを特徴とする請求項１または２記載のプラスチッ
    クフィルム材料。
  4. 【請求項４】 前記フィルム材料がシンジオタクチック
    ポリスチレンを主成分とするプラスチックフィルムより
    なることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記
    載のプラスチックフィルム材料。
  5. 【請求項５】 請求項１〜４のいずれか１項に記載のフ
    ィルム材料を支持体として用いることを特徴とするハロ
    ゲン化銀写真感光材料。
JP7274284A 1995-10-23 1995-10-23 帯電防止されたプラスチックフィルム材料およびそれを用いたハロゲン化銀写真感光材料 Pending JPH09111128A (ja)

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